JP2007248291A - 基板検査装置 - Google Patents
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Abstract
【課題】基板を圧力気体により浮上させるステージ部を備えつつ小型化を図るとともに、製造ライン内に設置可能な基板検査装置を提供する。
【解決手段】基板1を浮上させて水平支持する浮上ステージ部6と、基板1の端部を保持し浮上ステージ部6上に浮上させ状態で搬送する第1の基板搬送手段9と、第1の基板搬送手段9により搬送された基板1を検査する検査部と、浮上ステージ部6の搬送面より出没可能に設けられ、基板1の裏面を支持して浮上ステージ部6内に搬入する回転駆動可能な回転体8bを浮上ステージ部6の端部に複数配置した第2の基板搬送手段8とを備える。
【選択図】図2
【解決手段】基板1を浮上させて水平支持する浮上ステージ部6と、基板1の端部を保持し浮上ステージ部6上に浮上させ状態で搬送する第1の基板搬送手段9と、第1の基板搬送手段9により搬送された基板1を検査する検査部と、浮上ステージ部6の搬送面より出没可能に設けられ、基板1の裏面を支持して浮上ステージ部6内に搬入する回転駆動可能な回転体8bを浮上ステージ部6の端部に複数配置した第2の基板搬送手段8とを備える。
【選択図】図2
Description
本発明は、例えばウェハや液晶ガラス基板等の検査に用いられる基板検査装置に関する。
従来、ウェハや液晶ガラス基板等の検査では、基板表面に照明光を照射し、その反射光もしくは透過光の光学的変化に応じた表面の画像を取り込み、これを画像処理することによって、表面に塗布されたレジストの膜むら、ピンホールなどの欠陥や、塵埃付着の有無などを確認している。また、基板表面に欠陥や塵埃付着など(欠陥)が認められる場合には、顕微鏡などを用いて拡大画像による詳細観察が行われている。
この種の基板検査装置には、基板を支持するステージ部上で、検査時に、基板にライン状の照明光を照射し、基板を1軸方向に定速移動することによって基板全面の画像取得を行うものがある。この基板の搬送手段としては、例えば、移動方向に直交するように所定の間隔で配列された複数の回転軸に複数のコロを固定して設け、回転軸を回転させる回転駆動手段を備えたローラコンベアがある。この基板搬送手段では、回転駆動手段の駆動により回転軸を回転させ、コロ上に載置された基板を1軸方向に移動させることができる。この種の基板搬送手段を備えたステージ部は、一般にローラコンベアステージと称されており、この基板搬送手段においては、それぞれの回転軸に固定された各コロの高さは、同一水平面上に配置され、基板を搬送する際に基板の平坦度を高く保つものとされている(例えば、特許文献1参照)。
また、この基板搬送手段を備える基板検査装置では、ローラコンベアステージへの基板の搬入またはステージ部からの搬出を、搬入側と搬出側に、同一構成のローラコンベアステージを設け、各ローラコンベアステージの基板搬送速度の同期を図ることにより行えるようにしている。
一方、基板検査装置における基板搬送手段には、基板の搬入側と搬出側にシャフトにコロを回転自在に設けたローラコンベアステージを配置し、これらローラコンベアステージの間の検査領域で基板の下面を圧力気体により押圧して基板を浮上させるエア浮上ステージを配置し、浮上した基板を保持しつつ1軸方向に移動する把持機構を備えるものもある。この種の基板検査装置では、基板の端部が把持機構に保持され、この把持機構が1軸方向に移動可能とされていることによって、基板のステージ部上での定速移動を可能にしている。このエア浮上ステージは、検査時の基板を全面的に支持することにより基板の歪みを解消し、歪みの影響による欠陥の誤認を防止することができる(例えば、特許文献2参照。)。
特開2003−263627号公報
特開2000−9661号公報
しかしながら、ローラコンベアステージを備える基板検査装置では、基板の移動が基板の搬送方向と直交する1軸方向のみ可能とされる。このため、ローラコンベアステージに搬入された基板を1軸方向に直交する方向へ移動させることができず、基板の位置決めが困難となり、検出された欠陥の座標取得ができない場合がある。このような場合には、基板表面の欠陥位置を特定できないという問題があった。
また、検査装置外に設けられたローラコンベア搬送路から検査用ステージ上に基板を搬入するために、検査用ステージの両側に別途ローラコンベアステージを設置すると、検査装置が大型化し、占有スペースが大きくなるという問題があった。
また、近年、製造ライン内に基板検査装置を設置し、製造された基板の検査結果をできるだけ早く製造工程にフィードバックし、製造工程の制御を行うことが求められてきている。従来では、基板検査装置への基板の搬出入を搬送ロボットにより行っていたため、基板検査装置とこの搬送ロボットの占有スペースが必要となるとともに、製造ライン外に設置された検査装置に基板を移動させて検査を行うため、基板を製造してから検査結果が得られるまでに時間が掛かるという問題があった。
本発明は、上記事情を鑑み、基板を圧力気体により浮上させる浮上ステージ部を備えつつ小型化を図るとともに、製造ライン内に設置可能な基板検査装置を提供することを目的とする。
上記の目的を達するために、この発明は以下の手段を提供している。
本発明の基板検査装置は、基板を浮上させて水平支持する浮上ステージ部と、前記基板の端部を保持し前記浮上ステージ部上に浮上させた状態で搬送する第1の基板搬送手段と、前記第1の基板搬送手段により搬送された前記基板を検査する検査ヘッドと、前記浮上ステージ部の搬送面より出没可能に設けられ、前記基板の裏面を支持して前記浮上ステージ部内に搬入する回転駆動可能な回転体を前記浮上ステージ部の端部に複数配置した第2の基板搬送手段とを備えたことを特徴とする。
この発明に係る基板検査装置においては、基板を浮上させる浮上ステージ部と、この基板を浮上させた状態で強制搬送する第1の基板搬送手段とに加え、浮上ステージ部の端部に出没自在に回転駆動する回転体を設けることにより、基板検査装置自ら基板を浮上ステージ部内に搬入もしくは浮上ステージ部内から搬出させることができる。
本発明によれば、浮上ステージ部の端部に出没自在に回転駆動する回転体を設けることにより、基板検査装置に基板を搬入、搬出する搬送ロボットなどの他の基板搬送手段を必要とせず、基板検査装置を小型化することができるとともに、基板検査に要するスペースを省スペース化することができる。
以下、図1から図5を参照し、本発明の一実施形態に係る基板検査装置について説明する。
本発明の一実施形態は、図1に示すような例えば液晶ガラス基板等の検査に用いられる基板検査装置Aに関するものであり、この基板検査装置Aは、基板1の観察を行う検査部2と、観察を行うために基板1を保持して移動させる検査ステージ3とに分けられる。図1に示す検査部2は、基板1の表面1aに照明光を照射し、その反射光の光学的変化に応じた表面1aの画像を取り込み、これを画像処理することによって、表面1aに塗布されたレジストの膜むら、ピンホールなどの欠陥や、塵埃付着の有無などを確認するマクロ検査部4と、マクロ検査部4によって検出された欠陥を顕微鏡部5aにより詳細観察するミクロ検査部5とを備えている。
マクロ検査部4は、門型の支柱4aに取り付けられた照明部4bと、一方の支持アーム4cに取り付けられたミラー4dと、他方の支持アーム4eに取り付けられた撮像部4fとから構成されている。ここで、支柱4aは、その下端が後述する検査ステージ3のベース部7に固定されており、後述するエア浮上ステージ部(浮上ステージ部)6を間にして対向に設けられた2本の支柱4aの両上端に基板1の移動方向に対して直交する水平アームが連架されている。照明部4bは、例えば、棒状のロットレンズの端面に光源を配置したライン照明ユニットで検査ステージ3のエア浮上ステージ部6上を1軸方向に移動する基板1の移動方向(X方向)に対し直交方向(Y方向)に、基板1の幅よりも若干長い範囲で基板1の表面1aを線状に照明することを可能としている。ミラー4dは、照明部4bから照射された線状の照明光の基板1の表面1aからの反射光を撮像部4fに向けて偏向させるためのものである。撮像部4fは、ミラー4dによって偏向された光を受光し、これを集光する図示せぬ結像レンズと、結像レンズによって集光された光を結像し、基板1の表面1aの画像取得を行う図示せぬラインセンサカメラ(撮像素子)とを主な構成要素としている。
ミクロ検査部5は、マクロ検査部4に対して、基板1の搬送方向の下流側に設けられており、マクロ検査部4の門型の支柱4aと平行する門型の支柱5bと、この支柱5bの間に連架された水平アームに沿って移動可能に設けられた検査ヘッド用ステージ5dと、この検査ヘッド用ステージ5dに設けられた顕微鏡部5aと、エア浮上ステージ部6に基板1の移動方向に直交するように設けられた線状の間隙部6aを介して、基板1の下面1b方向から照明光を照射可能とする透過照明部5cとから構成される。
ついで、検査ステージ3について図2から図5を参照して説明する。検査ステージ3は、ベース部7と、長方形板状に形成された複数のエア浮上ブロック6eと精密エア浮上ブロック6bを、その上面が水平面を形成するよう並列したエア浮上ステージ部6と、エア浮上ステージ部6のX方向の一方の端部6c側と他方の端部6d側に設けられローラ駆動により基板1を搬送する第2の基板搬送手段(ローラコンベア)8と、基板1の少なくとも搬送方向に沿う一辺を吸着保持して基板1を強制搬送する第1の基板搬送手段9と、基板1の端部1c、1d、1eに当接して基板1を基準位置に位置決めする位置決め機構10とから構成されている。
エア浮上ステージ部6は、長方形状のエア浮上ブロック6eと精密エア浮上ブロック6bが複数配置されて形成されたもので、各エア浮上ブロック6eと精密エア浮上ブロック6bは、ベース部7の支持フレーム7aに支持されている。精密エア浮上ブロック6bは、ミクロ検査部5の検査領域(対物レンズの走査ライン)となる間隙部6aに沿って両側にそれぞれ複数連結して配置されている。エア浮上ブロック6eは、精密エア浮上ブロック6bの両側に基板1の搬送方向(X方向)に沿って所定の間隔をおいて複数配置されている。ここで、各エア浮上ブロック6eを等間隔で設置することにより形成される隣り合う浮上ブロック6eとの間には、エアを排出するための開口部6fが形成されている。このエア浮上ステージ部6を形成する精密エア浮上ブロック6bとエア浮上ブロック6eには、その上面に気体を吐出する孔6hが分散配置されている。精密エア浮上ブロック6bとエア浮上ブロック6eは、図示せぬ例えば減圧弁や流量計などの制御手段と配管とを介して、コンプレッサーなどの圧力気体吐出手段と接続され、各孔6hにより定圧の圧力気体を吐出可能とされている。精密エア浮上ブロック6bは、エア浮上ブロック6eに比べて孔6hが密に配置したものや、孔6hの他にエアを吸い込むための排出用の孔を設けて、エア吐出力(正圧)とエア吸引力(負圧)により基板1の浮上高さを高精度に制御できるようにしてもよい。
第2の基板搬送手段8は、エア浮上ステージ部6の外部から搬入された基板1の裏面を支持してエア浮上ステージ部6に搬入する回転駆動可能な回転体8bを備え、エア浮上ステージ部6の一方の端部6c側と他方の端部6d側に配置される。それぞれの第2の基板搬送手段8は、軸線O1が基板1の移動方向(X方向)に直交しつつX方向に並列配置された回転軸8aと、各回転軸8aに環装される複数の円板やコロ等の回転体8bと、回転軸8aを回転駆動する例えばモータなどの回転駆動手段8cと、各回転軸8aを軸支するとともに、回転体8bをエア浮上ステージ部6の上面(搬送面)に対して出没させるように上下動可能に支持する軸支部材8dと、軸支部材8dを上下動させる上下動駆動手段8eとから構成されている。ここで、回転駆動手段8cと上下動駆動手段8eとを合わせて、駆動部8fとされる。第2の基板搬送手段8は、エア浮上ステージ部6の基板搬入側と基板搬出側の端部に3セットずつ配置しているが、基板1を十分に搬送する駆動力があれば1セットでもよく、エア浮上ステージ部6の一方の端部に配置してもよい。
回転軸8aは、エア浮上ステージ部6の両外側方を結ぶように延設されており、一方の端部が回転駆動手段8cと連結されつつ支持され、他方の端部までの間が適宜間隔で軸支部材8dに回転可能に支持されている。
回転体8bは、例えばポリエーテルエーテケトン(PEEK)、ポリイミド樹脂などの耐磨耗性樹脂によりリング状に形成されており、この外周面8gには、適度な弾性と、基板1に対して適度な相対摩擦係数とを有する例えばシリコンゴムなどが被覆されている。1本の回転軸8aには、5枚の回転体8bがビス等により固定され、これらの回転体8bは、エア浮上ステージ部6の開口部6fに位置される。このとき、3本の回転軸8aがX方向に並列配置されているため、エア浮上ステージ部6の開口部6fには、X方向に3枚の回転体8bが並列配置されている。
軸支部材8dは、平板状の支持フレーム部8hと、支持フレーム部8hの上面8iから垂直に突設された軸受部8jとから構成され、支持フレーム部8hの端部が回転駆動手段8cとともに駆動部8fに格納された上下動駆動手段8eに支持されている。軸受部8jは、支持フレーム部8hの上面8iに回転軸8aの軸線O1と直交する方向で突設されており、回転軸8aの軸線O1に沿って、回転軸8aを好適に支持できる適宜間隔を持ちつつ複数配置されている。軸受部8jの回転軸8aが当接する部分には、回転軸8aの円柱形状に係合する半円形状の凹部8kが形成されており、この半円形状の凹部8kにおいて回転軸8aが回転可能に支持されている。また、軸受部8jの先端に回転軸8aを回転自在に支持する軸受け部材としてベアリングを設けると、回転軸8aの揺れを防止でき好ましい。
駆動部8fは、回転駆動手段8cと上下動駆動手段8eとが、回転軸8aの回転および支持フレーム部8hの上下動を可能としつつ1つの箱体8lに格納され、エア浮上ステージ部6の外側方のベース部7に設置されている。上下駆動手段8cは、支持フレーム部8hの両端に設けてもよい。
第1の基板搬送手段9は、図2から図4に示すように、ベース部7に設置された2条の軌道部9aと、矩形板状の支持板部9bと、支持板部9bと軌道部9aとを接続し、軌道部9aに沿って自走可能なリニアモータ等のスライド部9cと、支持板部9bの上面9dに対して垂直に突設され、軌道方向に線状配列された3枚の矩形板状の保持部9eと、それぞれの保持部9eの側面に上下動自在に支持された矩形箱状の支持部9hと、支持部9hの上面9fに長手方向に線状配列された複数の吸着部9kとから構成されている。ここで、円筒部材9gと吸着パッド9jを合わせて吸着部9kとされている。さらに、支持部9hには、真空吸引および負圧開放可能な適宜手段が備えられ、真空吸引を行うことにより基板1の裏面に吸着部9の吸着パッド9jが吸着し、基板1を基準の浮上高さになるように降下させる。
この構成においては、吸着パッド9jの上方に配された基板1に、吸着パッド9jを当接させ、吸着部9kで真空吸引することによって、吸着パッド9jが負圧状態となり基板1の下面1bに吸着され、基板1がしっかりと保持される。上記の第1の基板搬送手段9は、軌道部9a上を適宜手段によって滑動させることにより基板1を1軸方向(X方向)に定速で移動させることができる。支持部9hは、上下動自在に支持されているため、基板1が搬入された際に、支持部9hを上昇させ基板1を吸着パッド9j上に支持させる。これにより、エア浮上した基板1は、吸着パッド9jとの小さな摩擦力により基板1がエア浮上ステージ部6上に静止し、位置決め機構10により安全に位置決めできる。また、基板1を搬入又は搬出する際に、支持部9hから下降させて基板1から吸着パッド9jを離すことにより、基板1と吸着パッド9jとの間の摩擦力が小さくなるため、基板1を第1の基板搬送手段9により搬送方向に向けて真っ直ぐに搬入・搬出することができる。
この構成においては、吸着パッド9jの上方に配された基板1に、吸着パッド9jを当接させ、吸着部9kで真空吸引することによって、吸着パッド9jが負圧状態となり基板1の下面1bに吸着され、基板1がしっかりと保持される。上記の第1の基板搬送手段9は、軌道部9a上を適宜手段によって滑動させることにより基板1を1軸方向(X方向)に定速で移動させることができる。支持部9hは、上下動自在に支持されているため、基板1が搬入された際に、支持部9hを上昇させ基板1を吸着パッド9j上に支持させる。これにより、エア浮上した基板1は、吸着パッド9jとの小さな摩擦力により基板1がエア浮上ステージ部6上に静止し、位置決め機構10により安全に位置決めできる。また、基板1を搬入又は搬出する際に、支持部9hから下降させて基板1から吸着パッド9jを離すことにより、基板1と吸着パッド9jとの間の摩擦力が小さくなるため、基板1を第1の基板搬送手段9により搬送方向に向けて真っ直ぐに搬入・搬出することができる。
位置決め機構10は、図2に示すように、外周面10aがガラスより柔らかい耐磨耗性樹脂で被覆された基準ピン10bと、耐磨耗性樹脂で被覆された円柱状の当接部10cを基板1側に移動可能とする例えばエアシリンダーなどの図示せぬ移動手段を有する押付けピン10eとから構成されている。ここで、基板1の端部1eに当接可能な位置に配置された一対の基準ピン10bは、上下方向に出没可能に設けられ、基板1が搬入される際にエア浮上ステージ6部の上面よりも高く上昇し、位置決め後にエア浮上ステージ部6の上面より下方に下降するようになっている。他の一対の基準ピン10bは、基板1の端部1dを当接可能な位置に設けられ、一対の押付けピン10eは、基板1の端部1cに沿う保持部9eの間に設けられている。
ついで、上記の構成からなる基板検査装置Aを用い基板1の検査を行う手順について、図1から図5を参照し説明する。
はじめに、搬入側に配置された第2の基板搬送手段8の支持フレーム部8hを上下動駆動手段8eによって上昇させ、回転軸8aに固定された回転体8bの一部が、エア浮上ステージ部6の上面よりも上方に突出するように調整する。
ついで、エア浮上ステージ部6の孔6hから圧力気体を吐出させた状態で、基板検査装置A外の上流に配置されたローラコンベアにより基板1を搬入する。この基板1の搬入時に、駆動部8fの上下動駆動手段8eを駆動させて第2の基板搬送手段8を上昇させ、エア浮上ステージ部6の一方の端部6c側に位置する第2の基板搬送手段8の回転体8bをエア浮上ステージ部6の上面より上方に突出させる。この状態で、上流側に配置されたローラコンベアに同期させて回転軸8aを回転駆動手段8cにより回転させることで、上流側に配置されたローラコンベアにより送られてきた基板1がエア浮上ステージ部6の内方に搬送される。このとき、上流のローラコンベアの回転に同期させて回転軸8aを回転駆動手段8cにより回転させることで、ローラコンベアと第2の基板搬送手段8により基板1がエア浮上ステージ部6内に搬入される。基板1がエア浮上ステージ部6上に全て搬入されると同時に、第2の基板搬送手段8の回転駆動手段8cを停止する。このとき、基板1の後端部は、第2の基板搬送手段8の各回転体8bとの摩擦力によりエア浮上ステージ部8上に拘束された状態となる。この拘束状態で、第1の基板搬送手段9の支持部9hを上昇させ、吸着部9kの吸着パッド9jを基板1の裏面1bに当接させることにより、エア浮上ステージ部6上に浮上した基板1は、吸着パッド9jにより拘束されることになる。このとき、基板1は、エア浮上ステージ部6上に浮上するが、第1の基板搬送手段9の吸着パッド9jとの摩擦力により基板1が拘束されるため、エア浮上ステージ部6上を移動することなく静止する。この後、上下動駆動手段8eによって回転体8bをエア浮上ステージ部6の上面よりも下方に位置まで下降させて待機させる。ここで、例えば図1に示した基板検査装置Aを基板1の製造ライン内に設置する場合には、基板検査装置Aに連結される既存の搬送装置と基板移動速度を合わせるよう回転軸8aの回転を既存の搬送装置と同期させる。これにより、既存の搬送装置によって搬送されてきた基板1の先端部1eがそのまま回転体8bに乗り移り、回転体8bの回転によってエア浮上ステージ部6内に基板1を搬入することができる。
ついで、図2に示す位置決め機構10の基準ピン10bが基板1の水平位置に配されるよう、位置決め機構10を上昇させるとともに、押付けピン10eを水平移動させ、基板1の原点座標取得が可能な基準位置に基板1を位置決めする。
この位置決めの後、真空吸引を開始し、第1の基板搬送部9の吸着パッド9jにより基板1を吸着保持させる。基板1がしっかりと吸着保持された段階で、位置決め機構10の基準ピン10bと押付けピン10eが元の位置に戻され基板1を解離させる。これにより、圧力気体の吐出で浮上した基板1は、吸着パッド9jに端部が保持され水平支持された状態となる。ここで、位置決め機構10は、基板1検査の支障とならない所定の位置に移動され、この段階で、基板1の原点座標取得が行われる。
ついで、図1に示すマクロ検査部4の照明部4bにより基板1の表面1aに入射角θ1で線状の光束(照明光)を照射しつつ、基板1を保持した第1の基板搬送手段9を軌道部9a上で、一定速度で移動する。第1の基板搬送手段9に従動される基板1の表面1aに照明光が照射され、表面1aから反射角θ2で反射される反射光を、ミラー4dによって偏向しつつ撮像部4fに取り込む。第1の基板搬送部9により基板1がX方向に一定速度で移動されているため、順次基板1の表面1aの画像を取り込むことができ、取り込まれた画像を処理することによって基板1全表面1aの欠陥の有無が検査される。また、基板1の原点座標を基に、欠陥の位置座標が取得される。
マクロ検査部4で検出され、その座標位置が取得された基板1の表面1aの欠陥は、第1の基板搬送部9によりエア浮上ステージ部6の間隙部6aと重なるように配置される。さらに、ミクロ検査部5の顕微鏡部5aをこの欠陥の観察ができる位置に移動しつつ、エア浮上ステージ部6の下面側に配された透過照明部5cにより、間隙部6aに位置する基板1に照明光が照射される。そして、顕微鏡部5aによって欠陥の拡大画像による詳細観察が行われる。
詳細観察を終えた段階で、図2から図5に示すエア浮上ステージ部6の他方の端部6dに設けられた第2の基板搬送手段8の上下動駆動手段8eを上昇させ、回転体8bの一部をエア浮上ステージ部6の上面よりも上方に突出させる。ついで、第1の基板搬送手段9により保持された基板1の先端部1eが回転体8b上に当接される位置まで搬送され、負圧開放を行い、吸着パッド9jと基板1とを解離させる。
最後に、第2の基板搬送手段8の回転軸8aを回転駆動手段8cにより回転させ、基板1を基板検査装置A外に搬出する。この一連の、基板1の搬入から検査、搬出までの操作が基板検査装置Aで自動に行われる。
したがって、上記の構成からなる基板検査装置Aにおいては、エア浮上ステージ部6の一方の端部6c側に設けられた第2の基板搬送手段8によって、基板1をエア浮上ステージ部6内に搬入できる。このとき、第2の基板搬送手段8の回転体8bの一部がエア浮上ステージ部6の上面が形成する水平面よりも上方に突出されるよう上下動駆動手段8eによって調整できるため、エア浮上ステージ部6により浮上した基板1を第2の基板搬送手段8の回転体8bの摩擦力により拘束した状態で確実に基板1をエア浮上ステージ部6内に搬入することができる。また、エア浮上ステージ部6上に搬送された基板1は、孔6hから吐出される圧力気体によって浮上されるとともに、基板1の一辺1cが第1の基板搬送手段9の吸着パッド9jの摩擦力により拘束された状態で位置決め機構10により基準位置に確実に位置決めすることができる。さらに、検査を終えた基板1は、第1の基板搬送手段9によって、エア浮上ステージ部6の他方の端部6d側に設けられた第2の基板搬送手段8の回転体8bに当接する位置まで搬送することができ、この第2の基板搬送手段8によって、基板1を基板検査装置A外に搬出することができる。このとき、上下動駆動手段8eによって回転体8bの位置を調整できるため、浮上した状態の基板1を確実に基板検査装置A外に搬出することができる。
これにより、上記の構成からなる基板検査装置Aにおいては、エア浮上ステージ部6の一方の端部6cから他方の端部6dまでの範囲内で、基板検査装置A自ら基板1をエア浮上ステージ部6内に搬入およびエア浮上ステージ部6内から搬出させることができる。
よって、上記の構成からなる基板検査装置Aによれば、検査ステージ3のエア浮上ステージ部6に第2の基板搬送手段8を一体に組み込み、第2の基板搬送手段8の回転体8bをエア浮上ステージ6の搬送面に対して出没可能に設けることにより、基板検査装置Aとして、基板1を浮上させ水平支持するエア浮上ステージ部6の両側に、別途ローラコンベアステージを設ける必要がなく、基板検査装置Aの小型化を図ることができる。また、基板検査装置Aを製造ラインのローラコンベアの搬送路の途中に配置することが可能になるため、従来のように基板検査装置Aから基板1を搬出する場合に使用される搬送ロボットを必要とせず、検査に要するスペースの省スペース化を図ることができる。さらに、基板検査装置Aが小型化され、自ら基板1の搬入、搬出が可能とされることで、製造ラインの既存の搬送装置などの間に基板検査装置Aをそのまま直列配置して使用することが可能となり、既存の搬送装置が占有するスペースで検査を行うことができる。
なお、本発明は上記の一実施形態に限定されるものではなく、その趣旨を逸脱しない範囲で適宜変更可能である。例えば、第2の基板搬送手段8は、エア浮上ステージ部6の一方の端部6c側と他方の端部6d側に設置されるものとしたが、この限りではなく、どちらか一方に設けられてもよく、その設置位置や設置数が限定されるものではない。また、回転軸8aは3本設置されるものとしたが、少なくとも1本の回転軸8aが設けられていればよいものである。さらに、回転軸8aに環装される回転体8bは、プラスティック製のリング状に形成され、その外周面8gに適度な弾性と、適度な相対摩擦係数とを有するシリコンゴムなどが被覆されるものとしたが、基板1に当接され、基板1を搬送できるように、例えば外周面8gに凹凸形状が形成されていてもよいものであり、特に材質や外周面の形状が限定されるものではない。また、第2の基板搬送手段8は、回転駆動手段8cと上下動駆動手段8eとを1つの筐体8lに格納して駆動部8fとし、且つ回転軸8aや支持フレーム部8hをこの駆動部8fにて支持するものとしたが、この限りではなく、回転体8bが回転され、この回転体8bに当接される基板1が搬送可能とされればよいものであるため、回転軸8aの支持手法や回転駆動手段8cの設置位置が限定されるものではない。さらに、1つの第2の基板搬送手段8が備える3本の回転軸8aには、それぞれ回転駆動手段8cが接続されているものとしたが、例えば図6に示すように1本の回転軸8aに回転駆動手段を接続し、その他の回転軸8aは例えば回転軸8aにベルト8mなどを巻きまわし、1本の回転軸8aの回転力を他の回転軸8aに伝達させて全ての回転軸8aを回転させてもよいものである。
また、前記エア浮上ステージ部6は、長方形状に形成されたエア浮上ブロック6eに限定されるものではなく、基板1を搬送する搬送面全体に基板1を浮上させる気体を吐出する孔6hを分散配置し、この搬送面に回転体8bを出没させる開口を複数形成し、この開口を通して回転体8bを前記搬送面より突出させるようにしてもよい。また、第2の基板搬送手段8の回転体8bは、その一部をエア浮上ステージ部6の基板1側の上面よりも上方に位置させる際に、上下動駆動手段8eによって回転体8bを上下させるものとしたが、この限りではなく、エア浮上ステージ部6の上面に対して相対的に上下動されて回転体8bの一部が上面よりも上方に突出されればよいため、回転体8bを固定し、エア浮上ステージ部6を上下動させてもよいものである。
さらに、本発明は、圧力気体により基板1の下面1bを押圧し基板1を浮上させる構成としたが、基板1を浮上できる静電浮上や超音波浮上など非接触による浮上手段であってもよく、この非接触で浮上した基板1を搬送する第1の基板搬送手段9もこれに限定されるものではない。
さらに、上記の一実施形態に示す基板検査装置Aは、マクロ検査部4とミクロ検査部5とを備える構成としたが、この限りではなく、エア浮上ステージ部6内に第2の基板搬送手段8によって基板1を搬送可能とされればよいものであるため、例えばマクロ検査部4とミクロ検査部5のどちらか一方を備える基板検査装置に適用されてもよいものであるとともに、一実施形態に示したマクロ検査部4とミクロ検査部5の構成とは異なる構成の検査部やレーザリペアなどを備える基板検査装置に適用されてもよいものである。
1 基板
1b 基板の下面
3 検査ステージ
6 エア浮上ステージ部
6b 精密浮上ブロック
6c ステージ部の一方の端部
6d ステージ部の他方の端部
6e エア浮上ブロック
6h 孔
8 第2の基板搬送手段
8a 回転軸
8b 回転体
8c 回転駆動手段
9 第1の基板搬送手段
A 基板検査装置
O1 軸線
1b 基板の下面
3 検査ステージ
6 エア浮上ステージ部
6b 精密浮上ブロック
6c ステージ部の一方の端部
6d ステージ部の他方の端部
6e エア浮上ブロック
6h 孔
8 第2の基板搬送手段
8a 回転軸
8b 回転体
8c 回転駆動手段
9 第1の基板搬送手段
A 基板検査装置
O1 軸線
Claims (8)
- 基板を浮上させて水平支持する浮上ステージ部と、
前記基板の端部を保持し前記浮上ステージ部上に浮上させた状態で搬送する第1の基板搬送手段と、
前記第1の基板搬送手段により搬送された前記基板を検査する検査部と、
前記浮上ステージ部の搬送面より出没可能に設けられ、前記基板の裏面を支持して前記浮上ステージ部内に搬入する回転駆動可能な回転体を前記浮上ステージ部の端部に複数配置した第2の基板搬送手段とを備えたことを特徴とする基板検査装置。 - 請求項1記載の基板検査装置において、
前記浮上ステージ部は、長方形状の浮上ブロックを所定の間隔で複数配置し、隣接する各浮上ブロックの間に前記第2の基板搬送手段の回転体を出没可能に設けることを特徴とする基板検査装置。 - 請求項1記載の基板検査装置において、
前記浮上ステージ部は、前記基板を搬送する搬送面全体に前記基板を浮上させる気体を吐出する孔を分散配置し、この搬送面に前記回転体を出没させる開口を複数形成し、この開口を通して前記第2の基板搬送手段の回転体を前記搬送面より突出させることを特徴とする基板検査装置。 - 請求項1乃至3のいずれかに記載の基板検査装置において、
前記第2の基板搬送手段は、前記基板の搬送方向と直交する回転軸を有し、該回転軸に前記回転体が所定の間隔で複数配置されており、該回転軸を軸線回りに回転させる回転駆動手段が設けられていることを特徴とする基板検査装置。 - 請求項4記載の基板検査装置において、
前記回転軸は、上下移動する軸支持部により回転自在に支持され、この軸支持部を上下駆動手段により上下移動させることを特徴とする基板検査装置。 - 請求項1記載の基板検査装置において、
前記第2の基板搬送手段は、前記基板を前記浮上ステージ部に搬入する際に、前記回転体を前記浮上ステージ部の搬送面より上方に突出させ、前記第1の基板搬送手段により基板を強制搬送する際に、前記回転体を前記浮上ステージ部の搬送面よりも下方に移動させることを特徴とする基板検査装置。 - 請求項6記載の基板検査装置において、
前記第2の基板搬送手段は、前記基板が前記浮上ステージ部に搬入されて前記第1の基板搬送手段により前記基板の端部が拘束された後、前記回転体を前記浮上ステージ部の搬送面よりも下方に移動させることを特徴とする基板検査装置。 - 請求項1乃至7記のいずれかに載の基板検査装置において、
前記第2の基板搬送手段の前記回転体は、前記浮上ステージ部の前記搬送面に対し相対的に上下動可能とされていることを特徴とする基板検査装置。
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