JP2012099611A - 処理装置 - Google Patents
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Abstract
【解決手段】処理対象の基板に所定の処理を施す処理部と、基板を載置して、基板を搬送する搬送ステージとを有する処理装置であって、搬送ステージは、基板を搬送する搬送方向に沿って見たときに端部が中央部よりも鉛直下方に位置する上面を有し、この上面の上方に配置される基板を直接的または間接的に支持する支持手段と、基板を搬送方向と平行に延びる搬送軸に沿って移動可能に保持する保持部材と、保持部材を搬送軸に沿って移動させる駆動部と、を備え、支持手段が基板を支持する支持高さは、処理部が設けられた処理部設置領域において保持部材が基板を保持する保持高さと同じであり、処理部設置領域以外の領域において保持高さより低い。
【選択図】図1
Description
まず、本発明の実施の形態1にかかる処理装置について、図面を参照して詳細に説明する。なお、以下の説明では、基板の検査装置を例に挙げて説明する。検査装置は、インライン型であってもよいし、オフライン型であってもよい。
図5は、本実施の形態1にかかるFPD検査装置の変形例1を示す断面図である。図5は、図4に示す断面図に対応している。FPD検査装置1aは、外縁側の板状部材20A,20B,20E,20Fのフリーローラ202a〜202dの上端側が、搬送ステージの幅方向の外縁側に向けて段階的に傾斜が大きくなっている。また、フリーローラ202a〜202dは、外縁側に向けて上端の高さが低くなっており、フリーローラ202a〜202dの上端が通過する面は、弧状(球面状)をなしている。上述した変形例1にかかる構成によって、吸着パッド34に加わる基板Wの鉛直下方の力を一段と大きくできるため、一段と確実な吸着を実現することが可能となる。
図12は、本発明の実施の形態2にかかるFPD検査装置の構成を模式的に示す上面図である。図13は、図12に示すFPD検査装置のB−B線断面を示す断面図である。実施の形態2では、浮上搬送ステージ40〜42に載置された基板Wを支持手段としてのエアによって浮上させ、基板Wとの摩擦をなくし、摩擦によって起こる基板の損傷を防止して搬送を行う。また、実施の形態1と同様に、ガントリステージ10等の検査ユニットが設けられる領域を検査空間PR2、検査空間PR2以外の領域を搬送空間TR3,TR4が設けられている。なお、図1等に示す構成と同様の構成については、同一の符号を付してある。
図14は、本実施の形態2にかかるFPD検査装置の変形例を示す断面図である。図14は、図13に示す断面図に対応している。FPD検査装置2aは、搬送ステージ41の幅方向に対して内側の浮上プレート41C,41Dの上面が、外縁側の浮上プレート41A,41B,41E,41Fの上面と比して低くなっている。浮上プレート41A〜41Fから吹出すエアの圧力は同等であるため、浮上プレートによって浮上する基板Wは、板状部材41C,41D間で下方に向けた撓みを生ずる。これにより、吸着パッド34の吸着面に基板Wの撓みによる負荷が加わり、一段と安定した吸着を実現することができる。
10 ガントリステージ
11 架台
12,20,21 搬送ステージ
13 振動吸収機構
20A〜20F 板状部材
22,23,33 支持部材
30,30A,30B 駆動機構
31,31A,31B 搬送軸
32,31A,31B 駆動部
34,34A,34B 吸着パッド
35 昇降部材
35a 昇降部
40〜42 浮上搬送ステージ
41A〜41F 浮上プレート
100 検査ユニット
101 顕微鏡
121,201,202a〜202d,203,211 フリーローラ
L1,L5 検査ライン
PR1,PR2 検査空間
TR1〜TR4 搬送空間
W 基板
Claims (8)
- 処理対象の基板に所定の処理を施す処理部と、前記基板を載置して、該基板を搬送する搬送ステージとを有する処理装置であって、
前記搬送ステージは、
前記基板を搬送する搬送方向に沿って見たときに端部が中央部よりも鉛直下方に位置する上面を有し、この上面の上方に配置される前記基板を直接的または間接的に支持する支持手段と、
前記基板を前記搬送方向と平行に延びる搬送軸に沿って移動可能に保持する保持部材と、
前記保持部材を前記搬送軸に沿って移動させる駆動部と、
を備え、
前記支持手段が前記基板を支持する支持高さは、前記処理部が設けられた処理部設置領域において前記保持部材が前記基板を保持する保持高さと同じであり、前記処理部設置領域以外の領域において前記保持高さより低いことを特徴とする処理装置。 - 前記駆動機構は、前記搬送ステージの幅方向の中央に設けられ、
前記支持手段は、少なくとも前記幅方向の外縁側と内側とで前記基板を支持する高さが異なることを特徴とする請求項1に記載の処理装置。 - 前記支持手段は、前記外縁側の前記基板を支持する高さが、前記内側の前記基板を支持する高さと比して低いことを特徴とする請求項2に記載の処理装置。
- 前記支持手段は、前記外縁側の前記基板を支持する高さが、前記内側の前記基板を支持する高さと比して高いことを特徴とする請求項2に記載の処理装置。
- 前記支持手段は、前記搬送方向に延びる複数の支持部材が、前記搬送方向と垂直な方向に沿って並べられ、
前記駆動部は、隣接する前記支持部材間の隙間のうちの一部の隙間に配設され、
前記駆動部を配設する前記支持部材間の間隔は、前記駆動部を配設しない前記支持部材間の間隔と比して大きいことを特徴とする請求項1に記載の処理装置。 - 前記支持手段は、前記搬送方向に沿って回転可能な複数のフリーローラを有することを特徴とする請求項1に記載の処理装置。
- 前記支持手段は、エア供給部からのエアの供給によって前記搬送ステージの上方に向けてエアを吹き出す複数の吹出穴を有することを特徴とする請求項1に記載の処理装置。
- 前記駆動部は、複数設けられ、
各駆動部は、前記搬送ステージの幅方向における中心線に対して対称な位置に配設されることを特徴とする請求項1に記載の処理装置。
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2010
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2011
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- 2011-11-01 CN CN 201120426711 patent/CN202307839U/zh not_active Expired - Fee Related
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