JP2777835B2 - フィルム露光装置 - Google Patents
フィルム露光装置Info
- Publication number
- JP2777835B2 JP2777835B2 JP2081331A JP8133190A JP2777835B2 JP 2777835 B2 JP2777835 B2 JP 2777835B2 JP 2081331 A JP2081331 A JP 2081331A JP 8133190 A JP8133190 A JP 8133190A JP 2777835 B2 JP2777835 B2 JP 2777835B2
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- film
- stage
- photomask
- frame
- exposure apparatus
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Expired - Lifetime
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- Exposure And Positioning Against Photoresist Photosensitive Materials (AREA)
- Exposure Of Semiconductors, Excluding Electron Or Ion Beam Exposure (AREA)
Description
【発明の詳細な説明】 〔産業上の利用分野〕 本発明は、例えばTAB（Tape Automated Bonding）方
式の電子部品の実装に使用されるフィルム回路基板の製
作に好適なフィルム露光装置に関する。
式の電子部品の実装に使用されるフィルム回路基板の製
作に好適なフィルム露光装置に関する。
物体の表面に微細加工を施す技術として、フォトリソ
グフィの技術が知られている。この技術は、半導体集積
回路のほか、最近ではTAB方式の電子部品の実装に使用
されるフィルム回路基板の製作にも応用されている。
グフィの技術が知られている。この技術は、半導体集積
回路のほか、最近ではTAB方式の電子部品の実装に使用
されるフィルム回路基板の製作にも応用されている。
このようなフィルム回路基板の製作に使用されるフィ
ルム露光装置においては、露光時にフィルムの一コマを
フォトマスクの像の投影位置に保持することが必要であ
る。
ルム露光装置においては、露光時にフィルムの一コマを
フォトマスクの像の投影位置に保持することが必要であ
る。
従来においては、昇降ステージを用いてステップ送り
したフィルムの一コマを投影位置に保持している。詳し
く説明すると、従来の昇降ステージは、フォトマスクの
像の投影位置の下方において上下動可能に配置され、そ
の上面にはフィルムのパーフォレーションに嵌合する突
出ピンが複数設けられた構造のものであり、フィルムの
ステップ送り時には、突出ピンがパーフォレーションか
ら離脱するように昇降ステージが下降してステップ送り
を可能にし、フィルムの露光時には、突出ピンがパーフ
ォレーションに嵌合するように昇降ステージが上昇して
その上面にフィルムの一コマを真空吸着して保持してい
る。
したフィルムの一コマを投影位置に保持している。詳し
く説明すると、従来の昇降ステージは、フォトマスクの
像の投影位置の下方において上下動可能に配置され、そ
の上面にはフィルムのパーフォレーションに嵌合する突
出ピンが複数設けられた構造のものであり、フィルムの
ステップ送り時には、突出ピンがパーフォレーションか
ら離脱するように昇降ステージが下降してステップ送り
を可能にし、フィルムの露光時には、突出ピンがパーフ
ォレーションに嵌合するように昇降ステージが上昇して
その上面にフィルムの一コマを真空吸着して保持してい
る。
しかし、上記のような昇降ステージを用いたフィルム
露光装置では、昇降ステージを昇降させるための複雑な
機構を必要とする問題がある。すなわち、帯状で長尺な
フィルムをその一コマずつステップ送りするたびごと
に、昇降ステージを上昇、下降させることが必要であ
り、そのための駆動機構、制御機構が複雑かつ高価であ
り、製造コストが上昇する問題がある。
露光装置では、昇降ステージを昇降させるための複雑な
機構を必要とする問題がある。すなわち、帯状で長尺な
フィルムをその一コマずつステップ送りするたびごと
に、昇降ステージを上昇、下降させることが必要であ
り、そのための駆動機構、制御機構が複雑かつ高価であ
り、製造コストが上昇する問題がある。
そして、特にフィルム回路基板が大型である場合に
は、昇降ステージとしても大型のものが要求されるの
で、上記問題はきわめて大きなものとなる。
は、昇降ステージとしても大型のものが要求されるの
で、上記問題はきわめて大きなものとなる。
本発明の目的は、ステージを昇降させることなく、フ
ィルムを一コマずつ円滑にステップ送りすることができ
るフィルム露光装置を提供することにある。
ィルムを一コマずつ円滑にステップ送りすることができ
るフィルム露光装置を提供することにある。
上記目的を達成するため、本発明のフィルム露光装置
は、帯状のフィルムの長さ方向に沿ってフォトマスクの
パターンの像を順次に投影して露光するフィルム露光装
置であって、照射部と、照射部からの光が照射される位
置に配置されたフォトマスクと、フォトマスクの像を投
影する投影レンズと、フォトマスクの像の投影位置に、
フィルムを一コマずつステップ送りするフィルム送り機
構と、投影位置に送られたフィルムの一コマを真空吸着
するステージとを具備し、前記ステージには、フィルム
送りの際にフィルムがステージに接触しないようにフィ
ルムを浮上させる逆風孔を設けたことを特徴とする。
は、帯状のフィルムの長さ方向に沿ってフォトマスクの
パターンの像を順次に投影して露光するフィルム露光装
置であって、照射部と、照射部からの光が照射される位
置に配置されたフォトマスクと、フォトマスクの像を投
影する投影レンズと、フォトマスクの像の投影位置に、
フィルムを一コマずつステップ送りするフィルム送り機
構と、投影位置に送られたフィルムの一コマを真空吸着
するステージとを具備し、前記ステージには、フィルム
送りの際にフィルムがステージに接触しないようにフィ
ルムを浮上させる逆風孔を設けたことを特徴とする。
逆風孔は、真空吸着のための真空吸着孔を兼用してい
ることが好ましい。
ることが好ましい。
投影位置を挟んでフィルム送り方向の前後に、それぞ
れフィルム送り時にフィルムを浮上させる昇降ローラを
設けることが好ましい。
れフィルム送り時にフィルムを浮上させる昇降ローラを
設けることが好ましい。
フィルム露光時には、フィルムの一コマがステージに
真空吸着される。
真空吸着される。
フィルム送り時には、ステージの逆風孔からエアが噴
出され、フィルムがステージの上面から浮上する。従っ
て、フィルムがステージに接触するおそれがない。
出され、フィルムがステージの上面から浮上する。従っ
て、フィルムがステージに接触するおそれがない。
逆風孔が真空吸着孔を兼用する場合には、ステージの
構成が簡単である。
構成が簡単である。
昇降ローラを付加した場合には、ステージの前部およ
び後部においてもフィルムが確実に浮上される。従っ
て、フィルムが弧状に浮上して、ステージの前部または
後部に接触するおそれがない。
び後部においてもフィルムが確実に浮上される。従っ
て、フィルムが弧状に浮上して、ステージの前部または
後部に接触するおそれがない。
第１図は本発明の一実施例に係るフィルム露光装置の
説明図である。この装置は、帯状のフィルムＦの長さ方
向に沿ってフォトマスクＭのパターンの像を順次に投影
して露光していくものである。
説明図である。この装置は、帯状のフィルムＦの長さ方
向に沿ってフォトマスクＭのパターンの像を順次に投影
して露光していくものである。
10は照射部であり、例えば超高圧水銀灯等のように紫
外線を効率的に放射するランプおよびレンズと、フィル
ムＦのステップ送りに対応して開閉するシャッタを内蔵
している。
外線を効率的に放射するランプおよびレンズと、フィル
ムＦのステップ送りに対応して開閉するシャッタを内蔵
している。
Ｍはフォトマスクであり、照射部10からの光が照射さ
れる位置に配置されている。
れる位置に配置されている。
20は投影レンズであり、照射されたフォトマスクＭの
像を投影するものである。
像を投影するものである。
30はフィルム送り機構であり、フォトマスクＭの像の
投影位置にフィルムＦの一コマをステップ送りするもの
である。31は送りローラ、32は押えローラ、33はテンシ
ョンローラ、34は押えローラ、35はモータ、36はCPUを
内蔵したシステムコントローラである。フィルムＦは、
送りローラ31によって送られる。フィルムＦはパーフォ
レーションがない場合には送りローラ31との摩擦によっ
て駆動され、パーフォレーションがある場合には送りロ
ーラに設けられたスプロケットによって駆動される。送
りローラ31はモータ35によって駆動される。モータ35は
システムコントローラ36からの信号により駆動される。
投影位置にフィルムＦの一コマをステップ送りするもの
である。31は送りローラ、32は押えローラ、33はテンシ
ョンローラ、34は押えローラ、35はモータ、36はCPUを
内蔵したシステムコントローラである。フィルムＦは、
送りローラ31によって送られる。フィルムＦはパーフォ
レーションがない場合には送りローラ31との摩擦によっ
て駆動され、パーフォレーションがある場合には送りロ
ーラに設けられたスプロケットによって駆動される。送
りローラ31はモータ35によって駆動される。モータ35は
システムコントローラ36からの信号により駆動される。
40はステージであり、投影位置に送られたフィルムＦ
の一コマを真空吸着するものである。41は真空吸着孔で
ある。
の一コマを真空吸着するものである。41は真空吸着孔で
ある。
この真空吸着孔41は、ステップ送りの際にフィルムＦ
がステージ40に接触しないようにフィルムＦを浮上させ
る逆風孔を兼用している。
がステージ40に接触しないようにフィルムＦを浮上させ
る逆風孔を兼用している。
51はコンプレッサ、52は真空ポンプ、53,54はバルブ
である。
である。
61,62は昇降ローラであり、投影位置を挟んでフィル
ム送り方向の前後に設けられ、フィルム送り時にフィル
ムＦを浮上させるものである。63,64は昇降ローラ61,62
をそれぞれ駆動するエアシリンダである。65,66は回転
の支点である。
ム送り方向の前後に設けられ、フィルム送り時にフィル
ムＦを浮上させるものである。63,64は昇降ローラ61,62
をそれぞれ駆動するエアシリンダである。65,66は回転
の支点である。
第１図の装置の動作を説明すると、フィルムＦの一コ
マの露光時には、システムコントローラ36によってバル
ブ53は閉状態、バルブ54は開状態となる。従って、真空
ポンプ52による吸引力のみが真空吸着孔41を介してフィ
ルムＦの一コマに作用する。
マの露光時には、システムコントローラ36によってバル
ブ53は閉状態、バルブ54は開状態となる。従って、真空
ポンプ52による吸引力のみが真空吸着孔41を介してフィ
ルムＦの一コマに作用する。
照射部10のシャッタが閉じられて露光が終了した後、
システムコントローラ36により、バルブ53は開状態、バ
ルブ54は閉状態になると、真空吸着孔41が逆風孔として
作用し、フィルムＦの一コマがステージ40から浮上す
る。一方、システムコントローラ36から２つのエアシリ
ンダ63,64に駆動信号が送られ、支点65,66を中心に昇降
ローラ61,62が回動しながら上昇して、第１図において
二点鎖線で示すようにフィルムＦの一コマの前部および
後部が上方に持ち上げられる。
システムコントローラ36により、バルブ53は開状態、バ
ルブ54は閉状態になると、真空吸着孔41が逆風孔として
作用し、フィルムＦの一コマがステージ40から浮上す
る。一方、システムコントローラ36から２つのエアシリ
ンダ63,64に駆動信号が送られ、支点65,66を中心に昇降
ローラ61,62が回動しながら上昇して、第１図において
二点鎖線で示すようにフィルムＦの一コマの前部および
後部が上方に持ち上げられる。
この際、送りローラ31の位置においては当該送りロー
ラ31と押えローラ32とによってフィルムＦは固定されて
いるが、テンションローラ33と押えローラ34はいわゆる
従動ローラであり、フィルムＦの浮上による張力によっ
て、テンションローラ33と押えローラ34とがわずかに回
転してフィルムＦに弛みを与える。
ラ31と押えローラ32とによってフィルムＦは固定されて
いるが、テンションローラ33と押えローラ34はいわゆる
従動ローラであり、フィルムＦの浮上による張力によっ
て、テンションローラ33と押えローラ34とがわずかに回
転してフィルムＦに弛みを与える。
このように逆風化および昇降ローラ61,62によりステ
ージ40から浮上した状態で、システムコントローラ36か
らモータ35にステップ送り信号が送られると、送りロー
ラ31によってフィルムＦがステップ送りされ、次の一コ
マが投影位置に送られる。
ージ40から浮上した状態で、システムコントローラ36か
らモータ35にステップ送り信号が送られると、送りロー
ラ31によってフィルムＦがステップ送りされ、次の一コ
マが投影位置に送られる。
そして、システムコントローラ36により、バルブ54が
開状態、バルブ53が閉状態に切り換えられるとともに、
２つのエアシリンダ63,64に下降信号が送られ、昇降ロ
ーラ61,62が下降するとともに、真空吸着孔41によりフ
ィルムＦに吸着力が作用して、フィルムＦの次の一コマ
がステージ40に密着する。
開状態、バルブ53が閉状態に切り換えられるとともに、
２つのエアシリンダ63,64に下降信号が送られ、昇降ロ
ーラ61,62が下降するとともに、真空吸着孔41によりフ
ィルムＦに吸着力が作用して、フィルムＦの次の一コマ
がステージ40に密着する。
次いで、例えば真空吸着孔41による負圧を検出する
と、シャッタ開信号によりシャッタが開状態となり、次
の一コマの露光が行われる。
と、シャッタ開信号によりシャッタが開状態となり、次
の一コマの露光が行われる。
昇降ローラ61,62の上昇による、フィルムＦのステー
ジ40への接触防止のためには、昇降ローラ61,62をでき
るだけステージ40へ近づけて配置することが望ましい。
ジ40への接触防止のためには、昇降ローラ61,62をでき
るだけステージ40へ近づけて配置することが望ましい。
このように、エアを利用してフィルムＦを浮上させた
状態でフィルムＦをステップ送りするので、フィルムＦ
の一コマが大面積であっても、当該一コマをステージ40
に接触させずに円滑にステップ送りすることができる。
状態でフィルムＦをステップ送りするので、フィルムＦ
の一コマが大面積であっても、当該一コマをステージ40
に接触させずに円滑にステップ送りすることができる。
以上において、ステージ40の送り方向の長さは例えば
380mm程度である。
380mm程度である。
本発明のフィルム露光装置によれば、ステージには、
フィルム送りの際にフィルムに接触しないようにフィル
ムを浮上させる逆風孔を設けたので、ステージを昇降さ
せずに、しかもフィルムをステージに接触させないでス
テップ送りすることができる。従って、ステージ自体を
昇降させる場合に必要な複雑かつ高価な昇降機構が不要
となり、コンパクトでかつ安価なフィルム露光装置を提
供することができる。
フィルム送りの際にフィルムに接触しないようにフィル
ムを浮上させる逆風孔を設けたので、ステージを昇降さ
せずに、しかもフィルムをステージに接触させないでス
テップ送りすることができる。従って、ステージ自体を
昇降させる場合に必要な複雑かつ高価な昇降機構が不要
となり、コンパクトでかつ安価なフィルム露光装置を提
供することができる。
また、逆風孔が真空吸着孔を兼用する場合にはステー
ジの構造が簡単となる。
ジの構造が簡単となる。
さらに、投影位置を挟んでフィルム送り方向の前後
に、それぞれフィルム送り時にフィルムを浮上させる昇
降ローラを設ける場合には、フィルムの一コマが大面積
で送り方向の前後で垂れ下がりが生じやすい場合にも、
フィルムをステージに接触させずに確実に浮上させるこ
とができる。
に、それぞれフィルム送り時にフィルムを浮上させる昇
降ローラを設ける場合には、フィルムの一コマが大面積
で送り方向の前後で垂れ下がりが生じやすい場合にも、
フィルムをステージに接触させずに確実に浮上させるこ
とができる。
第１図は本発明の一実施例に係るフィルム露光装置の説
明図である。 Ｆ……フィルム、Ｍ……フォトマスク 10……照射部、20……投影レンズ 30……フィルム送り機構、31……送りローラ 32,34……押えローラ、33……テンションローラ 35……モータ 36……システムコントローラ 40……ステージ、41……真空吸着孔 51……コンプレッサ、52……真空ポンプ 53,54……バルブ、61,62……昇降ローラ 63,64……エアシリンダ、65,66……回転の支点
明図である。 Ｆ……フィルム、Ｍ……フォトマスク 10……照射部、20……投影レンズ 30……フィルム送り機構、31……送りローラ 32,34……押えローラ、33……テンションローラ 35……モータ 36……システムコントローラ 40……ステージ、41……真空吸着孔 51……コンプレッサ、52……真空ポンプ 53,54……バルブ、61,62……昇降ローラ 63,64……エアシリンダ、65,66……回転の支点
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (58)調査した分野(Int.Cl.6，ＤＢ名) G03F 7/20 - 7/24 G03F 9/00 - 9/02 G03F 27/02 - 27/30 G03B 27/58 - 27/64
Claims (3)
- 【請求項１】帯状のフィルムの長さ方向に沿ってフォト
マスクのパターンの像を順次に投影して露光するフィル
ム露光装置であって、 照射部と、 照射部からの光が照射される位置に配置されたフォトマ
スクと、 フォトマスクの像を投影する投影レンズと、 フォトマスクの像の投影位置に、フィルムを一コマずつ
ステップ送りするフィルム送り機構と、 投影位置に送られたフィルムの一コマを真空吸着するス
テージと を具備し、 前記ステージには、フィルム送りの際にフィルムがステ
ージに接触しないようにフィルムを浮上させる逆風孔を
設けたことを特徴とするフィルム露光装置。 - 【請求項２】逆風孔は、真空吸着のための真空吸着孔を
兼用していることを特徴とする請求項１に記載のフィル
ム露光装置。 - 【請求項３】投影位置を挟んでフィルム送り方向の前後
に、それぞれフィルム送り時にフィルムを浮上させる昇
降ローラを設けたことを特徴とする請求項１または２に
記載のフィルム露光装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2081331A JP2777835B2 (ja) | 1990-03-30 | 1990-03-30 | フィルム露光装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2081331A JP2777835B2 (ja) | 1990-03-30 | 1990-03-30 | フィルム露光装置 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH03282470A JPH03282470A (ja) | 1991-12-12 |
| JP2777835B2 true JP2777835B2 (ja) | 1998-07-23 |
Family
ID=13743399
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP2081331A Expired - Lifetime JP2777835B2 (ja) | 1990-03-30 | 1990-03-30 | フィルム露光装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP2777835B2 (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| CN100412696C (zh) * | 2002-10-09 | 2008-08-20 | 优志旺电机株式会社 | 带状工件输送装置 |
-
1990
- 1990-03-30 JP JP2081331A patent/JP2777835B2/ja not_active Expired - Lifetime
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| CN100412696C (zh) * | 2002-10-09 | 2008-08-20 | 优志旺电机株式会社 | 带状工件输送装置 |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPH03282470A (ja) | 1991-12-12 |
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Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
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