WO2013089082A1 - 基板露光装置および基板露光方法 - Google Patents

基板露光装置および基板露光方法 Download PDF

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exposure mask
exposure
gas
stage
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公孝 大畑
諒 星加
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シャープ株式会社
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    • G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
    • G03F7/70—Microphotolithographic exposure; Apparatus therefor
    • G03F7/70216—Mask projection systems
    • G03F7/7035—Proximity or contact printers
    • G—PHYSICS
    • G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
    • G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
    • G03F7/70—Microphotolithographic exposure; Apparatus therefor
    • G03F7/708—Construction of apparatus, e.g. environment aspects, hygiene aspects or materials
    • G03F7/70908—Hygiene, e.g. preventing apparatus pollution, mitigating effect of pollution or removing pollutants from apparatus
    • G03F7/70933—Purge, e.g. exchanging fluid or gas to remove pollutants

Definitions

  • the present invention relates to a substrate exposure apparatus and a substrate exposure method.
  • a step of exposing the substrate surface to form some pattern on the surface of the substrate is performed by irradiating light through an exposure mask in which a target pattern is formed in advance.
  • Patent Document 1 describes a technique of blowing a purge gas made of an inert gas between an exposure mask and a substrate in order to increase the transmittance of ultraviolet rays in an exposure apparatus.
  • UV2A One type of technology used for liquid crystal display panels is called “UV2A”.
  • UV2A a special material that reacts with ultraviolet rays is used as the alignment film.
  • the alignment characteristics of each part of the alignment film are determined with high accuracy according to the irradiation direction of the ultraviolet rays.
  • the exposure mask In order to manufacture a liquid crystal display panel using UV2A, the exposure mask must be arranged so as to be separated from the substrate at a position very close to the substrate. In particular, if the substrate is much larger than the exposure mask and the entire area to be exposed cannot be exposed by a single exposure operation, the substrate is moved relative to the exposure mask. However, exposure is performed separately for each partial region on the substrate. In that case, a process of moving the substrate relative to the exposure mask is performed in a state where the substrate is separated from the exposure mask at a short distance.
  • UV2A since the distance between the exposure mask and the substrate is very narrow, as shown in FIG. 13, the substrate 2 comes into contact with the exposure mask 3 due to the flapping of the end 2 a of the substrate 2 held on the stage 1. In some cases, this contact causes scratches on the exposure mask. In addition, foreign matter such as cullet may be placed on the surface of the substrate 2 to be handled. However, when the UV2A is manufactured, the distance between the exposure mask and the substrate is very narrow, and as shown in FIG. In addition, there is a problem that such foreign matter 4 comes into contact with the exposure mask 3, and this contact causes scratches on the exposure mask 3.
  • an object of the present invention is to provide a substrate exposure apparatus and a substrate exposure method that can prevent the exposure mask from being damaged by contact of the edge of the substrate or contact of foreign matter on the substrate.
  • a substrate exposure apparatus includes a stage for holding a substrate and an exposure mask disposed above the stage so as to be parallel to the substrate.
  • a transfer mechanism for moving relative to the exposure mask; a light source for exposing at least part of the surface of the substrate through the exposure mask; and the exposure mask and the substrate.
  • a first gas supply mechanism is provided for keeping the exposure mask and the substrate from contacting each other by flowing a gas therebetween.
  • the present invention it is possible to pressurize the substrate by supplying gas between the exposure mask and the substrate, it is possible to suppress fluttering of the substrate by this pressurization, and foreign matter is placed on the substrate. Even in this case, foreign matter can be blown away, so that the substrate can be prevented from coming into contact with the exposure mask. As a result, it is possible to prevent the exposure mask from being damaged by the contact of the substrate edge or the contact of foreign matter on the substrate.
  • the substrate exposure apparatus 101 includes a stage 1 for holding the substrate 2 and an exposure mask 3 disposed above the stage 1 so as to be parallel to the substrate 2.
  • a transfer mechanism 7 for moving relative to the exposure mask 3, a light source 5 for exposing at least part of the surface of the substrate 2 through the exposure mask 3, and the exposure mask 3 and the substrate 2.
  • the first gas supply mechanism 6 is provided to keep the exposure mask 3 and the substrate 2 from contacting each other by flowing a gas 17 therebetween.
  • Light 16 is irradiated from the light source 5, and a part of the light 16 passes through the exposure mask 3 and enters the substrate 2, whereby at least a part of the surface of the substrate 2 is exposed.
  • the exposure mask 3 is shown in more detail in a plan view as shown in FIG.
  • the exposure mask 3 is held by an exposure mask holder 10.
  • the exposure mask holder 10 is provided with a blowout port 11 for blowing gas toward the substrate 2.
  • a large number of outlets 11 are provided in a dot shape and are arranged so as to surround the exposure mask 3.
  • the shape of the individual outlets 11 is circular here, but may be other shapes.
  • the transfer mechanism 7 may be a device that holds and moves one end of the substrate 2, for example.
  • the first gas supply mechanism 6 is shown in a simplified manner in FIG. 1, in actuality, the first gas supply mechanism 6 supplies gas to a gas outlet 11 provided on the lower surface of the exposure mask holder 10. It may be a mechanism.
  • the gas 17 blown out from the blowout port 11 may be CDA (Clean Dry Air), nitrogen, or other suitable gas.
  • CDA Cosmetic Dry Air
  • the gas 17 is preferably a gas that has been subjected to a filter treatment for removing foreign matters that are at least larger than the gap between the substrate and the exposure mask. It is preferable that the gas is subjected to the filter treatment.
  • the floating state of the substrate 2 changes due to clogging of the air outlet of the air 8 on the stage 1 or disturbance of the air intake / exhaust balance of the air 8. Flapping may occur.
  • the substrate 2 can be pressurized by supplying a gas between the exposure mask 3 and the substrate 2, and the fluttering of the substrate 2 is suppressed by this pressurization. be able to. Therefore, it can suppress that the board
  • the substrate 2 can be prevented from coming into contact with the exposure mask 3. Further, even when a foreign material 4 such as cullet is placed on the surface of the substrate 2, in the present embodiment, the foreign material 4 can be blown off and removed.
  • the substrate exposure apparatus 101 preferably includes a second gas supply mechanism 9 for causing the substrate 2 to float from the stage 1 by flowing a gas between the stage 1 and the substrate 2.
  • a second gas supply mechanism 9 for causing the substrate 2 to float from the stage 1 by flowing a gas between the stage 1 and the substrate 2.
  • a method in which the substrate 2 is lifted and conveyed by air a method in which the substrate 2 is conveyed by a roller may be used.
  • the second gas supply mechanism 9 may not be provided.
  • the exposure mask 3 is held by an exposure mask holder 10, and the first gas supply mechanism 6 includes the gas blow-out port 11 provided so as to face the stage 1 at least at a part of the exposure mask holder 10. It is preferable.
  • the exposure mask holder 10 has a size that surrounds the outside of the exposure mask 3 in a plan view, and the outlets 11 are arranged along the outer periphery of the exposure mask holder 10. Is preferred. By adopting this configuration, gas can be supplied over the entire exposure mask 3.
  • FIG. 3 is a plan view showing the vicinity of the exposure mask 3.
  • the substrate 2 is not displayed, but the substrate 2 moves from left to right in the drawing.
  • the exposure mask 3 is held by an exposure mask holder 10i.
  • the exposure mask holder 10i is not provided with an outlet, and instead, a linear outlet 11i is provided on the upstream side of the exposure mask holder 10i. Further, a substrate detection sensor 12 is provided on the upstream side.
  • the first gas supply mechanism faces the stage 1 at a position upstream of the relative movement of the substrate 2 relative to the position of the exposure mask 3 in plan view.
  • the gas outlet 11i provided may be included.
  • the gas is not blown out from the blowout port 11i toward the upstream side of the relative movement of the substrate 2, that is, the left side in FIG. This is because the foreign matter can be blown away from the exposure mask 3 and the blown-out foreign matter can be prevented from entering the lower side of the exposure mask 3.
  • the outlet may be arranged as shown in FIGS. 4 and 5, the exposure mask 3 is not drawn, and the positional relationship between the moving substrate 2 and the outlet is shown.
  • the substrate 2 proceeds in the direction of the arrow 91.
  • a single linear outlet 11 j longer than the width of the substrate 2 is arranged.
  • the entire width of the substrate 2 is covered by combining a plurality of linear outlets 11 k shorter than the width of the substrate 2. 4 and 5, gas is supplied so that the gas flow covers the entire width of the substrate 2.
  • the gas is blown out from the outlet so that the gas flows upstream.
  • the gap between the substrate 2 and the exposure mask 3 is usually measured.
  • a gap measuring device other than the gap measuring device may be provided. Good. In that case, the warp measurement of the edge of the substrate 3 entering under the exposure mask 3 may be detected by the gap measuring device, and the gas supply control by the first gas supply mechanism 6 may be used.
  • a substrate sensing device may be installed between the substrate 2 and the exposure mask 3.
  • the airflow can be generated only when the substrate is detected by the substrate sensing device, and the airflow can be stopped when the substrate sensing device is not sensing the substrate.
  • the substrate 2 proceeds in the direction of the arrow 91.
  • the guide 13 holds the long side of the substrate 2.
  • the guide 13 holds the short side of the substrate 2.
  • the substrate exposure method in the present embodiment includes a step S1 of holding a substrate on a stage, a step S2 of moving the substrate relative to the exposure mask in a posture parallel to the exposure mask, and a surface of the substrate And step S3 of performing exposure through the exposure mask in a state where the exposure mask is opposed to at least a part of the exposure mask. Between the moving step S2 and the exposing step S3, a gas is kept flowing between the exposure mask and the substrate to keep the exposure mask and the substrate from contacting each other.
  • the substrate can be pressurized by supplying a gas between the exposure mask and the substrate, and fluttering of the substrate can be suppressed by this pressurization. It can suppress that a board
  • the exposure mask is held by the exposure mask holder, and the gas is provided on at least a part of the exposure mask holder so as to face the stage. It is preferable that a blowout port is provided.
  • the exposure mask holder has a size surrounding the outside of the exposure mask in a plan view, and the outlet is the exposure mask. It is preferable that they are arranged along the outer periphery of the holder.
  • transport pad When a substrate is lifted with air and transported, what is called a “substrate air blowing transport pad” (hereinafter referred to as “transport pad”) may be used.
  • the transport pad is usually rectangular.
  • a plurality of transfer pads are arranged and used in the traveling path of the substrate.
  • a sufficiently large substrate 2 travels in the direction of arrow 91, whereas strip-shaped transport pad 14 is arranged in a direction in which the long side is orthogonal to the traveling direction of substrate 2.
  • the end 2a of the substrate 2 is easily caught in the gap between the transport pads 14.
  • FIG. 11 even when the long sides of the transport pad 14 are arranged so as to be parallel to the traveling direction of the substrate 2, the short sides are aligned as shown in FIG. After all, the end 2a of the substrate 2 is easily caught in the gap. Therefore, as shown in FIG.
  • the long sides of the transport pad 14 are arranged in a plurality of rows so that they are parallel to the traveling direction of the substrate 2, and the positions of the gaps 15 sandwiched between the short sides are different for each row. It is preferable to arrange. With this arrangement, it is possible to prevent the front end 2a of the substrate 2 from being caught in the gap between the transport pads 14.
  • the present invention can be used for a substrate exposure apparatus and a substrate exposure method.

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Abstract

　基板露光装置（１０１）は、基板（２）を保持するためのステージ（１）と、ステージ（１）の上方において基板（２）と平行になるように露光マスク（３）が配置された状態で、基板（２）を露光マスク（３）に対して相対的に移動させるための移送機構（７）と、露光マスク（３）を介して基板（２）の表面の少なくとも一部に対して露光をするための光源（５）と、露光マスク（３）と基板（２）との間に気体（１７）を流すことによって露光マスク（３）と基板（２）とが接触しないように保つための第１気体供給機構（６）とを備える。

Description

基板露光装置および基板露光方法
　本発明は、基板露光装置および基板露光方法に関するものである。
　一般的に液晶表示パネルを製造するための工程のひとつとして基板の表面に何らかのパターンを形成するために基板表面に対して露光する工程がある。このような露光は予め目的とするパターンが形成された露光マスクを介して光を照射することによって行なわれる。
　露光装置内での紫外線の透過率を高めるために露光マスクと基板との間に不活性ガスからなるパージガスを吹き込む技術が特開２００１－３５８０５６号公報（特許文献１）に記載されている。
特開２００１－３５８０５６号公報
　液晶表示パネルに用いられる技術の一種に「ＵＶ２Ａ」と呼ばれるものがある。ＵＶ２Ａとは、紫外線によって反応する特殊な材料を配向膜として採用し、紫外線の照射方向によって配向膜の各部位ごとの配向特性を高精度に決定し、このような配向膜によって液晶分子の並びを制御しようとするものである。ＵＶ２Ａを採用した液晶表示パネルを製造するためには、露光マスクは基板に対してきわめて近い位置において基板から離隔するように配置されなければならない。特に基板が露光マスクに比べてはるかに大きなサイズであって、１回の露光作業だけでは露光すべき領域の全ての露光がし切れない場合は、基板を露光マスクに対して相対的に移動させながら、基板上の部分的な領域ごとに分けて露光が行なわれる。その際には、基板が露光マスクから近い距離で離隔した状態で、基板が露光マスクに対して相対的に移動する工程が行なわれる。
　ＵＶ２Ａの場合、露光マスクと基板との間の距離が非常に狭いため、図１３に示すように、ステージ１に保持された基板２の端部２ａのばたつきによって基板２が露光マスク３に接触する場合があり、この接触により露光マスクにキズが生じてしまうという問題があった。また、扱われる基板２の表面にカレットなどの異物が載っている場合もあるが、ＵＶ２Ａの製造の際には、露光マスクと基板との間の距離が非常に狭いため、図１４に示すように、このような異物４が露光マスク３に接触してしまい、この接触により露光マスク３にキズが生じてしまうという問題があった。
　そこで、本発明は、基板端部の接触または基板上の異物の接触によって露光マスクにキズが生じることを防止することができるような基板露光装置および基板露光方法を提供することを目的とする。
　上記目的を達成するため、本発明に基づく基板露光装置は、基板を保持するためのステージと、上記ステージの上方において上記基板と平行になるように露光マスクが配置された状態で、上記基板を上記露光マスクに対して相対的に移動させるための移送機構と、上記露光マスクを介して上記基板の表面の少なくとも一部に対して露光をするための光源と、上記露光マスクと上記基板との間に気体を流すことによって上記露光マスクと上記基板とが接触しないように保つための第１気体供給機構とを備える。
　本発明によれば、露光マスクと基板との間に気体を供給することによって、基板を加圧することができ、この加圧によって基板のばたつきを抑制することができ、また、異物が載っている場合にも異物を吹き飛ばすことができるので、基板が露光マスクに接触することを抑制することができる。その結果、基板端部の接触または基板上の異物の接触によって露光マスクにキズが生じることを防止することができる。
本発明に基づく実施の形態１における基板露光装置の説明図である。 本発明に基づく実施の形態１における基板露光装置が備える露光マスクの平面図である。 本発明に基づく実施の形態１の変形例における基板露光装置が備える露光マスクの平面図である。 本発明に基づく実施の形態１の変形例における基板露光装置の吹出し口の第１の配置例の説明図である。 本発明に基づく実施の形態１の変形例における基板露光装置の吹出し口の第２の配置例の説明図である。 本発明に基づく実施の形態１における基板露光装置が備える移送機構の第１の例の説明図である。 本発明に基づく実施の形態１における基板露光装置が備える移送機構の第２の例の説明図である。 本発明に基づく実施の形態２における基板露光方法のフローチャートである。 搬送パッド同士の隙間に基板の端部が引っ掛かる可能性についての説明図である。 搬送パッドの第１の配置例の説明図である。 搬送パッドの第２の配置例の説明図である。 搬送パッドの第３の配置例の説明図である。 従来技術に基づく基板露光装置において基板の端部のばたつきによって基板が露光マスクに接触する可能性についての説明図である。 従来技術に基づく基板露光装置において基板の表面に載った異物が露光マスクに接触する可能性についての説明図である。
　（実施の形態１）
　図１～図２を参照して、本発明に基づく実施の形態１における基板露光装置について説明する。図１に示すように、基板露光装置１０１は、基板２を保持するためのステージ１と、ステージ１の上方において基板２と平行になるように露光マスク３が配置された状態で、基板２を露光マスク３に対して相対的に移動させるための移送機構７と、露光マスク３を介して基板２の表面の少なくとも一部に対して露光をするための光源５と、露光マスク３と基板２との間に気体１７を流すことによって露光マスク３と基板２とが接触しないように保つための第１気体供給機構６とを備える。
　光源５からは光１６が照射され、光１６の一部が露光マスク３を透過して基板２に入射することによって、基板２表面の少なくとも一部の露光が行なわれる。
　露光マスク３をより詳細に平面図で示すと図２に示すようになる。露光マスク３は露光マスクホルダ１０に保持されている。露光マスクホルダ１０には基板２に向けて気体を吹出すための吹出し口１１が設けられている。この例では、吹出し口１１は、点状に多数設けられており、露光マスク３を取り囲むように配列されている。個々の吹出し口１１の形状は、ここでは円形としているが他の形状であってもよい。
　基板露光装置１０１では、ステージ１からエア８を吹き出して基板２を浮上させている。浮上させられた基板２は移送機構７によって移送される。移送機構７はたとえば基板２の一端を把持して移動する装置であってよい。図１では第１気体供給機構６は簡略化して表示しているが、実際には、第１気体供給機構６は、露光マスクホルダ１０の下面に設けられた気体の吹出し口１１に気体を供給する機構であってよい。
　吹出し口１１から吹き出される気体１７は、ＣＤＡ（Clean　Dry　Air）であってもよく、窒素であってもよく、他の適当な気体であってもよい。基板への異物付着を防止するために、気体１７は、少なくとも基板と露光マスクとのギャップ以上の異物を除去するためのフィルター処理を施した気体であることが好ましく、さらにいえば、クラス１０以下のフィルター処理を施した気体であることが好ましい。
　一般的に、このような基板露光装置においては、ステージ１におけるエア８の吹出し口の目詰まりや、エア８の吸気／排気のバランスの乱れなどによって基板２の浮上状況が変化し、基板２のばたつきが発生する場合がある。しかし、本実施の形態における基板露光装置１０１では、露光マスク３と基板２との間に気体を供給することによって、基板２を加圧することができ、この加圧によって基板２のばたつきを抑制することができる。したがって、基板２が露光マスク３に接触することを抑制することができる。本実施の形態における基板露光装置１０１では、基板２が露光マスク３に接触することを抑制することができる。また、基板２の表面にカレットなどの異物４が載っている場合にも、本実施の形態では、異物４を吹き飛ばして除去することができる。
　したがって、本実施の形態では、基板端部の接触または基板上の異物の接触によって露光マスク３にキズが生じることを防止することができる。
　なお、基板露光装置１０１は、ステージ１と基板２との間に気体を流すことによって基板２をステージ１から浮上させるための第２気体供給機構９を備えることが好ましい。本実施の形態では、そのような構成を既に備えている例を示した。この構成を採用することにより、基板２を円滑に搬送することができる。図１に示した例では、ステージ１の上面には吹出し口（図示せず）があり、第２気体供給機構９は、この吹出し口から吹き出されるエアをステージ１に供給する機構である。
　基板２をエアで浮上させて搬送する方式の他に、基板２をコロで搬送する方式であってもよい。コロで搬送する方式の場合、第２気体供給機構９はなくてもよい。
　露光マスク３は、露光マスクホルダ１０によって保持されており、第１気体供給機構６は、露光マスクホルダ１０の少なくとも一部にステージ１に対向するように設けられた前記気体の吹出し口１１を含むことが好ましい。
　なお、図２に示したように、露光マスクホルダ１０は、平面的に見て露光マスク３の外側を取り囲むサイズであり、吹出し口１１は露光マスクホルダ１０の外周に沿って配列されていることが好ましい。この構成を採用することにより、気体を露光マスク３の全体にわたって供給することができる。
　（変形例）
　本実施の形態の変形例として、図３のような構成も考えられる。図３は露光マスク３の近傍を示す平面図である。図３においては、基板２は表示されていないが、基板２は図中左から右に向かって移動する。露光マスク３は露光マスクホルダ１０ｉによって保持されている。この例では、露光マスクホルダ１０ｉには吹出し口が設けられておらず、代わりに、露光マスクホルダ１０ｉの上流側に線状の吹出し口１１ｉが設けられている。さらにその上流側に基板感知センサ１２が設けられている。
　この変形例によって示したように、第１気体供給機構は、平面的に見て露光マスク３の位置に比べて基板２の相対的移動の上流側となる位置においてステージ１の側を向くように設けられた前記気体の吹出し口１１ｉを含むものであってもよい。この構成を採用することにより、移動してきた基板２が平面的に見て露光マスク３に重なる位置関係となる前に異物を吹き飛ばすことができる。また、この変形例の場合、吹出し口１１ｉからの気体の吹出しは真下に向かって行なうのではなく、基板２の相対的移動の上流側、すなわち、図３における左側に向けて行なうことが好ましい。そのようにすれば、異物を露光マスク３から遠い側に吹き飛ばすことができ、吹き飛ばされた異物が露光マスク３の下側に入り込むことを防止できるからである。
　他に、図４、図５に示すように吹出し口を配置してもよい。図４、図５では、露光マスク３は描かれておらず、移動途中の基板２と吹出し口との位置関係が示されている。基板２は矢印９１の向きに進行する。図４に示した例では、基板２の幅より長い１本の線状の吹出し口１１ｊが配置されている。図５に示した例では、基板２の幅より短い線状の吹出し口１１ｋを複数個合わせることによって、基板２の幅の全体をカバーするように構成されている。図４、図５のいずれの例においても、基板２の幅の全体を気体の流れが覆うように気体が供給される。
　基板２に載っているカレットなどの異物４を吹き飛ばすことを特に重視する場合、吹出し口からは、上流に向けて気体が流れるように気体を吹き出すことが好ましい。
　一般的にＵＶ２Ａの基板の露光の際には、基板２と露光マスク３との間のギャップを測定することが普通であるが、そのためのギャップ測定装置とは別に何らかのギャップ測定装置を設けてもよい。その場合、そのギャップ測定装置によって、露光マスク３の下に進入してくる基板３の端部の反りを検出することとして、第１気体供給機構６による気体の供給の制御に用いてもよい。
　また、基板２と露光マスク３との間に基板感知装置を設置してもよい。この場合には、基板感知装置にて基板を感知した場合のみ気流を発生させ、基板感知装置が基板を感知していない場合には、気流を停止することができる。
　移送機構７の具体例を図６、図７に示す。基板２は矢印９１の向きに進行する。図６に示す例では、ガイド１３が基板２の長辺を把持している。図７に示す例では、ガイド１３が基板２の短辺を把持している。
　（実施の形態２）
　図８を参照して、本発明に基づく実施の形態２における基板露光方法について説明する。この基板露光方法のフローチャートを図８に示す。本実施の形態における基板露光方法は、基板をステージ上に保持する工程Ｓ１と、前記基板を露光マスクに平行な姿勢で前記露光マスクに対して相対的に移動させる工程Ｓ２と、前記基板の表面の少なくとも一部に対して前記露光マスクを対向させた状態で、前記露光マスクを介して露光をする工程Ｓ３とを含む。前記移動させる工程Ｓ２および前記露光をする工程Ｓ３の間にわたって、前記露光マスクと前記基板との間に気体を流し続けることによって前記露光マスクと前記基板とが接触しないように保つ。
　本実施の形態における基板露光方法によれば、露光マスクと基板との間に気体を供給することによって、基板を加圧することができ、この加圧によって基板のばたつきを抑制することができるので、基板が露光マスクに接触することを抑制することができる。したがって、露光マスクにキズが生じることを防止することができる。
　なお、この基板露光方法において、実施の形態１で説明したように、露光マスクは、露光マスクホルダによって保持されており、前記露光マスクホルダの少なくとも一部に、前記ステージに対向するように前記気体の吹出し口が設けられていることが好ましい。
　この基板露光方法において、実施の形態１で図２を参照して説明したように、露光マスクホルダは、平面的に見て前記露光マスクの外側を取り囲むサイズであり、前記吹出し口は前記露光マスクホルダの外周に沿って配列されていることが好ましい。
　この基板露光方法を実施する際には、実施の形態１で図３を参照して説明したように、平面的に見て前記露光マスクの位置に比べて前記基板の相対的移動の上流側となる位置に、前記気体の吹出し口が設けられていることが好ましい。
　基板をエアで浮上させて搬送する際には、「基板搬送用エア吹出し搬送パッド」（以下「搬送パッド」という。）と呼ばれるものが用いられる場合がある。搬送パッドは、通常、長方形である。基板の進行経路内に複数枚の搬送パッドが配列して使用される。
　図９に示すように、基板２が露光マスク３と搬送パッド１４との間で、相対的に矢印９１の向きに進行するものとする。図９に示すように、進行する基板２の前側の端部２ａが側方から見て上下いずれかに曲がっている場合、搬送パッド１４同士の隙間１５に端部２ａが引っ掛かるおそれがある。
　たとえば、図１０に示すように、十分に大きなサイズの基板２が矢印９１の向きに進行するのに対して、短冊状の搬送パッド１４が長辺を基板２の進行方向に直交させる向きに配列されていた場合、搬送パッド１４同士の隙間に基板２の端部２ａが引っ掛かりやすくなってしまう。図１１に示すように、搬送パッド１４の長辺が基板２の進行方向に平行になるように配列した場合であっても、図１１に示すように、短辺の位置が揃っている場合は、やはり基板２の端部２ａが隙間に引っ掛かりやすい。そこで、図１２に示すように、搬送パッド１４の長辺が基板２の進行方向に平行になるように複数列に配置し、さらに短辺同士に挟まれる隙間１５の位置を列ごとに違えて配置することが好ましい。このように配置すれば、基板２の前側の端部２ａが搬送パッド１４同士の隙間に引っ掛かることを防止することができる。
　なお、今回開示した上記実施の形態はすべての点で例示であって制限的なものではない。本発明の範囲は上記した説明ではなくて請求の範囲によって示され、請求の範囲と均等の意味および範囲内でのすべての変更を含むものである。
　本発明は、基板露光装置および基板露光方法に利用することができる。
　１　ステージ、２　基板、２ａ　端部、３　露光マスク、４　異物、５　光源、６　第１気体供給機構、７　移送機構、８　エア、９　第２気体供給機構、１０，１０ｉ　露光マスクホルダ、１１，１１ｉ，１１ｊ，１１ｋ　吹出し口、１２　基板感知センサ、１３　ガイド、１４　搬送パッド、１５　隙間、１６　光、１７　気体、９１　矢印、１０１　基板露光装置。

Claims (9)

  1. 　基板を保持するためのステージと、
    　前記ステージの上方において前記基板と平行になるように露光マスクが配置された状態で、前記基板を前記露光マスクに対して相対的に移動させるための移送機構と、
    　前記露光マスクを介して前記基板の表面の少なくとも一部に対して露光をするための光源と、
    　前記露光マスクと前記基板との間に気体を流すことによって前記露光マスクと前記基板とが接触しないように保つための第１気体供給機構とを備える、基板露光装置。
  2. 　前記ステージと前記基板との間に気体を流すことによって前記基板を前記ステージから浮上させるための第２気体供給機構を備える、請求項１に記載の基板露光装置。
  3. 　前記露光マスクは、露光マスクホルダによって保持されており、前記第１気体供給機構は、前記露光マスクホルダの少なくとも一部に前記ステージに対向するように設けられた前記気体の吹出し口を含む、請求項１または２に記載の基板露光装置。
  4. 　前記露光マスクホルダは、平面的に見て前記露光マスクの外側を取り囲むサイズであり、前記吹出し口は前記露光マスクホルダの外周に沿って配列されている、請求項３に記載の基板露光装置。
  5. 　前記第１気体供給機構は、平面的に見て前記露光マスクの位置に比べて前記基板の相対的移動の上流側となる位置において前記ステージの側を向くように設けられた前記気体の吹出し口を含む、請求項１または２に記載の基板露光装置。
  6. 　基板をステージ上に保持する工程と、
    　前記基板を露光マスクに平行な姿勢で前記露光マスクに対して相対的に移動させる工程と、
    　前記基板の表面の少なくとも一部に対して前記露光マスクを対向させた状態で、前記露光マスクを介して露光をする工程とを含み、
    　前記移動させる工程および前記露光をする工程の間にわたって、前記露光マスクと前記基板との間に気体を流し続けることによって前記露光マスクと前記基板とが接触しないように保つ、基板露光方法。
  7. 　前記露光マスクは、露光マスクホルダによって保持されており、前記露光マスクホルダの少なくとも一部に、前記ステージに対向するように前記気体の吹出し口が設けられている、請求項６に記載の基板露光方法。
  8. 　前記露光マスクホルダは、平面的に見て前記露光マスクの外側を取り囲むサイズであり、前記吹出し口は前記露光マスクホルダの外周に沿って配列されている、請求項７に記載の基板露光方法。
  9. 　平面的に見て前記露光マスクの位置に比べて前記基板の相対的移動の上流側となる位置に、前記気体の吹出し口が設けられている、請求項６に記載の基板露光方法。
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