JP2000058420A - 露光装置におけるマスクステージの取り付け構造 - Google Patents
露光装置におけるマスクステージの取り付け構造Info
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- G03F7/70—Microphotolithographic exposure; Apparatus therefor
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- G03F7/70975—Assembly, maintenance, transport or storage of apparatus
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- G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
- G03F7/70—Microphotolithographic exposure; Apparatus therefor
- G03F7/70691—Handling of masks or workpieces
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- Exposure And Positioning Against Photoresist Photosensitive Materials (AREA)
- Exposure Of Semiconductors, Excluding Electron Or Ion Beam Exposure (AREA)
Abstract
(57)【要約】
【課題】 露光装置において、マスクステージの交換、
所定の位置への固定を容易に行えるようにすること。 【解決手段】 基台ＢＰ１上の左右に平行に前後方向に
移動可能な２本のレール１１を取り付け、レール１１に
段差部を設ける。また、レール１１上に上下動可能に支
持され、上記レール１１が前後方向に移動したとき段差
部により上下方向に駆動される脚２１を取り付け、脚２
１上にマスクステージを支持する２本のガイド２２を設
ける。さらに、基台ＢＰ１上にガイド１１上に載置され
たマスクステージを真空吸着により保持するマスクステ
ージ吸着固定部３１を設ける。マスクステージを取り付
けるには、ガイド２２を上昇させてガイド２２上にマス
クステージを載置し、脚２１を下降させて、マスクステ
ージＭＳをマスクステージ吸着固定部３１により吸着固
定する。
所定の位置への固定を容易に行えるようにすること。 【解決手段】 基台ＢＰ１上の左右に平行に前後方向に
移動可能な２本のレール１１を取り付け、レール１１に
段差部を設ける。また、レール１１上に上下動可能に支
持され、上記レール１１が前後方向に移動したとき段差
部により上下方向に駆動される脚２１を取り付け、脚２
１上にマスクステージを支持する２本のガイド２２を設
ける。さらに、基台ＢＰ１上にガイド１１上に載置され
たマスクステージを真空吸着により保持するマスクステ
ージ吸着固定部３１を設ける。マスクステージを取り付
けるには、ガイド２２を上昇させてガイド２２上にマス
クステージを載置し、脚２１を下降させて、マスクステ
ージＭＳをマスクステージ吸着固定部３１により吸着固
定する。
Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】半導体装置やプリント基板、
ＬＣＤの製造等には、紫外光を含む露光光をマスクを介
してワーク上に照射し、マスクパターンをワーク上に転
写する露光工程が行われる。本発明は、上記した露光工
程に使用される露光装置におけるマスクステージの取り
付け構造に関する。
ＬＣＤの製造等には、紫外光を含む露光光をマスクを介
してワーク上に照射し、マスクパターンをワーク上に転
写する露光工程が行われる。本発明は、上記した露光工
程に使用される露光装置におけるマスクステージの取り
付け構造に関する。
【０００２】
【従来の技術】上記露光装置としては、マスクとワーク
を接近させてマスクパターンをワーク上に転写するプロ
キシミティ露光装置、マスクとワークを接触させてマス
クパターンをワーク上に転写するコンタクト露光装置、
マスクパターンを投影レンズを介してワーク上に転写す
る投影露光装置が使用される。以下、プロキシミティ露
光装置、コンタクト露光装置（以下単に露光装置とい
う）を例として、従来技術について説明する。図９は従
来の露光装置の構成を示す図である。同図において、マ
スクステージＭＳは第１の基台ＢＰ１１（ベースプレー
ト、以下基台という）上に固定ねじ等により取り付けら
れている。マスクステージＭＳには真空吸着溝ＶＳが設
けられており、該真空吸着溝ＶＳに真空通路Ｖ１、真空
用配管Ｖ２を介して真空が供給され、マスクＭがマスク
ステージＭＳに吸着固定される。ＷＳはワークステージ
であり、ワークステージＷＳ上にはワークＷが載置さ
れ、図示しない真空吸着機構等によりワークＷが吸着固
定される。ワークステージＷＳは、マスクＭとワークＷ
の平行出しを行う間隙設定機構ＧＳ、ＸＹθステージＳ
Ｔ１、ＺステージＳＴ２を介して第２の基台ＢＰ１２に
取り付けられている。
を接近させてマスクパターンをワーク上に転写するプロ
キシミティ露光装置、マスクとワークを接触させてマス
クパターンをワーク上に転写するコンタクト露光装置、
マスクパターンを投影レンズを介してワーク上に転写す
る投影露光装置が使用される。以下、プロキシミティ露
光装置、コンタクト露光装置（以下単に露光装置とい
う）を例として、従来技術について説明する。図９は従
来の露光装置の構成を示す図である。同図において、マ
スクステージＭＳは第１の基台ＢＰ１１（ベースプレー
ト、以下基台という）上に固定ねじ等により取り付けら
れている。マスクステージＭＳには真空吸着溝ＶＳが設
けられており、該真空吸着溝ＶＳに真空通路Ｖ１、真空
用配管Ｖ２を介して真空が供給され、マスクＭがマスク
ステージＭＳに吸着固定される。ＷＳはワークステージ
であり、ワークステージＷＳ上にはワークＷが載置さ
れ、図示しない真空吸着機構等によりワークＷが吸着固
定される。ワークステージＷＳは、マスクＭとワークＷ
の平行出しを行う間隙設定機構ＧＳ、ＸＹθステージＳ
Ｔ１、ＺステージＳＴ２を介して第２の基台ＢＰ１２に
取り付けられている。
【０００３】ＸＹθステージＳＴ１はワークステージＷ
ＳをＸＹθ方向（Ｘは例えば同図の左右方向、Ｙは紙面
に対して垂直方向、θはＸＹ平面に垂直な軸を中心とし
た回転）に駆動し、ＺステージＳＴ２はワークステージ
ＷＳを上下方向に駆動する。マスクＭ上にはアライメン
ト用顕微鏡ＡＵが設けられており、アライメント用顕微
鏡ＡＵによりマスクＭに記されたマスクアライメントマ
ークと、ワークＷに記されたワークアライメントマーク
を検出し、マスクＭとワークＷの位置合わせを行う。Ｌ
Ｏは露光光出射口であり、図示しない光源から放出され
る露光光はコリメータレンズＬにより平行光とされて露
光光出射口ＬＯから放出され、マスクＭを介してワーク
Ｗに照射される。
ＳをＸＹθ方向（Ｘは例えば同図の左右方向、Ｙは紙面
に対して垂直方向、θはＸＹ平面に垂直な軸を中心とし
た回転）に駆動し、ＺステージＳＴ２はワークステージ
ＷＳを上下方向に駆動する。マスクＭ上にはアライメン
ト用顕微鏡ＡＵが設けられており、アライメント用顕微
鏡ＡＵによりマスクＭに記されたマスクアライメントマ
ークと、ワークＷに記されたワークアライメントマーク
を検出し、マスクＭとワークＷの位置合わせを行う。Ｌ
Ｏは露光光出射口であり、図示しない光源から放出され
る露光光はコリメータレンズＬにより平行光とされて露
光光出射口ＬＯから放出され、マスクＭを介してワーク
Ｗに照射される。
【０００４】図１０は上記露光装置による露光処理を説
明する図であり、同図を参照しながら上記露光装置によ
る露光処理の概要を説明する。 （１）図１０（ａ）に示すように、マスクステージＭＳ
に回路等のマスクパターンが形成されたマスクＭを載置
し、真空吸着等により固定する。また、ワークステージ
ＷＳにワークＷを載置し、同様に真空吸着等により固定
する。 （２）図１０（ｂ）に示すように、ＺステージＳＴ２に
よりりークステージＷＳを上昇させ、ワークＷをマスク
Ｍに押し付ける。これにより、間隙設定機構ＧＳによっ
てマスクＭに対するワークＷの平行調整が行なわれる
（なお、間隙設定機構の動作については例えば特開平７
−７４０９６号等を参照されたい）。 （３）ＺステージＳＴ２がアライメントギャップまで所
定量下降する。アライメント顕微鏡ＡＵによって、マス
クＭとワークＷに設けられたアライメントマークを検出
し、マスクステージＭＳもしくはワークステージＷＳを
ＸＹθステージＳＴ１により移動させて、マスクＭとワ
ークＷとの位置合わせを行う。 （４）コンタクト露光であれば、再びＺステージＳＴ２
が上昇し、マスクＭとワークＷＳとを密着させ、露光光
出射口ＬＯからマスクＭを介してワークＷに露光光を含
む光を照射し露光する。 （５）プロキシミティ露光であれば、図１０（ｃ）に示
すようにＺステージＳＴ２が露光ギャップまで所定量移
動し、マスクＭとワークＷの間隙を設定して、露光光出
射口ＬＯからマスクＭを介してワークＷに露光光を含む
光を照射し露光する。
明する図であり、同図を参照しながら上記露光装置によ
る露光処理の概要を説明する。 （１）図１０（ａ）に示すように、マスクステージＭＳ
に回路等のマスクパターンが形成されたマスクＭを載置
し、真空吸着等により固定する。また、ワークステージ
ＷＳにワークＷを載置し、同様に真空吸着等により固定
する。 （２）図１０（ｂ）に示すように、ＺステージＳＴ２に
よりりークステージＷＳを上昇させ、ワークＷをマスク
Ｍに押し付ける。これにより、間隙設定機構ＧＳによっ
てマスクＭに対するワークＷの平行調整が行なわれる
（なお、間隙設定機構の動作については例えば特開平７
−７４０９６号等を参照されたい）。 （３）ＺステージＳＴ２がアライメントギャップまで所
定量下降する。アライメント顕微鏡ＡＵによって、マス
クＭとワークＷに設けられたアライメントマークを検出
し、マスクステージＭＳもしくはワークステージＷＳを
ＸＹθステージＳＴ１により移動させて、マスクＭとワ
ークＷとの位置合わせを行う。 （４）コンタクト露光であれば、再びＺステージＳＴ２
が上昇し、マスクＭとワークＷＳとを密着させ、露光光
出射口ＬＯからマスクＭを介してワークＷに露光光を含
む光を照射し露光する。 （５）プロキシミティ露光であれば、図１０（ｃ）に示
すようにＺステージＳＴ２が露光ギャップまで所定量移
動し、マスクＭとワークＷの間隙を設定して、露光光出
射口ＬＯからマスクＭを介してワークＷに露光光を含む
光を照射し露光する。
【０００５】次に上記露光装置における従来のマスクス
テージＭＳの取り付け構造について説明する。通常、マ
スクステージＭＳは、図１１に示すように、固定ねじ１
０１によって、基台ＢＰ１１に設けられたねじ孔１０２
にねじ止めされる。図１１は、マスクステージＭＳの上
面にマスクＭを取り付ける例であるが、マスクＭはマス
クステージＭＳの下面に取り付けてもよい。マスクステ
ージＭＳには、露光光が通過する開口部が設けられてい
る。前記した図９の場合、露光光出射光ＬＯから出射さ
れた露光光は、マスクＭを介して上記開口部を通過し、
ワークＷに照射される。
テージＭＳの取り付け構造について説明する。通常、マ
スクステージＭＳは、図１１に示すように、固定ねじ１
０１によって、基台ＢＰ１１に設けられたねじ孔１０２
にねじ止めされる。図１１は、マスクステージＭＳの上
面にマスクＭを取り付ける例であるが、マスクＭはマス
クステージＭＳの下面に取り付けてもよい。マスクステ
ージＭＳには、露光光が通過する開口部が設けられてい
る。前記した図９の場合、露光光出射光ＬＯから出射さ
れた露光光は、マスクＭを介して上記開口部を通過し、
ワークＷに照射される。
【０００６】マスクステージＭＳの基台への位置決め
は、図１１に示すようにマスクステージＭＳに取り付け
たボールプランジャ１０３と、基台ＢＰ１１に取り付け
たＶ溝体１０４によってなされる。ボールプランジャ１
０３とＶ溝体１０４は３個所に設けられ、基台ＢＰ１１
に対してマスクステージＭＳは３点支持される。ボール
プランジャ１０３は、図１２に示すように、先端にボー
ル１０３ａを設けた部材であり、先端のボール１０３ａ
がＶ溝体１０４のＶ溝部分に接することにより位置決め
される。したがって、ボールプランジャ１０３のマスク
ステージＭＳへのねじ込み量を調整することにより、マ
スクステージＭＳがあおられ、露光光の光軸に対するマ
スクＭの直角度の調整ができる。
は、図１１に示すようにマスクステージＭＳに取り付け
たボールプランジャ１０３と、基台ＢＰ１１に取り付け
たＶ溝体１０４によってなされる。ボールプランジャ１
０３とＶ溝体１０４は３個所に設けられ、基台ＢＰ１１
に対してマスクステージＭＳは３点支持される。ボール
プランジャ１０３は、図１２に示すように、先端にボー
ル１０３ａを設けた部材であり、先端のボール１０３ａ
がＶ溝体１０４のＶ溝部分に接することにより位置決め
される。したがって、ボールプランジャ１０３のマスク
ステージＭＳへのねじ込み量を調整することにより、マ
スクステージＭＳがあおられ、露光光の光軸に対するマ
スクＭの直角度の調整ができる。
【０００７】ところで、処理するワークＷの大きさ、形
状は種々様々であり、例えばワークＷがウェハの場合、
φ１００ｍｍ、φ１２５ｍｍ、φ１５０ｍｍ等の大きさ
があり、形状もウェハのような円形のものや四角形のも
のもある。これら処理するワークＷの大きさや形状が異
なっても、共通の装置を使うことができれば便利であ
る。しかし、ワークＷの大きさ、形状が変わると、露光
光を照射する面積・形状も異なるので、マスクＭの大き
さ・形状も異なり、マスクＭを保持するマスクステージ
ＭＳも、照射面積・形状に応じた開口部の大きさを持つ
ものに変える必要がある。また、マスクステージＭＳだ
けではなく、ワークＷの大きさ・形状に合わせて、ワー
クステージＷＳを交換する必要がある場合もある。
状は種々様々であり、例えばワークＷがウェハの場合、
φ１００ｍｍ、φ１２５ｍｍ、φ１５０ｍｍ等の大きさ
があり、形状もウェハのような円形のものや四角形のも
のもある。これら処理するワークＷの大きさや形状が異
なっても、共通の装置を使うことができれば便利であ
る。しかし、ワークＷの大きさ、形状が変わると、露光
光を照射する面積・形状も異なるので、マスクＭの大き
さ・形状も異なり、マスクＭを保持するマスクステージ
ＭＳも、照射面積・形状に応じた開口部の大きさを持つ
ものに変える必要がある。また、マスクステージＭＳだ
けではなく、ワークＷの大きさ・形状に合わせて、ワー
クステージＷＳを交換する必要がある場合もある。
【０００８】従来、ワークＷ、マスクＭの変換に伴うマ
スクステージＭＳ、ワークステージＷＳの交換は次のよ
うに行われていた。 （１）図９に示したマスクステージＭＳのマスク吸着用
真空配管Ｖ２に供給されている真空を止め、マスクＭを
マスクステージＭＳから取り外す。 （２）マスクステージＭＳを基台ＢＰ１１に固定してい
る固定ねじ１０１をゆるめて取り外し、マスクステージ
ＭＳを基台から取り外す（図１１参照）。 （３）必要であれば、間隙設定機構ＧＳ上に取付けられ
ているワークステージＷＳを交換する。 （４）新たなマスクステージＭＳを基台ＢＰ１１に載
せ、ボールプランジャ１０３によってあおり調整を行
い、固定ねじ１０１を締めて固定する（図１１参照）。 （５）新たなマスクＭをマスクステージＭＳに載置し、
マスクステージＭＳにマスク吸着固定用の真空を供給し
マスクＭを固定する。
スクステージＭＳ、ワークステージＷＳの交換は次のよ
うに行われていた。 （１）図９に示したマスクステージＭＳのマスク吸着用
真空配管Ｖ２に供給されている真空を止め、マスクＭを
マスクステージＭＳから取り外す。 （２）マスクステージＭＳを基台ＢＰ１１に固定してい
る固定ねじ１０１をゆるめて取り外し、マスクステージ
ＭＳを基台から取り外す（図１１参照）。 （３）必要であれば、間隙設定機構ＧＳ上に取付けられ
ているワークステージＷＳを交換する。 （４）新たなマスクステージＭＳを基台ＢＰ１１に載
せ、ボールプランジャ１０３によってあおり調整を行
い、固定ねじ１０１を締めて固定する（図１１参照）。 （５）新たなマスクＭをマスクステージＭＳに載置し、
マスクステージＭＳにマスク吸着固定用の真空を供給し
マスクＭを固定する。
【０００９】
【発明が解決しようとする課題】従来においては、上記
した手順でマスクステージＭＳ、ワークステージＷＳの
交換作業を行っていたので、次のように問題があった。 （１）マスクステージＭＳを取り外すためには、固定ね
じ１０１をすべて取り外さなければならない。 （２）マスクステージＭＳ付近には、マスクＭとワーク
Ｗの位置合わせ用のアライメント顕微鏡ＡＵや、光源部
の露光光出射口ＬＯ等が配置されている。したがって、
マスクステージを交換するために固定ねじ１０１を緩め
て抜き取る、また、固定ねじ１０１を差し込んで締める
などの作業を行う空間が狭く、手やねじ、工具と装置部
品とが接触するなど作業性が悪い。
した手順でマスクステージＭＳ、ワークステージＷＳの
交換作業を行っていたので、次のように問題があった。 （１）マスクステージＭＳを取り外すためには、固定ね
じ１０１をすべて取り外さなければならない。 （２）マスクステージＭＳ付近には、マスクＭとワーク
Ｗの位置合わせ用のアライメント顕微鏡ＡＵや、光源部
の露光光出射口ＬＯ等が配置されている。したがって、
マスクステージを交換するために固定ねじ１０１を緩め
て抜き取る、また、固定ねじ１０１を差し込んで締める
などの作業を行う空間が狭く、手やねじ、工具と装置部
品とが接触するなど作業性が悪い。
【００１０】（３）マスクステージＭＳの装置への挿入
・退避は手動で行うが、マスクステージＭＳは、熱によ
る変形や自重によるたわみ等が生じないように厚く、し
たがって重いので交換の作業性が悪い。 （４）さらに、マスクステージＭＳを装置へ挿入・退避
するとき、アライメント顕微鏡ＡＵや露光光出射口ＬＯ
のコリメータレンズＬに接触する可能性がある。これら
にマスクステージＭＳが接触すると、アライメント顕微
鏡ＡＵやコリメータレンズＬが位置ずれを起こしたり破
損し、位置合わせや露光ができなくなる場合がある。 （５）マスクステージＭＳをねじ止めする締めつけトル
クが大きいとマスクステージＭＳが変形し、マスクの平
面性が悪くなり露光精度に悪影響を及ぼす。マスクステ
ージＭＳを固定する時、ねじの締めつけトルクを一定に
調整する作業に時間がかかる。 本発明は上記した従来技術の問題点を解決するためにな
されたものであって、本発明の目的は、マスクステージ
の交換、所定の位置への固定を変形することなく容易に
行うことができるマスクステージ取付け構造を提供する
ことである。
・退避は手動で行うが、マスクステージＭＳは、熱によ
る変形や自重によるたわみ等が生じないように厚く、し
たがって重いので交換の作業性が悪い。 （４）さらに、マスクステージＭＳを装置へ挿入・退避
するとき、アライメント顕微鏡ＡＵや露光光出射口ＬＯ
のコリメータレンズＬに接触する可能性がある。これら
にマスクステージＭＳが接触すると、アライメント顕微
鏡ＡＵやコリメータレンズＬが位置ずれを起こしたり破
損し、位置合わせや露光ができなくなる場合がある。 （５）マスクステージＭＳをねじ止めする締めつけトル
クが大きいとマスクステージＭＳが変形し、マスクの平
面性が悪くなり露光精度に悪影響を及ぼす。マスクステ
ージＭＳを固定する時、ねじの締めつけトルクを一定に
調整する作業に時間がかかる。 本発明は上記した従来技術の問題点を解決するためにな
されたものであって、本発明の目的は、マスクステージ
の交換、所定の位置への固定を変形することなく容易に
行うことができるマスクステージ取付け構造を提供する
ことである。
【００１１】
【課題を解決するための手段】本発明においては、上記
課題を次のようにして解決する。 （１）基台上に上下動可能に支持された脚部を取り付
け、脚部の上にマスクステージを支持する平行に配置し
た２本のガイドを設ける。また、基台上に、脚部を上下
方向に駆動する駆動機構と、脚部が下方向に駆動された
とき、上記ガイド上に載置されたマスクステージを真空
吸着により保持するマスクステージ吸着固定部とを設け
る。そして、上記脚部を上昇させてガイド上にマスクス
テージを載置し、脚部を下降させて、マスクステージを
上記マスクステージ吸着固定部により吸着固定する。 （２）基台上の左右に平行に該基台上で前後方向に移動
可能な２本のレールを取り付け、２本のレールの表面に
凸部と凹部と、該凸部と凹部との間に形成された斜面と
よりなる段差部を設ける。また、上記２本のレール上に
上下動可能に支持され、上記レールが前後方向に移動し
たとき上記段差部により上下方向に駆動される脚部を取
り付け、脚部上にマスクステージを支持する平行に配置
した２本のガイドを設ける。さらに、基台上に上記脚部
が下方向に駆動されたとき、上記ガイド上に載置された
マスクステージを真空吸着により保持するマスクステー
ジ吸着固定部とを設ける。そして、上記（１）と同様
に、上記脚部を上昇させてガイド上にマスクステージを
載置し、脚部を下降させて、マスクステージを上記マス
クステージ吸着固定部により吸着固定する。
課題を次のようにして解決する。 （１）基台上に上下動可能に支持された脚部を取り付
け、脚部の上にマスクステージを支持する平行に配置し
た２本のガイドを設ける。また、基台上に、脚部を上下
方向に駆動する駆動機構と、脚部が下方向に駆動された
とき、上記ガイド上に載置されたマスクステージを真空
吸着により保持するマスクステージ吸着固定部とを設け
る。そして、上記脚部を上昇させてガイド上にマスクス
テージを載置し、脚部を下降させて、マスクステージを
上記マスクステージ吸着固定部により吸着固定する。 （２）基台上の左右に平行に該基台上で前後方向に移動
可能な２本のレールを取り付け、２本のレールの表面に
凸部と凹部と、該凸部と凹部との間に形成された斜面と
よりなる段差部を設ける。また、上記２本のレール上に
上下動可能に支持され、上記レールが前後方向に移動し
たとき上記段差部により上下方向に駆動される脚部を取
り付け、脚部上にマスクステージを支持する平行に配置
した２本のガイドを設ける。さらに、基台上に上記脚部
が下方向に駆動されたとき、上記ガイド上に載置された
マスクステージを真空吸着により保持するマスクステー
ジ吸着固定部とを設ける。そして、上記（１）と同様
に、上記脚部を上昇させてガイド上にマスクステージを
載置し、脚部を下降させて、マスクステージを上記マス
クステージ吸着固定部により吸着固定する。
【００１２】本発明においては、上記のようにマスクス
テージを載置するガイドを設け、該ガイドを上昇させて
マスクステージを載置したのち、ガイドを下降させ、マ
スクステージ吸着固定部によりマスクステージを吸着固
定するように構成したので、ねじによる固定に比べて交
換が容易であり、マスクステージの位置決めを変形する
ことなく容易に行うことができる。また、露光光出射口
やアライメント顕微鏡等を設けた狭い空間に手を入れて
作業する必要がない。さらに、マスクステージの交換が
容易なので、同一の機種において、複数の大きさの異な
るマスクに対して容易に対応が可能となる。
テージを載置するガイドを設け、該ガイドを上昇させて
マスクステージを載置したのち、ガイドを下降させ、マ
スクステージ吸着固定部によりマスクステージを吸着固
定するように構成したので、ねじによる固定に比べて交
換が容易であり、マスクステージの位置決めを変形する
ことなく容易に行うことができる。また、露光光出射口
やアライメント顕微鏡等を設けた狭い空間に手を入れて
作業する必要がない。さらに、マスクステージの交換が
容易なので、同一の機種において、複数の大きさの異な
るマスクに対して容易に対応が可能となる。
【００１３】
【発明の実施の形態】図１は本発明の実施例の装置の全
体構成を示す図であり、同図は、マスクを取り外した状
態の斜視図を示している。同図において、基台ＢＰ１上
には、左右に平行配置されたレール部１１を有する可動
部材１０が取り付けられている。可動部材１０は後述す
るように基台ＢＰ１上に立設されたレール移動位置規制
ピン１１ｂとレール部１１に設けられた長孔１１ａによ
りガイドされ基台ＢＰ１上を前後方向に所定量移動す
る。
体構成を示す図であり、同図は、マスクを取り外した状
態の斜視図を示している。同図において、基台ＢＰ１上
には、左右に平行配置されたレール部１１を有する可動
部材１０が取り付けられている。可動部材１０は後述す
るように基台ＢＰ１上に立設されたレール移動位置規制
ピン１１ｂとレール部１１に設けられた長孔１１ａによ
りガイドされ基台ＢＰ１上を前後方向に所定量移動す
る。
【００１４】図２は上記レール部１１近傍の拡大図、図
３は図１をＡ方向から見た図（ガイド２２が上方に移動
している状態を示している）である。図２、図３に示す
ようにレール部１１には可動部材１０をスムーズに移動
させるための移動用ころ１１ｃと、移動方向を規制する
ための長孔１１ａとが設けられている。一方基台ＢＰ１
上にはレール移動位置規制ピン１１ｂ（以下ピン１１ｂ
と略記する）が立設されており、ピン１１ｂは上記長孔
１１ａと係合している。このため、可動部材１０は上記
長孔１１ａに沿って図２、図３の左右方向に長孔１１ａ
の距離だけ移動する。それぞれのレール部１１の表面に
は、図２、図３に示すように凹部１１ｄと凸部１１ｅと
を一組とする段差部１１ｆが２個所、それぞれのレール
部１１に設けられている。また、凹部１１ｄと凸部１１
ｅとの間には斜面１１ｇが設けられている。さらに、図
２、図３に示すようにそれぞれのレール部１１の各段差
部１１ｆ上には、脚２１が配置される。脚２１は図１に
示すように４本設けられ、マスクステージＭＳを載置す
るガイド２２を支持・固定する。また、脚２１は、図１
の点線で示す固定部材２３により、上下方向にのみに移
動するように案内されている（図２、図３では固定部材
は省略されている）。
３は図１をＡ方向から見た図（ガイド２２が上方に移動
している状態を示している）である。図２、図３に示す
ようにレール部１１には可動部材１０をスムーズに移動
させるための移動用ころ１１ｃと、移動方向を規制する
ための長孔１１ａとが設けられている。一方基台ＢＰ１
上にはレール移動位置規制ピン１１ｂ（以下ピン１１ｂ
と略記する）が立設されており、ピン１１ｂは上記長孔
１１ａと係合している。このため、可動部材１０は上記
長孔１１ａに沿って図２、図３の左右方向に長孔１１ａ
の距離だけ移動する。それぞれのレール部１１の表面に
は、図２、図３に示すように凹部１１ｄと凸部１１ｅと
を一組とする段差部１１ｆが２個所、それぞれのレール
部１１に設けられている。また、凹部１１ｄと凸部１１
ｅとの間には斜面１１ｇが設けられている。さらに、図
２、図３に示すようにそれぞれのレール部１１の各段差
部１１ｆ上には、脚２１が配置される。脚２１は図１に
示すように４本設けられ、マスクステージＭＳを載置す
るガイド２２を支持・固定する。また、脚２１は、図１
の点線で示す固定部材２３により、上下方向にのみに移
動するように案内されている（図２、図３では固定部材
は省略されている）。
【００１５】図４は上記脚２１と固定部材２３の構成を
示す断面図であり、同図（ａ）は脚２１がレール１１の
凹部１１ｄにあるとき、（ｂ）は脚２１がレール１１の
凸部１１ｅあるときを示している。同図に示すように脚
２１は、軸部２１ａと、軸部２１ａの下端に取り付けら
れたころ取り付け部材２１ｂと、ころ取り付け部材２１
ｂに取り付けられたころ２１ｃとからなり、脚２１の上
端にはガイド２２が取り付けられている。また、軸部２
１と固定部材２３との間には、おしばね２１ｄが取付け
られ、軸部２１はころ２１ｃを介してレール１１に押し
付けられている。上記固定部材２３は基台ＢＰ１に固定
され、固定部材２３は軸部２１ａが上下方向以外に移動
しないように保持している。また、固定部材２３と軸部
２１ａの間にはすべり部材２１ｅが設けられおり、軸部
２１ａは上下方向に滑らかに移動する。したがって、上
記２本のレール１１が基台ＢＰ１上を移動すると、脚２
１の軸部２１は、ころ２１ｃによりレール１１の段差部
１１ｆの凹部１１ｄと凸部１１ｅとの間を移動する。
示す断面図であり、同図（ａ）は脚２１がレール１１の
凹部１１ｄにあるとき、（ｂ）は脚２１がレール１１の
凸部１１ｅあるときを示している。同図に示すように脚
２１は、軸部２１ａと、軸部２１ａの下端に取り付けら
れたころ取り付け部材２１ｂと、ころ取り付け部材２１
ｂに取り付けられたころ２１ｃとからなり、脚２１の上
端にはガイド２２が取り付けられている。また、軸部２
１と固定部材２３との間には、おしばね２１ｄが取付け
られ、軸部２１はころ２１ｃを介してレール１１に押し
付けられている。上記固定部材２３は基台ＢＰ１に固定
され、固定部材２３は軸部２１ａが上下方向以外に移動
しないように保持している。また、固定部材２３と軸部
２１ａの間にはすべり部材２１ｅが設けられおり、軸部
２１ａは上下方向に滑らかに移動する。したがって、上
記２本のレール１１が基台ＢＰ１上を移動すると、脚２
１の軸部２１は、ころ２１ｃによりレール１１の段差部
１１ｆの凹部１１ｄと凸部１１ｅとの間を移動する。
【００１６】基台ＢＰ１上の４個所にはマスクステージ
吸着部３１が配置される。図５はマスクステージ吸着部
３１の断面構造を示す図であり、図５（ａ）はマスクス
テージ吸着部３１にマスクステージＭＳが吸着されてい
ない状態、図５（ｂ）はマスクステージ吸着部３１にマ
スクステージＭＳが吸着されている状態を示している。
同図に示すように、マスクステージ吸着部３１の上部に
は吸盤３１ａが取付けられ、真空吸着用の真空が供給で
きるように、内部に真空用通路３１ｂが設けられてい
る。また、４本のマスクステージ吸着部３１の内３本の
マスクステージ吸着部３１の吸盤３１ａの内側には、図
５（ａ）に示すようにマスクステージ位置決め用のＶ溝
３１ｃが設けられている。そして、マスクステージＭＳ
が吸着固定されているとき、図５（ｂ）に示すようにマ
スクステージＭＳのボールプランジャ３２ｂはＶ溝体３
１ｃに係合する。
吸着部３１が配置される。図５はマスクステージ吸着部
３１の断面構造を示す図であり、図５（ａ）はマスクス
テージ吸着部３１にマスクステージＭＳが吸着されてい
ない状態、図５（ｂ）はマスクステージ吸着部３１にマ
スクステージＭＳが吸着されている状態を示している。
同図に示すように、マスクステージ吸着部３１の上部に
は吸盤３１ａが取付けられ、真空吸着用の真空が供給で
きるように、内部に真空用通路３１ｂが設けられてい
る。また、４本のマスクステージ吸着部３１の内３本の
マスクステージ吸着部３１の吸盤３１ａの内側には、図
５（ａ）に示すようにマスクステージ位置決め用のＶ溝
３１ｃが設けられている。そして、マスクステージＭＳ
が吸着固定されているとき、図５（ｂ）に示すようにマ
スクステージＭＳのボールプランジャ３２ｂはＶ溝体３
１ｃに係合する。
【００１７】また、残りの１本のマスクステージ吸着部
３１には、平ブッシュが設けられている。すなわち、マ
スクステージＭＳは基台ＢＰ１に対して３点支持すれば
よいのでマスクステージ吸着部３１の残りの１本は位置
決めに関しては不要であり、残りの１本はマスクステー
ジＭＳの自重たわみが生じないように、マスクステージ
ＭＳを補助的に支える役割をする。また、マスクＭを保
持するマスクステージＭＳには、図６に示すように、マ
スクの位置決め部材３２ａ、マスクＭを吸着固定するた
めの真空吸着溝ＶＳが設けられており、該真空吸着溝Ｖ
Ｓに図示しない真空源から真空が供給され、マスクＭが
マスクステージＭＳに吸着固定される。さらに、マスク
ステージＭＳには上記マスクステージ吸着部３１のＶ溝
３１ｃに対応するボールプランジャ３２ｂが設けられ
る。
３１には、平ブッシュが設けられている。すなわち、マ
スクステージＭＳは基台ＢＰ１に対して３点支持すれば
よいのでマスクステージ吸着部３１の残りの１本は位置
決めに関しては不要であり、残りの１本はマスクステー
ジＭＳの自重たわみが生じないように、マスクステージ
ＭＳを補助的に支える役割をする。また、マスクＭを保
持するマスクステージＭＳには、図６に示すように、マ
スクの位置決め部材３２ａ、マスクＭを吸着固定するた
めの真空吸着溝ＶＳが設けられており、該真空吸着溝Ｖ
Ｓに図示しない真空源から真空が供給され、マスクＭが
マスクステージＭＳに吸着固定される。さらに、マスク
ステージＭＳには上記マスクステージ吸着部３１のＶ溝
３１ｃに対応するボールプランジャ３２ｂが設けられ
る。
【００１８】さらに、前記図１に示したように、４本の
マスクステージ吸着部３１の間の基台ＢＰ１上には、間
隙設定機構ＧＳを介してワークステージ取付部ＷＳｔが
取り付けられており、ワークステージＷＳはねじ等によ
り、上記ワークステージ取付部ＷＳｔに取り付けられ
る。また、基台ＢＰ１の後面側（図１において紙面右）
には垂直に第２の基台ＢＰ２が取り付けられ、第２の基
台ＢＰ２にはマスクステージＭＳの位置を規制するため
のストッパ３３が取り付けられている。
マスクステージ吸着部３１の間の基台ＢＰ１上には、間
隙設定機構ＧＳを介してワークステージ取付部ＷＳｔが
取り付けられており、ワークステージＷＳはねじ等によ
り、上記ワークステージ取付部ＷＳｔに取り付けられ
る。また、基台ＢＰ１の後面側（図１において紙面右）
には垂直に第２の基台ＢＰ２が取り付けられ、第２の基
台ＢＰ２にはマスクステージＭＳの位置を規制するため
のストッパ３３が取り付けられている。
【００１９】次に、本実施例におけるマスクステージの
取り付け／取り外し手順について説明する。 （１）マスクステージＭＳの取り付け手順 (a) マスクが取り付けられていない状態では、前記図
２に示したように、レール１１が装置前面側（図１、図
２、図３において紙面左）に移動している。脚２１の軸
部２１ａのころ２１ｃはレール１１の凸部１１ｅにあ
り、ガイド２２は相対的に高い位置にある。なお、必要
であれば、この状態でワークステージＷＳの交換作業を
行う。 (b) マスクステージＭＳをガイド２２に差込み、ガイド
２２の溝に沿って、図７に示すように後面の基台に取付
けられたストッパ３３に当たるまで挿入する。 (c) マスクステージ吸着部３１に、不図示の真空供給源
から、真空を供給する。
取り付け／取り外し手順について説明する。 （１）マスクステージＭＳの取り付け手順 (a) マスクが取り付けられていない状態では、前記図
２に示したように、レール１１が装置前面側（図１、図
２、図３において紙面左）に移動している。脚２１の軸
部２１ａのころ２１ｃはレール１１の凸部１１ｅにあ
り、ガイド２２は相対的に高い位置にある。なお、必要
であれば、この状態でワークステージＷＳの交換作業を
行う。 (b) マスクステージＭＳをガイド２２に差込み、ガイド
２２の溝に沿って、図７に示すように後面の基台に取付
けられたストッパ３３に当たるまで挿入する。 (c) マスクステージ吸着部３１に、不図示の真空供給源
から、真空を供給する。
【００２０】(d) レール１１を後面側（図１、図２、図
３において紙面右）に移動する。脚２１の軸部２１ａの
端に設けられたころ２１ｃが、凸部１１ｅから斜面に沿
って凹部１１ｄに移動し、ガイド２２が下降する。マス
クステージＭＳは、ガイド２２とともに下降する。 (e) ガイド２２と共にマスクステージＭＳが下降し、マ
スクステージＭＳのボールプランジャ３２ｂの先端が、
図５（ｂ）に示すようにマスクステージ吸着部３１のＶ
溝３１ｃに落ち込み、マスクステージＭＳの位置が決ま
り、吸盤３１ａの部分が減圧となって、マスクステージ
ＭＳは図８に示すように吸着され固定される。 (f) マスクＭをマスクステージＭＳに載置し、マスク位
置決め部材３２ａにマスクを押し当てて位置決めし、真
空吸着によって固定する。 (e) マスクステージＭＳの、光軸方向に対するあおりの
位置調整は、従来技術と同様ボールプランジャ３２ｂの
ねじ込み量によって行う。
３において紙面右）に移動する。脚２１の軸部２１ａの
端に設けられたころ２１ｃが、凸部１１ｅから斜面に沿
って凹部１１ｄに移動し、ガイド２２が下降する。マス
クステージＭＳは、ガイド２２とともに下降する。 (e) ガイド２２と共にマスクステージＭＳが下降し、マ
スクステージＭＳのボールプランジャ３２ｂの先端が、
図５（ｂ）に示すようにマスクステージ吸着部３１のＶ
溝３１ｃに落ち込み、マスクステージＭＳの位置が決ま
り、吸盤３１ａの部分が減圧となって、マスクステージ
ＭＳは図８に示すように吸着され固定される。 (f) マスクＭをマスクステージＭＳに載置し、マスク位
置決め部材３２ａにマスクを押し当てて位置決めし、真
空吸着によって固定する。 (e) マスクステージＭＳの、光軸方向に対するあおりの
位置調整は、従来技術と同様ボールプランジャ３２ｂの
ねじ込み量によって行う。
【００２１】（２）マスクステージＭＳ取はずし手順 (a) マスクステージＭＳのマスクＭを固定する真空吸着
を止め、マスクＭをマスクステージＭＳから取り外す。 (b) マスクステージ吸着部３１の真空の供給を止め、マ
スクステージＭＳの固定を解除する。 (c) レール１１を前面側に移動する。軸部２１ａのころ
２１ｃは凹部１１ｄから斜面１１ｇに沿って上り凸部１
１ｅに移動する。これにより、前記図７に示すようにガ
イド２２はマスクステージＭＳとともに上昇する。 (e) マスクステージＭＳを、ガイド２２に沿ってスライ
ドさせ、装置から取り外す。
を止め、マスクＭをマスクステージＭＳから取り外す。 (b) マスクステージ吸着部３１の真空の供給を止め、マ
スクステージＭＳの固定を解除する。 (c) レール１１を前面側に移動する。軸部２１ａのころ
２１ｃは凹部１１ｄから斜面１１ｇに沿って上り凸部１
１ｅに移動する。これにより、前記図７に示すようにガ
イド２２はマスクステージＭＳとともに上昇する。 (e) マスクステージＭＳを、ガイド２２に沿ってスライ
ドさせ、装置から取り外す。
【００２２】なお、上記実施例では、レール１１に凹部
１１ｄと凸部１１ｅを設け、レール１１を移動させるこ
とによりガイド２２を上昇／下降させる実施例を示した
が、例えば、カムを用いたり、エアシリンダを用いてガ
イド２２を上昇／下降させるように構成してもよい。ま
た、上記実施例では、コンタクト露光装置、プロキシミ
ティ露光装置に本発明を適用した実施例を示したが、本
発明は投影露光装置におけるマスクステージの取り付け
にも適用することもできる。
１１ｄと凸部１１ｅを設け、レール１１を移動させるこ
とによりガイド２２を上昇／下降させる実施例を示した
が、例えば、カムを用いたり、エアシリンダを用いてガ
イド２２を上昇／下降させるように構成してもよい。ま
た、上記実施例では、コンタクト露光装置、プロキシミ
ティ露光装置に本発明を適用した実施例を示したが、本
発明は投影露光装置におけるマスクステージの取り付け
にも適用することもできる。
【００２３】
【発明の効果】以上説明したように本発明においては、
以下の効果を得ることができる。 （１）マスクステージを真空吸着によって保持固定する
ので、ねじによる固定に比べて交換が容易であり、ねじ
止めによるマスクステージの変形も防ぐことができる。
また、露光光出射口やアライメント顕微鏡等を設けた狭
い空間に手を入れて作業する必要がない。 （２）マスタステージの取り付け・取り外しのためのガ
イドを設けたので、マスクステージの位置決めが容易で
あり、また、取り付け取り外しにおける事故を防ぐこと
ができる。 （３）マスクステージの交換を容易に行うことができる
ので、同一の機種において、複数の大きさの異なるマス
クに対して容易に対応が可能となる。
以下の効果を得ることができる。 （１）マスクステージを真空吸着によって保持固定する
ので、ねじによる固定に比べて交換が容易であり、ねじ
止めによるマスクステージの変形も防ぐことができる。
また、露光光出射口やアライメント顕微鏡等を設けた狭
い空間に手を入れて作業する必要がない。 （２）マスタステージの取り付け・取り外しのためのガ
イドを設けたので、マスクステージの位置決めが容易で
あり、また、取り付け取り外しにおける事故を防ぐこと
ができる。 （３）マスクステージの交換を容易に行うことができる
ので、同一の機種において、複数の大きさの異なるマス
クに対して容易に対応が可能となる。
【図１】本発明の実施例の装置の全体構成を示す図であ
る。
る。
【図２】図１においてレール部近傍を拡大した斜視図で
ある。
ある。
【図３】図１をＡ方向から見た図である。
【図４】脚部と固定部材の構成を示す断面図である。
【図５】マスクステージ吸着部の断面構造を示す図であ
る。
る。
【図６】マスクステージの構成を示す図である。
【図７】マスクステージを挿入した状態を示す側面図で
ある。
ある。
【図８】ガイドを下降させマスクステージを吸着固定し
た状態を示す図である。
た状態を示す図である。
【図９】従来の露光装置の構成を示す図である。
【図１０】図９の露光装置による露光処理を説明する図
である。
である。
【図１１】従来の露光装置のマスクステージの構成を示
す図である。
す図である。
【図１２】ボールプランジャの構成を示す図である。
１０ 可動部材 １１ レール部 １１ａ 長孔 １１ｂ レール移動位置規制 １１ｃ 移動用ころ １１ｄ 凹部 １１ｅ 凸部 １１ｆ 段差部 １１ｇ 斜面 ２１ 脚 ２１ａ 軸部 ２１ｂ ころ取り付け部材 ２１ｃ ころ ２１ｄ おしばね ２１ｅ すべり部材 ２２ ガイド ２３ 固定部材 ３１ マスクステージ吸着部 ３１ａ 吸盤 ３１ｂ 真空用通路 ３１ｃ Ｖ溝 ３２ａ マスクの位置決め部材 ３２ｂ ボールプランジャ ３３ ストッパ ＢＰ１ 基台 ＢＰ２ 第２の基台 Ｍ マスク ＭＳ マスクステージ ＶＳ 真空吸着溝 ＷＳ ワークステージ ＷＳｔ ワークステージ取付部 ＧＳ 間隙設定機構
Claims (2)
- 【請求項１】 基台と、基台上に上下動可能に支持され
た脚部と、 上記脚部の上に取付けられマスクステージを支持する平
行に配置した２本のガイドと、 上記脚部を上下方向に駆動する駆動機構と、 マスクを真空吸着等により保持するマスクステージと、 基台上に複数個所設けられ、上記脚部が下方向に駆動さ
れたとき、上記ガイド上に載置されたマスクステージを
真空吸着により保持するマスクステージ吸着固定部とを
備えたことを特徴とする露光装置におけるマスクステー
ジの取り付け構造。 - 【請求項２】 基台と、該基台上の左右に平行に配置さ
れ、該基台上で前後方向に移動可能に取り付けられた２
本のレールと、 上記２本のレールの表面に設けられ、凸部と凹部と、該
凸部と凹部との間に形成された斜面とよりなる段差部
と、 上記２本のレール上に上下動可能に支持され、上記レー
ルが前後方向に移動したとき上記段差部により上下方向
に駆動される脚部と、 脚部の上に取付けられ、マスクステージを支持する平行
に配置した２本のガイドと、 マスクを真空吸着等により保持するマスクステージと基
台上に複数個所設けられ、上記脚部が下方向に駆動され
たとき、上記ガイド上に載置されたマスクステージを真
空吸着により保持するマスクステージ吸着固定部とから
構成されることを特徴とする露光装置におけるマスクス
テージの取り付け構造。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP10226762A JP2000058420A (ja) | 1998-08-11 | 1998-08-11 | 露光装置におけるマスクステージの取り付け構造 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP10226762A JP2000058420A (ja) | 1998-08-11 | 1998-08-11 | 露光装置におけるマスクステージの取り付け構造 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JP2000058420A true JP2000058420A (ja) | 2000-02-25 |
Family
ID=16850226
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP10226762A Pending JP2000058420A (ja) | 1998-08-11 | 1998-08-11 | 露光装置におけるマスクステージの取り付け構造 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP2000058420A (ja) |
Cited By (9)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| EP1220037A2 (en) * | 2000-12-28 | 2002-07-03 | Nikon Corporation | Exposure apparatus and method of manufacturing an exposure apparatus |
| JP2007033751A (ja) * | 2005-07-26 | 2007-02-08 | Nsk Ltd | ステップ式近接露光装置 |
| JP2007220987A (ja) * | 2006-02-17 | 2007-08-30 | Ushio Inc | 平面板の保持体 |
| JP2007288183A (ja) * | 2006-04-12 | 2007-11-01 | Opto Finetech Co Ltd | 露光装置およびこれを用いてマスクと基板間の間隙を設定する方法 |
| WO2011099646A3 (en) * | 2010-02-12 | 2011-10-06 | Nikon Corporation | Manufacturing method of exposure apparatus and device manufacturing method |
| JP2014530481A (ja) * | 2011-09-12 | 2014-11-17 | マッパー・リソグラフィー・アイピー・ビー．ブイ． | リソグラフィシステムのモジュールを垂直方向にリフトするためのアセンブリ及び方法、並びにこのようなアセンブリを有するリソグラフィシステム |
| CN104253067A (zh) * | 2013-06-26 | 2014-12-31 | 三星显示有限公司 | 基板处理装置、沉积装置、基板处理方法及沉积方法 |
| CN104977811A (zh) * | 2014-04-11 | 2015-10-14 | 优志旺电机株式会社 | 曝光装置及其固定方法 |
| CN110039343A (zh) * | 2019-03-28 | 2019-07-23 | 杭州电子科技大学 | 一种用于射流加工的掩膜板夹具 |
-
1998
- 1998-08-11 JP JP10226762A patent/JP2000058420A/ja active Pending
Cited By (17)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
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| US8841065B2 (en) | 2010-02-12 | 2014-09-23 | Nikon Corporation | Manufacturing method of exposure apparatus and device manufacturing method |
| WO2011099646A3 (en) * | 2010-02-12 | 2011-10-06 | Nikon Corporation | Manufacturing method of exposure apparatus and device manufacturing method |
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| KR20150118017A (ko) * | 2014-04-11 | 2015-10-21 | 우시오덴키 가부시키가이샤 | 노광 장치 및 그 고정 방법 |
| JP2015204320A (ja) * | 2014-04-11 | 2015-11-16 | ウシオ電機株式会社 | 露光装置及びその固定方法 |
| TWI641916B (zh) * | 2014-04-11 | 2018-11-21 | 日商牛尾電機股份有限公司 | 曝光裝置及其固定方法 |
| KR102033059B1 (ko) * | 2014-04-11 | 2019-10-16 | 우시오덴키 가부시키가이샤 | 노광 장치 및 그 고정 방법 |
| CN110039343A (zh) * | 2019-03-28 | 2019-07-23 | 杭州电子科技大学 | 一种用于射流加工的掩膜板夹具 |
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Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| A02 | Decision of refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A02 Effective date: 20041019 |