JP2000173898A - 露光装置 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】 【課題】 被露光基板とフォトマスクとを接触させるこ
となく、被露光基板とフォトマスクとの間隙を可能な限
り小さく、かつ、一定にすることができるとともに、被
露光基板とフォトマスクとの間隔の測定および調節を安
価に実現することのできる露光装置を提供する。 【解決手段】 被露光基板１の上方に所定の間隙（Ｇ）
を設けてフォトマスク２が配置される。フォトマスク２
には、被露光基板１に転写すべきフォトマスクパターン
３が設けられている。フォトマスク２の被露光基板１に
重なり合う縁部近傍には、所定の間隔で第２エアー孔と
してのエアー孔４が設けられている。このエアー孔４か
ら、加圧流体としての加圧空気が被露光基板１とフォト
マスク２との間に送出され、被露光基板１に対してフォ
トマスク２が浮上する。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【発明の属する技術分野】この発明は、露光装置に関
し、より特定的には、加圧気体を用いてフォトマスクと
被露光基板との間隔を調節する手段を有する露光装置の
構造に関する。

【０００２】

【従来の技術および発明が解決しようとする課題】近
年、フォトマスクと被露光基板とが接触せず、わずかな
間隙をもって、フォトマスクに描かれたパターンを被露
光基板に露光する方法が広く用いられている。このよう
な露光方法は、オフコンタクト露光方法またはプロキシ
ミティ露光方法と呼ばれている。

【０００３】このオフコンタクト露光方法、または、プ
ロキシミティ露光方法を用いた露光装置においては、フ
ォトマスクと被露光基板との間隙を調節するために、特
殊な間隙測定装置と、この間隙を調整するための駆動装
置とが備えられている。

【０００４】フォトマスクと被露光基板との間隙は、一
般的には０．０５ｍｍ〜０．５ｍｍの範囲内に調節され
る。フォトマスクに描かれたフォトマスクパターンを、
露光によって忠実に基板へ転写するためには、フォトマ
スクと被露光基板との間隙は、可能な限り小さく、また
一定であることが望ましい。

【０００５】しかしながら、フォトマスクおよび被露光
基板の平面度は必ずしも良好であるとは限らない。した
がって、フォトマスクと被露光基板との間隙を小さくし
すぎると、フォトマスクと被露光基板とが部分的に接触
する領域が生じるおそれがある。そのため、従来の露光
装置においては、フォトマスクと被露光基板との間隙
を、ある程度余裕をもって調節する必要があった。

【０００６】また、フォトマスクと被露光基板との間隙
は、複数箇所測定して、調節する必要があるが、この測
定および調節を行うための装置が高価であった。

【０００７】したがって、この発明の目的は、被露光基
板とフォトマスクとを接触させることなく、被露光基板
とフォトマスクとの間隙を可能な限り小さくすることが
できるとともに、被露光基板とフォトマスクとの間隔の
測定および調節を安価に実現することのできる露光装置
を提供することにある。

【０００８】

【課題を解決するための手段】この発明に基づいた露光
装置においては、フォトマスク枠に保持されたフォトマ
スクを通して光を、上記フォトマスクに近接して重ねら
れた被露光基板に照射することにより、上記フォトマス
クに描かれたパターンを上記被露光基板上に転写する露
光装置であって、上記フォトマスクと上記被露光基板と
の間を所定間隙に保持するため、上記フォトマスクと上
記被露光基板との間に加圧気体を供給するための加圧気
体供給装置を備える。

【０００９】このように、フォトマスクと被露光基板と
の間に加圧気体を供給した場合、たとえば被露光基板を
固定的に設けた場合、フォトマスクは被露光基板に対し
て所定間隙を隔てて浮遊した状態になる。また、フォト
マスクと被露光基板との間には必ず加圧気体が存在する
ため、フォトマスクと被露光基板との間隙を可能な限り
小さくした場合でも、フォトマスクと被露光基板とが接
触することがない。その結果、解像度が良好となり、フ
ォトマスクに描かれたフォトマスクパターンを、被露光
基板に正確に転写することが可能になる。

【００１０】また、フォトマスクと被露光基板とを水平
方向に沿って配置する機構を採用する露光装置の場合に
は、自重によりフォトマスクがたわみ、フォトマスクが
被露光基板に接する恐れがあった。しかし、本発明に基
づく露光装置においては、フォトマスクと被露光基板と
の間に加圧気体を供給することにより、フォトマスクの
たわみが下側から加圧気体によって押上げられ、フォト
マスクのたわみの発生を抑制することが可能になる。

【００１１】また、被露光基板にうねりが生じていて
も、フォトマスクは被露光基板に対して一定の間隙をも
って追従する。その結果、フォトマスクの全域にわたっ
て、フォトマスクと被露光基板との間隙を均一すること
が可能になる。

【００１２】また、フォトマスクと被露光基板との間隙
の測定および調節を行うための従来の露光装置において
は、装置に誤動作が生じた場合、フォトマスクと被露光
基板とが接触し、破損する恐れがあったが、本発明に基
づく露光装置においては、フォトマスクと被露光基板と
の間隙は常に加圧気体によって一定に保たれているた
め、フォトマスクおよび被露光基板を破損させることが
ない。

【００１３】また、上記露光装置において、より好まし
い状態で発明を実現するために下記に示す構成が採用さ
れる。

【００１４】まず、上記加圧気体供給装置は、上記加圧
気体を上記被露光基板と上記フォトマスクとの間へ導く
ための第１エアー孔を有する上記フォトマスク枠と、上
記第１エアー孔に連通する第２エアー孔を、縁部に有す
る上記フォトマスクと、上記第１エアー孔に上記加圧気
体を供給するための装置とを備えている。

【００１５】この構成により、フォトマスク枠から第１
エアー孔および第２エアー孔を通じて被露光基板と前記
フォトマスクとの間加圧気体が導かれ、被露光基板に対
してフォトマスクを浮遊させることが可能になる。

【００１６】また、別の好ましい構成としては、上記フ
ォトマスク枠は、上記フォトマスク枠の上記被露光基板
に面する側に、上記フォトマスクの縁部を上記フォトマ
スク枠へ固定するための固定部材を含み、上記固定部材
には、上記フォトマスク枠の上記第１エアー孔に連通す
る第２エアー孔が設けられ、上記固定部材の上記被露光
基板側の面と、上記フォトマスクの上記被露光基板側の
面とは、略面一に設けられている。

【００１７】このように、固定部材の被露光基板側の面
と、フォトマスクの被露光基板側の面とを基準に、それ
ぞれが略面一となるように設けることにより、フォトマ
スクの厚みが不均一の場合や、フォトマスクにうねりが
生じた場合であっても、フォトマスクと被露光基板との
間を均一に保つことが可能になる。

【００１８】また、より好ましくは、上記第１および上
記第２エアー孔は、上記被露光基板に対して傾斜するよ
うに設けられる。たとえば、被露光基板に対して内側に
向くように傾斜させることにより、加圧流体は、被露光
基板の中央部に集中し、被露光基板の中央部の圧力を高
めることになる。

【００１９】その結果、第１および第２エアー孔を被露
光基板に対して略垂直に設けた場合に生じる被露光基板
の中央部の圧力が周囲の圧力に対して負圧となった場合
のフォトマスクの歪みを未然に防止することが可能にな
る。

【００２０】また一方で、たとえば、被露光基板に対し
て外側に向くように傾斜させることにより、加圧流体
は、フォトマスクと被露光基板との間の領域の外側に流
れ、被露光基板の中央部の圧力が低められることにな
る。

【００２１】その結果、第１および第２エアー孔を被露
光基板に対して略垂直に設けた場合に生じる被露光基板
の中央部の圧力が周囲の圧力に対して高圧となった場合
のフォトマスクの歪みを未然に防止することが可能にな
る。

【００２２】また、より好ましくは、上記第２エアー孔
に連通する上記被露光基板側の面には、上記第２エアー
孔に連通する溝が設けられる。

【００２３】このように、第２エアー孔に連通する溝が
設けられていることでフォトマスクと被露光基板との間
に空間を確保することができる。その結果、溝の領域で
第２エアー孔から供給される加圧流体の圧力がフォトマ
スクと被露光基板との間の領域へ加えられるため、フォ
トマスクと被露光基板との密着を未然に防止することが
可能になる。

【００２４】

【発明の実施の形態】以下、この発明に基づいた露光装
置の実施の形態について、図を参照して説明する。

【００２５】まず、図１および図２を参照して、本願発
明の基本原理について説明する。なお、図１は、本実施
の形態における被露光基板１とフォトマスク２との配置
関係を示す平面図であり、図２は、図１中Ｘ−Ｘ’線矢
視断面図である。

【００２６】被露光基板１の上方に所定の間隙（Ｇ）を
設けてフォトマスク２が配置される。フォトマスク２に
は、被露光基板１に転写すべきフォトマスクパターン３
が設けられている。フォトマスク２の被露光基板１に重
なり合う縁部近傍には、所定の間隔で第２エアー孔とし
てのエアー孔４が設けられている。このエアー孔４か
ら、加圧流体としての加圧空気（Ｐ）が被露光基板１と
フォトマスク２との間に送り出されることにより、被露
光基板１に対してフォトマスク２が浮上する。

【００２７】これにより、フォトマスク２と被露光基板
１との間隙を可能な限り一定の間隔に保つことが可能と
なり、また、フォトマスク２と被露光基板１とが接触す
ることがない。その結果、解像度が良好となり、フォト
マスク２に描かれたフォトマスクパターン３を、被露光
基板に正確に転写することが可能になる。

【００２８】次に、上記本願発明の原理を採用した本実
施の形態における露光装置の構造について、図３〜図５
を参照して説明する。なお、図３は、本実施の形態にお
ける露光装置１００の平面図であり、図４は、図３中Ｙ
−Ｙ’線矢視断面図であり、図５は、図３中Ｚ−Ｚ’線
矢視断面図である。

【００２９】本実施の形態における露光装置１００は、
ベース１０１を有し、この１０１の上には、図中Ｘ方向
に移動可能に、被露光基板１を載置するための基板ホル
ダ１０２が設けられる。

【００３０】この基板ホルダ１０２の下面には、ガイド
１０７が設けられ、このガイド１０７は、ベース１０１
上に設けられたＸ方向に延びるガイドレール１０６に沿
って摺動する。また、基板ホルダ１０２の下面には、ボ
ールネジ１０３、１０４が設けられ、ボールネジ１０
３、１０４に連結されたモータ１０５の回転に基づき、
基板ホルダ１０２の位置が制御される。

【００３１】被露光基板１の上方には、フォトマスク２
を保持するためのフォトマスク枠２００が配置される。
フォトマスク枠２００は、ベース１０１に対して、球面
軸受１０８を介在して上下方向に自在に案内可能なよう
に支持される。

【００３２】また、フォトマスク枠２００に対して、フ
ォトマスク２の着脱を容易にするため、ベース１０１に
対してフォトマスク枠２００を上昇させるためのマスク
リフト用エアシリンダ１０９が設けられる。

【００３３】なお、マスクリフト用エアシリンダ１０９
とフォトマスク枠２００との連結部分は、フォトマスク
２が加圧空気により被露光基板１に対して浮上可能とす
るため、フォトマスク枠２００に設けられた貫通孔２０
０ａにマスクリフト用エアシリンダ１０９の軸１０９ａ
が挿入され、フォトマスク枠２００を上下から余裕をも
ってプレート１０９ｂ、１０９ｃにより挟み込むように
設けられる。

【００３４】上述する本実施の形態における露光装置１
００においては、フォトマスク２に設けられるフォトマ
スクパターン３は、基板ホルダ１０２の移動方向に沿う
直線状のパターンが複数本それぞれ並列に配置されてい
る。したがって、フォトマスクパターン３の被露光基板
１への露光行程において、基板ホルダ１０２を移動させ
ることにより、被露光基板１の全体にわたって直線状の
パターンを転写することができる。

【００３５】次に、フォトマスク枠２００のフォトマス
ク２の固定部分（図４中のＡで囲まれる領域）の詳細な
構造について、図６を参照して説明する。なお、図６
は、図３中Ｙ−Ｙ’線矢視断面にしたがった、部分拡大
断面図である。

【００３６】フォトマスク枠２００は、第１プレート２
０１、第２プレート２０２、およびマスク固定具２０３
から構成されている。第１プレート２０１には、加圧空
気（Ｐ）を導入するための導入口２０１ａが設けられ
る。第２プレート２０２には、ヘッダとしてのエアー溝
２０２ａおよびエアー孔２０２ｂが設けられる。導入口
２０１ａ、エアー溝２０２ａおよびエアー孔２０２ｂに
より第１エアー孔を構成する。この第１エアー孔に、フ
ォトマスク２に設けられるエアー孔４が連通する。ま
た、マスク固定金具２０３により、フォトマスク２の端
部に設けられた凹部２ａが支持される。この構成によ
り、フォトマスク２の被露光基板１側の面を基準にし
て、被露光基板１とフォトマスク２との間隙が調整され
る。

【００３７】次に、加圧空気（Ｐ）を発生させるための
加圧空気発生装置３００について、図７を参照して説明
する。圧縮空気発生源３０１から供給される圧縮空気は
ライン３０２を通じて、圧力計３０３ａを有するフィル
タ３０３を通過した後、圧力調節弁３０４によって圧縮
空気の圧力が調節される。さらに圧力が調節された圧縮
空気は、圧力計３０５ａを有するフィルタ３０５を通過
した後、加圧空気としてライン３０２により導入口２０
１ａへ導かれる。

【００３８】上記構成に基づいて、導入口２０１ａから
供給される加圧空気（Ｐ）は、エアー孔４から被露光基
板１とフォトマスク２との隙間に送り込まれ、この隙間
の圧力が上昇する。その結果、被露光基板１に対してフ
ォトマスク２が浮上する状態となる。

【００３９】以上、本実施の形態における露光装置にお
いては、フォトマスク２と被露光基板１との間に加圧空
気が供給され、フォトマスク２は被露光基板１に対して
所定間隙を隔てて浮遊した状態になる。フォトマスク２
と被露光基板１との間隙は、加圧空気の導入量により調
節される。

【００４０】また、フォトマスク２と被露光基板１との
間には必ず加圧空気が存在するため、フォトマスク２と
被露光基板１との間隙を可能な限り一定の間隔を維持
し、フォトマスク２と被露光基板１とが接触することが
ない。その結果、解像度が良好となり、フォトマスク２
に描かれたフォトマスクパターン３を、被露光基板１に
正確に転写することが可能になる。

【００４１】また、本実施の形態における露光装置に示
されるように、フォトマスク２と被露光基板１とを水平
方向に沿って配置する機構を採用する場合には、従来自
重によりフォトマスク２がたわみ、フォトマスク２が被
露光基板１に接する恐れがあったが、フォトマスク２と
被露光基板１との間に加圧空気を供給することにより、
フォトマスク２のたわみが下側から加圧空気によって押
上げられ、フォトマスク２のたわみの発生を抑制するこ
とが可能になる。

【００４２】また、被露光基板１にうねりが生じていて
も、フォトマスク２は被露光基板１に対して一定の間隙
をもって追従する。その結果、フォトマスク２の全域に
わたって、フォトマスク２と被露光基板１との間隙を均
一することが可能になる。

【００４３】また、従来装置においては、フォトマスク
２と被露光基板１との間隙の測定および調節を行うため
の装置に誤動作が生じた場合、フォトマスク２と被露光
基板１が破損する恐れがあったが、本実施の形態におけ
る露光装置においては、フォトマスク２と被露光基板１
との間隙は常に加圧気体によって一定に保たれているた
め、フォトマスク２および被露光基板１を破損させるこ
とがない。

【００４４】なお、上記図６で説明したフォトマスク２
の固定部分（図４中のＡで囲まれる領域）の構造は、フ
ォトマスク２にエアー孔４が設けられる構造について説
明したが、以下に示す構造を採用することも可能であ
る。

【００４５】図８を参照して、この構造について説明す
る。なお、図８は、図３中Ｙ−Ｙ’線矢視断面にしたが
った、部分拡大断面図である。

【００４６】フォトマスク枠２００は、第１プレート２
１１、第２プレート２１２、第１マスク固定具２１３お
よび第２マスク固定具２１４から構成されている。第１
プレート２１１には、加圧空気（Ｐ）を導入するための
導入口２１１ａが設けられる。第２プレート２１２に
は、ヘッダとしてのエアー溝２１２ａおよびエアー孔２
１２ｂが設けられる。導入口２１１ａ、エアー溝２１２
ａおよびエアー孔２１２ｂにより第１エアー孔を構成す
る。

【００４７】また、第１マスク固定具２１３に第２エア
ー孔としてのエアー孔２１３ａが設けられる。第１マス
ク固定具２１３および第２マスク固定具２１４により、
フォトマスク２の端部に設けられた凹部２ａが支持され
る。また、第１マスク固定具２１３の被露光基板１側の
面と、フォトマスク２の被露光基板側１の面とは、略面
一に設けられている。これにより、フォトマスク２の被
露光基板１側の面を基準にして、被露光基板１とフォト
マスク２との間隙が調整される。

【００４８】本構造を採用した場合においては、フォト
マスク２には、図１および図２で説明したようなエアー
孔４は設ける必要はない。また、導入口２１１ａから供
給される加圧空気（Ｐ）は、エアー孔２１３ａから被露
光基板１とフォトマスク２との間に送り込まれる。その
結果、図６で説明した構造と同様に、被露光基板１に対
してフォトマスク２が浮上する状態となる。

【００４９】また、第１マスク固定具２１３の被露光基
板１側の面と、フォトマスク２の被露光基板側１の面と
を基準に、それぞれが略面一となるように設けることに
より、フォトマスクの厚みが不均一な場合、または、フ
ォトマスクにうねりが生じた場合であっても、フォトマ
スクと被露光基板との間を均一に保つことが可能にな
る。

【００５０】なお、図６および図８に示す構造におい
て、必要であれば、図６に示すエアー孔４、図８に示す
エアー孔２１３ａを、被露光基板１に対して傾斜するよ
うに設けることも可能である。

【００５１】たとえば、被露光基板１に対してエアー孔
４、エアー孔２１３ａを、内側に向くように傾斜させる
ことにより、加圧空気は、被露光基板１の中央部に向
い、被露光基板１の中央部の圧力を高めることになる。
その結果、エアー孔４、エアー孔２１３ａを被露光基板
１に対して略垂直に設けた場合に生じる被露光基板１の
中央部の圧力が周囲の圧力に対して負圧となった場合の
フォトマスク２の歪みを未然に防止することが可能にな
る。

【００５２】また、一方で、たとえば、被露光基板１に
対してエアー孔４、エアー孔２１３ａを、外側に向くよ
うに傾斜させることにより、加圧空気は、被露光基板１
とフォトマスク２の間の領域の外側に流れ、被露光基板
１の中央部の圧力が低められることになる。その結果、
エアー孔４、エアー孔２１３ａを被露光基板１に対して
略垂直に設けた場合に生じる被露光基板１の中央部の圧
力が周囲の圧力に対して高圧となった場合のフォトマス
ク２の歪みを未然に防止することが可能になる。

【００５３】また、さらに好ましい形態として、エアー
孔４、エアー孔２１３ａに連通する被露光基板１側の面
には、エアー孔４、エアー孔２１３ａに連通する溝が設
けられることが好ましい。図９および図１０を参照し
て、図１で説明したフォトマスク４のエアー孔４に連通
する被露光基板１側の面に設けられる溝４０について説
明する。なお、図９は、溝４０を有するフォトマスク２
の裏面側から見上げた図であり、図１０は図９中Ａ−
Ａ’線矢視断面図である。

【００５４】フォトマスク４の縁部近傍には、複数のエ
アー孔４が設けられており、被露光基板１側の面におい
て、各エアー孔４に連通するとともに、すべてのエアー
孔４を連通する溝４０が設けられている。

【００５５】このように、エアー孔４に連通する溝４０
が設けられていることでフォトマスク２と被露光基板１
との間に空間を確保することができる。その結果、溝４
０の領域でエアー孔４から供給される加圧空気の圧力が
被露光基板１へ加えられるため、フォトマスク２と被露
光基板１との密着を未然に防止することが可能になる。

【００５６】なお、溝４０の形状は、図９および図１０
の形状に限定されるものでなく、エアー孔４の各々に溝
を設けても良いし、複数個を一単位にして溝を複数個設
けても良い。また、エアー孔４の各々に放射状に溝を設
けることも可能である。溝を設ける構造は、図８に示す
構造のものに適用することも可能である。

【００５７】また、上記実施の形態においては、加圧気
体として空気を用いる場合について説明したが、露光行
程等に影響を与えないものであれば、例えば窒素などそ
の他の気体を用いることが可能である。また、フォトマ
スク２側から被露光基板１とフォトマスク２との間に加
圧空気を送るようにしたが、被露光基板１側から被露光
基板１とフォトマスク２との間に加圧空気を送るように
して、被露光基板１に対してフォトマスク２を浮上させ
ることも可能である。

【００５８】したがって、今回開示した上記各実施の形
態はすべての点で例示であって制限的なものではないと
考えられるべきである。よって、本発明の範囲は上記し
た説明ではなくて特許請求の範囲によって示され、特許
請求の範囲と均等の意味および範囲内でのすべての変更
が含まれることが意図される。

【図面の簡単な説明】

【図１】本実施の形態における被露光基板１とフォトマ
スク２との配置関係を示す平面図である。

【図２】図１中Ｘ−Ｘ’線矢視断面図である。

【図３】本実施の形態における露光装置１００の平面図
である。

【図４】図３中Ｙ−Ｙ’線矢視断面図である。

【図５】図３中Ｚ−Ｚ’線矢視断面図である。

【図６】図３中Ｙ−Ｙ’線矢視断面にしたがった、部分
拡大断面図である。

【図７】加圧空気発生装置３００の構成を示す概略図で
ある。

【図８】図３中Ｙ−Ｙ’線矢視断面にしたがった、部分
拡大断面図である。

【図９】溝４０を有するフォトマスク２の裏面側から見
上げた図である。

【図１０】図９中Ａ−Ａ’線矢視断面図である。

【符号の説明】

１：被露光基板 ２：フォトマスク ２ａ：凹部 ３：フォトマスクパターン ４：エアー孔 ４０：溝 １００：露光装置 １０１：ベース １０２：基板ホルダ １０３、１０４：ボールネジ １０５：モータ １０６：ガイドレール １０７：ガイド １０８：球面軸受 １０９：マスクリフト用エアシリンダ １０９ａ：軸 １０９ｂ、１０９ｃ：プレート ２００：フォトマスク枠 ２００ａ：貫通孔 ２０１、２１１：第１プレート ２０１ａ、２１１ａ：導入口 ２０２、２１２：第２プレート ２０２ａ：エアー溝 ２０２ｂ：エアー孔 ２０３：マスク固定具 ２１３：第１マスク固定具 ２１２ａ：エアー溝 ２１２ｂ、２１３ａ：エアー孔 ２１４：第２マスク固定具 ３００：加圧空気発生装置 ３０１：圧縮空気発生源 ３０２：ライン ３０３：フィルタ ３０３ａ、３０５ａ：圧力計 ３０４：圧力調節弁 ３０５：フィルタ

Claims (6)

【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】 フォトマスク枠に保持されたフォトマス
   クを通して、光を前記フォトマスクに近接して重ねられ
   た被露光基板に照射することにより、前記フォトマスク
   に描かれたパターンを前記被露光基板上に転写する露光
   装置であって、 前記フォトマスクと前記被露光基板との間を所定間隙に
   保持するため、前記フォトマスクと前記被露光基板との
   間に加圧気体を供給するための加圧気体供給手段を備え
   る、露光装置。
2. 【請求項２】 前記加圧気体供給手段は、 前記加圧気体を前記被露光基板と前記フォトマスクとの
   間へ導くための第１エアー孔を有する前記フォトマスク
   枠と、 前記第１エアー孔に連通する第２エアー孔を、縁部に有
   する前記フォトマスクと、 前記第１エアー孔に前記加圧気体を供給するための手段
   と、を備える、請求項１に記載の露光装置。
3. 【請求項３】 前記加圧気体供給手段は、 前記加圧気体を前記被露光基板と前記フォトマスクとの
   間へ導くため、前記フォトマスクの外側の位置に第１エ
   アー孔を有する前記フォトマスク枠と、 前記第１エアー孔に前記加圧気体を供給するための手段
   と、を備える、請求項１に記載の露光装置。
4. 【請求項４】 前記フォトマスク枠は、前記フォトマス
   ク枠の前記被露光基板に面する側に、前記フォトマスク
   の縁部を前記フォトマスク枠へ固定するための固定部材
   を含み、 前記固定部材には、前記フォトマスク枠の前記第１エア
   ー孔に連通する第２エアー孔が設けられ、前記固定部材
   の前記被露光基板側の面と、前記フォトマスクの前記被
   露光基板側の面とは、略面一に設けられる、請求項３に
   記載の露光装置。
5. 【請求項５】 前記第１および前記第２エアー孔は、前
   記被露光基板に対して傾斜するように設けられる、請求
   項２〜４のいずれかに記載の露光装置。
6. 【請求項６】 前記第２エアー孔に連通する前記被露光
   基板側の面には、前記第２エアー孔に連通する溝が設け
   られる、請求項２〜５のいずれかに記載の露光装置。