JP7023620B2 - 露光装置及び基板載置方法 - Google Patents
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Description
上記基板支持手段は、上記基板載置面と上記フレキシブル基板との接近に応じて、上記基板載置面と上記フレキシブル基板とが接触する面積を拡大させることができる。
この状態において、図2に示すように、下流側基板制動部61のブレーキ部材61bをガイドローラ61aに接近移動させ、ブレーキ部材61bとガイドローラ61aの間にフレキシブル基板Wを挟持して、フレキシブル基板Wが搬送方向Mに移動しないようにする。この状態では、基準XY平面XS内に位置しているフレキシブル基板Wに、巻取側ダンサーローラ23によるテンション(巻取部20側からのテンション)は加わらない(但し、供給側ダンサーローラ13によるテンションは加わっている)。
次に、図3に示すように、基板上昇部62の昇降アクチュエータ62aにより、非接触位置に位置しているガイドローラ62bを基準XY平面XSを超えて上昇させ、フレキシブル基板Wの基板載置面31aより上流側の部分を基板載置面31aから離間する方向に変形させる(フレキシブル基板Wが基板載置面31aに対して離間し、傾斜している状態、またはフレキシブル基板Wが基板載置面31aから離間した離間位置に保持されている状態にする)。ここでいう変形は、フレキシブル基板Wの面状態の変化であり、例えばフレキシブル基板Wが湾曲することを意味する。換言すれば、基板搬送形状(Y方向から見たときのフレキシブル基板Wの形状)の変形である。この状態では、フレキシブル基板Wが押し上げられて引っ張られた分だけ供給側ダンサーローラ13が上昇移動し、フレキシブル基板Wに供給部10側から一定のテンションが加わっている。基板上昇部62のガイドローラ62bは、フレキシブル基板Wを、基板載置面31aから離間する離間位置と、基板載置面31aに沿って接触する載置位置との間で移動させる基板移動手段を構成するとともに、ガイドローラ60aとで基板支持手段(第1と第2の基板支持部)を構成する。昇降アクチュエータ62aは、ガイドローラ62bを基板載置面31aを含む基準XY平面XSに対して突出するように移動させる昇降手段を構成する。
このように、フレキシブル基板Wを基板載置面31aに対して傾斜させた状態(フレキシブル基板Wを基板載置面31aから離間させた状態、離間位置)において、図4に示すように、供給側基板制動部15のブレーキ部材15bをガイドローラ15aに対して接近移動させ、ブレーキ部材15bとガイドローラ15aの間にフレキシブル基板Wを挟持して制動する。この状態では、フレキシブル基板Wは供給側基板制動部15(ブレーキ部材15b)及び下流側基板制動部61(ブレーキ部材61b)に対して相対移動できないが、フレキシブル基板Wには搬送時と同等のテンションが掛かっている。しかし、フレキシブル基板Wには、供給部10の供給側ダンサーローラ13によるテンションは掛かっていない。
次に、図5に示すように、基板上昇部62のガイドローラ62bを昇降アクチュエータ62aによって下降させる。すると、ガイドローラ60aとガイドローラ62bの間に平面状に張られていたフレキシブル基板Wが緩んで(フレキシブル基板Wにかかるテンションが搬送するときより低下して)、自重により降下し、低テンション状態で基板載置面31aに接近し、基板載置面31aに沿う。その結果、フレキシブル基板Wは、下流側基板支持部60のガイドローラ60aに近い部分から順に、露光ステージ31の基板載置面31aと接触し、基板載置面31aと接触する範囲CAの面積を拡大し、基板載置面31aに沿った載置状態になる。このフレキシブル基板Wが自重により降下して基板載置面31aに接近し、接触を開始するタイミング迄に、露光ステージ31の基板載置面31aに対する負圧の供給を開始する。
フレキシブル基板Wを基板載置面31aに沿わせるもしくは沿う、またはフレキシブル基板Wが基板載置面31aに沿ったとは、フレキシブル基板Wが基板載置面31aと対向し面接触している状態を意味する。
基板上昇部62のガイドローラ62bの下降に従い、フレキシブル基板Wは露光ステージ31の基板載置面31a上に自重で降下して低テンション状態で巻取(下流)側から供給(上流)側に吸着固定されてゆく。そして、図6に示すように、ガイドローラ62bが基準XY平面XSとの非干渉位置に完全に後退する(下降する)と、テンションが加わっていない低テンション状態のフレキシブル基板Wが露光ステージ31の基板載置面31aに沿った状態となり、接触範囲CAが巻取側縁部から供給側縁部に亘る最大面積で接触した状態で、吸着固定される。この吸着固定状態では、フレキシブル基板Wの弛みは露光ステージ31の上流側の部分にのみ生じる。基板上昇部62のガイドローラ62bは、基板載置面31aにフレキシブル基板Wを接近させる動作に応じて、基板載置面31aとフレキシブル基板Wとが接触する面積を拡大させて、フレキシブル基板Wを基板載置面31aに沿わせる基板支持手段を構成する。フレキシブル基板Wの基板載置面31aに接近して接触する部分は、テンションが解除された状態(低テンション状態)で基板載置面31aに接触する。
以上の動作により、テンションが加わっていない低テンション状態のフレキシブル基板Wの基板載置面31aへの吸着固定動作が終了する。その後、図7に示すように、ブレーキ部材61bとブレーキ部材15bをそれぞれガイドローラ61aとガイドローラ15aから離間させ、下流側基板制動部61と供給側基板制動部15によるフレキシブル基板Wの制動(拘束)動作を終了する。すると、フレキシブル基板Wには、供給部10の供給側ダンサーローラ13と巻取部20の巻取側ダンサーローラ23による一定のテンションが加わることになり、露光ステージ31の上流側のフレキシブル基板Wの弛みは供給側ダンサーローラ13により除去される。
露光装置1は、図7の状態が、露光動作開始前の初期状態である。
以上の実施形態では、下流側基板支持部60と基板上昇部62のうち、一方(基板上昇部62)のみをZ方向(上下方向)に昇降させ、他方(下流側基板支持部60)は固定位置に設けているが、双方をZ方向に昇降させ、フレキシブル基板Wに同様の動作を与えることも可能である。
10 供給部
11 供給ロール(供給側ロール)
12 14 ガイドローラ
13 供給側ダンサーローラ
15 供給側基板制動部(第1の制動手段)
15a ガイドローラ
15b ブレーキ部材
16 ガイドローラ
21 巻取ロール(巻取側ロール)
22 24 ガイドローラ
23 巻取側ダンサーローラ
25 巻取側制動ローラ
30 露光部(露光手段)
31 31F 露光ステージ(基板載置台)
31a 基板載置面
32 32F 基台
33 ガイドレール
34 X移動機構部
35 昇降駆動手段
41 アライメントカメラ
51 51F 露光ユニット(露光手段)
60 60F 下流側基板支持部(第2の基板支持部)
60a ガイドローラ(第2の基板支持部)
61 61F 下流側基板制動部(第2の制動手段)
61a ガイドローラ
61b ブレーキ部材
W フレキシブル基板(感光性基板、長尺ワーク)
62 62M 基板上昇部(基板支持手段、基板昇降手段)
62a 昇降アクチュエータ
62b ガイドローラ(基板支持手段、第1の基板支持部、基板昇降手段)
XS 基準XY平面(基板載置面を含む面)
Claims (6)
- 基板載置面を有する基板載置台と、
上記基板載置面に載置されたフレキシブル基板にパターンを露光する露光手段と、
を有する露光装置において、
上記フレキシブル基板を上記基板載置面から離間する方向に変形させた後、上記基板載置面上に自重により降下させて低テンション状態で上記基板載置面に沿わせる基板支持手段を有し、
上記基板支持手段は、上記フレキシブル基板を、上記基板載置面から離間する離間位置と、上記基板載置面に沿って接触する載置位置との間で移動させる基板移動手段を備え、
上記基板移動手段が上記フレキシブル基板を上記離間位置から上記載置位置へ移動させる間に、上記フレキシブル基板にかかるテンションを低下させることで上記フレキシブル基板を低テンション状態とすること、
を特徴とする露光装置。 - 基板載置面を有する基板載置台と、
上記基板載置面に載置されたフレキシブル基板にパターンを露光する露光手段と、
を有する露光装置において、
上記フレキシブル基板を上記基板載置面から離間する方向に変形させた後、上記基板載置面上に自重により降下させて低テンション状態で上記基板載置面に沿わせる基板支持手段を有し、
上記基板載置台の基板搬送方向両側に位置する第1の基板支持部及び第2の基板支持部と、
上記第1の基板支持部と第2の基板支持部の少なくとも一方を上記基板載置面を含む基準面に対して突出するように移動させる昇降手段と、
上記第1と第2の基板支持部より上記基板載置台から離れた側に位置する、上記フレキシブル基板を制動する第1の制動手段及び第2の制動手段と、
を備えることを特徴とする露光装置。 - 請求項1に記載の露光装置において、
上記基板支持手段は、上記フレキシブル基板を搬送するときよりもテンションを低下させることで、上記フレキシブル基板を低テンション状態とする露光装置。 - 請求項1に記載の露光装置において、
上記基板支持手段は、上記基板載置面と上記フレキシブル基板との接近に応じて、上記基板載置面と上記フレキシブル基板とが接触する面積を拡大させる露光装置。 - 請求項4に記載の露光装置において、
上記フレキシブル基板の上記基板載置面に接近して接触する部分は、テンションが解除された状態で上記基板載置面に接触する露光装置。 - 請求項1に記載の露光装置において、
上記基板支持手段は、上記離間位置と上記載置位置との間で、上記フレキシブル基板を支持する位置の間隔を変化させている露光装置。
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