JP2005528586A - 浮揚物品搬送システム及び搬送方法 - Google Patents

Abstract

【課題】 プリント回路基板、フラットパネルディスプレイ、及びインターコネクトデバイス基板等の略平面状基板を、浮揚状態で、撮像位置へ及び撮像位置から搬送するための搬送システム及び搬送方法の提供。
【解決手段】 搬送システムは、気流コンベヤ及び撮像装置を備えている。気流コンベヤは、浮揚状態で略平面状基板を搬送し、気流による基板平坦化機能を有する。撮像装置は、該基板平坦化機能によって平坦化された該平面状基板を撮像する。

Description

本発明は物品搬送システム及び搬送方法に関し、特にそのような搬送システムを用いた撮像システム及び撮像方法に関する。

レーザダイレクト書込システム及び検査システム等の画像システムへの使用に適した物品搬送システム及び方法は、とりわけ、搬送速度が非常に正確かつ再現可能であることを特徴としている。かかるシステム及び方法は、正確な所定の向き（撮像部に対する正確な距離を含む）に物品を維持するように構成されている。また、かかるシステム及び方法は、撮像部に位置する搬送中の物品に対して、該システムに載せたり該システムから降ろしたりする他の物品によって生じる機械的な外乱を最小限にするように構成されている。

本発明の一般的な側面は、搬送中の物品を浮揚させる物品浮揚部を備え、改良された物品搬送システム及び方法に関する。浮揚された物品が、処理中、処理装置に対して正確に所望の向きに確実に保持されるように平面化部が設けられている。該平面化部は、非接触方式で機能することが好ましい。

かかる搬送システムは、平面状基板を搬送するために広く用いることができ、特に、以下の一又は二以上が要求される場合に用いられる。すなわち、搬送速度が比較的高度に一定である場合、処理装置（例えば画像取得システム又は画像生成装置）に対して基板の向きが高度に正確である場合、或いは、例えば搬送システムへの他の基板を載せたり降ろしたりする際のように処理時における基板に対する外乱を避けたい場合のうち一又は二以上が要求される場合である。かかるシステムの典型的な適用例としては、フラットパネルディスプレイ及びプリント基板や半導体ウェハのような電気回路の自動視覚検査、電気的試験及び機能試験といった検査・試験、及び組立中のフラットパネルディスプレイ、電気回路、網線、写真用品などの感光面への画像形成が挙げられる。他の典型的な適用例としては、金属箔、平板状のプラスチック薄板、及び他の適当なシート材が挙げられる。

そこで、本発明は、略平面状基板に使用される撮像システムであって、該撮像システムは、平面状基板を少なくとも撮像位置へ搬送する気流コンベヤと、該撮像位置に位置し該平面状基板を撮像する画像取得部とを備え、該平面状基板は、プリント回路基板、フラットパネルディスプレイ、及びインターコネクトデバイス基板から成る一群の基板から選択された基板であり、該気流コンベヤは、少なくとも該撮像位置において気流による基板平坦化機能を有し、該撮像部は、該基板平坦化機能によって平坦化された該平面状基板を撮像する撮像システムを提供している。

加えて、該気流コンベヤは、該撮像位置から離れる方向へも該平面状基板を搬送するように機能してもよい。

好ましくは、該撮像部は、自動光学検査装置、電気試験測定法、又は他の適当な画像取得装置等の画像取得部を備える。前記に代えて又は加えて、該撮像部は、変調レーザスキャナ等の画像生成部を備えていてもよい。

該気流コンベヤは、好ましくは気流浮揚部を備える。前記に代えて又は加えて、該気流コンベヤは、気流押下部を備えていてもよい。前記に代えて又は加えて、該気流コンベヤは、該平面状基板を該撮像位置へ向かう方向へ、又は該撮像位置から離れる方向へ、又はその両方向へ移動させる移動部を備えていてもよい。

該気流による基板平坦化機能は、好ましくは、真空押下部を有する。前記に代えて又は加えて、該気流による基板平坦化機能は、気流排出部、又は該平面状基板の下に蓄積した空気を解放するための排気口を備える。前記に代えて又は加えて、該気流による基板平坦化機能は、気流押下部を備える。好ましくは、該真空押下部又は該気流押下部は、該基板を基準面から正確な距離に保持するために、気流浮揚部と協働して機能する。

また、本発明は、略平面状基板に使用される両面撮像システムであって、該両面撮像システムは、平面状基板を浮揚状態で少なくとも撮像位置へ搬送する気流コンベヤと、該撮像位置に位置し該平面状基板の両面を撮像する画像取得部とを備え、該平面状基板は、プリント回路基板、フラットパネルディスプレイ、及びインターコネクトデバイス基板から成る一群の基板から選択された基板であり、該画像取得部は、該気流コンベヤによって浮揚された該平面状基板の両面を撮像する両面撮像システムを提供している。

加えて、該気流コンベヤは、該平面状基板を該撮像位置から離れる方向へ搬送してもよい。

好ましくは、該撮像部は、自動光学検査装置などの画像取得部を備える。前記に代えて又は加えて、該撮像部は画像生成部を備えていてもよい。該撮像部は、平面状基板の第１の側から照明を提供し、該基板の反対側から画像を取得してもよい。

好ましくは、該気流コンベヤは、少なくとも該撮像位置において気流による基板平坦化機能を有する。

該気流による基板平坦化機能は、好ましくは、気流押下部又は真空押下部を備える。前記に代えて又は加えて、該気流コンベヤは、該平面状基板を該撮像位置へ向かう方向へ、又は該撮像位置から離れる方向へ、又はその両方向へ移動させる移動部を備えていてもよい。

該気流による基板平坦化機能は、好ましくは、真空押下部を有する。前記に代えて又は加えて、該気流による基板平坦化機能は気流排出部を備える。前記に代えて又は加えて、該気流による基板平坦化機能は気流押下部を備える。好ましくは、該真空押下部又は該気流押下部は、該基板を基準面から正確な距離に保持するために、気流浮揚部と協働して機能する。

また、本発明は、気流生成部と、平面状基板を浮揚状態で搬送する気流浮揚コンベヤとを備えた気流コンベヤシステムを提供している。好ましくは、該気流浮揚コンベヤは、該平面状基板を移動させる移動部と、該気流浮揚コンベヤの少なくとも一領域において、浮揚状態にある該平面状基板を平坦化する気流基板平坦化部とを有している。

該気流コンベヤは、好ましくは気流押下部を備える。

該気流による基板平坦化機能は、好ましくは、真空押下部を有する。前記に代えて又は加えて、該気流による基板平坦化機能は気流排出部を備える。前記に代えて又は加えて、該気流による基板平坦化機能は、気流押下部を備える。好ましくは、該真空押下部又は該気流押下部は、該基板を基準面から正確な距離に保持するために、気流浮揚部と協働して機能する。

また、本発明は、走査される平面状基板を少なくとも走査位置へ搬送し、少なくとも該走査位置において気流による基板平坦化機能を有する気流コンベヤと、該走査位置に位置し、該気流による基板平坦化機能によって平坦化された該平面状基板を走査するための走査部とを備えるフラットベッドスキャナシステムを提供している。

加えて、該気流コンベヤは、該撮像位置から離れる方向へ該平面状基板を搬送してもよい。

好ましくは、該走査部は、一部に画像取得部を含んでいる。あるいは、該走査部は、一部に画像生成部を含んでいてもよい。任意で、撮像部は、回転ポリゴンを用いたレーザスキャナであってもよい。

好ましくは、該平面状基板は感光層を有し、該画像生成部は、該感光層上に所望のパターンを露光する変調レーザビーム装置を備えている。

該気流コンベヤは、好ましくは気流浮揚部を備える。前記に代えて又は加えて、該気流コンベヤは、気流押下部又は真空押下部を備えていてもよい。前記に代えて又は加えて、該気流コンベヤは、該平面状基板を該撮像位置へ向かう方向へ、又は該撮像位置から離れる方向へ、又はその両方向へ移動させる移動部を備えていてもよい。

該気流による基板平坦化機能は、好ましくは、真空押下部を有する。前記に代えて又は加えて、該気流による基板平坦化機能は気流排出部を備える。前記に代えて又は加えて、該気流による基板平坦化機能は、気流押下部を備える。好ましくは、該真空押下部又は該気流押下部は、該基板を基準面から正確な距離に保持するために、気流浮揚部と協働して機能する。

また、本発明は、面に対して平面状基板を浮揚させる浮揚部と、浮揚状態にある該平面状基板を、該面に対して略平行に移動させる移動部とを備えた浮揚コンベヤシステムを提供している。該コンベヤシステムは、浮揚状態にある該平面状基板を平坦化する基板平坦化部を更に備えている。

好ましくは、該浮揚部は気流浮揚部を備えている。

好ましくは、該基板平坦化部は正圧装置を備えている。前記に代えて又は加えて、該基板平坦化部は、大気圧以下の領域を形成する真空又は吸引圧力装置を備えている。好ましくは、該基板平坦化部は、該基板を該面から正確な距離に保持するために、該浮揚部と協働して機能する。

また、本発明は、略平面状基板を撮像するための方法であって、気流コンベヤにより、少なくとも撮像位置へ平面状基板を搬送する搬送工程と、該撮像位置に位置する撮像部により、該気流基板平坦化部によって平坦化された該平面状基板を撮像する撮像工程とを有し、該気流コンベヤは少なくとも該撮像位置において気流による基板平坦化機能を有する方法を提供している。

また、該搬送工程は、該撮像位置から離れる方向に該平面状基板を搬送する工程を有していてもよい。

該撮像部は、好ましくは画像取得工程を備える。前記に代えて又は加えて、該撮像工程は画像生成工程を備えていてもよい。または任意で、該撮像工程は、平面状基板の第１の側から照明を提供する工程と、該基板の反対側から画像を取得する工程を有していてもよい。

該気流コンベヤは、好ましくは気流浮揚部を備える。前記に代えて又は加えて、該気流コンベヤは、気流押下部を備えていてもよい。また好ましくは、該気流コンベヤは、該平面状基板を該撮像位置へ向かう方向へ、又は該撮像位置から離れる方向へ、又はその両方向へ移動させる移動部を備えていてもよい。

該気流による基板平坦化機能は、好ましくは、真空押下部を有する。前記に代えて又は加えて、該気流による基板平坦化機能は気流排出部を備える。前記に代えて又は加えて、該気流による基板平坦化機能は、気流押下部を備える。好ましくは、該真空押下部又は該気流押下部は、該基板を基準面から正確な距離に保持するために、気流浮揚部と協働して機能する。

また、本発明は、略平面状基板の両面を撮像するための方法であって、気流コンベヤを用いて少なくとも撮像位置へ浮揚状態で該平面状基板を搬送する搬送工程と、該撮像位置に位置する撮像部を用いて、該気流コンベヤにより浮揚された該平面状基板の両面を撮像する撮像工程とを有する方法を提供している。

また、該搬送工程は、該撮像位置から離れる方向に該平面状基板を搬送する工程を有していてもよい。

該撮像部は、好ましくは画像取得工程を備える。前記に代えて又は加えて、該撮像工程は画像生成工程を備えていてもよい。または任意で、該撮像工程は、平面状基板の第１の側から照明を提供する工程と、該基板の反対側から画像を取得する工程を有していてもよい。

好ましくは、該気流コンベヤは、少なくとも該撮像位置において気流による基板平坦化機能を有する。前記に代えて又は加えて、該気流による基板平坦化機能は気流排出部を備える。前記に代えて又は加えて、該気流コンベヤは気流押下部を備える。好ましくは、該真空押下部又は該気流押下部は、該基板を基準面から正確な距離に保持するために、該気流浮揚部と協働して機能する。また好ましくは、該気流コンベヤは、該平面状基板を該撮像位置へ向かう方向へ、又は該撮像位置から離れる方向へ、又はその両方向へ移動させる移動部を備える。

好ましくは、該気流による基板平坦化機能は真空押下部を有する。前記に代えて又は加えて、該気流による基板平坦化機能は、気流押下部を備える。

また、本発明は、気流生成部により平面状基板の下方に気流クッションを生成する気流生成工程と、気流浮揚コンベヤにより平面状基板を搬送する搬送工程とを備えた気流搬送方法を提供している。該搬送工程は、移動部により該平面状基板を移動させる移動工程と、該気流浮揚コンベヤの少なくとも一領域において、気流基板平坦化部により浮揚状態にある該平面状基板を平坦化する平坦化工程とを有する。該平坦化工程は、所定の基準面内に、浮揚状態で該基板の少なくとも一部を位置させる。

好ましくは、該気流コンベヤは、気流押下部を備える。好ましくは、該気流による基板平坦化機能は真空押下部を有する。前記に代えて又は加えて、該気流による基板平坦化機能は、気流排出部、又は該平面状基板の下に蓄積した空気を解放するための排気口を備える。前記に代えて又は加えて、該気流による基板平坦化機能は、気流押下部を備える。好ましくは、該真空押下部又は該気流押下部は、該基板を基準面から正確な距離に保持するために、気流浮揚部と協働して機能する。

また、本発明は、略平面状基板を走査する方法であって、走査される平面状基板を、気流コンベヤにより少なくとも走査位置へ搬送する搬送工程と、該走査位置に位置する走査部により、該気流基板平坦化部によって平坦化された該平面状基板を走査する走査工程とを有し、該気流コンベヤは、少なくとも該走査位置において気流による基板平坦化機能を有する走査方法を提供している。

また、該搬送工程は、該撮像位置から離れる方向に該平面状基板を搬送する工程を有していてもよい。

該走査工程は、好ましくは画像取得工程を一部に有する。前記に代えて又は加えて、該走査工程は、画像生成工程を一部に有する。

好ましくは、該平面状基板は、感光層を有する。好ましくは、該画像生成工程は、変調レーザビーム装置を用いて該感光層上に所望のパターンを露光する工程を含む。

該気流コンベヤは、好ましくは気流浮揚部を備える。前記に代えて又は加えて、該気流コンベヤは、気流押下部又は真空押下部を備える。前記に代えて又は加えて、該気流による基板平坦化機能は気流排出部を備える。好ましくは、該真空押下部又は該気流押下部は、該基板を基準面から正確な距離に保持するために、気流浮揚部と協働して機能する。

また、該気流コンベヤは、該平面状基板を該撮像位置へ向かう方向へ、又は該撮像位置から離れる方向へ、又はその両方向へ移動させる移動部を備える。

好ましくは、該気流による基板平坦化機能は気流浮揚部を備える。前記に代えて又は加えて、該気流による基板平坦化機能は気流押下部を備える。

また、本発明は、略平面状基板を搬送するための浮揚方法であって、浮揚部を用いて平面状基板を面に対して浮揚させる浮揚工程と、移動部を用いて該面に対して略平行に該平面状基板を移動させる移動工程と、基板平坦化部を用いて浮揚状態にある該平面状基板を平坦化する平坦化工程とを有する浮揚方法を提供している。

該浮揚工程は、真空による浮揚工程を有する。

好ましくは、該基板平坦化部は正圧装置を備える。前記に代えて又は加えて、該基板平坦化部は、大気圧以下の領域を形成する真空装置又は吸引装置を備える。

本発明の実施の形態による浮揚式コンベヤシステムについて図１Ａを参照しながら説明する。図１Ａに示されるように、略平面状基板１００は、圧力クッションにより、例えば、マニホルド１０４を介して正の流体圧力源１０６に接続されている複数のノズル１０２からの流体（好ましくは空気）の流れにより浮揚している。

本明細書において、「流体の流れ」又は「気流」とは、少なくとも基板付近における大気圧よりも高い圧力領域の形成を言う。かかる圧力領域の形成は、例えば流体の活発な流れを発生させることにより行うことができる。あるいは、かかる圧力領域の形成は、流体の活発な流れを発生させることなく、又は例えば、国際公開ＷＯ０１／１４７８２ Ａ１、国際公開ＷＯ０１／１４７５２ Ａ１、及び国際公開ＷＯ０１／１９５７２ Ａ１に記載されている装置及び方法を用いて流体の活発な流れをわずかに発生させることにより行うことができる。本明細書において、略「平面状基板」とは、例えば紙、厚紙、金属シート、ガラス、ガラス繊維シート、セルロイド、シートフィルム、シリコンウェハ等のような任意の適当な略平面状のシート材料を言う。かかる材料の用途は、フラットパネルディスプレイで用いられる画素アレイを保持する平面状基板、電気回路製造に用いられるマスク加工品、電気回路パターンの一部を保持するプリント回路基板、半導体チップ、及び半導体チップとプリント回路基板との間を相互接続するインターコネクトデバイスを含む。略平面状基板は、フラットパネルディスプレイ又は電気回路の一部が既に形成された平面状のシート材料、及びフラットパネルディスプレイ部分又は電気回路パターンがその上に形成されることが適している平面状のシート材料を含む。略平面状の表面には、感光面、例えばフォトレジスト材料が塗布されていてもよい。

図１Ａに示されるように略平面状基板１００が浮揚している場合、通常は、平面状基板１００は、破線１０８で示されるように、湾曲しているか又は一様に平坦ではないことが分かる。本実施の形態によれば、平面状基板１００を平坦にするために、少なくともその所定の部分にわたって、好ましくはマニホルド１１４を介して正の流体圧力源１０６に接続されている複数のノズル１１２から、流体（好ましくは空気）の対向流等による吸引が提供される。図１Ａの実施の形態においては、ノズル１１２及びマニホルド１１４は、平面状基板１００に関して、ノズル１０２により圧力クッションが形成される側とは反対側に位置している。

次に、本発明の別の実施の形態による浮揚式コンベヤシステムについて図１Ｂを参照しながら説明する。図１Ｂに示されるように、略平面状基板１５０は、例えば、マニホルド１５４を介して正の流体圧力源１５６に接続されている複数のノズル１５２からの流体（好ましくは空気）の流れによる圧力クッションにより浮揚している。

このような場合、通常は、平面状基板１５０は、破線１５８で示されるように湾曲しているか又は一様に平坦ではないことが分かる。本実施の形態によれば、平面状基板１５０を平坦にするために、少なくともその所定の部分にわたって、好ましくはマニホルド１６４を介して吸引源１６６に接続されている複数のノズル１６２からの吸引が提供される。図１Ｂの実施の形態では、ノズル１６２及びマニホルド１６４は、平面状基板１５０に関してノズル１５２により圧力クッションが提供される側と同じ側に位置している。平面状基板を搬送し、浮揚流と併せて吸引を用いる浮揚式コンベヤシステムの実施の形態の一例は、「高性能非接触式支持プラットフォーム(High Performance Non-Contact Support Platforms)」（代理人整理番号１２０３／２０）と題して２００２年１２月２７日に出願されたコアフローリミテッド(Core Flow Ltd.)の国際出願ＰＣＴ／ＩＬ０２／＿＿＿＿＿に包括的に記載されている。

あるいは、物品によっては、例えば磁気浮揚など他の適切な浮揚方式を用いてもよい。

次に、本発明の実施の形態による浮揚式コンベヤシステムについて図２Ａを参照しながら説明する。図２Ａに示されるように、浮揚式コンベヤシステムは、複数の開口２０２を有する静止浮揚テーブル２００を備えることが好ましい。略平面状基板２０４は、例えば、複数のノズル２０６からの流体（好ましくは空気）の流れにより提供される圧力クッションによって浮揚している。複数のノズル２０６は、正の流体圧力源２１０に接続されているマニホルド２０８に設けられている。複数のノズル２０６は、好ましくは対応する開口２０２と連通している。

流体の対向流又は他の適切な押下力がない場合、浮揚している平面状基板は、参照符号２１２及び２１４で示されるように、湾曲しているか又は一様に平坦ではない場合がある。本実施の形態によれば、図２Ａに示されるように、浮揚テーブル２００上における、平面状基板を平坦にすることが要求される位置２１６では、好ましくはマニホルド２２４を介して正の流体圧力源２１０に接続されている複数のノズル２２２から、逆圧クッションを形成する流体（好ましくは空気）の対向流が供給される。図２Ａの実施の形態では、ノズル２２２及びマニホルド２２４は、平面状基板２０４に関してノズル２０６により圧力クッションが提供される側とは反対側に位置している。

図２Ａの浮揚式コンベヤシステムは、浮揚している平面状基板をテーブル２００に沿って、好ましくはテーブル２００と平行に移動させる、少なくとも１つの移動装置２２６をも備えることが好ましい。移動装置２２６は、テーブル２００と平行に配置される軌道部２２８を備えることが好ましい。キャリッジアセンブリ２３０は、軌道部２２８に沿って駆動され、保持部２３２を備えることが好ましい。保持部２３２は、平面状基板２０４と係合して平面状基板２０４を軌道部２２８と平行に移動させる。あるいは、プッシャ又はプーラ等の他の適当な方式の接触又は非接触移動装置を用いてもよい。基板２０４は、例えば圧力クッションにより浮揚している場合には、横方向に容易に移動させることができ、移動装置２２６は基板２０４の全重量を支える必要がなく、移動機能を果たすだけでよい。

次に、本発明の実施の形態による浮揚式コンベヤシステムについて図２Ｂを参照しながら説明する。図２Ｂに示されるように、浮揚式コンベヤシステムは、複数の開口２５２を有する静止浮揚テーブル２５０を備えている。略平面状基板２５４は、例えば、正の流体圧力源２６０に接続されているマニホルド２５８の複数のノズル２５６からの流体（好ましくは空気）の流れによって浮揚しており、複数のノズル２５６は、好ましくは対応する開口２５２と連通している。

流体の対向流又は他の適切な押下力がない場合、浮揚している平面状基板は、参照符号２６２及び２６４で示されるように、湾曲しているか又は一様に平坦ではない場合がある。本実施の形態によれば、図２Ｂに示されるように、浮揚テーブル２５０上において平面状基板を平坦にすることが要求される位置２６６では、流体の対向流が供給される。該対向流は単に、平面状基板２５４と静止浮揚テーブル２５０との間に蓄積している空気を排出するための出口を提供する流体排出部であってもよい。対向流は、平面状基板２５４の少なくとも一部を、テーブル２００の表面から正確な距離にある平面内に保持するように機能する真空流又は吸引であることが好ましい。対向流は、マニホルド２７４を介して吸引源２７６に接続されている複数のノズル２７２により供給されることが好ましい。図２Ｂの実施の形態では、ノズル２７２及びマニホルド２７４は、平面状基板２５４に関して、適当な開口２５２と連通しているノズル２５６により提供される圧力クッションが形成される側と同じ側に位置している。

図２Ｂの浮揚式コンベヤシステムは、浮揚している平面状基板をテーブル２５０に沿って、テーブル２５０と平行に移動させる移動装置２７６をも備えることが好ましい。移動装置２７６は、テーブル２５０と平行に配置される軌道部２７８を備えることが好ましい。キャリッジアセンブリ２８０は、軌道部２７８に沿って駆動され、保持部２８２を備えることが好ましい。保持部２８２は、平面状基板２５４と係合して平面状基板２５４を軌道部２７８と平行に移動させる。あるいは、プッシャ又はプーラ等の他の適当な方式の接触又は非接触移動装置を用いてもよい。

図２Ｂに示される実施の形態の特有の特徴として、ノズル２５６及び２７２の少なくともいくつかが、適応オリフィスデバイスに連結されている。適応オリフィスデバイスは、そのノズルが作用して浮揚している平面状の表面がない場合にそのノズルを通る流体の流れを制限する。適応オリフィスデバイスは、テーブル２５０の開口２５２と連通するのに都合の良い位置に位置していてもよい。少ない空気流で圧力クッション又は吸引を提供するように動作する適応オリフィスデバイスの好ましい実施の形態は、以下の参考文献に記載されている。
−国際公開ＷＯ０１／１４７８２ Ａ１
−国際公開ＷＯ０１／１４７５２ Ａ１
−国際公開ＷＯ０１／１９５７２ Ａ１

なお、他の適当な適応又は非適応オリフィスデバイスを用いてもよい。

次に、本発明の実施の形態による浮揚式検査システムについて図３Ａを参照しながら説明する。図３Ａに示されるように、浮揚式検査システムは、複数の開口３０２を有する静止浮揚テーブル３００を備えることが好ましい。略平面状基板３０４は、例えば、複数のノズル３０６からの流体（好ましくは空気）の流れにより提供される圧力クッションによって浮揚している。複数のノズル３０６は、マニホルド３０８を介して正の流体圧力源３１０に接続されている。複数のノズル３０６は、好ましくは対応する開口３０２と連通している。

流体の対向流又は他の適切な押下力がない場合、浮揚している平面状基板３０４は、参照符号３１２及び３１４で示されるように、湾曲しているか又は一様に平坦ではないことがある。図３Ａに示されるように、浮揚テーブル３００上における検査装置３１８が動作する検査位置３１６では、平面状基板３０４が平坦にされるか、さもなければ検査装置３１８に対して所定の向きに正確に維持されることが要求される。ここで、検査装置３１８は、レーザスキャナ又は一般的に白色光光学撮像装置等の適当な装置である。したがって、本実施の形態では、好ましくはマニホルド３２４を介して正の流体圧力源３１０に接続されている複数のノズル３２２から、逆圧クッションを形成する流体（好ましくは空気）の対向流が供給される。図３Ａに示される実施の形態では、ノズル３２２及びマニホルド３２４は、平面状基板３４０に関して、ノズル３０６により圧力クッションが提供される側とは反対側に位置している。

図３Ａに示される浮揚式検査システムは、浮揚している平面状基板をテーブル３００に沿って好ましくはテーブル３００と平行に移動させる、少なくとも１つの移動装置３２６をも備えることが好ましい。移動装置３２６は、テーブル３００と平行に配置される軌道部３２８を備えることが好ましい。キャリッジアセンブリ３３０は、軌道部３２８に沿って駆動され、保持部３３２を備えることが好ましい。保持部３３２は、平面状基板３０４に係合して平面状基板３０４を軌道部３２８と平行に移動させる。あるいは、プッシャ又はプーラ等の他の適当な方式の接触又は非接触移動装置を用いてもよい。基板３０４は、例えば圧力クッションにより浮揚している場合、横方向に容易に移動させることができ、移動装置３２６は基板３０４の全重量を支える必要がなく、移動機能を果たすだけでよい。

次に、本発明の実施の形態による浮揚式検査システムについて図３Ｂを参照しながら説明する。図３Ｂに示されるように、浮揚式検査システムは、複数の開口３５２を有する静止浮揚テーブル３５０を備えることが好ましい。略平面状基板３５４は、例えば、マニホルド３５８を介して正の流体圧力源３６０に接続されている複数のノズル３５６からの流体（好ましくは空気）の流れによって浮揚しており、複数のノズル３５６は、好ましくは対応する開口３５２と連通している。

流体の対向流又は他の適切な押下力がない場合、浮揚している平面状基板は、参照符号３６２及び３６４で示されるように、湾曲しているか又は一様に平坦ではないことがある。図３Ｂに示されるように、浮揚テーブル３５０に沿った、レーザスキャナ又は他の適当なスキャナ、例えば一般的に白色光光学撮像装置等の検査装置３６８が動作する検査位置３６６では、平面状基板３０４が平坦にされるか、さもなければ検査装置３６８に対して所定の向きに正確に、例えば検査装置３６８から正確な距離に維持されることが要求される。

したがって、本実施の形態では、流体の対向流が供給される。対向流は単に、平面状基板３５４と静止浮揚テーブル３５０との間に蓄積している空気を排出するための出口を提供する流体排出部により供給されてもよい。好ましくは、流体の対向流は、テーブル３５０の表面又は他の適当な基準面から正確な距離にある平面内に、平面状基板３５４の少なくとも一部を保持するように働く真空流又は吸引である。対向流は、マニホルド３７４を介して吸引源３７６に接続されている複数のノズル３７２により供給されることが好ましい。図３Ｂに示される実施の形態では、ノズル３７２及びマニホルド３７４は、平面状基板３５４に関して、適当な開口３５２と連通しているノズル３５６により提供される圧力クッションが形成される側と同じ側に位置している。

図３Ｂの浮揚式コンベヤシステムは、浮揚している平面状基板３７６をテーブル３５０に沿って、好ましくはテーブル３５０と平行に移動させる移動装置３７６を備えることが好ましい。移動装置３７６は、テーブル３５０と平行に配置される軌道部３７８を備えることが好ましい。キャリッジアセンブリ３８０は、軌道部３７８に沿って駆動され、保持部３８２を備えることが好ましい。保持部３８２は、平面状基板３５４と係合して平面状基板３５４を軌道部３７８と平行に移動させる。あるいは、プッシャ又はプーラ等の他の適当な方式の接触又は非接触移動装置を用いてもよい。

図３Ｂに示される実施の形態の特有の特徴として、ノズル３５６及び３７２の少なくともいくつかが、適応オリフィスデバイスに連結されている。適応オリフィスデバイスは、そのノズルが作用して浮揚している平面状の表面がない場合にそのノズルを通る流体の流れを制限する。適応オリフィスデバイスは、テーブル３５０の開口３５２と連通するのに都合の良い位置に位置していてもよい。少ない空気流で圧力クッション又は吸引を提供するように動作する適応オリフィスデバイスの好ましい実施の形態は、以下の参考文献に記載されている。
−国際公開ＷＯ０１／１４７８２ Ａ１
−国際公開ＷＯ０１／１４７５２ Ａ１
−国際公開ＷＯ０１／１９５７２ Ａ１

なお、他の適当な適応又は非適応オリフィスデバイスを用いてもよい。

次に、本発明の実施の形態による浮揚式画像システムについて図４Ａを参照しながら説明する。図４Ａに示される画像システムは、画像取得システム又は画像書込みシステム、あるいはその両方であってもよい。図４Ａの実施の形態では、画像書込みシステムが示されているが、説明される構成は画像取得システム又は複合型の画像取得・書込みシステム及び対応する方法にも適用可能である。

図４Ａに示されるように、浮揚式画像システムは、複数の開口４０２を有する静止浮揚テーブル４００を備えることが好ましい。略平面状基板４０４は、例えば、マニホルド４０８を介して正の流体圧力源４１０に接続されている複数のノズル４０６からの流体（好ましくは空気）の流れにより提供される圧力クッションによって浮揚しており、複数のノズル４０６は、好ましくは対応する開口４０２と連通している。

流体の対向流又は他の適切な押下力がない場合、浮揚している平面状基板４０４は、参照符号４１２及び４１４で示されるように、湾曲しているか又は一様に平坦ではないことがある。図４Ａに示されるように、浮揚テーブル４００上における画像書込位置４１６には、好ましくは感光層を有する平面状基板と協働して、平面状基板４０４の表面上にパターンを形成する直接画像装置として機能するフラットベッドプロッタ等の画像装置４１８が設けられる。任意で、画像装置４１８は、平面状基板４０４の表面上にデータ変調レーザビームを走査する回転ポリゴン（図示せず）を用いるレーザスキャナであってもよい。

画像書込位置４１６では、平面状基板が平坦にされるか、さもなければ撮像中の画像装置４１８に対して所定の向きに維持されることが要求される。したがって、本実施の形態では、好ましくはマニホルド４２４を介して正の流体圧力源４１０に接続されている複数のノズル４２２から、逆圧クッションを形成する流体（好ましくは空気）の対向流が供給される。図４Ａの実施の形態では、ノズル４２２及びマニホルド４２４は、平面状基板４０４に関して、ノズル４０６により圧力クッションが提供される側とは反対側に位置している。

図４Ａの浮揚式画像システムは、浮揚している平面状基板をテーブル４００に沿って、好ましくはテーブル４００と平行に移動させる、少なくとも１つの移動装置４２６も備えることが好ましい。移動装置４２６は、テーブル４００と平行に配置される軌道部４２８を備えることが好ましい。キャリッジアセンブリ４３０は、軌道部４２８に沿って駆動され、保持部４３２を備えることが好ましい。保持部４３２は、平面状基板４０４と係合して平面状基板４０４を軌道部４２８と平行に移動させる。あるいは、プッシャ又はプーラ等の他の適当な方式の接触又は非接触移動装置を用いてもよい。基板４０４は、例えば圧力クッションにより浮揚している場合、横方向に容易に移動させることができ、移動装置４２６は基板４０４の全重量を支える必要がなく、移動機能を果たすだけでよい。

次に、本発明の実施の形態による浮揚式画像システムについて図４Ｂを参照しながら説明する。図４Ｂの画像システムは、画像取得システム又は画像書込みシステム、あるいはその両方であってもよい。図示の実施の形態では、画像書込みシステムが示されているが、以下に説明される構成は、画像取得システム又は複合型の画像取得・書込みシステム及び対応する方法、あるいは基板の一部が処理装置から非常に正確な距離にあることが要求される他の処理にも適用可能である。

図４Ｂに示されるように、浮揚式画像システムは、複数の開口４５２を有する静止浮揚テーブル４５０を備えることが好ましい。略平面状基板４５４は、例えば、マニホルド４５８を介して正の流体圧力源４６０に接続されている複数のノズル４５６からの流体（好ましくは空気）の流れにより提供される圧力クッションによって浮揚しており、複数のノズル４５６は、好ましくは対応する開口４５２と連通している。

流体の対向流又は他の適切な押下力がない場合、浮揚している平面状基板は、参照符号４６２及び４６４で示されるように、湾曲しているか又は一様に平坦ではないことがある。図４Ｂに示されるように、浮揚テーブル４５０上の撮像位置４６６には、好ましくは感光層を有する平面状基板と協働して平面状基板４５４の表面上にパターンを形成する直接撮像装置として機能するフラットベッドプロッタ等の撮像装置４６８が設けられる。撮像装置４６８は、任意に、平面状基板４５４の表面上にデータ変調レーザビームを走査する回転ポリゴン（図示せず）を用いるレーザスキャナである。

撮像位置４６６では、平面状基板が平坦にされるか、さもなければ撮像中の撮像装置４６８に対して所定の向きに、例えば画像装置４１８から正確な距離に維持されることが要求される。したがって、本実施の形態では、流体の対向流が供給される。対向流は単に、平面状基板４５４と静止浮揚テーブル４５０との間に蓄積している空気を排出するための出口を提供する流体排出部であってもよい。好ましくは、対向流は、テーブル４５０の表面から正確な距離にある平面内に、平面状基板４５４の少なくとも一部を保持するように働く真空流である。対向流は、マニホルド４７４を介して吸引源４７６に接続されている複数のノズル４７２により供給されることが好ましい。図４Ｂに示される実施の形態では、ノズル４７２及びマニホルド４７４は、平面状基板４５４に関して、適当な開口４５２と連通しているノズル４５６により提供される圧力クッションが形成される側と同じ側に位置している。

図４Ｂの浮揚式画像システムは、浮揚している平面状基板をテーブル４５０に沿って、好ましくはテーブル４５０と平行に移動させる、少なくとも１つの移動装置４７６を備えることが好ましい。移動装置４７６は、テーブル４５０と平行に配置される軌道部４７８を備えることが好ましい。キャリッジアセンブリ４８０は、軌道部４７８に沿って駆動され、保持部４８２を備えることが好ましい。保持部４８２は、平面状基板４５４と係合して平面状基板４５４を軌道部４７８と平行に移動させる。あるいは、プッシャ又はプーラ等の他の適当な方式の接触又は非接触移動装置を用いてもよい。

図４Ｂに示される実施の形態の特有の特徴として、ノズル４５６及び４７２の少なくともいくつかが、適応オリフィスデバイスに連結されている。適応オリフィスデバイスは、そのノズルが作用して浮揚している平面状の表面がない場合にそのノズルを通る流体の流れを制限する。適応オリフィスデバイスは、テーブル４５０の開口４５２と連通するのに都合の良い位置に位置していてもよい。少ない空気流で圧力クッション又は吸引を提供するように動作する適応オリフィスデバイスの好ましい実施の形態は、以下の参考文献に記載されている。
−国際公開ＷＯ０１／１４７８２ Ａ１
−国際公開ＷＯ０１／１４７５２ Ａ１
−国際公開ＷＯ０１／１９５７２ Ａ１

なお、他の適当な適応又は非適応オリフィスデバイスを用いてもよい。

次に、本発明の実施の形態による浮揚式両面画像システムについて図５Ａを参照しながら説明する。図５Ａの両面画像システムは、検査に有用な画像取得システム等の画像取得システム、又は画像書込みシステム、あるいはその両方であってもよい。図示の実施の形態では、検査システムが示されているが、以下に説明される一般的な構成は、画像取得システム、画像書込みシステム、複合型の画像取得・書込みシステム、又は基板の少なくとも一部が処理装置から非常に正確な距離に位置することが要求される基板処理システム、及び対応する方法にも適用可能である。

図５Ａに示されるように、浮揚式両面画像システムは、複数の開口５０２を有する静止浮揚テーブル５００を備えることが好ましい。略平面状基板５０４は、例えば、複数のノズル５０６からの流体（好ましくは空気）の流れにより提供される圧力クッションによって浮揚している。複数のノズル５０６は、マニホルド５０８を介して正の流体圧力源５１０に接続されている。複数のノズル５０６は、好ましくは対応する開口５０２と連通している。

流体の対向流又は他の適切な押下力がない場合、浮揚している平面状基板は、参照符号５１２及び５１４で示されるように、湾曲しているか又は一様に平坦ではないことがある。図５Ａに示されるように、浮揚テーブル５００上の撮像位置５１６には、両面撮像装置５１８が設けられている。

両面撮像装置は、一対の撮像装置又は統合型の両面撮像装置を備えていてもよい。平面状基板の下側、すなわちテーブル５００に対向する側を撮像するために配置されている撮像装置は、浮揚機能及び平坦化機能によって妨げられないテーブル５００の隙間又は透明部分を通して、平面状基板を観察することが好ましい。

撮像位置５１６では、平面状基板５０４が平坦にされるか、さもなければ両面撮像装置５１８に対して所定の厳密な向きに維持されることが要求される。したがって、本実施の形態では、好ましくはマニホルド５２４を介して正の流体圧力源５１０に接続されている複数のノズル５２２から、逆圧クッションを形成する流体（好ましくは空気）の対向流が供給される。図５Ａの実施の形態では、ノズル５２２及びマニホルド５２４は何れも、平面状基板５０４に関して、ノズル５０６により圧力クッションが提供される側とは反対側に位置している。

図５Ａの浮揚式両面画像システムは、浮揚している平面状基板をテーブル５００に沿って、好ましくはテーブル５００と平行に移動させる移動装置５２６を備えることが好ましい。移動装置５２６は、テーブル５００と平行に配置される軌道部５２８を備えることが好ましい。キャリッジアセンブリ５３０は、軌道部５２８に沿って駆動され、保持部５３２を備えることが好ましい。保持部５３２は、平面状基板５０４と係合して平面状基板５０４を軌道部５２８と平行に移動させる。あるいは、プッシャ又はプーラ等の他の適当な方式の接触又は非接触移動装置を用いてもよい。基板５０４は、例えば圧力クッションにより浮揚している場合、横方向に容易に移動させることができ、移動装置５２６は平面状基板５０４の全重量を支える必要がなく、移動機能を果たすだけでよい。

次に、本発明の実施の形態による浮揚式両面画像システムについて図５Ｂを参照しながら説明する。図５Ｂの両面画像システムは、例えば検査の際に有用な画像取得システム等の画像取得システム、又は画像書込みシステム、あるいはその両方であってもよい。図示の実施の形態では、検査システムが示されているが、以下に説明される構成は、任意の他の画像取得システム、画像書込みシステム、複合型の画像取得・書込みシステム、又は基板が処理ステーションから正確な距離に位置することが要求される他の任意の処理システム、及び対応する方法にも適用可能である。

図５Ｂに示されるように、浮揚式両面画像システムは、複数の開口５５２を有する静止浮揚テーブル５５０を備えることが好ましい。略平面状基板５５４は、例えば、複数のノズル５５６からの流体（好ましくは空気）の流れにより提供される圧力クッションによって浮揚している。複数のノズル５５６は、マニホルド５５８を介して正の流体圧力源５６０に接続されている。複数のノズル５５６は、好ましくは対応する開口５５２と連通している。

流体の対向流又は他の適切な押下力がない場合、浮揚している平面状基板５５４は、参照符号５６２及び５６４で示されるように、湾曲しているか又は一様に平坦ではないことがある。図５Ｂに示されるように、浮揚テーブル５５０上の撮像位置５６６には、両面撮像装置５６８が設けられている。

両面撮像装置は、一対の撮像装置又は統合型の両面撮像装置、あるいは平面状基板５５４の第１の面を照明する照明装置、及び平面上の基板５５４を通過する光の像を取得する撮像装置を備えていてもよい。平面状基板の下側、すなわちテーブル５５０に対向する側を撮像するために配置されている撮像装置は、浮揚機能及び平坦化機能により妨げられないテーブル５５０の隙間又は透明部分を通して、平面状基板を観察することが好ましい。

撮像位置５６６では、平面状基板５５４が平坦にされるか、さもなければ両面撮像装置５６８に対して所定の向きに、例えば両面撮像装置５６８から正確な距離に維持されることが望ましい。したがって、本実施の形態では、流体の対向流が供給される。対向流は単に、平面状基板５５４と静止浮揚テーブル５５０との間に蓄積している空気を排出するための出口を提供する流体排出部であってもよい。好ましくは、対向流は、テーブル５５０の表面又は任意の他の適当な基準面から正確な距離にある平面内に、平面状基板５５４の少なくとも一部を保持するように働く真空流である。対向流は、マニホルド５７４を介して吸引源５７６に接続されている複数のノズル５７２により供給されることが好ましい。図５Ｂの実施の形態では、ノズル５７２及びマニホルド５７４は、平面状基板５５４に関して、適当な開口５５２と連通しているノズル５５６により提供される圧力クッションが形成される側と同じ側に位置している。

図５Ｂの浮揚式両面画像システムは、浮揚している平面状基板をテーブル５５０に沿って、好ましくはテーブル５５０と平行に移動させる移動装置５７６を備えることが好ましい。移動装置５７６は、テーブル５５０と平行に配置される軌道部５７８を備えることが好ましい。キャリッジアセンブリ５８０は、軌道部５７８に沿って駆動され、保持部５８２を備えることが好ましい。保持部５８２は、平面状基板５５４と係合して平面状基板５５４を軌道部５７８と平行に移動させる。あるいは、プッシャ又はプーラ等の他の適当な方式の接触又は非接触移動装置を用いてもよい。

図５Ｂに示される実施の形態の特有の特徴として、ノズル５５６及び５７２の少なくともいくつかが、適応オリフィスデバイスに連結されている。適応オリフィスデバイスは、そのノズルが作用して浮揚している平面状の表面がない場合にそのノズルを通る流体の流れを制限する。適応オリフィスデバイスは、テーブル５５０の開口５５２と連通するのに都合の良い位置に位置していてもよい。少ない空気流で圧力クッション又は吸引を提供するように動作する適応オリフィスデバイスの好ましい実施の形態は、以下の参考文献に記載されている。
−国際公開ＷＯ０１／１４７８２ Ａ１
−国際公開ＷＯ０１／１４７５２ Ａ１
−国際公開ＷＯ０１／１９５７２ Ａ１

なお、他の適当な適応又は非適応オリフィスデバイスを用いてもよい。

次に、本発明の実施の形態による検査システムについて図６を参照しながら説明する。図６は、特に製造中のフラットパネルディスプレイの検査に有用な検査システムの簡略図である。図６に示されるように、静止浮揚テーブル６００は、シャーシ６０２に取り付けられている。テーブル６００には、長手方向に延びる複数のスリット６０４が形成されていることが好ましい。スリット６０４には、製造中のフラットパネルディスプレイ又はプリント回路基板等の略平面状基板６０６を受けて搬送するための２組のローラが、選択的に上昇可能に設けられている。

選択的に上昇可能な２組のローラは、検査前の略平面状基板６０６を受け取って搬送する一組の入力ローラ６０８と、検査後に検査ステーション６１２から略平面状基板６０６を受け取って搬送する一組の出力ローラ６１０とを備えていることが好ましい。検査ステーションは、適当な光学検査用センサ、又は略平面状基板６０６の所望の物理的属性を検知する他の適当なデバイスを備えている。

スリット６０４には、略平面状基板６０６を選択的に浮揚させるよう動作する複数の浮揚ノズル６１４が設けられている。ノズル６１４は、マニホルド（図示せず）を介して正の流体圧力源（図示せず）に連結されていることが好ましい。

図６に示される実施の形態の特有の特徴として、ノズル６１４の少なくともいくつかが、適応オリフィスデバイスに連結されている。適応オリフィスデバイスは、特に、そのノズルが作用して浮揚している平面状の表面がない場合にそのノズルを通る流体の流れを制限する。適応オリフィスデバイスの好ましい実施の形態は、以下の参考文献に記載されている。
−国際公開ＷＯ０１／１４７８２ Ａ１
−国際公開ＷＯ０１／１４７５２ Ａ１
−国際公開ＷＯ０１／１９５７２ Ａ１

略平面状基板６０６がテーブル６００上を搬送されるとき、検査ステーション６１２では、略平面状基板６０６が平坦にされ、テーブル６００の表面から（又はカメラ等の撮像装置６２８から）正確な距離に維持されることが要求される。したがって、本実施の形態では、浮揚ノズル６１４に加えて、好ましくはマニホルド（図示せず）を介して吸引源（図示せず）に接続されている複数の反力ノズル６１６に、流体の対向流、好ましくは吸引又は真空流が供給される。図６に示される実施の形態において、反力ノズル６１６は、検査ステーション６１２の付近において、平面状電気回路６０６に関して、浮揚ノズル６１４からの流体の流れが当たる側と同じ側に位置している。

図６の検査システムは、選択的に上昇可能なローラがスリット６０４内に格納された場合に、浮揚している略平面状基板６０６をテーブル６００に沿って、好ましくはテーブル６００と平行に移動させる移動装置６２０を備えることが好ましい。移動装置６２０は、テーブル６００と平行に配置される軌道部６２２を備えることが好ましい。キャリッジアセンブリ６２４は、軌道部６２２に沿って駆動され、保持部６２６を備えることが好ましい。保持部６２６は、平面状の電気回路６０６と係合して平面状の電気回路６０６を軌道部６２２と平行に移動させる。あるいは、プッシャ又はプーラ等の他の適当な方式の接触又は非接触移動装置を用いてもよい。基板６０６は、例えば圧力クッションにより浮揚している場合、横方向に容易に移動させることができる。移動装置６２０は平面状基板６０６の全重量を支える必要がなく、移動機能を果たすだけでよい。

好ましくは、検査ステーション６１２は、複数の静止カメラ６２８を備えている。静止カメラ６２８は、好ましくは、テーブル６００の幅にまたがる第１ブリッジ６３０に取り付けられ、画像処理コンピュータ（図示せず）に接続される。検査ステーション６１２は、可動ビデオカメラ６３２をも備えることが好ましい。可動ビデオカメラ６３２は、好ましくは、第１ブリッジ６３０の下流でテーブル６００にまたがる第２ブリッジ６３４に取り付けられ、画像後処理コンピュータ（図示せず）に接続されている。可動ビデオカメラ６３２は、好ましくは、画像処理コンピュータ（図示せず）から受け取った入力に反応して動作し、略平面状基板６０６上で欠陥の疑いがある部分を選択的に観察するように動作する。

本発明による浮揚物品搬送システム及び搬送方法は、上述した実施の形態に限定されず、特許請求の範囲に記載した範囲で種々の変形や改良が可能である。

本発明の実施の形態による浮揚式搬送システムの一部を示す簡略図。 本発明の別の実施の形態による浮揚式搬送システムの一部を示す簡略図。 本発明の実施の形態による浮揚式搬送システムを示す簡略図。 本発明の別の実施の形態による浮揚式搬送システムを示す簡略図。 本発明の実施の形態による浮揚式検査システムの一部を示す簡略図。 本発明の別の実施の形態による浮揚式検査システムの一部を示す簡略図。 本発明の実施の形態による浮揚式画像システムの一部を示す簡略図。 本発明の別の実施の形態による浮揚式画像システムの一部を示す簡略図。 本発明の実施の形態による浮揚式両面画像システムの一部を示す簡略図。 本発明の別の実施の形態による浮揚式両面画像システムの一部を示す簡略図。 本発明の実施の形態による電気回路検査システムを示す簡略図。

符号の説明

１００・・・略平面状基板、１０２・・・ノズル、１０４・・・マニホルド、１０６・・・流体圧力源、１０８・・・破線、１１２・・・ノズル、１１４・・・マニホルド、１５０・・・略平面状基板、１５２・・・ノズル、１５４・・・マニホルド、１５６・・・流体圧力源、１５８・・・破線、１６２・・・ノズル、１６４・・・マニホルド、１６６・・・吸引源、２００・・・静止浮揚テーブル、２０２・・・開口、２０４・・・略平面状基板、２０６・・・ノズル、２０８・・・マニホルド、２１０・・・流体圧力源、２１６・・・位置、２２２・・・ノズル、２２４・・・マニホルド、２２６・・・移動装置、２２８・・・軌道部、２３０・・・キャリッジアセンブリ、２３２・・・保持部、２５０・・・静止浮揚テーブル、２５２・・・開口、２５４・・・略平面状基板、２５６・・・ノズル、２５８・・・マニホルド、２６０・・・流体圧力源、２６６・・・位置、２７２・・・ノズル、２７４・・・マニホルド、２７６・・・吸引源、移動装置、２７８・・・軌道部、２８０・・・キャリッジアセンブリ、２８２・・・保持部、３００・・・静止浮揚テーブル、３０２・・・開口、３０４・・・略平面状基板、３０６・・・ノズル、３０８・・・マニホルド、３１０・・・流体圧力源、３１６・・・検査位置、３１８・・・検査装置、３２２・・・ノズル、３２４・・・マニホルド、３２６・・・移動装置、３２８・・・軌道部、３３０・・・キャリッジアセンブリ、３３２・・・保持部、３４０・・・平面状基板、３５０・・・静止浮揚テーブル、３５２・・・開口、３５４・・・略平面状基板、３５６・・・ノズル、３５８・・・マニホルド、３６０・・・流体圧力源、３６６・・・検査位置、３６８・・・検査装置、３７２・・・ノズル、３７４・・・マニホルド、３７６・・・吸引源、平面状基板、移動装置、３７８・・・軌道部、３８０・・・キャリッジアセンブリ、３８２・・・保持部、４００・・・静止浮揚テーブル、４０２・・・開口、４０４・・・略平面状基板、４０６・・・ノズル、４０８・・・マニホルド、４１０・・・流体圧力源、４１６・・・撮像位置、４１８・・・撮像装置、４２２・・・ノズル、４２４・・・マニホルド、４２６・・・移動装置、４２８・・・軌道部、４３０・・・キャリッジアセンブリ、４３２・・・保持部、４５０・・・平面状基板、静止浮揚テーブル、４５２・・・開口、４５４・・・略平面状基板、４５６・・・ノズル、４５８・・・マニホルド、４６０・・・流体圧力源、４６６・・・撮像位置、４６８・・・撮像装置、４７２・・・ノズル、４７４・・・マニホルド、４７６・・・吸引源、移動装置、４７８・・・軌道部、４８０・・・キャリッジアセンブリ、４８２・・・保持部、５００・・・静止浮揚テーブル、５０２・・・開口、５０４・・・略平面状基板、５０６・・・ノズル、５０８・・・マニホルド、５１０・・・流体圧力源、５１６・・・撮像位置、５１８・・・両面撮像装置、５２２・・・ノズル、５２４・・・マニホルド、５２６・・・移動装置、５２８・・・軌道部、５３０・・・キャリッジアセンブリ、５３２・・・保持部、５５０・・・静止浮揚テーブル、５５２・・・開口、５５４・・・略平面状基板、５５６・・・ノズル、５５８・・・マニホルド、５６０・・・流体圧力源、５６６・・・撮像位置、５６８・・・両面撮像装置、５７２・・・ノズル、５７４・・・マニホルド、５７６・・・吸引源、５７６・・・移動装置、５７８・・・軌道部、５８０・・・キャリッジアセンブリ、５８２・・・保持部、６００・・・静止浮揚テーブル、６０２・・・シャーシ、６０４・・・スリット、６０６・・・略平面状基板、６０８・・・入力ローラ、６１０・・・出力ローラ、６１２・・・検査ステーション、６１４・・・浮揚ノズル、６１６・・・反力ノズル、６２０・・・移動装置、６２２・・・軌道部、６２４・・・キャリッジアセンブリ、６２６・・・保持部、６２８・・・静止カメラ、６３０・・・第１ブリッジ、６３２・・・可動ビデオカメラ、６３４・・・第２ブリッジ。

Claims (201)

1. 略平面状基板に使用される撮像システムであって、
   該撮像システムは、平面状基板を少なくとも撮像位置へ搬送する気流コンベヤと、該撮像位置に位置し該平面状基板を撮像する画像取得部とを備え、
   該平面状基板は、プリント回路基板、フラットパネルディスプレイ、及びインターコネクトデバイス基板から成る一群の基板から選択された基板であり、
   該気流コンベヤは、少なくとも該撮像位置において気流による基板平坦化機能を有し、
   該画像取得部は、該気流による基板平坦化機能によって平坦化された該平面状基板を撮像することを特徴とする撮像システム。
2. 該気流コンベヤは、気流クッション浮揚部を備えることを特徴とする請求項１記載の撮像システム。
3. 該気流コンベヤは、気流クッション押下部を備えることを特徴とする請求項１記載の撮像システム。
4. 該気流による基板平坦化機能は、気流クッションを有することを特徴とする請求項１記載の撮像システム。
5. 該気流による基板平坦化機能は、吸引押下部を有することを特徴とする請求項１記載の撮像システム。
6. 該気流コンベヤは、該平面状基板を、該撮像位置から離れる方向へも搬送することを特徴とする請求項１記載の撮像システム。
7. 該気流コンベヤは、該平面状基板を少なくとも該撮像位置へ向かって移動させる移動部を備えることを特徴とする請求項１記載の撮像システム。
8. 該気流コンベヤは、該平面状基板を該撮像位置から離れる方向へ移動させる移動部を備えることを特徴とする請求項１記載の撮像システム。
9. 略平面状基板に使用される両面撮像システムであって、
   該両面撮像システムは、少なくとも撮像位置へ浮揚状態で平面状基板を搬送する気流コンベヤと、該撮像位置に位置し該平面状基板の両面を撮像する画像取得部とを備え、
   該平面状基板は、プリント回路基板、フラットパネルディスプレイ、及びインターコネクトデバイス基板から成る一群の基板から選択された基板であり、
   該画像取得部は、該気流コンベヤによって浮揚された該平面状基板の両面を撮像することを特徴とする両面撮像システム。
10. 該気流コンベヤは、少なくとも該撮像位置において気流による基板平坦化機能を有することを特徴とする請求項９記載の撮像システム。
11. 該気流コンベヤは、吸引押下部を有することを特徴とする請求項９記載の撮像システム。
12. 該気流による基板平坦化機能は、気流クッション押下部を備えることを特徴とする請求項１０記載の撮像システム。
13. 該気流による基板平坦化機能は、吸引押下部を備えることを特徴とする請求項１０記載の撮像システム。
14. 該気流コンベヤは、該平面状基板を該撮像位置から離れる方向へも搬送することを特徴とする請求項９記載の撮像システム。
15. 該気流コンベヤは、該平面状基板を少なくとも該撮像位置へ向かって移動させる移動部を備えることを特徴とする請求項９記載の撮像システム。
16. 該気流コンベヤは、該平面状基板を該撮像位置から離れる方向へ移動させる移動部を備えることを特徴とする請求項９記載の撮像システム。
17. 略平面状基板を撮像するための方法であって、
    プリント回路基板、フラットパネルディスプレイ、及びインターコネクトデバイス基板から成る一群の基板から選択された平面状基板を、気流コンベヤを用いて少なくとも撮像位置へ搬送する搬送工程と、
    少なくとも該撮像位置において気流基板平坦化部を用いて該平面状基板を平坦化する平坦化工程と、
    該撮像位置に位置する撮像部を用いて、該気流基板平坦化部によって平坦化された該平面状基板の画像を取得する画像取得工程と、
    を有することを特徴とする撮像方法。
18. 該気流コンベヤは、気流浮揚部を備えることを特徴とする請求項１７記載の撮像方法。
19. 該気流コンベヤは、気流押下部を備えることを特徴とする請求項１７記載の撮像方法。
20. 該気流基板平坦化機能は、気流クッションにより平坦化を行うことを特徴とする請求項１７記載の撮像方法。
21. 該気流基板平坦化機能は、吸引による平坦化を行うことを特徴とする請求項１７記載の撮像方法。
22. 該搬送工程は、該撮像位置から離れる方向に、該平面状基板を搬送する工程を有することを特徴とする請求項１７記載の撮像方法。
23. 該搬送工程は、該平面状基板を浮揚状態において、少なくとも該撮像位置へ向かって移動させる工程を有することを特徴とする請求項１７記載の撮像方法。
24. 該搬送工程は、該平面状基板を浮揚状態において、該撮像位置から離れる方向へ移動させる工程を有することを特徴とする請求項１７記載の撮像方法。
25. 略平面状基板の両面を撮像するための方法であって、
    プリント回路基板、フラットパネルディスプレイ、及びインターコネクトデバイス基板から成る一群の基板から選択された平面状基板を、浮揚状態で少なくとも撮像位置へ搬送する搬送工程と、
    該浮揚状態において該平面状基板の両面の画像を取得する画像取得工程と、
    を有することを特徴とする撮像方法。
26. 該搬送工程は、少なくとも該撮像位置において気流平坦化部により該平面状基板を平坦化する工程を有することを特徴とする請求項２５記載の撮像方法。
27. 該搬送工程は、気流クッション押下部により該平面状基板を押下する工程を有することを特徴とする請求項２５記載の撮像方法。
28. 該平坦化は、吸引による平坦化を行うことを特徴とする請求項２５記載の撮像方法。
29. 該平坦化は、気流クッションによる平坦化を行うことを特徴とする請求項２５記載の撮像方法。
30. 該搬送工程は、該撮像位置から離れる方向へ該平面状基板を搬送する工程を更に有することを特徴とする請求項２５記載の撮像方法。
31. 該搬送工程は、少なくとも該撮像位置へ向かって、浮揚状態で該平面状基板を移動させる工程を有することを特徴とする請求項２５記載の撮像方法。
32. 該搬送工程は、該撮像位置から離れる方向へ、浮揚状態で該平面状基板を移動させる工程を有することを特徴とする請求項２５記載の撮像方法。
33. 略平面状基板を走査する方法であって、
    プリント回路基板、フラットパネルディスプレイ、及びインターコネクトデバイス基板から成る一群の基板から選択された走査すべき平面状基板を、気流コンベヤを用いて少なくとも走査位置へ搬送する搬送工程と、
    少なくとも該走査位置において、気流基板平坦化部を用いて該平面状基板を平坦化する平坦化工程と、
    画像を取得するために、該走査位置に位置する走査部を用いて、該気流基板平坦化部によって平坦化された該平面状基板を走査する走査工程と、
    を有することを特徴とする走査方法。
34. 該気流コンベヤは、気流浮揚部を備えることを特徴とする請求項３３記載の走査方法。
35. 該気流コンベヤは、気流押下部を有することを特徴とする請求項３３記載の走査方法。
36. 該気流基板平坦化機能は、吸引による押下げを行うことを特徴とする請求項３３記載の走査方法。
37. 該気流基板平坦化機能は、気流クッションによる押下げを行うことを特徴とする請求項３３記載の走査方法。
38. 該搬送工程は、該撮像位置から離れる方向に該平面状基板を搬送する工程を更に有することを特徴とする請求項３３記載の走査方法。
39. 該気流コンベヤは、該平面状基板を少なくとも該撮像位置へ向かって移動させる移動部を備えることを特徴とする請求項３３記載の走査方法。
40. 該気流コンベヤは、該平面状基板を該撮像位置から離れる方向へ移動させる移動部を備えることを特徴とする請求項３３記載の走査方法。
41. プリント回路基板、フラットパネルディスプレイ、及びインターコネクトデバイス基板を搬送するのに適した浮揚方法であって、
    プリント回路基板、フラットパネルディスプレイ、及びインターコネクトデバイス基板から成る一群の基板から選択された平面状基板を、浮揚部を用いて、面に対して浮揚させる浮揚工程と、
    移動部を用いて、該面に対して略平行に該平面状基板を移動させる移動工程と、
    基板平坦化部を用いて、浮揚状態にある該平面状基板を平坦化する平坦化工程と、
    を有することを特徴とする浮揚方法。
42. 該浮揚部を用いる浮揚工程は、気流クッション浮揚部を用いることを特徴とする請求項４１記載の浮揚方法。
43. 該基板平坦化部を用いる平坦化工程は、正圧装置を使用して平坦化を行うことを特徴とする請求項４１記載の浮揚方法。
44. 該基板平坦化部を用いる平坦化工程は、吸引装置を使用して平坦化を行うことを特徴とする請求項４１記載の浮揚方法。
45. プリント回路基板を製造するための方法であって、
    気流コンベヤを用いて、少なくとも撮像位置へ、感光化されたプリント回路基板を搬送する搬送工程と、
    少なくとも該撮像位置において、気流基板平坦化部を用いて、該感光化されたプリント回路基板を平坦化する平坦化工程と、
    該撮像位置に位置する撮像部を用いて、該気流基板平坦化部によって平坦化された該プリント回路基板上に、電気回路の一部の画像を形成する画像形成工程と、
    を有することを特徴とする製造方法。
46. 該搬送工程は、気流浮揚部を用いて搬送を行う工程を含むことを特徴とする請求項４５記載の製造方法。
47. 該搬送工程は、気流クッション押下部を用いて該基板を押下する工程を含むことを特徴とする請求項４５記載の製造方法。
48. 該平坦化工程は、気流クッションにより平坦化を行う工程を含むことを特徴とする請求項４５記載の製造方法。
49. 該平坦化工程は、吸引により平坦化を行う工程を含むことを特徴とする請求項４５記載の製造方法。
50. 該搬送工程は、該撮像位置から離れる方向に該基板を搬送する工程を更に含むことを特徴とする請求項４５記載の製造方法。
51. 該搬送工程は、少なくとも該撮像位置へ向かって浮揚状態で該基板を移動させる工程を含むことを特徴とする請求項４５記載の製造方法。
52. 該搬送工程は、該撮像位置から離れる方向に浮揚状態で該基板を移動させる工程を含むことを特徴とする請求項４５記載の製造方法。
53. 該画像形成工程は、変調レーザビーム装置を用いて、該感光化されたプリント回路基板の上に所望のパターンを露光する工程を含むことを特徴とする請求項４５記載の製造方法。
54. 電気回路を製造するための方法であって、
    プリント回路基板、フラットパネルディスプレイ、及びインターコネクトデバイス基板から成る一群の基板から選択された基板の上に、電気回路パターンの一部を形成するパターン形成工程と、
    気流コンベヤにより、少なくとも撮像位置へ該基板を搬送する搬送工程と、
    該基板が気流基板平坦化部により平坦化されている間、該パターンの画像を取得する画像取得工程と、
    該電気回路パターンの一部における欠陥を検知するために該画像を分析する分析工程と、
    を有することを特徴とする製造方法。
55. 該搬送工程は、気流浮揚部を用いて搬送を行う工程を含むことを特徴とする請求項５４記載の製造方法。
56. 該画像取得工程は、気流クッションにより少なくとも一部が平坦化された状態で該基板を搬送する工程を含むことを特徴とする請求項５５記載の製造方法。
57. 該画像取得工程は、吸引により少なくとも一部が平坦化された状態で該基板を搬送する工程を含むことを特徴とする請求項５５記載の製造方法。
58. 該搬送工程は、該撮像位置から離れる方向に該基板を搬送する工程を更に含むことを特徴とする請求項５４記載の製造方法。
59. 該搬送工程は、少なくとも該撮像位置へ向かって、浮揚状態で該基板を移動させる工程を含むことを特徴とする請求項５４記載の製造方法。
60. 該搬送工程は、該撮像位置から離れる方向に、浮揚状態で該基板を移動させる工程を含むことを特徴とする請求項５４記載の製造方法。
61. 該画像取得工程は、光学検査用センサを動作させる工程を含むことを特徴とする請求項５４記載の製造方法。
62. 該光学検査用センサは、少なくとも１個の静止アレイカメラを備えることを特徴とする請求項６１記載の製造方法。
63. 該光学検査用センサは、走査カメラを備えることを特徴とする請求項６０記載の製造方法。
64. 該分析工程は、該基板の所望の物理的特性を検知する工程を含むことを特徴とする請求項４７記載の製造方法。
65. 該分析工程は、画像処理コンピュータへ該画像を送信する工程を含むことを特徴とする請求項４７記載の製造方法。
66. 該分析工程は、該パターンのうち欠陥の疑いがある領域について、少なくとも一の追加画像を取得する工程を含むことを特徴とする請求項４７記載の製造方法。
67. 略平面状基板に使用される画像システムであって、
    プリント回路基板を少なくとも画像生成位置へ搬送し、少なくとも該画像生成位置において気流による基板平坦化機能を有する気流コンベヤと、
    該画像生成位置に位置し、該気流による基板平坦化機能によって平坦化された該平面状基板の画像を生成する画像生成部と、
    を備えることを特徴とする画像システム。
68. 該気流コンベヤは、気流クッション浮揚部を備えることを特徴とする請求項６７記載の画像システム。
69. 該気流コンベヤは、気流クッション押下部を備えることを特徴とする請求項６７記載の画像システム。
70. 該気流による基板平坦化機能は、気流クッションを有することを特徴とする請求項６７記載の画像システム。
71. 該気流による基板平坦化機能は、吸引による押下機能を有することを特徴とする請求項６７記載の画像システム。
72. 該気流コンベヤは、該画像生成位置から離れる方向へも該平面状基板を搬送することを特徴とする請求項６７記載の画像システム。
73. 該気流コンベヤは、少なくとも該画像生成位置へ向かって該平面状基板を移動させる移動部を備えることを特徴とする請求項６７記載の画像システム。
74. 該気流コンベヤは、該画像生成位置から離れる方向へ該平面状基板を移動させる移動部を備えることを特徴とする請求項６７記載の画像システム。
75. 略平面状基板に使用される両面画像システムであって、
    プリント回路基板を浮揚状態で少なくとも画像生成位置へ搬送する気流コンベヤと、
    該画像生成位置に位置し、該気流コンベヤによって浮揚された該平面状基板の両面の画像を生成する画像生成部と、
    を備えることを特徴とする両面画像システム。
76. 該気流コンベヤは、少なくとも該画像生成位置において気流による基板平坦化機能を有することを特徴とする請求項７５記載の画像システム。
77. 該気流コンベヤは、吸引押下部を有することを特徴とする請求項７５記載の画像システム。
78. 該気流による基板平坦化機能は、気流クッション押下部を備えることを特徴とする請求項７６記載の画像システム。
79. 該気流による基板平坦化機能は、吸引押下部を備えることを特徴とする請求項７６記載の画像システム。
80. 該気流コンベヤは、該画像生成位置から離れる方向へも該平面状基板を搬送することを特徴とする請求項７５記載の画像システム。
81. 該気流コンベヤは、少なくとも該画像生成位置へ向かって該平面状基板を移動させる移動部を備えることを特徴とする請求項７５記載の画像システム。
82. 該気流コンベヤは、該画像生成位置から離れる方向へ該平面状基板を移動させる移動部を備えることを特徴とする請求項７５記載の画像システム。
83. 走査すべきプリント回路基板を少なくとも走査位置へ搬送し、少なくとも該走査位置において気流による基板平坦化機能を有する気流コンベヤと、
    該走査位置に位置し、該気流による基板平坦化機能によって平坦化された該プリント回路基板を走査するための走査部と、
    を備えることを特徴とするフラットベッドスキャナシステム。
84. 該走査部は、画像取得部の一部を成すことを特徴とする請求項８３記載のフラットベッドスキャナシステム。
85. 該走査部は、画像生成部の一部を成すことを特徴とする請求項８３記載のフラットベッドスキャナシステム。
86. 該平面状基板は、感光層を有することを特徴とする請求項８５記載のフラットベッドスキャナシステム。
87. 該画像生成部は、該感光層上に所望のパターンを露光する変調レーザビーム装置を備えることを特徴とする請求項８６記載のフラットベッドスキャナシステム。
88. 該気流コンベヤは、気流浮揚部を備えることを特徴とする請求項８３記載のフラットベッドスキャナシステム。
89. 該気流コンベヤは、気流押下部を備えることを特徴とする請求項８３記載のフラットベッドスキャナシステム。
90. 該気流による基板平坦化機能は、気流クッションを有することを特徴とする請求項８３記載のフラットベッドスキャナシステム。
91. 該気流による基板平坦化機能は、吸引押下部を有することを特徴とする請求項８３記載のフラットベッドスキャナシステム。
92. 該気流コンベヤは、該撮像位置から離れる方向へも該平面状基板を搬送することを特徴とする請求項８３記載のフラットベッドスキャナシステム。
93. 該気流コンベヤは、少なくとも該撮像位置へ向かって該平面状基板を移動させる移動部を備えることを特徴とする請求項８３記載のフラットベッドスキャナシステム。
94. 該気流コンベヤは、該撮像位置から離れる方向へ該平面状基板を移動させる移動部を備えることを特徴とする請求項８３記載のフラットベッドスキャナシステム。
95. 略平面状基板の画像を生成するための方法であって、
    気流コンベヤを用いて、少なくとも画像生成位置へプリント回路基板を搬送する搬送工程と、
    少なくとも該画像生成位置において、気流基板平坦化部を用いて該プリント回路基板を平坦化する平坦化工程と、
    該画像生成位置に位置する画像生成部を用いて、該気流基板平坦化部によって平坦化された該プリント回路基板上に、電気回路の一部の画像を生成する画像生成工程と、
    を備えることを特徴とする画像生成方法。
96. 該気流コンベヤは、気流浮揚部を備えることを特徴とする請求項９５記載の画像生成方法。
97. 該気流コンベヤは、気流押下部を備えることを特徴とする請求項９５記載の画像生成方法。
98. 該気流基板平坦化機能は、気流クッションにより平坦化を行うことを特徴とする請求項９５記載の画像生成方法。
99. 該気流基板平坦化機能は、吸引押下げによる平坦化を行うことを特徴とする請求項９５記載の画像生成方法。
100. 該搬送工程は、該画像生成位置から離れる方向に該プリント回路基板を搬送する工程を有することを特徴とする請求項９５記載の画像生成方法。
101. 該搬送工程は、少なくとも該画像生成位置へ向かって、浮揚状態で該プリント回路基板を移動させる工程を有することを特徴とする請求項９５記載の画像生成方法。
102. 該搬送工程は、該画像生成位置から離れる方向へ、浮揚状態で該プリント回路基板を移動させる工程を有することを特徴とする請求項９５記載の画像生成方法。
103. 略平面状基板の両面の画像を生成するための方法であって、
     少なくとも画像生成位置へ、浮揚状態でプリント回路基板を搬送する搬送工程と、
     該浮揚状態において、該プリント回路基板の両面の画像を生成する画像生成工程と、
     を有することを特徴とする画像生成方法。
104. 該搬送工程は、少なくとも該画像生成位置において気流平坦化部を用いて該プリント回路基板を平坦化する工程を有することを特徴とする請求項１０３記載の画像生成方法。
105. 該搬送工程は、気流クッション押下機能により該プリント回路基板を押下する工程を有することを特徴とする請求項１０３記載の画像生成方法。
106. 該平坦化は、吸引による平坦化を行うことを特徴とする請求項１０３記載の画像生成方法。
107. 該平坦化は、気流クッションによる平坦化を行うことを特徴とする請求項１０３記載の画像生成方法。
108. 該搬送工程は、該画像生成位置から離れる方向へ、該プリント回路基板を搬送する工程を更に有することを特徴とする請求項１０３記載の画像生成方法。
109. 該搬送工程は、少なくとも該画像生成位置へ向かって、浮揚状態で該プリント回路基板を移動させる工程を有することを特徴とする請求項１０３記載の画像生成方法。
110. 該搬送工程は、該画像生成位置から離れる方向へ、浮揚状態で該プリント回路基板を移動させる工程を有することを特徴とする請求項１０３記載の画像生成方法。
111. プリント回路基板を走査するための方法であって、
     気流コンベヤを用いて、少なくとも走査位置へプリント回路基板を搬送する搬送工程と、
     少なくとも該走査位置において、気流基板平坦化部を用いてプリント回路基板を平坦化する平坦化工程と、
     電気回路の一部の画像を生成するために、該走査位置に位置する走査部を用いて、該気流基板平坦化部によって平坦化された該平面状基板を走査する走査工程と、
     を有することを特徴とする走査方法。
112. 該気流コンベヤは、気流浮揚部を備えることを特徴とする請求項１１１記載の走査方法。
113. 該気流コンベヤは、気流押下部を有することを特徴とする請求項１１１記載の走査方法。
114. 該気流基板平坦化機能は、吸引による押下げを行うことを特徴とする請求項１１１記載の走査方法。
115. 該気流基板平坦化機能は、気流クッションによる押下げを行うことを特徴とする請求項１１１記載の走査方法。
116. 該搬送工程は、該画像生成位置から離れる方向にプリント回路基板を搬送する工程を更に有することを特徴とする請求項１１１記載の走査方法。
117. 該気流コンベヤは、少なくとも該画像生成位置へ向かってプリント回路基板を移動させる移動部を備えることを特徴とする請求項１１１記載の走査方法。
118. 該気流コンベヤは、該画像生成位置から離れる方向へプリント回路基板を移動させる移動部を備えることを特徴とする請求項１１１記載の走査方法。
119. 略平面状基板に使用される撮像システムであって、
     平面状基板を少なくとも撮像位置へ搬送し、少なくとも該撮像位置において気流による基板平坦化機能を有する気流コンベヤと、
     該撮像位置に位置し、該気流による基板平坦化機能によって平坦化された該平面状基板を撮像するための撮像部と、
     を備えることを特徴とする撮像システム。
120. 該撮像部は画像取得部であることを特徴とする請求項１１９記載の撮像システム。
121. 該撮像部は画像生成部であることを特徴とする請求項１１９記載の撮像システム。
122. 該気流コンベヤは、気流浮揚部を備えることを特徴とする請求項１１９記載の撮像システム。
123. 該気流コンベヤは、気流押下部を備えることを特徴とする請求項１１９記載の撮像システム。
124. 該気流による基板平坦化機能は、気流浮揚部を有することを特徴とする請求項１１９記載の撮像システム。
125. 該気流による基板平坦化機能は、気流押下部を有することを特徴とする請求項１１９記載の撮像システム。
126. 該気流コンベヤは、該撮像位置から離れる方向へも該平面状基板を搬送することを特徴とする請求項１１９記載の撮像システム。
127. 該気流コンベヤは、少なくとも該撮像位置へ向かって該平面状基板を移動させる移動部を備えることを特徴とする請求項１１９記載の撮像システム。
128. 該気流コンベヤは、該撮像位置から離れる方向へ該平面状基板を移動させる移動部を備えることを特徴とする請求項１１９記載の撮像システム。
129. 略平面状基板に使用される両面撮像システムであって、
     少なくとも撮像位置へ、浮揚状態で平面状基板を搬送する気流コンベヤと、
     該撮像位置に位置し、該気流コンベヤによって浮揚された該平面状基板の両面を撮像するための撮像部と、
     を備えることを特徴とする両面撮像システム。
130. 該撮像部は画像取得部であることを特徴とする請求項１２９記載の撮像システム。
131. 該撮像部は画像生成部であることを特徴とする請求項１２９記載の撮像システム。
132. 該気流コンベヤは、少なくとも該撮像位置において気流による基板平坦化機能を有することを特徴とする請求項１２９記載の撮像システム。
133. 該気流コンベヤは、気流押下部を備えることを特徴とする請求項１２９記載の撮像システム。
134. 該気流による基板平坦化機能は、気流浮揚部を有することを特徴とする請求項１３２記載の撮像システム。
135. 該気流による基板平坦化機能は、気流押下部を有することを特徴とする請求項１３２記載の撮像システム。
136. 該気流コンベヤは、該撮像位置から離れる方向へも該平面状基板を搬送することを特徴とする請求項１２９記載の撮像システム。
137. 該気流コンベヤは、少なくとも該撮像位置へ向かって該平面状基板を移動させる移動部を備えることを特徴とする請求項１２９記載の撮像システム。
138. 該気流コンベヤは、該撮像位置から離れる方向へ該平面状基板を移動させる移動部を備えることを特徴とする請求項１２９記載の撮像システム。
139. 走査すべき平面状基板を少なくとも走査位置へ搬送し、少なくとも該走査位置において気流による基板平坦化機能を有する気流コンベヤと、
     該走査位置に位置し、該気流による基板平坦化機能によって平坦化された該平面状基板を走査するための走査部と、
     を備えることを特徴とするフラットベッドスキャナシステム。
140. 該走査部は、画像取得部の一部を成すことを特徴とする請求項１３９記載のフラットベッドスキャナシステム。
141. 該走査部は、画像生成部の一部を成すことを特徴とする請求項１３９記載のフラットベッドスキャナシステム。
142. 該平面状基板は、感光層を有することを特徴とする請求項１４１記載のフラットベッドスキャナシステム。
143. 該画像生成部は、該感光層上に所望のパターンを露光する変調レーザビーム装置を備えることを特徴とする請求項１４２記載のフラットベッドスキャナシステム。
144. 該気流コンベヤは、気流浮揚部を備えることを特徴とする請求項１３９記載のフラットベッドスキャナシステム。
145. 該気流コンベヤは、気流押下部を備えることを特徴とする請求項１３９記載のフラットベッドスキャナシステム。
146. 該気流による基板平坦化機能は、気流浮揚部を有することを特徴とする請求項１３９記載のフラットベッドスキャナシステム。
147. 該気流による基板平坦化機能は、気流押下部を有することを特徴とする請求項１３９記載のフラットベッドスキャナシステム。
148. 該気流コンベヤは、該撮像位置から離れる方向へも該平面状基板を搬送することを特徴とする請求項１３９記載のフラットベッドスキャナシステム。
149. 該気流コンベヤは、少なくとも該撮像位置へ向かって該平面状基板を移動させる移動部を備えることを特徴とする請求項１３９記載のフラットベッドスキャナシステム。
150. 該気流コンベヤは、該撮像位置から離れる方向へ該平面状基板を移動させる移動部を備えることを特徴とする請求項１３９記載のフラットベッドスキャナシステム。
151. 略平面状基板を撮像するための方法であって、
     気流コンベヤを用いて、少なくとも撮像位置へ平面状基板を搬送する搬送工程と、
     少なくとも該撮像位置において、気流基板平坦化部を用いて該平面状基板を平坦化する平坦化工程と、
     該撮像位置に位置する撮像部を用いて、該気流基板平坦化部によって平坦化された該平面状基板を撮像する撮像工程と、
     を有することを特徴とする撮像方法。
152. 該撮像工程は、画像を取得する工程を有することを特徴とする請求項１５１記載の撮像方法。
153. 該撮像工程は、画像を生成する工程を有することを特徴とする請求項１５１記載の撮像方法。
154. 該気流コンベヤは、気流浮揚部を備えることを特徴とする請求項１５１記載の撮像方法。
155. 該気流コンベヤは、気流押下部を備えることを特徴とする請求項１５１記載の撮像方法。
156. 該気流基板平坦化機能は、気流浮揚部を有することを特徴とする請求項１５１記載の撮像方法。
157. 該気流基板平坦化機能は、気流押下部を有することを特徴とする請求項１５１記載の撮像方法。
158. 該搬送工程は、該撮像位置から離れる方向に、該平面状基板を搬送する工程を有することを特徴とする請求項１５１記載の撮像方法。
159. 該搬送工程は、少なくとも該撮像位置へ向かって、浮揚状態で該平面状基板を移動させる工程を有することを特徴とする請求項１５１記載の撮像方法。
160. 該搬送工程は、該撮像位置から離れる方向へ、浮揚状態で該平面状基板を移動させる工程を有することを特徴とする請求項１５１記載の撮像方法。
161. 略平面状基板の両面を撮像するための方法であって、
     少なくとも撮像位置へ、浮揚状態で該平面状基板を搬送する搬送工程と、
     該浮揚状態において該平面状基板の両面を撮像する撮像工程と、
     を有することを特徴とする撮像方法。
162. 該撮像工程は、画像取得を含むことを特徴とする請求項１６１記載の撮像方法。
163. 該撮像工程は、画像生成を含むことを特徴とする請求項１６１記載の撮像方法。
164. 該搬送工程は、少なくとも該撮像位置において、気流基板平坦化部を用いて該平面状基板を平坦化する工程を有することを特徴とする請求項１６１記載の撮像方法。
165. 該搬送工程は、気流押下部を用いて該平面状基板を押下する工程を有することを特徴とする請求項１６１記載の撮像方法。
166. 該平坦化工程は、気流浮揚部による平坦化を含むことを特徴とする請求項１６１記載の撮像方法。
167. 該平坦化工程は、気流押下部による平坦化を含むことを特徴とする請求項１６１記載の撮像方法。
168. 該搬送工程は、該撮像位置から離れる方向にも該平面状基板を搬送する工程を有することを特徴とする請求項１６１記載の撮像方法。
169. 該搬送工程は、少なくとも該撮像位置へ向かって、浮揚状態で該平面状基板を移動させる工程を有することを特徴とする請求項１６１記載の撮像方法。
170. 該搬送工程は、該撮像位置から離れる方向へ、浮揚状態で該平面状基板を移動させる工程を有することを特徴とする請求項１６１記載の撮像方法。
171. 略平面状基板を走査する方法であって、
     気流コンベヤを用いて、少なくとも走査位置へ、走査すべき平面状基板を搬送する搬送工程と、
     少なくとも該走査位置において、気流基板平坦化部を用いて該平面状基板を平坦化する平坦化工程と、
     該走査位置に位置する走査部を用いて、該気流基板平坦化部によって平坦化された該平面状基板を走査する走査工程と、
     を有することを特徴とする走査方法。
172. 該走査工程は、画像取得工程を一部に含むことを特徴とする請求項１７１記載の走査方法。
173. 該走査工程は、画像生成工程を一部に含むことを特徴とする請求項１７１記載の走査方法。
174. 該平面状基板は、感光層を有することを特徴とする請求項１７３記載の走査方法。
175. 該画像生成工程は、変調レーザビーム装置を用いて、該感光層上に所望のパターンを露光する工程を含むことを特徴とする請求項１７４記載の走査方法。
176. 該気流コンベヤは、気流浮揚部を備えることを特徴とする請求項１７１記載の走査方法。
177. 該気流コンベヤは、気流押下部を備えることを特徴とする請求項１７１記載の走査方法。
178. 該気流基板平坦化機能は、気流浮揚部を備えることを特徴とする請求項１７１記載の走査方法。
179. 該気流基板平坦化機能は、気流押下部を備えることを特徴とする請求項１７１記載の走査方法。
180. 該搬送工程は、該撮像位置から離れる方向に該平面状基板を搬送する工程を更に有することを特徴とする請求項１７１記載の走査方法。
181. 該気流コンベヤは、少なくとも該撮像位置へ向かって該平面状基板を移動させる移動部を備えることを特徴とする請求項１７１記載の走査方法。
182. 該気流コンベヤは、該撮像位置から離れる方向へ該平面状基板を移動させる移動部を備えることを特徴とする請求項１７１記載の走査方法。
183. 略平面状基板を搬送するのに適した浮揚方法であって、
     浮揚部を用いて、平面状基板を面に対して浮揚させる浮揚工程と、
     移動部を用いて、該面に対して略平行に該平面状基板を移動させる移動工程と、
     基板平坦化部を用いて、浮揚状態にある該平面状基板を平坦化する平坦化工程と、
     を有することを特徴とする浮揚方法。
184. 該浮揚部を用いる浮揚工程は、真空浮揚装置を用いた浮揚を含むことを特徴とする請求項１８３記載の浮揚方法。
185. 該基板平坦化部を用いる平坦化工程は、正圧装置を用いた平坦化を含むことを特徴とする請求項１８３記載の浮揚方法。
186. 該基板平坦化部を用いる平坦化工程は、吸引装置を用いた平坦化を含むことを特徴とする請求項１８３記載の浮揚方法。
187. 気流発生部と、浮揚状態で平面状基板を搬送する気流浮揚コンベヤとを備えた気流コンベヤシステムであって、
     該気流浮揚コンベヤは、
     気流クッション機能を用いて該平面状基板を浮揚させる気流テーブルと、
     該平面状基板を移動させる移動部と、
     該気流浮揚コンベヤの少なくとも一領域において、浮揚状態にある該平面状基板を平坦化する気流基板平坦化部とを備えることを特徴とする気流コンベヤシステム。
188. 該気流コンベヤは、気流クッション押下部を備えることを特徴とする請求項１８７記載の気流コンベヤシステム。
189. 該気流による基板平坦化機能は、気流クッション押下部を有することを特徴とする請求項１８７記載の気流コンベヤシステム。
190. 該気流による基板平坦化部は、吸引押下部を有することを特徴とする請求項１８７記載の気流コンベヤシステム。
191. 該吸引押下部は、該平面状基板に関して、該気流テーブルと同じ側に設けられていることを特徴とする請求項１９０記載の気流コンベヤシステム。
192. 面に対して平面状基板を浮揚させる浮揚部と、
     浮揚状態にある該平面状基板を、該面に対して略平行に移動させる移動部と、
     浮揚状態にある該平面状基板を平坦化する基板平坦化部と、
     を備えたことを特徴とする浮揚コンベヤシステム。
193. 該浮揚部は、気流クッション発生部を備えることを特徴とする請求項１９２記載の浮揚コンベヤシステム。
194. 該基板平坦化部は、正圧装置を備えることを特徴とする請求項１９２記載の浮揚コンベヤシステム。
195. 該基板平坦化部は、正圧装置を備えることを特徴とする請求項１９３記載の浮揚コンベヤシステム。
196. 該基板平坦化部は、吸引押下部を備えることを特徴とする請求項１９２記載の浮揚コンベヤシステム。
197. 該基板平坦化部は、吸引押下部を備えることを特徴とする請求項１９３記載の浮揚コンベヤシステム。
198. 気流発生部により気流を発生する気流発生工程と、
     気流浮揚コンベヤにより平面状基板を搬送する搬送工程とを備えた気流搬送方法であって、
     該搬送工程は、気流浮揚機能を用いて気流テーブルにより該平面状基板を浮揚させる浮揚工程と、
     移動部を用いて該平面状基板を移動させる移動工程と、
     該気流浮揚コンベヤの少なくとも一領域において、気流基板平坦化部を用いて浮揚状態にある該平面状基板を平坦化する平坦化工程と、を有することを特徴とする気流搬送方法。
199. 該搬送工程は、気流クッション押下部により押下げられた該平面状基板を搬送する工程を有することを特徴とする請求項１９８記載の気流搬送方法。
200. 該平坦化工程は、吸引平坦化部を用いて平坦化を行う工程を有することを特徴とする請求項１９８記載の気流搬送方法。
201. 該平坦化工程は、気流クッション押下部を用いて平坦化を行う工程を有することを特徴とする請求項１９８記載の気流搬送方法。

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