JP4642798B2 - 露光装置およびこれを用いてマスクと基板間の間隙を設定する方法 - Google Patents

Description

本発明は露光装置、特にマスクと基板間の間隙を設定する手段を有するプロキシミティ（ｐｒｏｘｉｍｉｔｙ）露光装置およびこれを用いてマスクと基板間の間隙を設定する方法に関するものである。

半導体素子、液晶、有機発光ダイオードなどのような電気素子を製作するため、露光工程が広く使用されている。このような露光工程はフォトエッチングを行う工程の一部であり、フォトレジスト層が形成された基板上に、目的とするパターンを有するマスクを位置させた後、平行光を照射する段階を含む。

このような露光方法としては、マスクと基板を密着した状態で光を照射する密着露光方法と、マスクを基板に対して一定間隙を置いて配置した後、光を照射するプロキシミティ露光方法とがある。

密着露光方法は、基板がマスクに直接接触した状態で、露光が行われるから、マスクに汚染物が付着する可能性が高くなる問題があるが、プロキシミティ露光方法は、基板がマスクと接触していない状態で、露光が行われるので、マスクに汚染物が付着する可能性が低い利点がある。

従来のプロキシミティ露光方法に使用される露光装置として、特許文献１に「基板とマスクの間隙設定方法および間隙設定機構」が開示されており、特許文献２に「マスクと基板の間隙設定装置」が開示されている。このような露光装置は、基板を支持する基板ステージを間隙設定機構で移動させて、マスクとの間隙を設定する装置である。この際、間隙設定機構は、内部に含まれた圧縮スプリングを利用してマスクと基板間の間隙を間接的に調節することになる。

しかし、このような従来の露光装置のマスクと基板間の間隙を設定する方法は、基板ステージと間隙設定機構との間にボールを介在させて支持する。このようなボールと間隙設定機構との間の接触は必然的に摩擦をきたし、よって摩耗が発生することがある。また、マスクと基板間の間隙を間接的に設定するので、実際に露光が実施されるとき、マスクと基板間の間隙が設定値であるかを確認しにくいし、測定時の間隙と露光時の間隙との間に誤差があっても、これを確認または修正することが不可能であるという問題がある。

一方、露光装置において、マスクと基板間に間隙を形成する方法として、金属、樹脂テープ、ボールなどをスペーサとしてマスクと基板間に介挿する方法も知られている。この方法によれば、スペーサの厚さを調節して、マスクと基板間の間隙を任意に調整することができる。しかし、このような方法は、スペーサを介してマスクと基板が接触することになるが、基板上に損傷が発生するおそれがある。
大韓民国公開特許公報第１９９５−４３７１号明細書 大韓民国公開特許公報第１９９７−１６８２３号明細書

そこで、本発明は前記のような従来の問題点に鑑みてなされたもので、マスクと基板間の間隙を正確に設定および調整することができる露光装置を提供することにその目的がある。
また、本発明は、前記露光装置を利用して、マスクと基板間の間隙を設定する方法を提供することに他の目的がある。

前記のような技術的課題を解決するため、本発明の一特徴による露光装置は、マスクを支持するマスクホルダー部、基板を支持する基板ステージ部、前記基板ステージ部を支持するチャックシリンダー部、および前記チャックシリンダー部をＸ軸、Ｙ軸、およびθ軸の方向に移動させるチャックシリンダー駆動部を含む。前記チャックシリンダー部は、上端外周面にスパーギア、下端外周面にネジ部、かつ下端内側に凹部が設けられ、前記凹部の中心に貫通孔が形成されている間隙調節上部ハウジング；前記間隙調節上部ハウジングの下側に位置し、上端内周面に前記間隙調節上部ハウジングのネジ部に対応するネジ部、かつ上部内側に凹部が設けられ、前記凹部の中心に貫通孔が形成されている間隙調節下部ハウジング；前記間隙調節上部ハウジングの貫通孔と前記間隙調節下部ハウジングの貫通孔を通じて上下運動し、前記間隙調節上部ハウジングの凹部の下端と前記間隙調節下部ハウジングの凹部の上端との間に備えられる空間部に位置する拡径部を有する間隙調節シャフト；および供給される空気量によって上昇または下降し、上昇の際、前記間隙調節シャフトを上昇または下降させるシリンダーロッドを含む。前記間隙調節上部ハウジングは、前記スパーギアによって前記ネジ部に沿って回転しながら上部に移動し、前記マスクと前記基板間の間隙を設定する。

本発明の他の特徴による、マスクを支持するマスクホルダー部、および基板を支持する基板ステージ部とともに露光装置を構成するチャックシリンダー部は、下側に凹部を有し、その中心部に貫通孔が設けられた間隙調節上部ハウジング；前記間隙調節上部ハウジングの下側に位置し、上側凹部を有し、その中心部に貫通孔が設けられ、前記間隙調節上部ハウジングとネジ部で連結されている間隙調節下部ハウジング；および前記間隙調節上部ハウジングの貫通孔と前記間隙調節下部ハウジングの貫通孔を通じて上下運動し、前記間隙調節上部ハウジングの下側凹部と前記間隙調節下部ハウジングの上側凹部間の空間部に位置する拡径部を含む間隙調節シャフトを含む。露光装置は、前記間隙調節上部ハウジングと前記間隙調節下部ハウジングのネジ部を相対回転させることにより、前記マスクと前記基板間の間隙を設定する。

本発明のさらに他の特徴による、マスクと基板間の間隙を設定する方法は、前記間隙調節上部ハウジングを前記ネジ部に沿って回転させて、所定距離だけ上昇させ、所定の空気圧を供給して、前記間隙調節シャフトを前記間隙調節上部ハウジングとともに上昇させ、前記基板が前記マスクに接触したとき、前記間隙調節下部ハウジングを固定し、前記空気圧を排出して、前記間隙調節シャフトを前記所定距離だけ下降させることで、前記基板と前記マスク間の前記間隙を設定する。

前述したように、本発明による露光装置を使えば、マスクと基板間の間隙を、チャックシリンダー部の間隙調節上部ハウジングを一定角度に回転させることで、簡単に予め設定することができ、このような間隙設定は肉眼で確認しながら行うことができ、既に設定した間隙も容易に修正することができる。
また、本発明による露光装置においては、チャックシリンダー部が一つのユニットシステムから構成されるので、交換が容易であり、熟練していない使用者であっても容易に露光間隙を調節することができる。

以下、添付図面に基づいて、本発明の実施例について、本発明が属する技術分野で通常の知識を持った者が容易に実施し得るほどに詳細に説明する。しかし、本発明は以降に説明する実施例に限定されず、種々の相異なる様態に具現できる。

まず、図１に基づいて本発明の実施例による露光装置を説明する。
図１は本発明の実施例による露光装置の構成を概略的に示す。
図１に示すように、本発明の実施例による露光装置は、光照射部（図示せず）、マスクホルダー部１００、基板ステージ部２００、チャックシリンダー部３００、チャックシリンダー駆動部４００、および間隙設定維持部５００を含む。
図１は、マスクホルダー部１００により、マスク１１０が基板ステージ部２００上の基板２１０から所定の間隙だけ離れて固定されたままで、光照射部から平行光が照射されている状態を示す。

本発明の実施例において、マスクホルダー部１００と基板ステージ部２００は、真空を利用してマスク１１０と基板２１０をそれぞれ吸着して固定する。マスクホルダー部１００と基板ステージ部２００に真空を加える装置は、特別な制限なしに通常の装置を使用することができ、本発明の明細書ではこれについての具体的な説明は省略する。
チャックシリンダー部３００は基板ステージ部２００を支持し、マスク１１０と基板２１０間の間隙を精密に調節する。

本発明において、チャックシリンダー部３００は、マスク１１０と基板２１０間の間隙を調節する間隙調節機構を含む。
このような間隙調節機構は、下側に凹部が設けられた上部ハウジング、前記上部ハウジングの凹部とともに空間を形成するために、上側に凹部が設けられた下部ハウジング、および前記上部ハウジングと下部ハウジングを貫通し、前記上部ハウジングと下部ハウジングとの間の空間に位置する拡径部を備える間隙調節シャフトを含む。
前記上部ハウジングと下部ハウジングは互いにネジ部で連結され、このようなネジ部を相対的に回転させることにより、上部ハウジングと下部ハウジングとの間の空間が上下方向に拡張または縮小する。

上部ハウジングと下部ハウジング間の空間が拡張する場合、前記シャフトの拡径部は拡張した距離だけ動けることになり、このような距離は、マスク１１０と基板２１０との間の間隙に対応する。

以下、図２に基づいて本発明の実施例による露光装置を具体的に説明する。
図２ａは本発明の実施例による露光装置の分解斜視図、図２ｂは露光装置の正断面図、図２ｃは図１の露光装置の基板ステージ部２００とチャックシリンダー部３００の結合状態を示す断面図である。図２ａおよび図２ｂには、説明の便宜上、本発明の実施例による露光装置を構成する光照射部（図示せず）、マスクホルダー部１００、およびチャックシリンダー駆動部４００は図示されていない。

まず、基板ステージ部２００は、ユニボール２２０およびチャック座２３０を備える。
ユニボール２２０は基板ステージ部２００の下部に備えられ、前記チャック座２３０とともに基板ステージ部２００を平行に維持する。チャック座２３０は前記ユニボール２２０のための収容部を備え、前記ユニボール２２０が回転することにより、前記基板ステージ部２００が平行状態になる。具体的に、マスク１１０と基板２１０が接触するとき、基板ステージ部２００が平行でない場合、チャックシリンダー部３００は、平行でない状態の基板ステージ部２００を押し上げる。前記基板２１０が前記マスク１１０に接触すれば、前記ユニボール２２０は前記チャック座２３０に対して回転することで、前記基板ステージ部２００を前記マスク１１０に対して平行に位置させる。その後、ユニボール２２０が真空で固定されて、前記基板ステージ部２００を平行に維持させる。

チャックシリンダー部３００は、間隙調節上部ハウジング３１０、間隙調節下部ハウジング３２０、間隙調節シャフト３３０、シリンダーロッド３４０、シリンダーボディー３４５、エンドリング３５０、リング３６０、ピストン３７０、およびシリンダーハウジング３８０を含む。
本実施例において、間隙調節上部ハウジング３１０、間隙調節下部ハウジング３２０、および間隙調節シャフト３３０は前述した間隙調節機構に対応する。

前記間隙調節上部ハウジング３１０は、その上端外周面がスパーギア３１３に形成され、その下端外周面にネジ部３１２が形成され、その下端内部に凹部を有し、その凹部中心には、間隙調節シャフト３３０が貫通して移動するように、貫通孔３１１が形成されている。
前記間隙調節上部ハウジング３１０のスパーギア３１３はダイヤルゲージ（図示せず）によって回転できる。具体的な例として、ダイヤルゲージの１回転を１５０μｍにし、１度盛りを２μｍにすることができる。ダイヤルゲージは、回転の時にかみ合う間隙調節上部ハウジング３１０のスパーギア３１３を回転させることで、間隙を設定することができる。この場合、マスク１１０と基板２１０間の間隙は１度盛り単位に調節することができる。

前記間隙調節下部ハウジング３２０は、前記間隙調節上部ハウジング３１０を収容するように、その直径が間隙調節上部ハウジング３１０より大きく形成され、上部内側に凹部を備え、その凹部中心には、間隙調節シャフト３３０が貫通して移動する貫通孔３２１が形成されている。間隙調節下部ハウジング３２０の上端内周面には、間隙調節上部ハウジング３１０の下端外周面のネジ部３１２と対応するネジ部３２２が形成されている。

間隙調節上部ハウジング３１０の凹部の下端と間隙調節下部ハウジング３２０の凹部の上端は、間隙調節シャフト３３０の拡径部３３１が収容される空間を形成する。
このような間隙調節上部ハウジング３１０をスパーギア３１３によって回転させれば、間隙調節上部ハウジング３１０は、間隙調節下部ハウジング３１０と対応して形成されたネジ部３１２に沿って回転しながら、ネジ部３１２によって計算されたピッチだけ上部に移動する。よって、間隙調節上部ハウジング３１０の底面は、間隙調節シャフト３３０の拡径部３３１との接触面から一定距離だけ移動することになる。

このように、間隙調節上部ハウジング３１０の回転により間隙調節シャフト３３０の拡径部３３１との接触面から移動した距離は、マスク１１０と基板２１０間の間隙に対応する。

間隙調節シャフト３３０は、間隙調節上部ハウジングの貫通孔３１１と間隙調節下部ハウジングの貫通孔３２１を通じて上下運動し、間隙調節上部ハウジング３１０の凹部の下端と間隙調節下部ハウジング３２０の凹部の上端間の空間に位置する拡径部３３１を備える。

間隙調節シャフト３３０は、シリンダー空気通路（図示せず）から圧縮空気が供給されれば、シリンダーロッド３４０とともに上昇する。この上昇の際、拡径部３３１は間隙調節上部ハウジング３１０と接触して間隙調節上部ハウジング３１０を同時に上昇させる。この際、間隙調節シャフト３３０の拡径部３３１が間隙調節上部ハウジング３１０と接触するまで移動した距離は、前記間隙調節上部ハウジング３１０の回転によって形成された距離に対応する。一方、間隙調節シャフト３３０は、圧縮空気が排気されれば、自重によって下降することになる。この際、下降距離は、先に間隙調節上部ハウジング３１０の回転によって形成された距離に対応する。一方、間隙調節シャフト３３０の下降によって、基板ステージ部２００も対応する距離だけ下降することになり、その結果、マスク１１０と基板２１０は対応する距離だけ離れることになる。結局、対応する距離はマスク１１０と基板２１０間の間隙と一致する。

シリンダーロッド３４０は間隙調節シャフト３３０と接触し、シリンダー空気通路３９０から空気を受けて上昇する。上昇の際、間隙調節シャフト３３０も上昇させる。シリンダーロッド３４０の上昇は、基板ステージ部２００の基板２１０がマスク１１０に接触するまで行われる。

リング３６０はシリンダーロッド３４０の最大ストロークを制限し、エンドリング３５０はリング３６０が解けることを防止する。具体的に、リング３６０は、シリンダーの上昇の際、最大上昇高さを制限して、シリンダーが一定距離以上に移動しないように制御し、エンドリング３５０は、リング３６０が解けてストロークが変わらないようにする。
ピストン３７０は、シリンダー空気通路３９０から入力される空気圧を利用してシリンダーロッド３４０を上昇または下降させる。

再び図１を参照すれば、チャックシリンダー駆動部４００は、チャックシリンダー部３００をＸ軸、Ｙ軸、およびθ軸の方向に移動して、チャックシリンダー部３００により支持される基板ステージ部２００上の基板２１０がマスク１１０に対応するようにする。
間隙設定維持部５００は、本発明の間隙調節機構を固定させることにより、空気圧が排気されたとき、チャックシリンダー部３００が設定間隙以上に下降することを防止する。

以下、図３ａ〜図３ｃに基づいて間隙設定維持部５００の一例を具体的に説明する。
図３ａおよび図３ｂは本発明の一実施例による露光装置の間隙設定維持部５００の斜視図および側断面図である。図３ｃは間隙設定維持部５００がチャックシリンダー部３００に接合された状態を示す断面図である。

間隙設定維持部５００は間隙調節下部ハウジング３２０を固定させる装置であって、第１プレート型支持部５１０ａ、第２プレート型支持部５１０ｂ、３点基準ピン５２０、板スプリング５３０、凹凸型支持部５４０、およびチューブ５５０を含む。

３点基準ピン５２０は、上部プレート型支持部５１０ａに付着された凹凸型支持部５４０が分離しないように支持する。すなわち、３点基準ピン５２０は凹凸型支持部５４０を支持するとともに、凹凸型支持部５４０の容易な交換ができるようにする。
板スプリング５３０は、チューブ５５０が膨張すれば、凹凸型支持部５４０を押すことになるが、チューブ５５０が空気を排出して収縮する場合、凹凸型支持部５４０を元の状態に戻す。
チューブ５５０は空気圧を受けて膨張し、前記凹凸型支持部５４０が前記間隙調節下部ハウジング３２０を密着して固定する。

凹凸型支持部５４０は、間隙調節下部ハウジング３２０の外側と接触して間隙調節下部ハウジング３２０を固定する。
間隙設定維持部５００は間隙調節下部ハウジング３２０を固定することにより、間隙調節シャフト３３０の下降の際、間隙調節シャフト３３０の下降距離が既設定間隙を超過しないようにする。具体的に、間隙設定維持部５００は、間隙調節下部ハウジング３２０を固定させることになり、この際、間隙調節シャフト３３０の拡径部３３１は間隙調節下部ハウジング３２０の上部凹部に接触して、それ以上下降しなくなる。この際、間隙調節シャフト３３０の拡径部３３１と間隙調節上部ハウジング３１０の底面間の距離はマスク１１０と基板２１０間の間隙に対応する。

以下、図４および図５に基づいて、本発明の実施例による露光装置を利用してマスクと基板間の間隙を調節する方法を説明する。
まず、マスクパターンが形成されたマスク１１０をマスクホルダー部１００に真空で吸着して固定する。そして、基板２１０を基板ステージ部２００に真空で吸着して固定した後、チャックシリンダー駆動部４００により、基板２１０をＸ軸、Ｙ軸、およびθ軸の方向に移動してマスク１１０に対応するように配置させる。この際、ＣＣＤカメラなどによってマスク１１０と基板２１０の中心の一致を確認しながら基板２１０を移動させることができる。

ついで、間隙調節機構により、マスクと基板間の間隙を設定する。図４ａは間隙調節機構を構成する間隙調節上部ハウジング３１０、間隙調節下部ハウジング３２０、および間隙調節シャフト３３０の間隙設定前の配置を示す。
まず、スパーギア３１３を利用して、間隙調節上部ハウジング３１０をネジ部３１２に沿って、間隙調節下部ハウジング３２０のネジ部３２２に対応するように回転させることで、目的とする距離（ギャップ）だけ上昇させる。この際、間隙調節上部ハウジング３１０の上昇距離はマスク１１０と基板２１０間の間隙に対応する。図４ｂは所定の設定ギャップだけ間隙調節上部ハウジング３１０が間隙調節下部ハウジング３２０に対して上昇した状態を示す。ここで、間隙調節シャフト３３０の拡径部３３１と間隙調節上部ハウジング３１０間の間隔が設定ギャップに対応する。

ここで、間隙調節上部ハウジング３１０の上昇距離、つまりマスク１１０と基板２１０間の間隙は具体的に調節することができる。具体的に、間隙調節上部ハウジング３１０のスパーギア３１３を１回転だけ回転させれば１５０μｍ移動すると仮定すれば、スパーギア３１３の回転角度を調節して１〜２μｍだけ移動するように設定することができる。このように、本発明の露光装置は、マスク１１０と基板２１０間の間隙を間隙調節上部ハウジング３１０と間隙調節下部ハウジング３２０のネジ部３１２、３２２のピッチ調節で決めることができる。ここで、ネジ部３１２、３２２の回転は、ギアを回転させることによりかみ合って回転するダイヤルゲージなどを利用して、実際の間隙設定距離を肉眼で確認しながら調節するように構成することができる。

このように、間隙調節上部ハウジング３１０の上昇により、間隙調節上部ハウジング３１０と間隙調節シャフト３３０の拡径部３３１との間に所定の間隙（ギャップ）が設定されれば、シリンダー空気通路を通じて空気圧が供給され、それによりピストン３７０によってシリンダーロッド３４０および間隙調節シャフト３３０が上昇することになる。
この際、間隙調節シャフト３３０が上昇し、間隙調節シャフト３３０の拡径部３３１が間隙調節上部ハウジング３１０と接触することになり、それにより間隙調節上部ハウジング３１０と間隙調節下部ハウジング３２０を一緒に上昇させる。この際、チャックシリンダー部３００は、基板２１０がマスク１１０に接触するまで上昇する。図５ａはチャックシリンダー部３００が上昇したときの状態を示す。

図５ａに示すように、前記設定間隙は間隙設定シャフト３３０の拡径部３３１と間隙調節下部ハウジング３２０との間に形成される。
チャックシリンダー部３００が上昇すれば、間隙設定維持部５００は間隙調節下部ハウジング３２０を、シリンダーボディ３４５を介して支持して固定する。この際、間隙設定維持部５００のチューブ５５０は、圧縮空気を受けて膨張して凹凸型支持部５４０を押すことで、間隙調節下部ハウジング３２０を支持するシリンダーボディ３４５を堅く固定する。
その後、シリンダー空気通路を通じて空気が排出されれば、シリンダーロッド３４０および間隙調節シャフト３３０が下降することになる。間隙調節シャフト３３０が一定距離下降し、拡径部３３１が間隙調節下部ハウジング３２０に接触すれば、間隙調節下部ハウジング３２０は、シリンダーボディ３４５が間隙設定維持部５００によって固定されているので、それ以上に下降することができなくなる。

したがって、チャックシリンダー部３００によって支持される基板ステージ部２００上の基板２１０はマスク１１０から一定間隙だけ離れる。この際、マスク１１０と基板２１０間の間隙は、チャックシリンダー部３００の間隙調節上部ハウジング３１０と間隙調節シャフト３３０との間に既設定された距離に対応することになる。図５ｂはチャックシリンダー部３００が下降したときの状態を示す。

図５ｂに示すように、間隙調節シャフト３３０は設定間隙だけ下降し、間隙調節シャフト３３０の下降距離の分だけ、基板２１０がマスク１１０から離れることになる。
一方、本発明の実施例による露光装置は、マスク１１０と基板２１０間の間隙を設定して維持するだけでなく、平行補正を実施する。

以下、図６に基づいて、本発明の実施例による露光装置における基板ステージ部２００とマスク１１０との平行補正方法を説明する。
図６ａに示すように、マスク１１０に対して基板ステージ部２００が平行でない場合、チャックシリンダー部３００は、平行でない状態の基板ステージ部２００を押し上げ、前記基板２１０が前記マスク１１０に接触すれば、前記ユニボール２２０は前記チャック座２３０に対して回転して、前記基板ステージ部２００を前記マスク１１０に対して平行になるように位置させる。その後、ユニボール２２０が真空で固定されて前記基板ステージ部２００を平行に維持させる。図６ｂはマスク１１０に対して基板ステージ部２００が平行に維持された状態を示す。

以上本発明の好ましい実施例について説明したが、本発明はこれに限定されるものではなく、種々の形態に変形して実施することができ、これも本発明の範囲に属するものである。

本発明は、マスクと基板間の間隙を設定する手段を有するプロキシミティ（ｐｒｏｘｉｍｉｔｙ）露光装置およびこれを用いてマスクと基板間の間隙を設定する方法に適用可能である。

本発明の一実施例による露光装置を概略的に示す正面図である。 図１の露光装置の分解斜視図である。 図１の露光装置の分解断面図である。 図１の露光装置の基板ステージ部とチャックシリンダー部の結合された状態を示す断面図である。 図１の露光装置の間隙設定維持部の斜視図である。 図１の露光装置の間隙設定維持部の側断面図である。 図１の露光装置の間隙設定維持部がチャックシリンダー部に接合された状態を示す断面図である。 図１の間隙調節上部ハウジング、間隙調節下部ハウジング、および間隙調節シャフトの間隙設定前の配置を示す断面図である。 図１の間隙調節上部ハウジング、間隙調節下部ハウジング、および間隙調節シャフトの間隙設定後の配置を示す断面図である。 図１の露光装置を利用して間隙を設定する各段階を示す断面図である。 図１の露光装置を利用して間隙を設定する各段階を示す断面図である。 図１の露光装置の平行補正段階を示す断面図である。 図１の露光装置の平行補正段階を示す断面図である。

符号の説明

１００ マスクホルダー部
１１０ マスク
２００ 基板ステージ部
２１０ 基板
２２０ ユニボール
２３０ チャック座
３００ チャックシリンダー部
４００ チャックシリンダー駆動部
５００ 間隙設定維持部
３１０ 間隙設定上部ハウジング
３１３ スパーギア
３２０ 間隙設定下部ハウジング
３３０ 間隙調節シャフト
３３１ 拡径部
３４０ シリンダーロッド
３４５ シリンダーボディー
３５０ エンドリング
３６０ リング
３７０ ピストン
３８０ シリンダーハウジング
５１０ａ 第１プレート型支持部
５１０ｂ 第２プレート型支持部
５２０ ３点基準ピン
５３０ 板スプリング
５４０ 凹凸型支持部
５５０ チューブ

Claims (8)

1. マスクを支持するマスクホルダー部、基板を支持する基板ステージ部、前記基板ステージ部を支持するチャックシリンダー部、および前記チャックシリンダー部をＸ軸、Ｙ軸、およびθ軸の方向に移動させるチャックシリンダー駆動部を含む露光装置において、
   前記チャックシリンダー部は、
   上端外周面にスパーギア、下端外周面にネジ部、かつ下端内側に凹部が設けられ、前記凹部の中心に貫通孔が形成されている間隙調節上部ハウジング；
   前記間隙調節上部ハウジングの下側に位置し、上端内周面に前記間隙調節上部ハウジングのネジ部に螺合するネジ部、かつ上部内側に凹部が設けられ、前記凹部の中心に貫通孔が形成されている間隙調節下部ハウジング；
   前記間隙調節上部ハウジングの貫通孔と前記間隙調節下部ハウジングの貫通孔を通じて上下運動し、前記間隙調節上部ハウジングの凹部の下端と前記間隙調節下部ハウジングの凹部の上端との間に備えられる空間部に位置する拡径部を有する間隙調節シャフト；
   間隙調節下部ハウジングの上下動を許容および禁止する間隙設定維持部；および
   供給される空気量によって上昇または下降し、上昇の際、前記間隙調節シャフトを上昇させるシリンダーロッド；
   を含み、
   前記間隙調節上部ハウジングは、前記スパーギアによって前記間隙調節下部ハウジングのネジ部に沿って回転しながら上部に移動し、前記マスクと前記基板間の間隙を設定することを特徴とする、露光装置。
   
2. 前記空間部の高さと前記拡径部の厚さとの間の差が前記マスクと前記基板間の間隙に対応することを特徴とする、請求項１に記載の露光装置。
3. 前記間隙調節下部ハウジングを固定することにより、前記チャックシリンダー部が下降するとき、前記間隙以上に下降することを防止する間隙設定維持部をさらに含むことを特徴とする、請求項１に記載の露光装置。
4. 前記間隙設定維持部が、
   前記間隙調節下部ハウジングの外側と接触して固定する凹凸型支持部、
   前記凹凸型支持部背面に位置し、空気を受けて膨張する場合に、前記凹凸型支持部に圧力を加えるチューブ、
   前記チューブの収縮の際、前記凹凸型支持部を元の位置に戻す板スプリング、および
   前記凹凸型支持部が、凹凸型支持部を支持する第１及び第２プレート型支持部から分離することを防止する３点基準ピン、
   を含むことを特徴とする、請求項３に記載の露光装置。
   
5. 前記基板ステージ部の下部に位置し、回転して前記基板ステージ部を平行に調節するユニボール；および
   前記ユニボールを収容するための収容部；
   を前記基板ステージ部と前記チャックシリンダー部との間にさらに含むことを特徴とする、請求項１に記載の露光装置。
6. マスクを支持するマスクホルダー部、および基板を支持する基板ステージ部とともに露光装置を構成するチャックシリンダー部において、
   前記チャックシリンダー部は前記基板ステージ部を支持し、
   下側に凹部を有し、その中心部に貫通孔が設けられた間隙調節上部ハウジング；
   前記間隙調節上部ハウジングの下側に位置し、上側凹部を有し、その中心部に貫通孔が設けられ、前記間隙調節上部ハウジングとネジ部で連結されている間隙調節下部ハウジング；
   間隙調節下部ハウジングの上下動を許容および禁止する間隙設定維持部；および
   前記間隙調節上部ハウジングの貫通孔と前記間隙調節下部ハウジングの貫通孔を通じて上下運動し、前記間隙調節上部ハウジングの下側凹部と前記間隙調節下部ハウジングの上側凹部間の空間部に位置する拡径部を含む間隙調節シャフト；
   を含み、
   前記間隙調節上部ハウジングと前記間隙調節下部ハウジングのネジ部を相対回転させることにより、前記マスクと前記基板間の間隙を設定することを特徴とする、チャックシリンダー部。
   
7. 前記空間部の高さと前記拡径部の厚さとの間の差が前記マスクと前記基板間の間隙に対応することを特徴とする、請求項６に記載のチャックシリンダー部。
8. 請求項第１ないし５のいずれか１項による露光装置を利用してマスクと基板間の間隙を設定する方法において、
   前記間隙調節上部ハウジングを前記ネジ部に沿って回転させて、所定距離だけ上昇させ、
   所定の空気圧を供給して、前記間隙調節シャフトを前記間隙調節上部ハウジングとともに上昇させ、
   前記基板が前記マスクに接触したとき、前記間隙調節下部ハウジングを固定し、
   前記空気圧を排出して、前記間隙調節シャフトを前記所定距離だけ下降させることで、前記基板と前記マスク間の前記間隙を設定することを特徴とする、マスクと基板間の間隙設定方法。

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