JPH03282473A - フィルム露光装置 - Google Patents
フィルム露光装置Info
- Publication number
- JPH03282473A JPH03282473A JP2081334A JP8133490A JPH03282473A JP H03282473 A JPH03282473 A JP H03282473A JP 2081334 A JP2081334 A JP 2081334A JP 8133490 A JP8133490 A JP 8133490A JP H03282473 A JPH03282473 A JP H03282473A
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- JP
- Japan
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- film
- frame
- stage
- vacuum
- photomask
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- Pending
Links
- 238000003825 pressing Methods 0.000 claims abstract description 21
- 230000002093 peripheral effect Effects 0.000 claims description 7
- 230000005484 gravity Effects 0.000 abstract description 2
- 230000003028 elevating effect Effects 0.000 description 5
- 238000005516 engineering process Methods 0.000 description 4
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 3
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 description 3
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 2
- 238000000034 method Methods 0.000 description 2
- QSHDDOUJBYECFT-UHFFFAOYSA-N mercury Chemical compound [Hg] QSHDDOUJBYECFT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052753 mercury Inorganic materials 0.000 description 1
- 238000000206 photolithography Methods 0.000 description 1
- 239000004065 semiconductor Substances 0.000 description 1
- 230000037303 wrinkles Effects 0.000 description 1
Landscapes
- Exposure And Positioning Against Photoresist Photosensitive Materials (AREA)
- Exposure Of Semiconductors, Excluding Electron Or Ion Beam Exposure (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
〔産業上の利用分野〕
本発明は、例えばＴＡＢ （Ｔａｐｅ Ａｕｔｏｍａｔ
ｅｄ Ｂｏｒｄｉｎｇ）方式の電子部品の実装に使用さ
れるフィルム回路基板の製作に好適なフィルム露光装置
に関する。
ｅｄ Ｂｏｒｄｉｎｇ）方式の電子部品の実装に使用さ
れるフィルム回路基板の製作に好適なフィルム露光装置
に関する。
物体の表面に微細加工を施す技術として、フォトリング
ラフィの技術が知られている。この技術は、半導体集債
回路のほか、最近ではＴＡＢ方式の電子部品の実装に使
用されるフィルム回路基板の製作にも応用されている。
ラフィの技術が知られている。この技術は、半導体集債
回路のほか、最近ではＴＡＢ方式の電子部品の実装に使
用されるフィルム回路基板の製作にも応用されている。
このようなフィルム回路基板の製作に使用されるフィル
ム露光装置においては、露光時にフィルムの一コマをフ
ォトマスクの像の投影位置に保持することが必要である
。
ム露光装置においては、露光時にフィルムの一コマをフ
ォトマスクの像の投影位置に保持することが必要である
。
従来においては、ステップ送りしたフィルムの一コマを
真空吸着孔を有するステージを用いて投影位置に保持し
ている。詳しく説明すると、フィルムの露光される面全
体が、“そり”や“しわ”のない状態でステージに密着
するように、最適な吸着孔の直径、数、ピッチ、配置が
決とられている。
真空吸着孔を有するステージを用いて投影位置に保持し
ている。詳しく説明すると、フィルムの露光される面全
体が、“そり”や“しわ”のない状態でステージに密着
するように、最適な吸着孔の直径、数、ピッチ、配置が
決とられている。
しかしながら、このような真空吸着の手段によっても解
消されない問題のあることが判御した。
消されない問題のあることが判御した。
すなわち、フィルムは完全には平坦ではなく、特に幅方
向側の周辺部は波を打ったように変形している場合があ
る。このような変形部分は、真空吸着による手段では当
該周辺部から空気が入り込むため、この周辺部のみなら
ず中央部も十分に真空吸着することが困難である。また
、変形が一コマのパターン形成部にまで広がっている場
合には、転写されるフォトマスクのパターンがぼけたり
歪んだりしてしまう。
向側の周辺部は波を打ったように変形している場合があ
る。このような変形部分は、真空吸着による手段では当
該周辺部から空気が入り込むため、この周辺部のみなら
ず中央部も十分に真空吸着することが困難である。また
、変形が一コマのパターン形成部にまで広がっている場
合には、転写されるフォトマスクのパターンがぼけたり
歪んだりしてしまう。
本発明の目的は、真空吸着の手段によっては吸着できな
いことがあるフィルムの一コマの幅方向側の周辺部をも
ステージに充分に密着させることができるフィルム露光
装置を提供することにある。
いことがあるフィルムの一コマの幅方向側の周辺部をも
ステージに充分に密着させることができるフィルム露光
装置を提供することにある。
上記目的を達成するため、本発明のフィルム露光装置は
、帯状のフィルムの長さ方向に沿ってフォトマスクのパ
ターンの像を順次に投影して露光するフィルム露光装置
であって、照射部と、照射部からの光が照射される位置
に配置されたフォトマスクと、フォトマスクの像を投影
する投影レンズと、フォトマスクの像の投影位置に、フ
ィルムを一コマずつステップ送りするフィルム送り機構
と、投影位置に送られたフィルムの一コマを真空吸着す
るステージとを具備し、真空吸着されたフィルムの一コ
マの幅方向側の周辺部を、真空吸着以外の手段で強制的
にステージに押しつける押しつけ手段を付加したことを
特徴とする。
、帯状のフィルムの長さ方向に沿ってフォトマスクのパ
ターンの像を順次に投影して露光するフィルム露光装置
であって、照射部と、照射部からの光が照射される位置
に配置されたフォトマスクと、フォトマスクの像を投影
する投影レンズと、フォトマスクの像の投影位置に、フ
ィルムを一コマずつステップ送りするフィルム送り機構
と、投影位置に送られたフィルムの一コマを真空吸着す
るステージとを具備し、真空吸着されたフィルムの一コ
マの幅方向側の周辺部を、真空吸着以外の手段で強制的
にステージに押しつける押しつけ手段を付加したことを
特徴とする。
フォトマスクの像の投影位置にステップ送りされたフィ
ルムの一コマは、その中央部がステージに設けた真空吸
着孔を介して吸引されてステージに密着するとともに、
その幅方向側の周辺部が真空吸着以外の手段による押し
つけ手段によりステージに強制的に押しつけられる。
ルムの一コマは、その中央部がステージに設けた真空吸
着孔を介して吸引されてステージに密着するとともに、
その幅方向側の周辺部が真空吸着以外の手段による押し
つけ手段によりステージに強制的に押しつけられる。
従って、フィルムの一コマは、その幅方向側の周辺部に
おいて波を打ったような変形が生じている場合でも、そ
こから空気が入り込むことがなく、−コマが適正な姿勢
でステージに密着することとなる。
おいて波を打ったような変形が生じている場合でも、そ
こから空気が入り込むことがなく、−コマが適正な姿勢
でステージに密着することとなる。
第１図は本発明の実施例に係るフィルム露光装置の説明
図である。この装置は、帯状のフィルムＦの長さ方向に
沿ってフォトマスクＭのパターンの像を順次に投影して
露光していくものである。
図である。この装置は、帯状のフィルムＦの長さ方向に
沿ってフォトマスクＭのパターンの像を順次に投影して
露光していくものである。
１０は照射部であり、例えば超高圧水銀灯等のように紫
外線を効率的に放射するランプ１１と、フィルムＦのス
テップ送りに対応して開閉するシャッタ（図示省略）を
内蔵している。
外線を効率的に放射するランプ１１と、フィルムＦのス
テップ送りに対応して開閉するシャッタ（図示省略）を
内蔵している。
Ｍはフォトマスクであり、照射部ＩＯからの光が照射さ
れる位置に配置されている。
れる位置に配置されている。
２０は投影レンズであり、照射されたフォトマスクＭの
像を投影するものである。
像を投影するものである。
３０はフィルム送り機構であり、フォトマスクＭの像の
投影位置に、フィルムＦの一コマをステップ送りするも
のである。３１は送りローラ、３２は押さえローラ、３
３はスプロケットローラ、３４は押さえローラ、３５は
モータ、３７は補助ローラ、３８は巻き出しリール、３
９は巻き取りリールである。送りローラ３１はモータ３
５によって駆動される。モータ３５はＣＰＵを内蔵した
システムコントローラ（第１図では図示省略）からの信
号により駆動される。
投影位置に、フィルムＦの一コマをステップ送りするも
のである。３１は送りローラ、３２は押さえローラ、３
３はスプロケットローラ、３４は押さえローラ、３５は
モータ、３７は補助ローラ、３８は巻き出しリール、３
９は巻き取りリールである。送りローラ３１はモータ３
５によって駆動される。モータ３５はＣＰＵを内蔵した
システムコントローラ（第１図では図示省略）からの信
号により駆動される。
４０はステージであり、投影位置に送られたフィルムＦ
の一コマを真空吸着するものである。６１゜６２は昇降
ローラであり、投影位置を挟んでフィルム送り方向の前
後に設けられ、フィルム送り時にフィルムＦを浮上させ
るものである。
の一コマを真空吸着するものである。６１゜６２は昇降
ローラであり、投影位置を挟んでフィルム送り方向の前
後に設けられ、フィルム送り時にフィルムＦを浮上させ
るものである。
このステージ４０には、第２図に示すように複数の真空
吸着孔４１が設けられている。本実施例では真空吸着孔
４１は、ステップ送りの際にフィルムＦがステージ４０
に接触しないようにフィルムＦを浮上させる逆風孔を兼
用している。５１はコンブレンサ、５２は真空ポンプ、
５３．５４はバルブである。
吸着孔４１が設けられている。本実施例では真空吸着孔
４１は、ステップ送りの際にフィルムＦがステージ４０
に接触しないようにフィルムＦを浮上させる逆風孔を兼
用している。５１はコンブレンサ、５２は真空ポンプ、
５３．５４はバルブである。
第２図において７０は押しつけ手段（第１図では図示省
略）であり、ステージ４０に真空吸着されたフィルムＦ
の一コマの幅方向側の周辺部ＦＡを、真空吸着以外の手
段で強制的にステージ４０に押しつけるものである。具
体的には、支点７２を中心に回動可能に軸支された押し
つけ板７１と、この押しつけ板７１を回動させるエアピ
ストン７３とにより押しつけ手段７０が構成されている
。エアピストン７３の昇降ビン７４は、押しつけ板７１
の下面に当接していて、昇降ビン７４が上昇すると押し
つけ板７１がステージ４０の上面から離間する方向に回
動し、昇降ビン７４が下降すると押しつけ板７１がその
自重によりステージ４０の上面に密着する方向に回動す
る。
略）であり、ステージ４０に真空吸着されたフィルムＦ
の一コマの幅方向側の周辺部ＦＡを、真空吸着以外の手
段で強制的にステージ４０に押しつけるものである。具
体的には、支点７２を中心に回動可能に軸支された押し
つけ板７１と、この押しつけ板７１を回動させるエアピ
ストン７３とにより押しつけ手段７０が構成されている
。エアピストン７３の昇降ビン７４は、押しつけ板７１
の下面に当接していて、昇降ビン７４が上昇すると押し
つけ板７１がステージ４０の上面から離間する方向に回
動し、昇降ビン７４が下降すると押しつけ板７１がその
自重によりステージ４０の上面に密着する方向に回動す
る。
エアピストン７３の動作はシステムコントローラ３６か
らの信号によって制御される。
らの信号によって制御される。
この実施例の装置の動作を説明すると、フィルムＦの一
コマの露光時には、システムコントローラ３６によって
バルブ５３は閉状態、バルブ５４は開状態となる。従っ
て、真空ポンプ５２による吸引力のみが真空吸着孔４１
を介してフィルムＦの一コマに作用して、当該−コマの
主として中央部ＦＣがステージ４０の上面に真空吸着さ
れる。一方、システムコントローラ３６からエアピスト
ン７３に信号が送られると、昇降ビン７４が下降して押
しつけ板７１が自重により下方に回動してフィルムＦの
一コマの幅方向側の周辺部ＦＡを挟んでステージ４０の
上面に密着する。従って、フィルムＦの一コマは、真空
吸着力と押しつけ板７１とによりステージ４０に適正な
姿勢で密着する。
コマの露光時には、システムコントローラ３６によって
バルブ５３は閉状態、バルブ５４は開状態となる。従っ
て、真空ポンプ５２による吸引力のみが真空吸着孔４１
を介してフィルムＦの一コマに作用して、当該−コマの
主として中央部ＦＣがステージ４０の上面に真空吸着さ
れる。一方、システムコントローラ３６からエアピスト
ン７３に信号が送られると、昇降ビン７４が下降して押
しつけ板７１が自重により下方に回動してフィルムＦの
一コマの幅方向側の周辺部ＦＡを挟んでステージ４０の
上面に密着する。従って、フィルムＦの一コマは、真空
吸着力と押しつけ板７１とによりステージ４０に適正な
姿勢で密着する。
照射部１０のシャッタが閉じられて露光が終了した後、
システムコントローラ３６からエアピストン７３に信号
が送られると、昇降ビン７４が上昇して押しつけ板７１
がステージ４０から離間する方向に回動する（第２図で
点線で示す）。一方、システムコントローラ３６からの
信号により、バルブ５３は開状態、バルブ５４は閉状態
になると、真空吸着孔４１が逆風孔として作用し、フィ
ルムＦの一コマがステージ４０から浮上する。また、シ
ステムコントローラ３６からの信号によって昇降ローラ
６１．６２が上昇し、フィルムＦの一コマの前部および
後部が上方に持ち上げられる。
システムコントローラ３６からエアピストン７３に信号
が送られると、昇降ビン７４が上昇して押しつけ板７１
がステージ４０から離間する方向に回動する（第２図で
点線で示す）。一方、システムコントローラ３６からの
信号により、バルブ５３は開状態、バルブ５４は閉状態
になると、真空吸着孔４１が逆風孔として作用し、フィ
ルムＦの一コマがステージ４０から浮上する。また、シ
ステムコントローラ３６からの信号によって昇降ローラ
６１．６２が上昇し、フィルムＦの一コマの前部および
後部が上方に持ち上げられる。
このように真空吸着孔４１からの逆風および昇降ローラ
６１．６２によりステージ４０から浮上した状態で、シ
ステムコントローラ３６からモータ３５にステップ送り
信号が送られると、送りローラ３１によってフィルムＦ
がステップ送りされ、次の一コマが投影位置に送られる
。
６１．６２によりステージ４０から浮上した状態で、シ
ステムコントローラ３６からモータ３５にステップ送り
信号が送られると、送りローラ３１によってフィルムＦ
がステップ送りされ、次の一コマが投影位置に送られる
。
以上、本発明の一実施例について説明したが、押しつけ
手段は重力による上記実施例に限定されず、例えば押し
つけ手段として電磁石を用い、電磁的手段によって該電
磁石をステージに吸着させて幅方向の周辺部を押しつけ
てもよい。その他、空圧、真空、スプリング等を押しつ
け手段として用いることもできる。
手段は重力による上記実施例に限定されず、例えば押し
つけ手段として電磁石を用い、電磁的手段によって該電
磁石をステージに吸着させて幅方向の周辺部を押しつけ
てもよい。その他、空圧、真空、スプリング等を押しつ
け手段として用いることもできる。
本発明によれば、フォトマスクの像の投影位置にステッ
プ送りされたフィルムの一コマを真空吸着するのみなら
ず、当該−コマの幅方向側の周辺部を真空吸着以外の押
しつけ手段で強制的にステージに押しつけるようにした
ので、当該−コマの幅方向側の周辺部に例えば波を打っ
たような変形が生じている場合でも、ステージに充分に
密着させることができ、フォトマスクの像をぼかしたり
歪めたすせずに投影露光することができる。
プ送りされたフィルムの一コマを真空吸着するのみなら
ず、当該−コマの幅方向側の周辺部を真空吸着以外の押
しつけ手段で強制的にステージに押しつけるようにした
ので、当該−コマの幅方向側の周辺部に例えば波を打っ
たような変形が生じている場合でも、ステージに充分に
密着させることができ、フォトマスクの像をぼかしたり
歪めたすせずに投影露光することができる。
第１図は本発明の一実施例に係るフィルム露光装置の説
明図、第２図は第１図の要部を示す説明図である。 Ｆ・・・フィルム Ｍ・・・フォトマスク１０
・・・照射部 １トランプ２０・・・投影レ
ンズ ３０・・・フィルム送り機構３１・・・送
りローラ ３２．３４・・・押さえローラ３３・
・・スプロケットローラ ３５・・・モータ ３６・・・システムコントローラ ３７・・・補助ローラ ３８・・・巻き出しリー
ル３９・・・巻き取りリール ４０川ステージ４１・
・・真空吸着孔 ５１・・・コンプレッサ５２・
・・真空ポンプ ５３．５４・・・バルブ６１、
６２・・・昇降ローラ ７０・・・押しっけ手段７１
・・・押しつけ板 ７２・・・回転の支点７３・
・・エアピストン ７４・・・昇降ピンＦ・・・フ
ィルム ＦＣ・・・フィルムの中央部 ＦＡ・・・フィルムの周辺部 ＋２ 図
明図、第２図は第１図の要部を示す説明図である。 Ｆ・・・フィルム Ｍ・・・フォトマスク１０
・・・照射部 １トランプ２０・・・投影レ
ンズ ３０・・・フィルム送り機構３１・・・送
りローラ ３２．３４・・・押さえローラ３３・
・・スプロケットローラ ３５・・・モータ ３６・・・システムコントローラ ３７・・・補助ローラ ３８・・・巻き出しリー
ル３９・・・巻き取りリール ４０川ステージ４１・
・・真空吸着孔 ５１・・・コンプレッサ５２・
・・真空ポンプ ５３．５４・・・バルブ６１、
６２・・・昇降ローラ ７０・・・押しっけ手段７１
・・・押しつけ板 ７２・・・回転の支点７３・
・・エアピストン ７４・・・昇降ピンＦ・・・フ
ィルム ＦＣ・・・フィルムの中央部 ＦＡ・・・フィルムの周辺部 ＋２ 図
Claims (1)
- 帯状のフィルムの長さ方向に沿ってフォトマスクのパ
ターンの像を順次に投影して露光するフィルム露光装置
であって、照射部と、照射部からの光が照射される位置
に配置されたフォトマスクと、フォトマスクの像を投影
する投影レンズと、フォトマスクの像の投影位置に、フ
ィルムを一コマずつステップ送りするフィルム送り機構
と、投影位置に送られたフィルムの一コマを真空吸着す
るステージとを具備し、真空吸着されたフィルムの一コ
マの幅方向側の周辺部を、真空吸着以外の手段で強制的
にステージに押しつける押しつけ手段を付加したことを
特徴とするフィルム露光装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2081334A JPH03282473A (ja) | 1990-03-30 | 1990-03-30 | フィルム露光装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2081334A JPH03282473A (ja) | 1990-03-30 | 1990-03-30 | フィルム露光装置 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH03282473A true JPH03282473A (ja) | 1991-12-12 |
Family
ID=13743482
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP2081334A Pending JPH03282473A (ja) | 1990-03-30 | 1990-03-30 | フィルム露光装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH03282473A (ja) |
Cited By (5)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| WO2006077804A1 (ja) * | 2005-01-20 | 2006-07-27 | Fujifilm Corporation | クランプ装置及び画像形成装置 |
| KR100769804B1 (ko) * | 2004-03-23 | 2007-10-23 | 우시오덴키 가부시키가이샤 | 띠 형상 워크의 노광 장치 |
| JP2007316588A (ja) * | 2006-04-26 | 2007-12-06 | Orc Mfg Co Ltd | 露光装置および露光方法 |
| KR101148520B1 (ko) * | 2009-11-04 | 2012-05-21 | 변병운 | 실크 스크린 인쇄기용 인쇄용지 고정장치 |
| JPWO2013039080A1 (ja) * | 2011-09-16 | 2015-03-26 | 住友重機械工業株式会社 | 基板製造装置 |
-
1990
- 1990-03-30 JP JP2081334A patent/JPH03282473A/ja active Pending
Cited By (5)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| KR100769804B1 (ko) * | 2004-03-23 | 2007-10-23 | 우시오덴키 가부시키가이샤 | 띠 형상 워크의 노광 장치 |
| WO2006077804A1 (ja) * | 2005-01-20 | 2006-07-27 | Fujifilm Corporation | クランプ装置及び画像形成装置 |
| JP2007316588A (ja) * | 2006-04-26 | 2007-12-06 | Orc Mfg Co Ltd | 露光装置および露光方法 |
| KR101148520B1 (ko) * | 2009-11-04 | 2012-05-21 | 변병운 | 실크 스크린 인쇄기용 인쇄용지 고정장치 |
| JPWO2013039080A1 (ja) * | 2011-09-16 | 2015-03-26 | 住友重機械工業株式会社 | 基板製造装置 |
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