JP2012094711A - 検査装置 - Google Patents

Abstract

【課題】基板を撮像する際に基板を吸着保持している吸着部の写り込みを軽減することが可能な検査装置を提供すること。
【解決手段】検査対象の基板Ｗに所定の処理を施す検査ユニット１００および全体像取得部１３と、基板Ｗを載置して、基板Ｗを搬送する搬送ステージ１２，２０，２１とを有するＦＰＤ検査装置１であって、搬送ステージ１２，２０，２１は、少なくとも基板Ｗを搬送する搬送方向Ｄに移動可能に基板Ｗを支持するフリーローラ１２１，２０１，２１１と、基板Ｗを吸着して保持する吸着部、および吸着部を支持し、搬送方向Ｄと平行に延びる搬送軸３１に沿って吸着部を移動させる駆動部３２を有する駆動機構３０と、を有し、吸着部が全体像取得部１３の処理位置に位置した場合に、該当する吸着部を下降させる制御を行う制御部１ｂを備えた。
【選択図】図１

Description

本発明は、例えば、特にフラットパネルディスプレイ用のガラス基板や半導体基板やプリント基板などを検査する検査装置に関する。

近年、ガラス基板や半導体基板やプリント基板（以下、基板という）などの製造において、基板の検査等の処理を行う検査装置がある。検査装置は、撮像等によって基板の検査処理を行う処理部と、外部から処理部へ基板を搬送または処理部から外部へ基板を搬送する搬送部とを有する。

処理部は、例えば、基板の表面に照明光を当て、ラインセンサカメラでその反射光を取り込んで全体像を取得した後、顕微鏡等を用いて、基板上の所定箇所の配線パターン等の画像を取得して、基板の検査を行う。

搬送部は、基板を搬送する搬送面に複数の空気穴を有し、この空気穴から空気を吹き出すことによって基板を浮上させる浮上プレートと、基板を吸着保持する吸着部を有し、搬送方向に移動可能な吸着パッドとを備える。搬送部は、浮上プレートによって浮上した基板を、吸着部が吸着保持した状態で吸着パッドを移動させることで基板の搬送を行う。なお、基板の支持には、浮上プレートに代えて、搬送方向に沿って回転可能なフリーローラによって基板を支持する支持部材を用いるものもある。

ところで、上述した搬送部として、基板の略重心を通る直線上に吸着部が設けられ、基板の重心を吸着支持して基板を搬送する搬送装置が開示されている（例えば、特許文献１を参照）。この搬送装置では、基板搬送時の基板の重量と搬送速度に起因する回転モーメントの作用を抑制して基板を搬送するため、安定した基板の搬送が可能となる。

特開２００７−２８１２８５号公報

しかしながら、特許文献１が開示する搬送装置は、吸着部が基板の重心位置にあるため、処理部において基板の撮像を行う際に、吸着部が写り込んでしまい、取得した基板画像を用いた検査の精度を低下させてしまうという問題があった。

本発明は、上記に鑑みてなされたものであり、基板を撮像する際に基板を吸着保持している吸着部の写り込みを軽減することが可能な検査装置を提供することを目的とする。

上述した課題を解決し、目的を達成するために、本発明にかかる検査装置は、検査対象の基板に所定の処理を施す検査部と、前記基板を載置して、該基板を搬送する搬送ステージとを有する検査装置であって、前記搬送ステージは、少なくとも前記基板を搬送する搬送方向に移動可能に、直接的または間接的に前記基板を支持する支持手段と、前記基板を前記搬送方向と平行に延びる搬送軸に沿って移動可能に保持するとともに、昇降可能な複数の保持部と、前記保持部を前記搬送軸に沿って移動させる駆動部と、を有し、前記保持部が前記検査部の処理位置に位置した場合に、当該保持部を下降させる制御を行う制御部を備えたことを特徴とする。

本発明にかかる検査装置は、基板を保持する吸着部がラインセンサカメラによる撮像領域内にある場合に、吸着部を基板から離間するようにしたので、基板を撮像する際に吸着部の写り込みを軽減することが可能であるという効果を奏する。

図１は、本発明の実施の形態１にかかるフラットパネルディスプレイ（ＦＰＤ）検査装置の構成を模式的に示す上面図である。 図２は、本発明の実施の形態１にかかるＦＰＤ検査装置の構成を模式的に示す側面図である。 図３は、図１に示すＦＰＤ検査装置のＡ−Ａ線断面を示す部分断面図である。 図４は、本発明の実施の形態１にかかるＦＰＤ検査装置の基板搬送を示す模式図である。 図５は、本発明の実施の形態１にかかるＦＰＤ検査装置の基板搬送を示す模式図である。 図６は、本発明の実施の形態１にかかるＦＰＤ検査装置の基板搬送を示す模式図である。 図７は、本発明の実施の形態１にかかるＦＰＤ検査装置の基板搬送を示す模式図である。 図８は、本実施の形態１にかかるＦＰＤ検査装置の変形例を示す模式図である。 図９は、本実施の形態１にかかるＦＰＤ検査装置の変形例を示す模式図である。 図１０は、本発明の実施の形態２にかかるＦＰＤ検査装置の基板搬送を示す模式図である。 図１１は、本発明の実施の形態２にかかるＦＰＤ検査装置の基板搬送を示す模式図である。 図１２は、本発明の実施の形態３にかかるＦＰＤ検査装置の基板搬送を示す模式図である。 図１３は、本発明の実施の形態３にかかるＦＰＤ検査装置の基板搬送を示す模式図である。 図１４は、本発明の実施の形態３にかかるＦＰＤ検査装置の基板搬送を示す模式図である。 図１５は、本発明の実施の形態３にかかるＦＰＤ検査装置の基板搬送を示す模式図である。 図１６は、本発明の実施の形態４にかかるフラットパネルディスプレイ（ＦＰＤ）検査装置の構成を模式的に示す上面図である。

以下、本発明を実施するための形態を図面と共に詳細に説明する。なお、以下の実施の形態により本発明が限定されるものではない。また、以下の説明において参照する各図は、本発明の内容を理解でき得る程度に形状、大きさ、および位置関係を概略的に示してあるに過ぎず、従って、本発明は各図で例示された形状、大きさ、および位置関係のみに限定されるものではない。

（実施の形態１）
まず、本発明の実施の形態１にかかる検査装置について、図面を参照して詳細に説明する。なお、以下の説明では、基板の検査装置を例に挙げて説明する。検査装置は、インライン型であってもよいし、オフライン型であってもよい。

図１は、本実施の形態１にかかるフラットパネルディスプレイ（ＦＰＤ）検査装置の概略構成を示す上面図である。図２は、本実施の形態１にかかるＦＰＤ検査装置の構成を模式的に示す側面図である。図１に示すように、ＦＰＤ検査装置１は、搬送された矩形をなす基板Ｗの欠陥を検出する基板処理部１ａと、基板処理部１ａ全体の制御を行う制御部１ｂと、を備える。また、基板処理部１ａは、基板Ｗの欠陥を検出する検査ユニット１００を保持するガントリステージ１０と、基板Ｗを搬送する搬送ステージ１２，２０，２１と、基板Ｗの全体像を取得する全体像取得部１３と、を備える。

ガントリステージ１０、搬送ステージ１２，２０，２１および全体像取得部１３は、たとえば図１，２に示すような架台１１に固定される。架台１１は、たとえばブロック状の大理石やスチール材を組み合わせたフレームなど、耐震性の高い部材によって構成される。加えて、架台１１と設置面（たとえば床）との間には、たとえばスプリングや油圧ダンパなどで構成された振動吸収機構１４が設けられる。これにより、ガントリステージ１０、搬送ステージ１２，２０，２１および全体像取得部１３の振動がさらに防止される。

搬送ステージ１２，２０，２１は、例えば複数の板状部材が基板Ｗの搬送方向Ｄと垂直な方向に沿ってすのこ状に並べられた構造を有する。この搬送ステージ１２，２０，２１を搬送方向Ｄに沿って並べることで、基板Ｗの搬送経路が形成される。各搬送ステージ１２，２０，２１の板状部材には、上面で基板Ｗを保持し、搬送方向Ｄに沿って回転可能な支持手段としてのフリーローラ１２１，２０１，２１１がそれぞれ設けられる。搬送ステージ２０の搬送方向Ｄに垂直な方向である幅方向の中央には、搬送方向Ｄに駆動し、基板Ｗを吸着して搬送する駆動機構３０が設けられる。また、搬送ステージ２０の外周には、載置された基板Ｗを整列させる整列機構４０，４１が設けられ、整列機構４０，４１によって搬入された基板Ｗの載置位置が決められる。なお、フリーローラ１２１，２０１，２１１は、ラグランジュ点のように基板Ｗの撓みが発生しないような間隔で配置されることが好ましい。

駆動機構３０は、搬送方向Ｄに平行な搬送軸３１上を移動する駆動部３２と、駆動部３２に支持され、搬送軸３１と平行に延びる支持部材３３と、支持部材３３に支持され、図示しないポンプによる吸気によって基板Ｗを吸着保持する吸着パッド３４と、を有する。吸着パッド３４は、支持部材３３に沿って設けられる３つの吸着パッド３４Ａ〜３４Ｃからなる。駆動機構３０は、搬送軸３１としてリニアモータガイドを用いるとともに、駆動部３２としてリニアモータを用いることによって実現される。

なお、駆動機構３０は、搬送ステージの幅方向の中央に設けられることによって、搬送ステージに搬入された基板Ｗの重心位置を含む領域を保持することが可能となり、安定した基板搬送を行うことができる。また、搬送軸３１が少なくともラインセンサカメラ１３Ｂおよび／または検査ユニット１００の撮像範囲内を通過し、基板Ｗを損傷することなく搬送可能であれば、駆動機構３０の搬送ステージの幅方向に対する配設位置は如何なる位置でもよいし、駆動機構３０が複数設けられていてもよい。

図３は、図１に示すＦＰＤ検査装置のＡ−Ａ線断面を示す部分断面図である。なお、図３では、検査ユニット１００が搬送ステージ１２の幅方向の中央に位置する場合を示している。図３に示すように、吸着パッド３４Ａ〜３４Ｃは、図示しないポンプによる吸気によって基板Ｗを吸着保持する吸着部３４ａ（保持部）と、吸着部３４ａを鉛直方向に昇降可能に支持する昇降部３４ｂとをそれぞれ有する。なお、昇降部３４ｂは、制御部１ｂの制御のもと、空圧シリンダや電動モータ等によって吸着部３４ａを昇降させる。

整列機構４０，４１は、搬送ステージ２０の外周側に設けられ、制御部１ｂの制御のもと、基板Ｗがフリーローラ２０１の上端で支持される高さと搬送ステージ２０の下部との間を昇降可能である。整列機構４０，４１は、基板Ｗと当接し、略円筒状をなす当接部材４０ａ，４１ａと、当接部材４０ａを支持し、搬送方向Ｄに平行に延伸可能な延伸部４０ｂ，４１ｂと、を有する。

整列機構４０，４１は、基板Ｗの各辺に対応して１〜２個設けられ、各延伸部４０ｂ，４１ｂがそれぞれ延伸して基板Ｗの対応する辺に当接部材４０ａ，４１ａを当接させ、挟み込むことにより基板Ｗの位置決めを行なう。例えば、整列機構４０は、基板Ｗにおける対辺を挟み込むように整列機構４０Ａ〜４０Ｃがそれぞれ配置される。また、同様に整列機構４１においても、基板Ｗの他の対辺を挟み込むように整列機構４１Ａ〜４１Ｃがそれぞれ配置される。基板Ｗの位置決め後、吸着パッド３４によって基板Ｗが吸着保持されると、整列機構４０，４１は、基板Ｗの狭持状態を解除して、搬送ステージ２０の下方に退避する。

全体像取得部１３は、図３に示すように、基板Ｗを照明する照明部材１３Ａと、照明部材１３Ａからの照明光の反射光を取り込んで、基板Ｗの全体像を取得するラインセンサカメラ１３Ｂとを有する。ラインセンサカメラ１３Ｂは、図３中の破線が示すような基板Ｗが反射した照明部材１３Ａからの反射光を取り込める位置に配設される。

検査ユニット１００は、搬送ステージ１２が形成する搬送経路上に設定された、搬送ステージ１２の幅方向に平行な検査ラインＬ１を通過する基板Ｗを、顕微鏡１０１を介して撮像する図示しない撮像部を有する。この検査ユニット１００によって取得された画像を解析することで、基板Ｗに欠陥が存在するか否かを検出することができる。なお、検査ユニット１００は、検査ラインＬ１に沿って移動することが可能である。本説明では、検査ユニット１００が設けられる領域を検査空間ＰＲ１（検査部）という。また、検査空間ＰＲ１以外の領域を搬送空間ＴＲ１，ＴＲ２という。

なお、検査ユニット１００は、たとえば基板Ｗの欠陥部分に対して行うレーザ照射修復や塗布修正等の修復ユニット、観察・画像保存する撮像ユニット、配線等の寸法測定、膜厚測定、色測定などを行う測定ユニットなどの処理を所定の位置で施す他の処理ユニットに置き替えることもできる。すなわち、処理ユニットには、検査ユニット、修復ユニット、撮像ユニット、露光ユニット、測定ユニット等が含まれる。また、本実施の形態にかかるＦＰＤ検査装置は、基板Ｗを載置するステージ上で、上述した処理ユニットが基板に対して各処理を行う構成も含む。

また、ＦＰＤ検査装置１が、検査空間ＰＲ１および搬送空間ＴＲ１，ＴＲ２を囲む外装を備えていれば、内部空間（クリーンルーム）を形成することができるので好ましい。このクリーンルームは、基板の搬入口および搬出口ならびに下部のダクト以外、密閉された空間である。外装は、検査ユニット１００の上方に、内部空間にクリーンな空気（以下、クリーンエアという）を送り込むＦＦＵを有する。

ＦＦＵは、例えば、パーティクルなどのダストが除去されたクリーンエアを送出する。この結果、特に検査ユニット１００近傍および検査ラインＬ１周辺（検査空間ＰＲ１）を、ダストの少ないクリーンな状態とする。また、検査ユニット１００近傍および検査ラインＬ１周辺に集中して送出されたクリーンな空気は、クリーンルーム内でダウンフローを形成したのち、排気口から排気される。

上述したＦＰＤ検査装置１では、外部から搬送ステージ２０に搬入された基板Ｗに対して、制御部１ｂの制御のもと、整列機構４０が基板Ｗの載置位置の調整を行なった後、吸着パッド３４によって基板Ｗを吸着保持して搬送方向Ｄに搬送し、全体像取得部１３で全体像を取得し、検査ユニット１００によって基板Ｗの欠陥検査等を行う。このとき、吸着パッド３４は、基板Ｗを、全体像取得部１３を通過させた後に、再度搬送ステージ２０まで戻り、再度搬送方向Ｄに移動させて検査ユニット１００による欠陥検査を行う。なお、全体像取得部１３から検査ユニット１００までの距離が、基板Ｗに対して十分長い場合は、全体取得部１３による全体像の取得後、基板Ｗを搬送ステージ２０に戻さずに検査ユニット１００による欠陥検査を行うことができる。

図４〜７は、本実施の形態１にかかるＦＰＤ検査装置の基板搬送を示す模式図である。まず、図４に示すように、駆動部３２が駆動する（図中矢印方向）と、吸着パッド３４に吸着保持されている基板Ｗがラインセンサカメラ１３Ｂ方向に移動する。ここで、搬送軸３１は、搬送軸３１に沿った座標情報を有するリニアスケール３１ａを有する。また、駆動部３２は、リニアスケール３１ａから座標情報を読み取る読取部３２ａを有する。

図５に示すように、読取部３２ａは、吸着パッド３４Ａがラインセンサカメラ１３Ｂの撮像領域に到達した際、この位置の座標をリニアスケール３１ａから読み取って、座標情報を制御部１ｂに出力する。制御部１ｂは、得られた座標情報から、吸着パッド３４Ａが撮像領域内か否かを判断する。制御部１ｂは、吸着パッド３４Ａが撮像領域内にあると判断すると、昇降部３４ｂを駆動して該当する吸着パッド３４を下降させる（図６）。このとき、制御部１ｂは、少なくとも吸着部３４ａの上端が、基板Ｗを撮像するラインセンサカメラ１３Ｂの焦点深度より下方となる位置まで吸着部３４ａを下降させる。

その後、駆動部３２の移動に連動して読取部３２ａがリニアスケール３１ａから座標情報を読み取り、順次制御部１ｂに出力する。制御部１ｂは、得られた座標情報から吸着パッドが撮像領域内にあるか否かの判断を繰り返し、図７のように吸着パッド３４Ｂが撮像領域内に入った場合に、吸着パッド３４Ｂの吸着部３４ａを下降させる。なお、吸着パッド３４Ｃについても同様の処理によって吸着部を下降させる。

上述した実施の形態１のように、基板を保持する吸着部がラインセンサカメラによる撮像領域内にある場合に、吸着部を基板から離間するようにしたので、基板を撮像する際に吸着部の写り込みを軽減することが可能である。なお、いずれかの吸着部が基板から離間しても、他の吸着部が基板を吸着保持しているため、基板の保持および搬送に影響なく処理できる。また、吸着部を下降させたことにより検査位置で基板が撓むことを防止するため、検査の妨げにならない位置、例えば板状部材間に撓み防止ローラを設けてもよい。

なお、本実施の形態１では、吸着パッドが３つ有するものとして説明したが、基板の保持、搬送が可能であれば、２つ有するものでもよいし、４つ以上有するものでもよい。また、吸着部が下降したことによって起こる振動を抑えるために残りの吸着部が上昇又は下降するようにしてもよい。

（変形例）
図８，９は、本実施の形態１にかかるＦＰＤ検査装置の変形例を示す模式図である。図８，９は、図４等に示す模式図に対応している。駆動機構３０ａは、それぞれが隣接して配設される３組の吸着パッド３４１Ａおよび３４２Ａ，３４１Ｂおよび３４２Ｂ，３４１Ｃおよび３４２Ｃを有する。吸着保持および昇降の機構は、実施の形態１と同様に、吸着部および昇降部が行う。図８に示すように、各吸着パッド３４１Ａ，３４２Ａ，３４１Ｂ，３４２Ｂ，３４１Ｃ，３４２Ｃによって吸着保持されて搬送される基板Ｗに対して、読取部３２ａがリニアスケール３１ａの座標情報を読み取って、制御部１ｂに出力する。

このとき、図９に示すように、吸着パッド３４１Ａがラインセンサカメラ１３Ｂの撮像領域に入ると、読取部３２ａから出力される座標情報をもとに制御部１ｂが、吸着パッド３４１Ａが撮像領域にあると判断して、吸着パッド３４１Ａの吸着部を下降させる。その後、各吸着パッド３４２Ａ，３４１Ｂ，３４２Ｂ，３４１Ｃ，３４２Ｃについても制御部１ｂによって同様の判断がなされ、撮像領域において吸着部３４ａが下降する。

上述した実施の形態１の変形例にかかる駆動機構３０ａは、吸着パッドが隣接して設けられるため、基板の撮像における吸着部の写り込みを軽減することができるとともに、実施の形態１と比して一段と安定した基板の搬送を行うことができる。

（実施の形態２）
図１０，１１は、本発明の実施の形態２にかかるＦＰＤ検査装置の構成を模式的に示す上面図である。実施の形態２にかかる駆動機構３０ｂでは、搬送軸３１におけるラインセンサカメラ１３Ｂの撮像領域の鉛直下方に対応する位置に位置検出センサ（位置検出手段）を設けるとともに、支持部材３３の吸着パッド３４Ａ〜３４Ｃに対応する位置に検出対象を設ける。なお、図１等に示す構成と同様の構成については、同一の符号を付してある。

図１０に示すように、位置検出センサは、例えば、磁気近接センサ３１ｂを用いて実現され、検出対象として用いられる磁石等の磁性材３３ａ〜３３ｃのいずれかを検出して検出結果を制御部１ｂに出力する。制御部１ｂは、図１１に示すように、磁気近接センサ３１ｂから磁気検出の検出結果を受けると、該当する吸着パッド３４Ａを下降させる。

上述した実施の形態２は、上述した実施の形態１と同様に、基板を保持する吸着部がラインセンサカメラによる撮像領域内にある場合に、吸着部を基板から離間するようにしたので、基板を撮像する際に吸着部の写り込みを軽減することが可能である。

なお、本実施の形態２において、支持部材が、各吸着パッドに対応して設けられ、搬送軸３１側に向けて光を発する照明部（検出対象）を有し、搬送軸３１がこの照明部の光を検出するフォトセンサ（位置検出手段）を有する構成であってもよい。

（実施の形態３）
図１２〜１５は、本発明の実施の形態３にかかるＦＰＤ検査装置の構成を模式的に示す上面図である。実施の形態３にかかる駆動機構３０ｃでは、吸着パッドの位置を検出する機構は設けずに、制御部が駆動部の駆動速度および駆動時間をもとに吸着パッドの位置を求め、下降する制御を行う。なお、図１等に示す構成と同様の構成については、同一の符号を付してある。

まず、図１２に示すように、駆動部３２の駆動開始位置において、例えば、本実施の形態３では支持部材３３の端部を基準とし、この位置を時間Ｔ０とする。その後、駆動部３２を駆動して時間Ｔ１が経過した際、吸着パッド３４Ａがラインセンサカメラ１３Ｂの撮像領域内に入るため、制御部１ｂは、吸着パッド３４Ａの吸着部３４ａを下降させる（図１３）。このときの吸着部３４ａの下降時間は、駆動部３２の移動速度をもとに、上昇して再び基板Ｗを吸着した場合に、画像中に吸着部３４ａが写り込まないような時間に設定される。

続いて、図１４に示すように、時間Ｔ２経過時に吸着パッド３４Ｂの吸着部３４ａを下降させる。また、図１５に示すように、時間Ｔ３経過時に吸着パッド３４Ｃの吸着部３４ａを下降させる。このようにして、各吸着パッド３４Ａ〜３４Ｃがラインセンサカメラ１３Ｂの撮像領域内に入るタイミングを駆動部３２の所定駆動時間毎にそれぞれの吸着部を下降させる。なお、駆動部３２は、既知の速度プログラムによって移動することが条件となるが、制御が容易となるため、一定の速度で移動することがより好ましい。

上述した実施の形態３は、上述した実施の形態１と同様に、基板を保持する吸着部がラインセンサカメラによる撮像領域内にある場合に、吸着部を基板から離間するようにしたので、基板を撮像する際に吸着部の写り込みを軽減することが可能であるとともに、位置を検出する機構を設ける必要がないため、装置構成を簡略化し、処理時間を短縮することができる。

なお、上述した実施の形態２，３において、実施の形態１の変形例にかかる吸着パッドの構成を適用することも可能である。

（実施の形態４）
図１６は、本発明の実施の形態４にかかるＦＰＤ検査装置の構成を模式的に示す上面図である。図１６に示すように、ＦＰＤ検査装置２は、搬送された矩形をなす基板Ｗの欠陥を検出する基板処理部２ａと、基板処理部２ａ全体の制御を行う制御部２ｂと、を備える。実施の形態４では、浮上搬送ステージ５０〜５２に載置された基板Ｗを支持手段としてのエアによって浮上させ、基板Ｗとの摩擦をなくし、摩擦によって起こる基板Ｗの損傷を防止して搬送を行う。また、実施の形態１と同様に、検査ラインＬ２上を移動する検査ユニット１００を有するガントリステージ１０等が設けられる領域を検査空間ＰＲ２（検査部）、検査空間ＰＲ２以外の領域を搬送空間ＴＲ３，ＴＲ４が設けられている。なお、図１等に示す構成と同様の構成については、同一の符号を付してある。

浮上搬送ステージ５０〜５２は、搬送方向Ｄに延び、搬送面上で基板Ｗを浮上させて載置する略板状をなす複数の浮上プレートを備える。各浮上搬送ステージ５０〜５２を搬送方向Ｄに沿って並べることで、基板Ｗの搬送経路が形成される。

例えば、浮上搬送ステージ５１は、各浮上プレートが搬送方向Ｄに垂直な方向に沿ってすのこ状に並べられた構造を有する。各浮上プレートには、エア供給部６０からのエアの供給によって鉛直上方に向けてエアを吹き出す複数の吹出穴５１１が設けられる。なお、浮上搬送ステージ５０，５２においても、各浮上プレートが吹出穴５０１，５２１を有する。

また、浮上搬送ステージ５０〜５２の幅方向の中央には、上述した駆動機構３０が設けられる。実施の形態１〜３と同様の構成によって基板Ｗを吸着保持して搬送するとともに、制御部２ｂの制御のもと、吸着部が下降することで基板撮像時の吸着部の写り込みを防止する。また、浮上搬送ステージ５０は、図２に示す振動吸収機構１４に支持されている。

上述した実施の形態４は、上述した実施の形態１と同様に、基板を保持する吸着部がラインセンサカメラによる撮像領域内にある場合に、吸着部を基板から離間するようにしたので、基板を撮像する際に吸着部の写り込みを軽減することが可能であるとともに、基板をエアによって支持するため、基板に加わる摩擦力をなくし、基板の損傷を一段と確実に防止することができる。

なお、上述した実施の形態１〜４において、検査空間ＰＲ１，ＰＲ２が検査ユニット１００（ガントリステージ１０）を設けず、全体像取得部１３のみの構成であって、基板の全体像を取得する検査装置でも適用可能である。また、駆動機構は、それぞれが個別に制御可能であれば、複数設けてもよい。

以上のように、本発明にかかる検査装置は、基板の画像を取得する際の他の部材の写り込みを軽減することに有用である。

１，２ ＦＰＤ検査装置
１ａ，２ａ 基板処理部
１ｂ，２ｂ 制御部
１０ ガントリステージ
１１ 架台
１２，２０，２１ 搬送ステージ
１３ 全体像取得部
１３Ａ 照明部材
１３Ｂ ラインセンサカメラ
１４ 振動吸収機構
３０，３０ａ，３０ｂ，３０ｃ 駆動機構
３１ 搬送軸
３２ 駆動部
３３ 支持部材
３４，３４Ａ〜３４Ｃ 吸着パッド
３４ａ 吸着部
３４ｂ 昇降部
４０，４１ 整列機構
５０〜５２ 浮上搬送ステージ
６０ エア供給部
１００ 検査ユニット
１０１ 顕微鏡
１２１，２０１，２１１ フリーローラ
５０１，５１１，５２１ 吹出穴
Ｌ１，Ｌ２ 検査ライン
ＰＲ１，ＰＲ２ 検査空間
ＴＲ１〜ＴＲ４ 搬送空間
Ｗ 基板

Claims (9)

1. 検査対象の基板に所定の処理を施す検査部と、前記基板を載置して、該基板を搬送する搬送ステージとを有する検査装置であって、
   前記搬送ステージは、
   少なくとも前記基板を搬送する搬送方向に移動可能に、直接的または間接的に前記基板を支持する支持手段と、
   前記基板を前記搬送方向と平行に延びる搬送軸に沿って移動可能に保持するとともに、昇降可能な複数の保持部と、
   前記保持部を前記搬送軸に沿って移動させる駆動部と、
   を有し、
   前記保持部が前記検査部の処理位置に位置した場合に、当該保持部を下降させる制御を行う制御部を備えたことを特徴とする検査装置。
2. 前記搬送軸に沿った座標情報を有するリニアスケールと、
   前記リニアスケールから前記座標情報を読み取る読取部と、
   をさらに有し、
   前記制御部は、前記読取部が読み取った座標情報をもとに、当該保持部を下降させることを特徴とする請求項１に記載の検査装置。
3. 前記処理位置に対応する位置に設けられる位置検出手段と、
   各保持部に対応して設けられる前記位置検出手段の検出対象と、
   をさらに有し、
   前記制御部は、前記位置検出手段が前記検出対象を検出した旨の情報をもとに、当該保持部を下降させることを特徴とする請求項１に記載の検査装置。
4. 前記制御部は、前記駆動部の駆動速度および駆動時間をもとに、所定のタイミングで当該保持部を下降させることを特徴とする請求項１に記載の検査装置。
5. 前記検査部は、前記基板を撮像する撮像部を有し、
   前記制御部は、前記撮像部の焦点深度より下方に前記保持部を下降させることを特徴とする請求項１〜４のいずれか一つに記載の検査装置。
6. 前記搬送軸は、少なくとも前記処理位置を通過することを特徴とする請求項１〜５のいずれか一つに記載の検査装置。
7. 前記駆動部は、前記搬送ステージの幅方向の中央に設けられることを特徴とする請求項１に記載の検査装置。
8. 前記支持手段は、前記搬送方向に沿って回転可能な複数のフリーローラを有することを特徴とする請求項１に記載の検査装置。
9. 前記支持手段は、エア供給部からのエアの供給によって前記搬送ステージの上方に向けてエアを吹き出す複数の吹出穴を有することを特徴とする請求項１に記載の検査装置。

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