JP2012099611A - 処理装置 - Google Patents

Abstract

【課題】基板と吸着パッドとの間の吸着エラーを防止することが可能な処理装置を提供すること。
【解決手段】処理対象の基板に所定の処理を施す処理部と、基板を載置して、基板を搬送する搬送ステージとを有する処理装置であって、搬送ステージは、基板を搬送する搬送方向に沿って見たときに端部が中央部よりも鉛直下方に位置する上面を有し、この上面の上方に配置される基板を直接的または間接的に支持する支持手段と、基板を搬送方向と平行に延びる搬送軸に沿って移動可能に保持する保持部材と、保持部材を搬送軸に沿って移動させる駆動部と、を備え、支持手段が基板を支持する支持高さは、処理部が設けられた処理部設置領域において保持部材が基板を保持する保持高さと同じであり、処理部設置領域以外の領域において保持高さより低い。
【選択図】図１

Description

本発明は、例えば、フラットパネルディスプレイ用のガラス基板や半導体基板やプリント基板などを検査・処理する処理装置に関する。

近年、ガラス基板や半導体基板やプリント基板（以下、基板という）などの製造において、基板の検査等の処理を行う処理装置がある。処理装置は、基板の検査処理を行う処理部と、外部から処理部へ基板を搬送または処理部から外部へ基板を搬送する搬送部とを有する。

搬送部は、基板を搬送する搬送面に複数の空気穴を有し、この空気穴から空気を吹き出すことによって基板を浮上させる浮上プレートと、基板を吸着し、搬送方向に移動可能な吸着パッドとを備える。搬送部は、浮上プレートによって浮上した基板に吸着した吸着パッドが移動することで基板の搬送を行う。

ところで、処理装置は、処理部に搬送された基板に撓み等があると、基板に対する処理精度の低下を引き起こすおそれがあるため、少なくとも処理部において、基板の表面を平坦にする必要がある。この処理装置は、処理部及び搬送部の基板搬送面の平坦度を調整するとともに、処理部と搬送部との連結部における連結高さが平坦になるように調整されている。

上述した処理装置として、検査部に搬送方向に垂直な方向の浮上プレート（横置き浮上部材）を配置し、処理部における基板の表面平坦度を向上させる技術が開示されている（例えば、特許文献１を参照）。この処理装置では、浮上プレートによって浮上した基板の下面を吸着パッドによって保持して、基板の搬送を行っている。

特開２００９−２５６０２９号公報

しかしながら、特許文献１が開示する処理装置は、基板を搬送する搬送面の平坦度を精密に規定しているため、搬送中に微小な振動等が生じると、吸着パッドと基板との吸着状態が解除されてしまい、吸着エラーとなってしまうという問題があった。

本発明は、上記に鑑みてなされたものであり、基板と吸着パッドとの間の吸着エラーを防止することが可能な処理装置を提供することを目的とする。

上述した課題を解決し、目的を達成するために、本発明にかかる処理装置は、処理対象の基板に所定の処理を施す処理部と、前記基板を載置して、該基板を搬送する搬送ステージとを有する処理装置であって、前記搬送ステージは、前記基板を搬送する搬送方向に沿って見たときに端部が中央部よりも鉛直下方に位置する上面を有し、この上面の上方に配置される前記基板を直接的または間接的に支持する支持手段と、前記基板を前記搬送方向と平行に延びる搬送軸に沿って移動可能に保持する保持部材と、前記保持部材を前記搬送軸に沿って移動させる駆動部と、を備え、前記支持手段が前記基板を支持する支持高さは、前記処理部が設けられた処理部設置領域において前記保持部材が前記基板を保持する保持高さと同じであり、前記処理部設置領域以外の領域において前記保持高さより低いことを特徴とする。

本発明にかかる処理装置は、搬送部に傾斜を設け、吸着パッドを移動させる搬送軸を水平に配置することによって、搬送部が形成する搬送面と吸着パッドが基板を吸着する吸着面とに高低差を形成し、基板が吸着パッドに対して自重を大きく加えるようにしたので、基板と吸着パッド間の吸着エラーを防止することが可能であるという効果を奏する。

図１は、本発明の実施の形態１にかかるフラットパネルディスプレイ（ＦＰＤ）検査装置の構成を模式的に示す上面図である。 図２は、本発明の実施の形態１にかかるＦＰＤ検査装置の構成を模式的に示す側面図である。 図３は、図２に示す搬送ステージを模式的に示す模式図である。 図４は、図１に示すＦＰＤ検査装置のＡ−Ａ線断面を示す断面図である。 図５は、本発明の実施の形態１にかかるＦＰＤ検査装置の変形例１を示す断面図である。 図６は、本発明の実施の形態１にかかるＦＰＤ検査装置の変形例２を示す断面図である。 図７は、本発明の実施の形態１にかかるＦＰＤ検査装置の変形例３を示す断面図である。 図８は、本発明の実施の形態１にかかるＦＰＤ検査装置の変形例４を示す断面図である。 図９は、本発明の実施の形態１にかかるＦＰＤ検査装置の変形例４を示す断面図である。 図１０は、本発明の実施の形態１にかかるＦＰＤ検査装置の変形例４の要部の構成を示す断面図である。 図１１は、本発明の実施の形態１にかかるＦＰＤ検査装置の変形例５を示す断面図である。 図１２は、本発明の実施の形態２にかかるＦＰＤ検査装置の構成を模式的に示す上面図である。 図１３は、図１２に示すＦＰＤ検査装置のＢ−Ｂ線断面を示す断面図である。 図１４は、本発明の実施の形態２にかかるＦＰＤ検査装置の変形例を示す断面図である。

以下、本発明を実施するための形態を図面と共に詳細に説明する。なお、以下の実施の形態により本発明が限定されるものではない。また、以下の説明において参照する各図は、本発明の内容を理解でき得る程度に形状、大きさ、および位置関係を概略的に示してあるに過ぎず、従って、本発明は各図で例示された形状、大きさ、および位置関係のみに限定されるものではない。

（実施の形態１）
まず、本発明の実施の形態１にかかる処理装置について、図面を参照して詳細に説明する。なお、以下の説明では、基板の検査装置を例に挙げて説明する。検査装置は、インライン型であってもよいし、オフライン型であってもよい。

図１は、本実施の形態１にかかるフラットパネルディスプレイ（ＦＰＤ）検査装置の概略構成を示す上面図である。図２は、本実施の形態１にかかるＦＰＤ検査装置の構成を模式的に示す側面図である。図１に示すように、ＦＰＤ検査装置１は、矩形をなす基板Ｗの欠陥を検出する検査ユニット１００（処理部）を保持するガントリステージ１０と、基板Ｗを搬送する搬送ステージ１２，２０，２１と、を備える。

ガントリステージ１０および搬送ステージ１２，２０，２１は、たとえば図１，２に示すような架台１１に固定される。架台１１は、たとえばブロック状の大理石やスチール材を組み合わせたフレームなど、耐震性の高い部材によって構成される。加えて、架台１１と設置面（たとえば床）との間には、たとえばスプリングや油圧ダンパなどで構成された振動吸収機構１３が設けられる。これにより、搬送ステージ１２，２０，２１および検査ユニット１００の振動がさらに防止される。

搬送ステージ１２，２０，２１は、例えば複数の板状部材が基板Ｗの搬送方向Ｄと垂直な方向に沿ってすのこ状に並べられた構造を有する。この搬送ステージ１２，２０，２１を搬送方向Ｄに沿って並べることで、基板Ｗの搬送経路が形成される。各搬送ステージ１２，２０，２１の板状部材には、上面で基板Ｗを保持し、搬送方向Ｄに回転可能な支持手段としてのフリーローラ１２１，２０１，２１１がそれぞれ設けられる。また、搬送ステージ２０の搬送方向Ｄに垂直な方向である幅方向の中央には、搬送方向Ｄに駆動し、基板Ｗを吸着して搬送する駆動機構３０が設けられる。なお、フリーローラ１２１，２０１，２１１は、ラグランジュ点の間隔のように基板Ｗの撓み振動が発生しないような間隔で配置されることが好ましい。また、基板Ｗの位置決め方法としては、搬送ステージ２０上に搬入された基板Ｗを支持して搬送ステージ２０に載置するリフトピン、および搬送ステージ２０に載置された基板Ｗを整列させる整列機構等を用いる方法が挙げられる。

駆動機構３０は、搬送方向Ｄの水平方向に平行な搬送軸３１上を移動する駆動部３２と、駆動部３２に支持される支持部材３３と、支持部材３３に支持され、図示しないポンプによる吸気によって基板Ｗを吸着保持する吸着パッド３４（保持部材）と、を有する。駆動機構３０は、搬送軸３１としてリニアモータガイドを用いるとともに、駆動部３２としてリニアモータを用いることによって実現される。

なお、駆動機構３０は、搬送ステージの幅方向の中央に設けられることによって、搬送ステージに搬入された基板Ｗの重心位置を含む領域を保持することが可能となり、安定した基板搬送を行うことができる。また、基板Ｗを損傷することなく搬送可能であれば、駆動機構３０の配設位置は如何なる位置でもよいし、駆動機構３０は、複数設けられてもよい。

図３は、図２に示す搬送ステージを模式的に示す模式図である。図３に示すように、搬送ステージ２０，２１は、搬送ステージ１２側の端部から遠ざかるに従って鉛直方向の高さ（上面）が低くなっている。搬送ステージ２０，２１は、例えば、ねじの突っ張りによって高さが固定されている。なお、搬送ステージ２０，２１は、片持ち梁状の支持部材２２，２３によってそれぞれ支持されているため、搬送ステージ２０，２１の高さを調整する際には、搬送ステージ２０，２１の自重による撓みも考慮される。また、基板Wの搬送が可能であれば、水平面と平行な上面の搬送ステージ２０，２１の上面の高さが搬送ステージ１２の上面より低くなるように搬送ステージを配設してもよい。

ここで、フリーローラの上端を通過する面Ｌ２の水平面Ｌ３に対する鉛直方向の最大の高さの差ｄ１は、数ｍｍ〜数十ｍｍ程度であり、２〜３ｍｍ程度であればより好ましい。なお、吸着パッド３４の基板Ｗの吸着面は、駆動部３２の駆動によって水平面Ｌ３上を移動する。

また、搬送ステージ２０，２１に駆動部を設け、基板等の種類、性質によって傾斜の角度を変更できるようにしてもよい。この駆動部は、空圧シリンダや電動モータなどを用いることが挙げられる。

検査ユニット１００は、搬送ステージ１２が形成する搬送経路上に設定された、搬送ステージ１２の幅方向に平行な検査ラインＬ１を通過する基板Ｗを、顕微鏡１０１を介して撮像する図示しない撮像部を有する。この検査ユニット１００によって取得された画像を解析することで、基板Ｗに欠陥が存在するか否かを検出することができる。なお、検査ユニット１００は、検査ラインＬ１に沿って移動することが可能である。本説明では、検査ユニット１００が設けられる領域を検査空間ＰＲ１という。また、検査空間ＰＲ１以外の領域を搬送空間ＴＲ１，ＴＲ２という。

なお、検査ユニット１００は、たとえば基板Ｗの欠陥部分に対して行うレーザ照射修復や塗布修正等の修復ユニット、観察・画像保存する撮像ユニット、配線等の寸法測定、膜厚測定、色測定などを行う測定ユニットなどの処理を所定の位置で施す他の処理ユニットに置き替えることもできる。すなわち、処理ユニットには、検査ユニット、修復ユニット、撮像ユニット、露光ユニット、測定ユニット等が含まれる。また、本実施の形態にかかるＦＰＤ検査装置は、基板Ｗを載置するステージ上で、上述した処理ユニットが基板に対して各処理を行う構成も含む。

また、ＦＰＤ検査装置１が、検査空間ＰＲ１および搬送空間ＴＲ１，ＴＲ２を囲む外装を備えていれば、内部空間（クリーンルーム）を形成することができるので好ましい。このクリーンルームは、基板の搬入口および搬出口ならびに下部のダクト以外、密閉された空間である。外装は、検査ユニット１００の上方に、内部空間にクリーンな空気（以下、クリーンエアという）を送り込むＦＦＵを有する。

ＦＦＵは、例えば、パーティクルなどのダストが除去されたクリーンエアを送出する。この結果、特に検査ユニット１００近傍および検査ラインＬ１周辺（検査空間ＰＲ１）を、ダストの少ないクリーンな状態とする。また、検査ユニット１００近傍および検査ラインＬ１周辺に集中して送出されたクリーンな空気は、クリーンルーム内でダウンフローを形成したのち、排気口から排気される。

図４は、図１に示すＦＰＤ検査装置のＡ−Ａ線断面を示す断面図である。図４の断面図が示す位置においては、搬送ステージの各板状部材２０Ａ〜２０Ｆのフリーローラ２０１の上端を通過する面（支持高さ）が吸着パッド３４の基板Ｗの吸着面の高さ（保持高さ）と比して低くなっているため、吸着パッド３４には、フリーローラ２０１と比して基板Ｗの重量が大きく付加される。このため、吸着パッド３４の基板Ｗの吸着を一段と確実なものとすることが可能となる。

上述した実施の形態１のように、搬送ステージに傾斜を設け、吸着パッドを移動させる搬送軸を水平に配置することによって、搬送ステージのフリーローラの上端が通過する面と、吸着パッドが基板を吸着する吸着面とに高低差を形成し、基板が吸着パッドに対して自重を大きく加えることで、吸着パッドが基板を一段と確実に吸着することが可能となる。これにより、基板と吸着パッドとの間の吸着エラーを防止することが可能となる。

なお、検査空間ＰＲ１は、搬送ステージ１２のフリーローラ１２１の上端が通過する面は水平が維持されており、特に、基板Ｗの検査ラインＬ１における平面は水平面が形成されているため、基板Ｗを水平な状態を維持して検査等を行うことができる。

（変形例）
図５は、本実施の形態１にかかるＦＰＤ検査装置の変形例１を示す断面図である。図５は、図４に示す断面図に対応している。ＦＰＤ検査装置１ａは、外縁側の板状部材２０Ａ，２０Ｂ，２０Ｅ，２０Ｆのフリーローラ２０２ａ〜２０２ｄの上端側が、搬送ステージの幅方向の外縁側に向けて段階的に傾斜が大きくなっている。また、フリーローラ２０２ａ〜２０２ｄは、外縁側に向けて上端の高さが低くなっており、フリーローラ２０２ａ〜２０２ｄの上端が通過する面は、弧状（球面状）をなしている。上述した変形例１にかかる構成によって、吸着パッド３４に加わる基板Ｗの鉛直下方の力を一段と大きくできるため、一段と確実な吸着を実現することが可能となる。

図６は、本実施の形態１にかかるＦＰＤ検査装置の変形例２を示す断面図である。図６は、図４に示す断面図に対応している。ＦＰＤ検査装置１ｂは、外縁側の板状部材２０Ａ，２０Ｂ，２０Ｅ，２０Ｆのフリーローラ２０３の径が、内側の板状部材２０Ｃ，２０Ｄに設けられているフリーローラ２０１の径と比して大きい。これにより、各フリーローラ２０１，２０３の上端が通過する面が異なるため、基板Ｗは、板状部材２０Ｃ，２０Ｄ間で下方に向けた撓みを生ずる。したがって、吸着パッド３４の吸着面に対して基板Ｗの撓みによる負荷が加わり、一段と安定した吸着を実現することができる。なお、同一の径のフリーローラを用いて、フリーローラの上端の高さが外縁側と内側とで異なるように配置してもよい。

図７は、本実施の形態１にかかるＦＰＤ検査装置の変形例３を示す断面図である。図７は、図４に示す断面図に対応している。ＦＰＤ検査装置１ｃは、駆動機構３０が配設されている板状部材２０Ｃ，２０Ｄのフリーローラ２０１間の距離ｄ２（支持部材の間隔）が、駆動機構３０が配設されていない板状部材２０Ａ，２０Ｂ，２０Ｅ，２０Ｆのフリーローラ２０１間の距離と比して大きくなっている。これにより、基板Ｗは、板状部材２０Ｃ，２０Ｄ間で撓みを生ずる。この際、吸着パッド３４の吸着面に対して基板Ｗの撓みによる負荷が加わり、構成を複雑にせずに一段と確実な吸着を実現することができる。なお、支持部材は、板状部材およびフリーローラによって構成される。ここで、支持部材の間隔は、使用する基板の厚さ等に応じて変更可能である。例えば、基板の厚さが厚い場合は、基板の厚さが薄いものと比して撓み難いため、間隔を広くする。このとき、基板の厚さは製造工程によっても変わるため、その工程における基板の厚さに応じた間隔に変更することが好ましい。

図８，図９は、本実施の形態１にかかるＦＰＤ検査装置の変形例４を示す断面図である。図１０は、本実施の形態１にかかるＦＰＤ検査装置の変形例４の要部の構成を示す断面図である。図８，９に示すように、ＦＰＤ検査装置１ｄは、駆動機構３０は、駆動部３２に連結され、吸着パッド３４を上下動させる昇降部材３５を備える。昇降部材３５は、吸着パッド３４を支持し、昇降駆動可能な昇降部３５ａを有する。図８は、搬送ステージ２０，２１（搬送空間ＴＲ１，ＴＲ２）における断面図（図４対応）である。図８に示すように、吸着パッド３４の吸着面は、昇降部３５ａの上昇によって、フリーローラ２０１の上端が通過する面と比して高くなっている。これにより、基板Ｗは、吸着パッド３４に対してより大きい接触荷重を加えるため、一段と確実な吸着を実現することができる。

また、図９は、搬送ステージ１２（検査空間ＰＲ１）における搬送方向に垂直な方向の断面図である。検査空間では、昇降部３５ａによって、吸着パッド３４の吸着面が、少なくともフリーローラ２０１が形成する搬送面以下の高さとなるように調整される。これにより、検査時における基板Ｗの面に撓み等の変形がなく、検査を行うことができる。

なお、吸着パッド３４と昇降部３５ａとは着脱可能に設けられ、図１０に示すように、昇降部３５ａが下降した際に、吸着パッド３４が基板Ｗを吸着した状態を維持している。この場合、吸着パッド３４に対してポンプ等の制御を昇降部３５ａと同時に行う必要なく、昇降部３５ａのみの制御で実現できる。なお、吸着パッド３４と昇降部３５ａとが一体であって、吸着パッド３４が昇降部３５ａの下降に連動して基板Ｗから離脱してもよい。このとき、基板Ｗは、一方の吸着パッド側の昇降部が吸着パッドから離脱するが、他方の吸着パッドによって吸着されているため、基板Ｗは搬送ステージ上で支持された状態を維持している。

図１１は、本実施の形態１にかかるＦＰＤ検査装置の変形例５を示す断面図である。図１１に示すＦＰＤ検査装置１ｅは、図４に示す断面図に対応し、駆動部３２Ａ，３２Ｂおよび吸着パッド３４Ａ，３４Ｂをそれぞれ有する２つの駆動機構３０Ａ，３０Ｂを備えている。ここで、各駆動機構３０Ａ，３０Ｂは、搬送ステージ２０の幅方向における中心線Ｌ４に対して対称となる位置にそれぞれ配置される。これにより、基板Ｗは、均一な撓みで吸着パッド３４に支持されるとともに、吸着パッド３４の吸着面に対して基板Ｗの撓みによる負荷が加わり、一段と確実な吸着を実現することができる。

（実施の形態２）
図１２は、本発明の実施の形態２にかかるＦＰＤ検査装置の構成を模式的に示す上面図である。図１３は、図１２に示すＦＰＤ検査装置のＢ−Ｂ線断面を示す断面図である。実施の形態２では、浮上搬送ステージ４０〜４２に載置された基板Ｗを支持手段としてのエアによって浮上させ、基板Ｗとの摩擦をなくし、摩擦によって起こる基板の損傷を防止して搬送を行う。また、実施の形態１と同様に、ガントリステージ１０等の検査ユニットが設けられる領域を検査空間ＰＲ２、検査空間ＰＲ２以外の領域を搬送空間ＴＲ３，ＴＲ４が設けられている。なお、図１等に示す構成と同様の構成については、同一の符号を付してある。

浮上搬送ステージ４０〜４２は、搬送方向Ｄに延び、搬送面上で基板Ｗを浮上させて載置する略板状をなす複数の浮上プレート(支持部材)を備える。各浮上搬送ステージ４０〜４２を搬送方向Ｄに沿って並べることで、基板Ｗの搬送経路が形成される。また、浮上搬送ステージ４１，４２は、図３に示す搬送ステージ２０，２１と同様に、浮上搬送ステージ４０から遠ざかるに従って鉛直方向の高さ（上面）が低くなっている。このときの鉛直方向の最大の高さの差は数ｍｍ〜数十ｍｍ程度であり、２〜３ｍｍ程度であればより好ましい。

例えば、浮上搬送ステージ４１は、図１３に示すように、浮上プレート４１Ａ〜４１Ｆが搬送方向Ｄに垂直な方向に沿ってすのこ状に並べられた構造を有する。浮上プレート４１Ａ〜４１Ｆには、エア供給部５０からのエアの供給によって鉛直上方に向けてエアを吹き出す複数の吹出穴４１１が設けられる。なお、浮上搬送ステージ４０，４２においても、各浮上プレートが吹出穴４０１，４２１を有する。

また、浮上搬送ステージ４０〜４２の幅方向の中央には、上述した駆動機構３０が設けられる。実施の形態１と同様に、基板Ｗの位置決め方法としては、搬送ステージ４１上に搬入された基板Ｗを支持して搬送ステージ４１に載置するリフトピン、および搬送ステージ４１に載置された基板Ｗを整列させる整列機構等を用いる方法が挙げられる。また、浮上搬送ステージ４０は、図２に示す振動吸収機構１３に支持されている。

図１３において、浮上搬送ステージ４１が浮上プレート４１Ａ〜４１Ｆの吹出穴４１１から吹出すエアによって浮上する基板Ｗを支持する基板支持高さが、吸着パッド３４の基板Ｗの吸着面の高さと比して低くなっているため、吸着パッド３４の吸着面に加わる基板Ｗの重量が大きくなる。このため、吸着パッド３４の基板Ｗの吸着を一段と確実なものとすることが可能となる。

上述した実施の形態２のように、搬送ステージに傾斜を設け、吸着パッドを移動させる搬送軸を水平に配置することによって、搬送ステージが形成する搬送面と吸着パッドが基板を吸着する吸着面とに高低差を形成し、吸着パッドに対して基板の自重を大きく加えることで、吸着パッドが基板を一段と安定して吸着することが可能となる。

なお、検査空間ＰＲ２は、浮上搬送ステージ４０の各浮上プレートの上面が水平を維持するように設けられ、エアによって浮上する基板Ｗが水平に維持されており、特に、基板Ｗの検査ラインＬ５における平面は水平面が形成されているため、基板Ｗを水平な状態を維持して検査等を行うことができる。

（変形例）
図１４は、本実施の形態２にかかるＦＰＤ検査装置の変形例を示す断面図である。図１４は、図１３に示す断面図に対応している。ＦＰＤ検査装置２ａは、搬送ステージ４１の幅方向に対して内側の浮上プレート４１Ｃ，４１Ｄの上面が、外縁側の浮上プレート４１Ａ，４１Ｂ，４１Ｅ，４１Ｆの上面と比して低くなっている。浮上プレート４１Ａ〜４１Ｆから吹出すエアの圧力は同等であるため、浮上プレートによって浮上する基板Ｗは、板状部材４１Ｃ，４１Ｄ間で下方に向けた撓みを生ずる。これにより、吸着パッド３４の吸着面に基板Ｗの撓みによる負荷が加わり、一段と安定した吸着を実現することができる。

また、実施の形態１の変形例１と同様の効果を得るには、浮上搬送ステージ４１，４２の吹出穴４１１，４２１から吹出されるエアの圧力を浮上プレート毎に変えることで可能となる。例えば、外縁側の浮上プレートの吹出穴から吹出されるエアの圧力を内側の浮上プレートの圧力と比して低くすることで、図５に示すような基板Ｗの撓みを生じさせることができる。また、図７に示す変形例３のように、浮上プレート４１Ｃ，４１Ｄ間の間隔を他の浮上プレートに対して調整する構成も適用可能である。

以上のように、本発明にかかる処理装置は、検査対象の基板を確実に保持して搬送することに有用である。

１，１ａ〜１ｅ，２ ＦＰＤ検査装置
１０ ガントリステージ
１１ 架台
１２，２０，２１ 搬送ステージ
１３ 振動吸収機構
２０Ａ〜２０Ｆ 板状部材
２２，２３，３３ 支持部材
３０，３０Ａ，３０Ｂ 駆動機構
３１，３１Ａ，３１Ｂ 搬送軸
３２，３１Ａ，３１Ｂ 駆動部
３４，３４Ａ，３４Ｂ 吸着パッド
３５ 昇降部材
３５ａ 昇降部
４０〜４２ 浮上搬送ステージ
４１Ａ〜４１Ｆ 浮上プレート
１００ 検査ユニット
１０１ 顕微鏡
１２１，２０１，２０２ａ〜２０２ｄ，２０３，２１１ フリーローラ
Ｌ１，Ｌ５ 検査ライン
ＰＲ１，ＰＲ２ 検査空間
ＴＲ１〜ＴＲ４ 搬送空間
Ｗ 基板

Claims (8)

1. 処理対象の基板に所定の処理を施す処理部と、前記基板を載置して、該基板を搬送する搬送ステージとを有する処理装置であって、
   前記搬送ステージは、
   前記基板を搬送する搬送方向に沿って見たときに端部が中央部よりも鉛直下方に位置する上面を有し、この上面の上方に配置される前記基板を直接的または間接的に支持する支持手段と、
   前記基板を前記搬送方向と平行に延びる搬送軸に沿って移動可能に保持する保持部材と、
   前記保持部材を前記搬送軸に沿って移動させる駆動部と、
   を備え、
   前記支持手段が前記基板を支持する支持高さは、前記処理部が設けられた処理部設置領域において前記保持部材が前記基板を保持する保持高さと同じであり、前記処理部設置領域以外の領域において前記保持高さより低いことを特徴とする処理装置。
2. 前記駆動機構は、前記搬送ステージの幅方向の中央に設けられ、
   前記支持手段は、少なくとも前記幅方向の外縁側と内側とで前記基板を支持する高さが異なることを特徴とする請求項１に記載の処理装置。
3. 前記支持手段は、前記外縁側の前記基板を支持する高さが、前記内側の前記基板を支持する高さと比して低いことを特徴とする請求項２に記載の処理装置。
4. 前記支持手段は、前記外縁側の前記基板を支持する高さが、前記内側の前記基板を支持する高さと比して高いことを特徴とする請求項２に記載の処理装置。
5. 前記支持手段は、前記搬送方向に延びる複数の支持部材が、前記搬送方向と垂直な方向に沿って並べられ、
   前記駆動部は、隣接する前記支持部材間の隙間のうちの一部の隙間に配設され、
   前記駆動部を配設する前記支持部材間の間隔は、前記駆動部を配設しない前記支持部材間の間隔と比して大きいことを特徴とする請求項１に記載の処理装置。
6. 前記支持手段は、前記搬送方向に沿って回転可能な複数のフリーローラを有することを特徴とする請求項１に記載の処理装置。
7. 前記支持手段は、エア供給部からのエアの供給によって前記搬送ステージの上方に向けてエアを吹き出す複数の吹出穴を有することを特徴とする請求項１に記載の処理装置。
8. 前記駆動部は、複数設けられ、
   各駆動部は、前記搬送ステージの幅方向における中心線に対して対称な位置に配設されることを特徴とする請求項１に記載の処理装置。

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