JP2001125275A - マスクとワークの間隔設定手段を備えたコンタクト露光装置 - Google Patents
マスクとワークの間隔設定手段を備えたコンタクト露光装置Info
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- Exposure And Positioning Against Photoresist Photosensitive Materials (AREA)
- Exposure Of Semiconductors, Excluding Electron Or Ion Beam Exposure (AREA)
Abstract
(57)【要約】
【課題】 厚さの異なるワークを処理する場合であって
もマスクとワークの間隔設定手段を交換する必要がない
コンタクト露光装置を提供すること。 【解決手段】 マスクとワークの間隔設定手段１０は、
ワークステージＷＳに固定された固定部材１０ａと可動
部材１０ｂから構成され、固定部材１０ａと可動部材１
０ｂはねじにより螺合している。このため、可動部材１
０ｂを回転移動させることによりその高さを調節するこ
とができる。上記間隔設定手段１０によりワークステー
ジＷＳとマスクステージ（図示せず）を所定距離離間さ
せ、マスク（図示せず）とワークＷの間の空間を減圧す
る。ワークステージＷＳとマスクステージは上記間隔設
定手段１０により所定距離離れているので、減圧しても
マスクとワークＷは接触せず両者の間にギャップが形成
される。この状態で、エアーによりワークＷを浮上させ
マスクＭとワークＷを密着させ露光を行う。
もマスクとワークの間隔設定手段を交換する必要がない
コンタクト露光装置を提供すること。 【解決手段】 マスクとワークの間隔設定手段１０は、
ワークステージＷＳに固定された固定部材１０ａと可動
部材１０ｂから構成され、固定部材１０ａと可動部材１
０ｂはねじにより螺合している。このため、可動部材１
０ｂを回転移動させることによりその高さを調節するこ
とができる。上記間隔設定手段１０によりワークステー
ジＷＳとマスクステージ（図示せず）を所定距離離間さ
せ、マスク（図示せず）とワークＷの間の空間を減圧す
る。ワークステージＷＳとマスクステージは上記間隔設
定手段１０により所定距離離れているので、減圧しても
マスクとワークＷは接触せず両者の間にギャップが形成
される。この状態で、エアーによりワークＷを浮上させ
マスクＭとワークＷを密着させ露光を行う。
Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】半導体装置、液晶基板、マイ
クロマシン等のミクロサイズの加工が必要な様々な電気
部品等の製造においては、ワーク上に各種電子的素子等
を形成するため、マスクを通した光をワーク上に照射し
て、ワーク上にマスクパターンを露光する工程が行われ
る。上記露光方式の中に、マスクとワークとを密着させ
てマスクパターンをワーク上に転写するコンタクト露光
がある。本発明は、かかるコンタクト露光工程で使用さ
れるコンタクト露光装置、特に、ポリイミド等を材質と
するプリント基板（ＦＰＣ）のような、厚さが薄く割れ
やすいワーク上にマスクパターンを露光するためのコン
タクト露光装置に関し、さらに詳細には、マスクとワー
クの空間を減圧したとき、マスクとワークを接触させず
に予め設定させた間隔に離隔対面させるための間隔設定
手段を備えたコンタクト露光装置に関する。
クロマシン等のミクロサイズの加工が必要な様々な電気
部品等の製造においては、ワーク上に各種電子的素子等
を形成するため、マスクを通した光をワーク上に照射し
て、ワーク上にマスクパターンを露光する工程が行われ
る。上記露光方式の中に、マスクとワークとを密着させ
てマスクパターンをワーク上に転写するコンタクト露光
がある。本発明は、かかるコンタクト露光工程で使用さ
れるコンタクト露光装置、特に、ポリイミド等を材質と
するプリント基板（ＦＰＣ）のような、厚さが薄く割れ
やすいワーク上にマスクパターンを露光するためのコン
タクト露光装置に関し、さらに詳細には、マスクとワー
クの空間を減圧したとき、マスクとワークを接触させず
に予め設定させた間隔に離隔対面させるための間隔設定
手段を備えたコンタクト露光装置に関する。
【０００２】
【従来の技術】図７はコンタクト露光装置の構成を示す
図であり、同図は、減圧によりフォトマスク（以下マス
クＭという）とワークＷ間に互いに押しつけ合うような
力をかけてマスクとワークを密着させて露光を行うコン
タクト露光装置の構成を示しており、同図（ａ）は上面
から見た図、（ｂ）は（ａ）のＡ−Ａ断面図である。同
図において、マスクステージＭＳにはマスクＭの位置決
め部材１が設けられており、また、マスクステージＭＳ
には、図示しない光照射部からの露光光がマスクＭを介
してワークＷに照射されるように開口部２が設けられて
いる。
図であり、同図は、減圧によりフォトマスク（以下マス
クＭという）とワークＷ間に互いに押しつけ合うような
力をかけてマスクとワークを密着させて露光を行うコン
タクト露光装置の構成を示しており、同図（ａ）は上面
から見た図、（ｂ）は（ａ）のＡ−Ａ断面図である。同
図において、マスクステージＭＳにはマスクＭの位置決
め部材１が設けられており、また、マスクステージＭＳ
には、図示しない光照射部からの露光光がマスクＭを介
してワークＷに照射されるように開口部２が設けられて
いる。
【０００３】マスクパターンが形成されたマスクＭは、
上記位置決め部材１に当接させてマスクステージＭＳに
設けられた開口部２の上に載置される。マスクステージ
ＭＳの円形の開口部２の周囲には真空吸着溝３が設けら
れており、マスクＭは、図示しない真空源から真空吸着
溝３に供給される真空により、マスクステージＭＳ上に
固定・保持される。また、マスクステージＭＳには、フ
ォトマスクＭとマスクステージＭＳとワークＷとワーク
ステージＷＳと真空シール部６により形成される空間を
減圧するための管路４が設けられている。
上記位置決め部材１に当接させてマスクステージＭＳに
設けられた開口部２の上に載置される。マスクステージ
ＭＳの円形の開口部２の周囲には真空吸着溝３が設けら
れており、マスクＭは、図示しない真空源から真空吸着
溝３に供給される真空により、マスクステージＭＳ上に
固定・保持される。また、マスクステージＭＳには、フ
ォトマスクＭとマスクステージＭＳとワークＷとワーク
ステージＷＳと真空シール部６により形成される空間を
減圧するための管路４が設けられている。
【０００４】ワークステージＷＳには、ワークＷを固定
するためのワーク真空吸着用の溝５が設けられており、
ワークステージＷＳ上に載置されるワークＷは図示しな
い真空源から真空吸着用の溝５に供給される真空によ
り、ワークステージＷＳ上に固定・保持される。ワーク
ステージＷＳの周囲には、例えばゴム等で形成されたシ
ール部材からなる真空シール部６が設けられ、マスクＭ
とワークＷを密着させるために真空状態を作るのに利用
される。
するためのワーク真空吸着用の溝５が設けられており、
ワークステージＷＳ上に載置されるワークＷは図示しな
い真空源から真空吸着用の溝５に供給される真空によ
り、ワークステージＷＳ上に固定・保持される。ワーク
ステージＷＳの周囲には、例えばゴム等で形成されたシ
ール部材からなる真空シール部６が設けられ、マスクＭ
とワークＷを密着させるために真空状態を作るのに利用
される。
【０００５】また、ワークステージＷＳは、間隙設定機
構７を介してワークステージ駆動機構８に取り付けられ
ており、ワークステージ駆動機構８はワークステージＷ
ＳをＸ方向（例えば同図の左右方向）、Ｙ方向（例えば
同図において紙面に対して垂直方向）、Ｚ方向（同図の
上下方向）を移動させるとともに、ワークステージＷＳ
をワークＷ面に垂直な軸を中心として回転（この回転を
θ方向移動という）させる。なお、ワークステージＷＳ
の形状は通常ワークＷの形状に合わせて作られ、ワーク
が円形の場合は円形となり、ワークが角形の場合は開口
部２も角形となる。
構７を介してワークステージ駆動機構８に取り付けられ
ており、ワークステージ駆動機構８はワークステージＷ
ＳをＸ方向（例えば同図の左右方向）、Ｙ方向（例えば
同図において紙面に対して垂直方向）、Ｚ方向（同図の
上下方向）を移動させるとともに、ワークステージＷＳ
をワークＷ面に垂直な軸を中心として回転（この回転を
θ方向移動という）させる。なお、ワークステージＷＳ
の形状は通常ワークＷの形状に合わせて作られ、ワーク
が円形の場合は円形となり、ワークが角形の場合は開口
部２も角形となる。
【０００６】次に図７に示すコンタクト露光装置による
ワークＷの露光について説明する。 （１）マスクＭを位置決め部材１に当接させ、マスクス
テージＭＳに載置する。ついで、真空吸着溝３に真空を
供給し、マスクＭをマスクステージＭＳに固定保持す
る。 （２）ワークステージＷＳ上にワークＷを載置し、真空
源から溝５に真空を供給し、ワークＷをワークステージ
ＷＳ上に固定・保持する。 （３）ワークステージ駆動機構８によりワークステージ
ＷＳを上昇させ、ワークＷをマスクＭに接触させ、間隙
設定機構７によりマスクＭとワークＷの平行出しを行う
（マスクＭとワークＷの平行出しについては例えば特開
平７−７４０９６号公報参照）。
ワークＷの露光について説明する。 （１）マスクＭを位置決め部材１に当接させ、マスクス
テージＭＳに載置する。ついで、真空吸着溝３に真空を
供給し、マスクＭをマスクステージＭＳに固定保持す
る。 （２）ワークステージＷＳ上にワークＷを載置し、真空
源から溝５に真空を供給し、ワークＷをワークステージ
ＷＳ上に固定・保持する。 （３）ワークステージ駆動機構８によりワークステージ
ＷＳを上昇させ、ワークＷをマスクＭに接触させ、間隙
設定機構７によりマスクＭとワークＷの平行出しを行う
（マスクＭとワークＷの平行出しについては例えば特開
平７−７４０９６号公報参照）。
【０００７】（４）マスクＭとワークＷの平行出しを行
ったのちに、ワークステージＷＳを少し下降させ、マス
クＭとワークＷの間隙をアライメント間隙に設定し、図
示しないアライメント顕微鏡によりマスクＭとワークＷ
に記されたアライメントマークを検出し、両者のアライ
メントマークが一致するようにワークステージ駆動機構
８によりワークステージＷＳをＸＹθ方向に移動させ、
マスクＭとワークＷの位置合わせ（アライメント）を行
う。
ったのちに、ワークステージＷＳを少し下降させ、マス
クＭとワークＷの間隙をアライメント間隙に設定し、図
示しないアライメント顕微鏡によりマスクＭとワークＷ
に記されたアライメントマークを検出し、両者のアライ
メントマークが一致するようにワークステージ駆動機構
８によりワークステージＷＳをＸＹθ方向に移動させ、
マスクＭとワークＷの位置合わせ（アライメント）を行
う。
【０００８】（５）アライメント終了後、ワークステー
ジＷＳを上昇させマスクＭとワークＷを接触させる。こ
こで、マスクＭとワークＷを単に接触させただけでは、
マスクＭやワークＷに反りや微小な凹凸等がある場合、
マスクＭとワークＷを全面に渡って密着させることがで
きない。このため、図８に示すように、場所によってマ
スクＭとワークＷとの間に間隙の違いが生ずる（図８で
は誇張して示されている）。このような状態で露光を行
うと、露光処理後の露光精度（現像後のパターン形状）
が、露光領域の場所によって異なることとなる。そこ
で、マスクＭとワークＷを全面に渡って密着させるた
め、以下に説明するようにマスクＭとワークＷの間に互
いに押しつけ合う様な力を加える。
ジＷＳを上昇させマスクＭとワークＷを接触させる。こ
こで、マスクＭとワークＷを単に接触させただけでは、
マスクＭやワークＷに反りや微小な凹凸等がある場合、
マスクＭとワークＷを全面に渡って密着させることがで
きない。このため、図８に示すように、場所によってマ
スクＭとワークＷとの間に間隙の違いが生ずる（図８で
は誇張して示されている）。このような状態で露光を行
うと、露光処理後の露光精度（現像後のパターン形状）
が、露光領域の場所によって異なることとなる。そこ
で、マスクＭとワークＷを全面に渡って密着させるた
め、以下に説明するようにマスクＭとワークＷの間に互
いに押しつけ合う様な力を加える。
【０００９】（６）ワークステージＷＳを上昇させ、マ
スクＭとワークＷを接触させると、ワークステージＷＳ
の周囲に設けられた真空シール部６がマスクステージＭ
Ｓの下面に接触し、マスクＭ、マスクステージＭＳ、ワ
ークＷ、ワークステージＷＳ、真空シール部６によりシ
ール空間が生成される。この状態でマスクステージＭＳ
に設けられた管路４に真空を供給し上記シール空間を減
圧する。 （７）シール空間が減圧されると、マスクＭはワークＷ
に押しつけられ、図９に示すようにマスクＭとワークＷ
は全面に渡って密着する。 （８）上記のようにマスクＭとワークＷが密着した状態
で、図示しない光照射部から露光光を含む光をマスクＭ
を介してワークＷに照射し、露光を行う。
スクＭとワークＷを接触させると、ワークステージＷＳ
の周囲に設けられた真空シール部６がマスクステージＭ
Ｓの下面に接触し、マスクＭ、マスクステージＭＳ、ワ
ークＷ、ワークステージＷＳ、真空シール部６によりシ
ール空間が生成される。この状態でマスクステージＭＳ
に設けられた管路４に真空を供給し上記シール空間を減
圧する。 （７）シール空間が減圧されると、マスクＭはワークＷ
に押しつけられ、図９に示すようにマスクＭとワークＷ
は全面に渡って密着する。 （８）上記のようにマスクＭとワークＷが密着した状態
で、図示しない光照射部から露光光を含む光をマスクＭ
を介してワークＷに照射し、露光を行う。
【００１０】
【発明が解決しようとする課題】上記したように従来の
コンタクト露光は、マスクＭとワークＷの間の空間を減
圧してマスクＭに力をかけてマスクＭの形状をワークＷ
の形状に沿うように変形させ、ワークＷをマスクＭとワ
ークステージＷＳの間に挟み付けて密着させるものであ
る。しかしながら、上記従来例においては、ワークステ
ージＷＳ上に例えば微少なゴミがあった場合、ワークＷ
が図１０に示すように変形する。このため、マスクＭと
ワークＷとが密着したとき、マスクＭの、ワークＷの変
形部分が接触する部分に集中的に力がかかることにな
り、高価なマスクＭが傷つくことがある。傷ついたマス
クを使用して露光すると、その傷がそのままワークＷに
転写されてしまうので、製品不良となる。
コンタクト露光は、マスクＭとワークＷの間の空間を減
圧してマスクＭに力をかけてマスクＭの形状をワークＷ
の形状に沿うように変形させ、ワークＷをマスクＭとワ
ークステージＷＳの間に挟み付けて密着させるものであ
る。しかしながら、上記従来例においては、ワークステ
ージＷＳ上に例えば微少なゴミがあった場合、ワークＷ
が図１０に示すように変形する。このため、マスクＭと
ワークＷとが密着したとき、マスクＭの、ワークＷの変
形部分が接触する部分に集中的に力がかかることにな
り、高価なマスクＭが傷つくことがある。傷ついたマス
クを使用して露光すると、その傷がそのままワークＷに
転写されてしまうので、製品不良となる。
【００１１】また、ワークＷの変形した部分にも集中的
に力がかかるので、ワークＷが破損する危険がある。特
に近年、ポリイミド等を材質とするプリント基板（ＦＰ
Ｃ）のように、厚さが１００〜５０μｍ程度の薄いワー
クＷが使用されるようになってきており、一方、より高
い解像度が要求されるに伴い、マスクＭとワークＷのコ
ンタクト力を大きくする傾向にあり、ワークＷが破損す
る危険性が増大している。そこで、本出願人は、先に、
マスクとワークの間の空間を所望のコンタクト力を得る
ことができる圧力に減圧したとき、マスクとワークが接
触しない間隔になるように両者を離隔対面させ、マスク
とワークとの間の空間を減圧にして、両者を接近させ、
その後、ワークをワークステージからエアーによって浮
上させてマスクとワークを密着させて露光を行うコンタ
クト露光方法を提案した（特願平１０−１１９０３２号
参照）。
に力がかかるので、ワークＷが破損する危険がある。特
に近年、ポリイミド等を材質とするプリント基板（ＦＰ
Ｃ）のように、厚さが１００〜５０μｍ程度の薄いワー
クＷが使用されるようになってきており、一方、より高
い解像度が要求されるに伴い、マスクＭとワークＷのコ
ンタクト力を大きくする傾向にあり、ワークＷが破損す
る危険性が増大している。そこで、本出願人は、先に、
マスクとワークの間の空間を所望のコンタクト力を得る
ことができる圧力に減圧したとき、マスクとワークが接
触しない間隔になるように両者を離隔対面させ、マスク
とワークとの間の空間を減圧にして、両者を接近させ、
その後、ワークをワークステージからエアーによって浮
上させてマスクとワークを密着させて露光を行うコンタ
クト露光方法を提案した（特願平１０−１１９０３２号
参照）。
【００１２】図１１は上記コンタクト露光を行うコンタ
クト露光装置の構成を示す図であり、前記図７に示した
ものと同一のものには同一の符号が付されている。図１
１において、マスクステージＭＳの開口部の周囲には真
空吸着溝３が設けられており、マスクＭは、マスクステ
ージＭＳ面に設けられた真空吸着溝３に供給される真空
により、マスクステージＭＳ上に固定・保持される。ま
た、マスクステージＭＳには、マスクＭとマスクステー
ジＭＳとワークＷとワークステージＷＳと真空シール部
６により形成される空間Ａを減圧するための管路４が設
けられている。
クト露光装置の構成を示す図であり、前記図７に示した
ものと同一のものには同一の符号が付されている。図１
１において、マスクステージＭＳの開口部の周囲には真
空吸着溝３が設けられており、マスクＭは、マスクステ
ージＭＳ面に設けられた真空吸着溝３に供給される真空
により、マスクステージＭＳ上に固定・保持される。ま
た、マスクステージＭＳには、マスクＭとマスクステー
ジＭＳとワークＷとワークステージＷＳと真空シール部
６により形成される空間Ａを減圧するための管路４が設
けられている。
【００１３】ワークステージＷＳには、ワークＷをワー
クステージＷＳに吸着し固定するとともに、ワークＷに
エアー等のガスを吹きつけワークＷを浮き上がらせるた
めの溝５が設けられている。上記溝５はバルブＶ１，Ｖ
２を介して真空ポンプ１１、コンプレッサ１２に接続さ
れており、バルブＶ２を閉じてバルブＶ１を開き、真空
ポンプ１１から上記溝５に真空を供給することにより、
ワークＷはワークステージＷＳに固定・保持される。ま
た、バルブＶ１を閉じてバルブＶ２を開き、コンプレッ
サ１２から上記溝５にエアーを供給することにより、ワ
ークＷが浮き上がり、ワークＷがマスクＭ側に押しつけ
られる（ワークステージＷにエアーを供給し、ワークＷ
をワークステージＷＳより浮かすことを、ワークＷをバ
ックブローするという）。ワークステージＷＳの周囲に
は、例えばゴム等で形成されたシール部材からなる真空
シール部６が設けられ、マスクＭとワークＷを密着させ
るために真空状態を作るのに利用される。
クステージＷＳに吸着し固定するとともに、ワークＷに
エアー等のガスを吹きつけワークＷを浮き上がらせるた
めの溝５が設けられている。上記溝５はバルブＶ１，Ｖ
２を介して真空ポンプ１１、コンプレッサ１２に接続さ
れており、バルブＶ２を閉じてバルブＶ１を開き、真空
ポンプ１１から上記溝５に真空を供給することにより、
ワークＷはワークステージＷＳに固定・保持される。ま
た、バルブＶ１を閉じてバルブＶ２を開き、コンプレッ
サ１２から上記溝５にエアーを供給することにより、ワ
ークＷが浮き上がり、ワークＷがマスクＭ側に押しつけ
られる（ワークステージＷにエアーを供給し、ワークＷ
をワークステージＷＳより浮かすことを、ワークＷをバ
ックブローするという）。ワークステージＷＳの周囲に
は、例えばゴム等で形成されたシール部材からなる真空
シール部６が設けられ、マスクＭとワークＷを密着させ
るために真空状態を作るのに利用される。
【００１４】また、ワークステージＷＳは、前記図５と
同様、間隙設定機構（図示せず）を介してワークステー
ジ駆動機構（図示せず）に取り付けられており、ワーク
ステージ駆動機構はワークステージＷＳをＸ方向（例え
ば同図の左右方向）、Ｙ方向（例えば同図において紙面
に対して垂直方向）、Ｚ方向（同図の上下方向）を移動
させるとともに、ワークステージＷＳをワークＷ面に垂
直な軸を中心として回転（この回転をθ方向移動とい
う）させる。また、ワークステージＷＳの周囲には、マ
スクＭとワークＷの間の間隔を設定する間隔設定手段１
０（以下、ここではバックアップリング１０という）が
設けられている。バックアップリング１０の上面は精度
良く加工されており、ワークステージＷＳが上昇したと
き、バックアップリング１０の上面がマスクステージＭ
Ｓの下面と当接する。
同様、間隙設定機構（図示せず）を介してワークステー
ジ駆動機構（図示せず）に取り付けられており、ワーク
ステージ駆動機構はワークステージＷＳをＸ方向（例え
ば同図の左右方向）、Ｙ方向（例えば同図において紙面
に対して垂直方向）、Ｚ方向（同図の上下方向）を移動
させるとともに、ワークステージＷＳをワークＷ面に垂
直な軸を中心として回転（この回転をθ方向移動とい
う）させる。また、ワークステージＷＳの周囲には、マ
スクＭとワークＷの間の間隔を設定する間隔設定手段１
０（以下、ここではバックアップリング１０という）が
設けられている。バックアップリング１０の上面は精度
良く加工されており、ワークステージＷＳが上昇したと
き、バックアップリング１０の上面がマスクステージＭ
Ｓの下面と当接する。
【００１５】バックアップリング１０は次のように機能
する。 バックアップリング１０がマスクステージの下面と
当接することにより、マスクＭ下面とワークＷ上面と
を、所定の間隔で離隔対面させる。 シール空間Ａを減圧時、大気圧に押されることによ
り、ワークステージＷＳがマスクステージＭＳの方向に
移動することを防ぐ。これにより、シール空間Ａ減圧時
のマスクＭとワークＷとのギャップ量Ｄは、上記離隔対
面させた時の距離よりも短く、かつ、マスクとワークと
が接触しない距離に保持される。 ワークステージＷＳとマスクステージＭＳとの平行
を保持する。
する。 バックアップリング１０がマスクステージの下面と
当接することにより、マスクＭ下面とワークＷ上面と
を、所定の間隔で離隔対面させる。 シール空間Ａを減圧時、大気圧に押されることによ
り、ワークステージＷＳがマスクステージＭＳの方向に
移動することを防ぐ。これにより、シール空間Ａ減圧時
のマスクＭとワークＷとのギャップ量Ｄは、上記離隔対
面させた時の距離よりも短く、かつ、マスクとワークと
が接触しない距離に保持される。 ワークステージＷＳとマスクステージＭＳとの平行
を保持する。
【００１６】図１１において、コンタクト露光は次のよ
うに行われる。マスクステージＭＳの下面とバックアッ
プリング１０の上面とを当接させることにより、マスク
ＭとワークＷの平行出しを行った後、マスクＭとワーク
Ｗをアライメント間隙に設定しマスクとワークの位置合
わせ（アライメント）を行う。ついで、ワークステージ
ＷＳを上昇させバックアップリング１０をマスクステー
ジＭＳの下面に当接させる。この状態で、マスクＭとワ
ークＷの間の空間を、所望のコンタクト力を得ることが
できる圧力に減圧する。マスクＭとワークＷの間の空間
を減圧したとき、マスクＭはワークＷの方向にたわむ
が、マスクステージＭＳとワークステージＷＳの間には
バックアップリング１０があるので、マスクＭとワーク
Ｗは接触せず、所定の間隔に保持される。その後、ワー
クＷをワークステージＷＳからエアーによって浮上させ
て（ワークＷをバックブローし）マスクＭとワークＷを
密着させ露光する。
うに行われる。マスクステージＭＳの下面とバックアッ
プリング１０の上面とを当接させることにより、マスク
ＭとワークＷの平行出しを行った後、マスクＭとワーク
Ｗをアライメント間隙に設定しマスクとワークの位置合
わせ（アライメント）を行う。ついで、ワークステージ
ＷＳを上昇させバックアップリング１０をマスクステー
ジＭＳの下面に当接させる。この状態で、マスクＭとワ
ークＷの間の空間を、所望のコンタクト力を得ることが
できる圧力に減圧する。マスクＭとワークＷの間の空間
を減圧したとき、マスクＭはワークＷの方向にたわむ
が、マスクステージＭＳとワークステージＷＳの間には
バックアップリング１０があるので、マスクＭとワーク
Ｗは接触せず、所定の間隔に保持される。その後、ワー
クＷをワークステージＷＳからエアーによって浮上させ
て（ワークＷをバックブローし）マスクＭとワークＷを
密着させ露光する。
【００１７】上記のようにすれば、マスクに傷をつける
心配なく、また、ワークを破損させることなくマスクと
ワークとを密着させて露光をすることができる。ところ
で、ワークＷの厚さが変わるとマスクＭとワークＭのギ
ャップ量Ｄが変わる。このため、図１１に示したものに
おいて厚さが異なるワークＷを処理する場合には、ワー
クＷの厚さに応じて、バックアップリング１０をギャッ
プ量Ｄが所定の値となるような高さのものに交換する必
要がある。
心配なく、また、ワークを破損させることなくマスクと
ワークとを密着させて露光をすることができる。ところ
で、ワークＷの厚さが変わるとマスクＭとワークＭのギ
ャップ量Ｄが変わる。このため、図１１に示したものに
おいて厚さが異なるワークＷを処理する場合には、ワー
クＷの厚さに応じて、バックアップリング１０をギャッ
プ量Ｄが所定の値となるような高さのものに交換する必
要がある。
【００１８】しかしながら、バックアップリング１０
は、通常ワークステージＷＳにねじ止め等により固定さ
れており、バックアップリング１０を交換するには、ね
じ止めを外してバックアップリング１０を取り外したの
ち、新たなバックアップリングをセットしてねじ止めを
する必要があり、交換作業に時間がかかるといった問題
があった。また、そのために複数のバックアップリング
を準備する必要があるため、費用がかかり、さらに、そ
の保管場所を確保する必要がある等の問題もあった。本
発明は上記した事情に鑑みなされたものであって、厚さ
の異なるワークを処理する場合であってもバックアップ
リングを交換する必要がないコンタクト露光装置を提供
することである。
は、通常ワークステージＷＳにねじ止め等により固定さ
れており、バックアップリング１０を交換するには、ね
じ止めを外してバックアップリング１０を取り外したの
ち、新たなバックアップリングをセットしてねじ止めを
する必要があり、交換作業に時間がかかるといった問題
があった。また、そのために複数のバックアップリング
を準備する必要があるため、費用がかかり、さらに、そ
の保管場所を確保する必要がある等の問題もあった。本
発明は上記した事情に鑑みなされたものであって、厚さ
の異なるワークを処理する場合であってもバックアップ
リングを交換する必要がないコンタクト露光装置を提供
することである。
【００１９】
【課題を解決するための手段】上記課題を解決するた
め、本発明においては、上記バックアップリングに相当
する間隔設定手段をワークステージまたはマスクステー
ジに固定された第１の部材と、第１の部材に対して高さ
方向に移動可能な第２の部材とから構成した。このた
め、厚さの異なるワークを処理するに際し、間隔設定手
段を交換することなくマスクとワークの間隔を所定の値
調整することができる。したがって、従来例のように厚
さの異なるワークを処理するに際し、バックアップリン
グを交換する必要がなく、作業効率を改善することがで
きる。また、交換用のバックアップリングを用意してお
く必要もなく、コストを低減化することもできる。
め、本発明においては、上記バックアップリングに相当
する間隔設定手段をワークステージまたはマスクステー
ジに固定された第１の部材と、第１の部材に対して高さ
方向に移動可能な第２の部材とから構成した。このた
め、厚さの異なるワークを処理するに際し、間隔設定手
段を交換することなくマスクとワークの間隔を所定の値
調整することができる。したがって、従来例のように厚
さの異なるワークを処理するに際し、バックアップリン
グを交換する必要がなく、作業効率を改善することがで
きる。また、交換用のバックアップリングを用意してお
く必要もなく、コストを低減化することもできる。
【００２０】
【発明の実施の形態】図１は本発明の第１の実施例のマ
スクとワークの間隔設定手段（以下本実施例ではバック
アップリングという）とワークステージとを示す図であ
る。図示した部分以外の構成は前記図１１と同じであ
り、ワークステージＷＳには、図１１に示したようにワ
ークを吸着固定するとともに、エアー等のガスによりワ
ークを浮き上がらせるための溝（図示せず）が設けられ
ている。この溝は、図示しないバルブを介して真空ポン
プ、コンプレッサに接続されている。また、図１１に示
したように、ワークステージＷＳの周囲には、例えばゴ
ム等で形成されたシール部材からなる真空シール部（図
示せず）が設けられている。さらに、ワークステージＷ
Ｓは、図７に示したものと同様、間隙設定機構を介して
ワークステージ駆動機構に取り付けられており、ワーク
ステージ駆動機構はワークステージＷＳをＸ方向（例え
ば同図の左右方向）、Ｙ方向（例えば同図において紙面
に対して垂直方向）、Ｚ方向（同図の上下方向）を移動
させるとともに、ワークステージＷＳをワークＷ面に垂
直な軸を中心として回転（この回転をθ方向移動とい
う）させる。
スクとワークの間隔設定手段（以下本実施例ではバック
アップリングという）とワークステージとを示す図であ
る。図示した部分以外の構成は前記図１１と同じであ
り、ワークステージＷＳには、図１１に示したようにワ
ークを吸着固定するとともに、エアー等のガスによりワ
ークを浮き上がらせるための溝（図示せず）が設けられ
ている。この溝は、図示しないバルブを介して真空ポン
プ、コンプレッサに接続されている。また、図１１に示
したように、ワークステージＷＳの周囲には、例えばゴ
ム等で形成されたシール部材からなる真空シール部（図
示せず）が設けられている。さらに、ワークステージＷ
Ｓは、図７に示したものと同様、間隙設定機構を介して
ワークステージ駆動機構に取り付けられており、ワーク
ステージ駆動機構はワークステージＷＳをＸ方向（例え
ば同図の左右方向）、Ｙ方向（例えば同図において紙面
に対して垂直方向）、Ｚ方向（同図の上下方向）を移動
させるとともに、ワークステージＷＳをワークＷ面に垂
直な軸を中心として回転（この回転をθ方向移動とい
う）させる。
【００２１】１０はバックアップリングであり、バック
アップリング１０はワークステージＷＳにねじ等により
固定された固定部材１０ａ（第１の部材）と、可動部材
１０ｂ（第２の部材）から構成される。可動部材１０ｂ
には腕部１０ｃが取り付けられ、腕部１０ｃには移動用
と固定用を兼ねたつまみ１０ｄが設けられている。また
図１にはマスクステージを示していないが、前記図１１
に示したように、マスクを載置したマスクステージがワ
ークステージＷＳ上に設けられる。なお、バックアップ
リング１０の固定部材１０ａはマスクステージＭＳに固
定されるように構成してもよい。
アップリング１０はワークステージＷＳにねじ等により
固定された固定部材１０ａ（第１の部材）と、可動部材
１０ｂ（第２の部材）から構成される。可動部材１０ｂ
には腕部１０ｃが取り付けられ、腕部１０ｃには移動用
と固定用を兼ねたつまみ１０ｄが設けられている。また
図１にはマスクステージを示していないが、前記図１１
に示したように、マスクを載置したマスクステージがワ
ークステージＷＳ上に設けられる。なお、バックアップ
リング１０の固定部材１０ａはマスクステージＭＳに固
定されるように構成してもよい。
【００２２】図２は図１のＡ−Ａ断面図であり、同図に
は図１に加えて、上記マスクステージＭＳ、マスクＭ、
および、ワークＷ、真空シール部６が示されている。同
図に示すように、バックアップリング１０の固定部材１
０ａと可動部材１０ｂは、精密なねじにより螺合してお
り、上記つまみ１０ｄを持って可動部材１０ｂを回転移
動させることにより、可動部材１０ｂは高さ方向に移動
する。また、つまみ１０ｄはねじにより上記腕部１０ｃ
と螺合しており、可動部材１０ｂを所定の高さに設定し
たのち、つまみ１０ｄを回転させねじの先端をワークス
テージＷＳの側面に当接させることにより、可動部材１
０ｂを位置ずれが起きないように固定することができ
る。なお、可動部材１０ｂをモータの回転軸と連動させ
る等して、自動的に高さ調整できるようにしても良い。
は図１に加えて、上記マスクステージＭＳ、マスクＭ、
および、ワークＷ、真空シール部６が示されている。同
図に示すように、バックアップリング１０の固定部材１
０ａと可動部材１０ｂは、精密なねじにより螺合してお
り、上記つまみ１０ｄを持って可動部材１０ｂを回転移
動させることにより、可動部材１０ｂは高さ方向に移動
する。また、つまみ１０ｄはねじにより上記腕部１０ｃ
と螺合しており、可動部材１０ｂを所定の高さに設定し
たのち、つまみ１０ｄを回転させねじの先端をワークス
テージＷＳの側面に当接させることにより、可動部材１
０ｂを位置ずれが起きないように固定することができ
る。なお、可動部材１０ｂをモータの回転軸と連動させ
る等して、自動的に高さ調整できるようにしても良い。
【００２３】次に、前記図１１、上記図１、図２によ
り、本実施例のコンタクト露光装置による露光工程つい
て説明する。 （１）図１に示すつまみ１０ｄを回転移動させ、ワーク
Ｗの厚さに応じて可動部材１０ｂの高さを調整する。そ
して、つまみ１０ｄにより可動部材１０ｂの位置を固定
する。 （２）マスクＭをマスクステージＭＳに載置する。マス
クステージＭＳの真空吸着溝３に真空を供給し、マスク
ＭをマスクステージＭＳに固定保持する。 （３）ワークステージＷＳ上にワークＷを載置し、バル
ブＶ１を開き、バルブＶ２を閉じ、真空ポンプ１１から
ワークステージＷＳの溝５に真空を供給し、ワークＷを
ワークステージＷＳに固定保持する。
り、本実施例のコンタクト露光装置による露光工程つい
て説明する。 （１）図１に示すつまみ１０ｄを回転移動させ、ワーク
Ｗの厚さに応じて可動部材１０ｂの高さを調整する。そ
して、つまみ１０ｄにより可動部材１０ｂの位置を固定
する。 （２）マスクＭをマスクステージＭＳに載置する。マス
クステージＭＳの真空吸着溝３に真空を供給し、マスク
ＭをマスクステージＭＳに固定保持する。 （３）ワークステージＷＳ上にワークＷを載置し、バル
ブＶ１を開き、バルブＶ２を閉じ、真空ポンプ１１から
ワークステージＷＳの溝５に真空を供給し、ワークＷを
ワークステージＷＳに固定保持する。
【００２４】（４）図示しないワークステージ駆動機構
によりワークステージＷＳを上昇させる。これにより、
バックアップリング１０の上面がマスクステージＭＳの
下面に当接する。ついで、図示しない間隙設定機構によ
り、ワークステージＷＳとマスクステージＭＳとの平行
出しを行う。なお、マスクステージＭＳとワークステー
ジＷＳとの間にはバックアップリング１０が設けられて
おり、マスクＭとワークＷを直接接触させることができ
ないので、上記平行出しに際しては、ワークステージＷ
Ｓを上昇させ、バックアップリング１０の上側の全面が
マスクステージＭＳの下面に接触するように間隙設定機
構によりワークステージＷＳの傾きを調整し、平行出し
を行う。
によりワークステージＷＳを上昇させる。これにより、
バックアップリング１０の上面がマスクステージＭＳの
下面に当接する。ついで、図示しない間隙設定機構によ
り、ワークステージＷＳとマスクステージＭＳとの平行
出しを行う。なお、マスクステージＭＳとワークステー
ジＷＳとの間にはバックアップリング１０が設けられて
おり、マスクＭとワークＷを直接接触させることができ
ないので、上記平行出しに際しては、ワークステージＷ
Ｓを上昇させ、バックアップリング１０の上側の全面が
マスクステージＭＳの下面に接触するように間隙設定機
構によりワークステージＷＳの傾きを調整し、平行出し
を行う。
【００２５】（５）ワークステージＷＳを下降させ、マ
スクＭとワークＷの間隙をアライメント間隙に設定し、
図示しないアライメント顕微鏡により、マスクＭとワー
クＷとに記されたアライメントマークを検出し、両者の
アライメントマークが一致するように、ワークステージ
移動機構によりワークステージＷＳをＸＹθ方向に移動
し、マスクＭとワークＷとの位置合わせ（アライメン
ト）を行う。
スクＭとワークＷの間隙をアライメント間隙に設定し、
図示しないアライメント顕微鏡により、マスクＭとワー
クＷとに記されたアライメントマークを検出し、両者の
アライメントマークが一致するように、ワークステージ
移動機構によりワークステージＷＳをＸＹθ方向に移動
し、マスクＭとワークＷとの位置合わせ（アライメン
ト）を行う。
【００２６】（６）アライメント終了後、ワークステー
ジＷＳ上昇させ、バックアップリング１０の上面をマス
クステージＭＳの下面に当接させる。これにより、マス
クＭの下面とワークＷの上面とは所定の間隔に保持され
る。なお、前記したようにバックアップリング１０の高
さを変えることにより、上記所定の間隔の大きさを変え
ることができる。本実施例においては、上記マスクＭと
ワークＷの間隔を図３（ａ）のように設定した。すなわ
ち、ワークＷの厚さが約５０μｍのとき、マスクＭ下面
とワークＷ上面とのギャップが４０μｍになるようにマ
スクステージＭＳとワークステージＷＳの間隔を設定し
た。
ジＷＳ上昇させ、バックアップリング１０の上面をマス
クステージＭＳの下面に当接させる。これにより、マス
クＭの下面とワークＷの上面とは所定の間隔に保持され
る。なお、前記したようにバックアップリング１０の高
さを変えることにより、上記所定の間隔の大きさを変え
ることができる。本実施例においては、上記マスクＭと
ワークＷの間隔を図３（ａ）のように設定した。すなわ
ち、ワークＷの厚さが約５０μｍのとき、マスクＭ下面
とワークＷ上面とのギャップが４０μｍになるようにマ
スクステージＭＳとワークステージＷＳの間隔を設定し
た。
【００２７】（７）バックアップリング１０の上面をマ
スクステージＭＳの下面に当接させると、ワークステー
ジＷＳの周囲に設けられた真空シール部６もマスクステ
ージＭＳの下面に接触し、マスクＭ、マスクステージＭ
Ｓ、ワークＷ、ワークステージＷＳ、真空シール部６に
よりシール空間Ａが形成される。この状態で、マスクス
テージＭＳに設けられた管路４に真空を供給し、上記シ
ール空間Ａを減圧する。マスクＭは大気圧に押されてワ
ークステージＷＳ方向にたわむ。すなわち、シール空間
Ａを減圧することにより、図３（ｂ）に示すように、マ
スクＭが大気圧に押されて、ワークＷの方向にたわむ。
ワークステージＷＳもマスクＭと同様に大気圧に押され
て、同図上方のマスクステージＭＳ方向に力がかかる
が、バックアップリング１０があるために、ワークステ
ージＷＳは移動しない。したがって、マスクＭとワーク
Ｗとは接することなく、図３（ｂ）に示すように両者の
間隔が、マスクの中心部において約１０μｍに保持され
る。
スクステージＭＳの下面に当接させると、ワークステー
ジＷＳの周囲に設けられた真空シール部６もマスクステ
ージＭＳの下面に接触し、マスクＭ、マスクステージＭ
Ｓ、ワークＷ、ワークステージＷＳ、真空シール部６に
よりシール空間Ａが形成される。この状態で、マスクス
テージＭＳに設けられた管路４に真空を供給し、上記シ
ール空間Ａを減圧する。マスクＭは大気圧に押されてワ
ークステージＷＳ方向にたわむ。すなわち、シール空間
Ａを減圧することにより、図３（ｂ）に示すように、マ
スクＭが大気圧に押されて、ワークＷの方向にたわむ。
ワークステージＷＳもマスクＭと同様に大気圧に押され
て、同図上方のマスクステージＭＳ方向に力がかかる
が、バックアップリング１０があるために、ワークステ
ージＷＳは移動しない。したがって、マスクＭとワーク
Ｗとは接することなく、図３（ｂ）に示すように両者の
間隔が、マスクの中心部において約１０μｍに保持され
る。
【００２８】（８）バルブＶ１を閉じてバルブＶ２を開
き、ワークステージＷＳの溝５にエアーを供給し、ワー
クＷをワークステージＷＳより浮かして、マスクＭに押
し付ける（ワークＷをバックブローする）。これによ
り、図４に示すようにマスクＭとワークＷが密着する。
なお、ワークＷとマスクＭの間のシール空間Ａを減圧せ
ずにバックブローするだけでは、ワークＷをマスクＭに
密着させることはできない。これは、ワークＷをマスク
Ｍに押し付けようとすると、ワークＷとマスクＭとの間
に空気だまりができることがあるからである。これに対
し、上記のようにシール空間Ａを減圧することにより、
ワークＷとマスクＭが密着するとき、その間の空気が排
気され、空気だまりが残ることを防ぐことができる。以
下、バックブローによりワークＷがマスクＭに接した状
態について説明する。バックブローすることにより、図
５に示すように、ワークステージＷＳとワークＷによっ
てほぼ囲まれた空間Ｂができ、その空間Ｂの圧力が、シ
ール空間Ａの圧力より高くなる。
き、ワークステージＷＳの溝５にエアーを供給し、ワー
クＷをワークステージＷＳより浮かして、マスクＭに押
し付ける（ワークＷをバックブローする）。これによ
り、図４に示すようにマスクＭとワークＷが密着する。
なお、ワークＷとマスクＭの間のシール空間Ａを減圧せ
ずにバックブローするだけでは、ワークＷをマスクＭに
密着させることはできない。これは、ワークＷをマスク
Ｍに押し付けようとすると、ワークＷとマスクＭとの間
に空気だまりができることがあるからである。これに対
し、上記のようにシール空間Ａを減圧することにより、
ワークＷとマスクＭが密着するとき、その間の空気が排
気され、空気だまりが残ることを防ぐことができる。以
下、バックブローによりワークＷがマスクＭに接した状
態について説明する。バックブローすることにより、図
５に示すように、ワークステージＷＳとワークＷによっ
てほぼ囲まれた空間Ｂができ、その空間Ｂの圧力が、シ
ール空間Ａの圧力より高くなる。
【００２９】圧力関係は、図５の下側に示したようにな
る。すなわち、バックブローのエアーは、ワークＷの端
とワークステージＷＳとの隙間から、シール空間Ａへ向
かって流れる（漏れる）が、その隙間の間隔は、マスク
ＭがワークＷの方向にたわんでいるので、４０μｍより
小さくなる。したがって、ワークＷの端とワークステー
ジＷＳとの隙間のコンダクタンスは高くなり、バックブ
ローのエアーが一気にシール空間Ａに向かって漏れるこ
とはない。このため、ワークＷの下側の圧力分布は図５
に示すようにほぼフラットになり、上記のワークステー
ジＷＳとワークＷによって囲まれた空間Ｂにおいて発生
したバックブローによる圧力はワークＷのほぼ全面にわ
たって保持され、ワークＷはマスクＭ側に押し付けられ
る。また、上記バックブローによりマスクＭのたわみは
小さくなり、マスクＭとワークＷはやや上方に移動す
る。
る。すなわち、バックブローのエアーは、ワークＷの端
とワークステージＷＳとの隙間から、シール空間Ａへ向
かって流れる（漏れる）が、その隙間の間隔は、マスク
ＭがワークＷの方向にたわんでいるので、４０μｍより
小さくなる。したがって、ワークＷの端とワークステー
ジＷＳとの隙間のコンダクタンスは高くなり、バックブ
ローのエアーが一気にシール空間Ａに向かって漏れるこ
とはない。このため、ワークＷの下側の圧力分布は図５
に示すようにほぼフラットになり、上記のワークステー
ジＷＳとワークＷによって囲まれた空間Ｂにおいて発生
したバックブローによる圧力はワークＷのほぼ全面にわ
たって保持され、ワークＷはマスクＭ側に押し付けられ
る。また、上記バックブローによりマスクＭのたわみは
小さくなり、マスクＭとワークＷはやや上方に移動す
る。
【００３０】エアーが漏れるワークＷ周辺部は、圧力が
シール空間Ａの圧力に近づくので、ワークＷをマスクＭ
に押し付ける力が弱くなる。したがって、図４の圧力曲
線にしたがって、マスクＭとの密着性が悪くなるが、ワ
ークＷの周辺部には通常回路等のパターンは形成されな
いので、ワークＷとマスクＭが密着しいていなくても問
題は生じない。
シール空間Ａの圧力に近づくので、ワークＷをマスクＭ
に押し付ける力が弱くなる。したがって、図４の圧力曲
線にしたがって、マスクＭとの密着性が悪くなるが、ワ
ークＷの周辺部には通常回路等のパターンは形成されな
いので、ワークＷとマスクＭが密着しいていなくても問
題は生じない。
【００３１】（９）この状態で図示しない光照射部から
露光光を含む光を、マスクＭを介してワークＷに照射
し、露光を行う。なお、上記実施例ではマスクＭとワー
クＷの間隔を４０μｍに設定する場合について説明した
が、マスクＭとワークＷとの間隔は、広すぎるとワーク
Ｗをバックブローした時、ワークＷが横（ＸＹ）方向に
移動することがあり、また、マスクＭとワークＷとの間
隔が狭すぎると、真空シール部６を減圧したとき、マス
クＭがワークＷに接触し、マスクＭに傷がついたりワー
クＷが破損する危険がある。したがって、ワークＷの大
きさ、厚さ、マスクＭの厚さ等を考慮し、シール空間Ａ
の圧力、バックブロー圧力などの条件の最適値を求め、
マスクＭとワークＷとの間隔を設定する必要がある。
露光光を含む光を、マスクＭを介してワークＷに照射
し、露光を行う。なお、上記実施例ではマスクＭとワー
クＷの間隔を４０μｍに設定する場合について説明した
が、マスクＭとワークＷとの間隔は、広すぎるとワーク
Ｗをバックブローした時、ワークＷが横（ＸＹ）方向に
移動することがあり、また、マスクＭとワークＷとの間
隔が狭すぎると、真空シール部６を減圧したとき、マス
クＭがワークＷに接触し、マスクＭに傷がついたりワー
クＷが破損する危険がある。したがって、ワークＷの大
きさ、厚さ、マスクＭの厚さ等を考慮し、シール空間Ａ
の圧力、バックブロー圧力などの条件の最適値を求め、
マスクＭとワークＷとの間隔を設定する必要がある。
【００３２】一般には、マスクＭとワークＷのコンタク
ト力は、上記シール空間Ａの圧力（真空度）に依存する
ので、要求されるコンタクト力に基づいてシール空間Ａ
の圧力（真空度）を定め、シール空間Ａの圧力とワーク
Ｗの大きさ、厚さ、マスクＭの厚さからマスクＭのたわ
み量を求め、シール空間Ａを減圧することによりマスク
Ｍがたわんだとき、マスクＭとワークＷが接触しないよ
うに、マスクＭとワークＷの間隔を定めればよい。本実
施例においては、材質が銅薄箔であるφ１５０ｍｍのワ
ークを使用し、マスクの厚さが３．８ｍｍの場合に、真
空シール部圧力を２０ｋＰａ（１気圧＝７６ｍｍＨｇ＝
１０１．３ｋＰａであり、２０ｋＰａは、約１５０ｍｍ
Ｈｇ）とし、バックブロー圧力２ｋＰＡ、マスク中心部
の下面とワーク上面とのギャップ４０μｍとした。この
とき、減圧時のマスクＭとワークＷのギャップは約１０
μｍとなり、精度良く露光処理を行うことができた。
ト力は、上記シール空間Ａの圧力（真空度）に依存する
ので、要求されるコンタクト力に基づいてシール空間Ａ
の圧力（真空度）を定め、シール空間Ａの圧力とワーク
Ｗの大きさ、厚さ、マスクＭの厚さからマスクＭのたわ
み量を求め、シール空間Ａを減圧することによりマスク
Ｍがたわんだとき、マスクＭとワークＷが接触しないよ
うに、マスクＭとワークＷの間隔を定めればよい。本実
施例においては、材質が銅薄箔であるφ１５０ｍｍのワ
ークを使用し、マスクの厚さが３．８ｍｍの場合に、真
空シール部圧力を２０ｋＰａ（１気圧＝７６ｍｍＨｇ＝
１０１．３ｋＰａであり、２０ｋＰａは、約１５０ｍｍ
Ｈｇ）とし、バックブロー圧力２ｋＰＡ、マスク中心部
の下面とワーク上面とのギャップ４０μｍとした。この
とき、減圧時のマスクＭとワークＷのギャップは約１０
μｍとなり、精度良く露光処理を行うことができた。
【００３３】図６は本発明の第２の実施例の間隔設定手
段の構成を示す図であり、前記図２と同様、ワークステ
ージと間隔設定手段の断面構成を示しており、図示した
部分以外の構成は前記第１の実施例と同じである。本実
施例の間隔設定手段２０は、同図に示すようにワークス
テージＷＳに固定された固定部材２０ａ（第１の部材）
と、可動部材２０ｂ（第２の部材）と、マイクロメータ
２０ｃから構成され、これらの部材から構成される間隔
設定手段２０がワークステージの周囲の少なくとも３組
設けられている。可動部材２０ｂは軸２０ｄを中心とし
て回転可能に固定部材２０ａに取り付けられており、図
６（ａ）（ｂ）に示すように、可動部材２０ｂを回転さ
せることにより、高さ方向の調整をすることができる。
高さ方向の調整は、マイクロメータ２０ｃにより、ワー
クステージＷＳの周囲に設けられた３組の間隔設定手段
２０の可動部材２０ｂの傾きを調整し、マスクＭとワー
クＷが平行で、かつその間隔が予め設定された値になる
ように調整する。間隔設定手段２０によるマスクＭとワ
ークＷの間隔設定後の露光工程は前記第１の実施例と同
様であり、前記したように（２）〜（９）の工程により
ワークＷの露光を行う。
段の構成を示す図であり、前記図２と同様、ワークステ
ージと間隔設定手段の断面構成を示しており、図示した
部分以外の構成は前記第１の実施例と同じである。本実
施例の間隔設定手段２０は、同図に示すようにワークス
テージＷＳに固定された固定部材２０ａ（第１の部材）
と、可動部材２０ｂ（第２の部材）と、マイクロメータ
２０ｃから構成され、これらの部材から構成される間隔
設定手段２０がワークステージの周囲の少なくとも３組
設けられている。可動部材２０ｂは軸２０ｄを中心とし
て回転可能に固定部材２０ａに取り付けられており、図
６（ａ）（ｂ）に示すように、可動部材２０ｂを回転さ
せることにより、高さ方向の調整をすることができる。
高さ方向の調整は、マイクロメータ２０ｃにより、ワー
クステージＷＳの周囲に設けられた３組の間隔設定手段
２０の可動部材２０ｂの傾きを調整し、マスクＭとワー
クＷが平行で、かつその間隔が予め設定された値になる
ように調整する。間隔設定手段２０によるマスクＭとワ
ークＷの間隔設定後の露光工程は前記第１の実施例と同
様であり、前記したように（２）〜（９）の工程により
ワークＷの露光を行う。
【００３４】以上のように、間隔設定手段の形状は、第
１の実施例に示したように必ずしも環状に構成する必要
はなく、上記第２の実施例のように、減圧時、各間隔設
定手段に加わる荷重に対して十分な強度を持つ第１の部
材と第２の部材から構成される手段をワークステージの
周囲に３個所以上均等に配置すればよい。そのほか、間
隔設定手段としては、例えば、電圧に応じて長さが変化
するピエゾ素子等を用い電圧を変化させ高さ調整する
等、種々の手段を用いることができる。
１の実施例に示したように必ずしも環状に構成する必要
はなく、上記第２の実施例のように、減圧時、各間隔設
定手段に加わる荷重に対して十分な強度を持つ第１の部
材と第２の部材から構成される手段をワークステージの
周囲に３個所以上均等に配置すればよい。そのほか、間
隔設定手段としては、例えば、電圧に応じて長さが変化
するピエゾ素子等を用い電圧を変化させ高さ調整する
等、種々の手段を用いることができる。
【００３５】
【発明の効果】以上説明したように、本発明においては
コンタクト露光装置においてマスクとワークの間隙を設
定する手段を、ワークステージまたはマスクステージに
固定される第１の部材と、高さ方向の位置調整可能な第
２の部材から構成したので、厚さの異なるワークを処理
するに際し、間隔設定手段を交換することなくマスクと
ワークの間隔を所定の値調整することができる。このた
め、作業効率を改善することができ、また、従来例のよ
うに交換用のバックアップリングを用意しておく必要も
ないので、コストを低減化することもできる。
コンタクト露光装置においてマスクとワークの間隙を設
定する手段を、ワークステージまたはマスクステージに
固定される第１の部材と、高さ方向の位置調整可能な第
２の部材から構成したので、厚さの異なるワークを処理
するに際し、間隔設定手段を交換することなくマスクと
ワークの間隔を所定の値調整することができる。このた
め、作業効率を改善することができ、また、従来例のよ
うに交換用のバックアップリングを用意しておく必要も
ないので、コストを低減化することもできる。
【図１】本発明の第１の実施例の間隔設定手段の構成を
示す図である。
示す図である。
【図２】第１の実施例の間隔設定手段の断面構成を示す
図である。
図である。
【図３】本発明の実施例におけるマスクとワークの位置
関係を説明する図である。
関係を説明する図である。
【図４】本発明の実施例においてバックブローによりマ
スクとワークを密着させた状態を示す図である。
スクとワークを密着させた状態を示す図である。
【図５】本発明の実施例におけるバックブロー時のワー
クの状態および圧力曲線を示す図である。
クの状態および圧力曲線を示す図である。
【図６】本発明の第２の実施例の間隔設定手段の断面構
成を示す図である。
成を示す図である。
【図７】コンタクト露光装置の構成を示す図である。
【図８】マスクとワークが密着していない状態を示す図
である。
である。
【図９】真空シール部により形成される空間を減圧しマ
スクとワークを密着させた状態を示す図である。
スクとワークを密着させた状態を示す図である。
【図１０】ワークステージ上にゴミ等がある場合に、マ
スクとワークを密着させたときのワークの変形を説明す
る図である。
スクとワークを密着させたときのワークの変形を説明す
る図である。
【図１１】バックアップリングを用いたコンタクト露光
装置の構成を示す図である。
装置の構成を示す図である。
１ 位置決め部材 ２ 開口部 ３ マスク真空吸着溝 ４ 管路 ５ 溝 ６ 真空シール部 ７ 間隙設定機構 ８ ワークステージ駆動機構 １０ 間隔設定手段（バックアップリング） １０ａ 固定部材（第１の部材） １０ｂ 可動部材（第２の部材） １０ｃ 腕部 １０ｄ つまみ １１ 真空ポンプ １２ コンプレッサ ２０ 間隙設定手段 ２０ａ 固定部材（第１の部材） ２０ｂ 可動部材（第２の部材） ２０ｃ マイクロメータ Ｍ マスク ＭＳ マスクステージ Ｗ ワーク ＷＳ ワークステージ Ｖ１，Ｖ２ バルブ
Claims (1)
- 【請求項１】 ワークステージ上に載置された、表面に
感光膜が被着されたワークと、マスクパターンが形成さ
れたマスクとを密着させて、露光光を含む光をマスクを
通してワーク上に照射し、ワーク上にマスクパターンを
露光するコンタクト露光装置であって、 上記コンタクト露光装置は、マスクとワークの間の空間
を所望のコンタクト力を得ることができる圧力に減圧し
たとき、マスクとワークとを、接触しない予め設定され
た間隔になるように両者を離隔対面させる間隔設定手段
を備え、 上記間隔設定手段は、ワークステージ又はマスクステー
ジに取り付けられた第１の部材と、第１の部材に対して
高さ方向に移動可能な第２の部材とから構成されること
を特徴とするマスクとワーク間隔設定手段を備えたコン
タクト露光装置。
Priority Applications (6)
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|---|---|---|---|
| JP30360099A JP3678079B2 (ja) | 1999-10-26 | 1999-10-26 | マスクとワークの間隔設定手段を備えたコンタクト露光装置 |
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| US09/694,030 US6459474B1 (en) | 1999-10-26 | 2000-10-23 | Contact exposure device provided with a mask and workpiece interval setting means |
| EP00123013A EP1096320B1 (en) | 1999-10-26 | 2000-10-23 | Contact exposure device provided with a mask and workpiece interval setting means |
| DE60027665T DE60027665T2 (de) | 1999-10-26 | 2000-10-23 | Kontaktbelichtungsvorrichtung mit Mittel zum Einstellen eines Abstands zwischen Maske und Werkstück |
| KR1020000063251A KR100554698B1 (ko) | 1999-10-26 | 2000-10-26 | 마스크와 워크의 간격설정수단을 구비한 콘택트 노광장치 |
Applications Claiming Priority (1)
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|---|---|---|---|
| JP30360099A JP3678079B2 (ja) | 1999-10-26 | 1999-10-26 | マスクとワークの間隔設定手段を備えたコンタクト露光装置 |
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|---|---|
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Family
ID=17922961
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| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
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| TW (1) | TW477005B (ja) |
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1999
- 1999-10-26 JP JP30360099A patent/JP3678079B2/ja not_active Expired - Lifetime
-
2000
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- 2000-10-23 US US09/694,030 patent/US6459474B1/en not_active Expired - Lifetime
- 2000-10-23 DE DE60027665T patent/DE60027665T2/de not_active Expired - Lifetime
- 2000-10-26 KR KR1020000063251A patent/KR100554698B1/ko active IP Right Grant
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