JP2009210033A - エアスライダー装置、ステージ、露光装置およびデバイス製造方法 - Google Patents
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Abstract
加圧空気の圧力損失を低減し、加圧気体の流量及び圧力の増大を抑制するエアスライダー装置を提供する。
【解決手段】
ガイドが形成され、本体ベースに固定される固定子と、前記ガイドに沿って移動される可動子と、を有し、前記可動子は、前記ガイドに対向して配置される複数の永久磁石と、隣接する前記複数の永久磁石の間に配置され、前記ガイドに向けて第1の加圧気体を噴出する第1の気体噴出部と、を有し、前記第1の加圧気体の静圧により前記可動子を、前記ガイドに対して非接触に浮上して支持するエアスライダー装置において、前記固定子に設けられ、前記可動子に向けて第2の加圧気体を噴出する第2の気体噴出部を有することを特徴とする。
【選択図】図1
Description
この露光装置は、光源からの照明光を均一化する照明光学系、原版のパターンを基板に転写する投影光学系又は反射光学系又はその複合光学系、原版、基板を搬送・位置決めを行う搬送系であるステージと、を有する。
さらに、露光装置は、様々な原版をマスクストッカーからマスクステージへ搬送し、マスク交換を行う搬送系など、様々なユニットと、それら全てを覆い、露光装置内の雰囲気を調整・管理している筐体であるサーマルチャンバと、を有する。
近年では、基板サイズの大型化、ツインステージ等の搬送機構の複数化により、露光装置の大型化が進んでいる。
特に、液晶などの薄型ディスプレイの分野において、基板サイズが大型化し、液晶露光装置は大型化の一途を辿っている。
また、ディスプレイサイズの大型化により、原版のサイズ、原版のパターンを転写する光学系の大型化、基板搬送のステージの大型化も進んでいる。
露光装置の大型化が進む一方、露光装置の性能である解像力、重ね合わせ精度、スループットの向上が求められている。
露光装置の性能に大きく関わるステージも同様であり、ステージの大型化が進む中、ステージの軽量化と精度向上が求められている。
従来、ステージは、リニアモータによる駆動手段と、加圧気体による軸受け手段とを有し、ステージ可動子に加圧気体を噴出する手段を有し、上記駆動手段、軸受け手段および加圧気体を噴出する手段により、ステージの位置・姿勢を制御している。
さらに、複数のエアパッドからガイドへ噴出される加圧空気の静圧により、ステージ可動子を、ステージ固定子のガイドに対して浮上して非接触で支持する。
また、加圧空気の噴き出し流量を調整するための流量調整手段が設けられ、上記複数の永久磁石、エアパッド、流量調整手段により、ステージ可動子の位置・姿勢制御を向上させている。
しかしながら、特許文献1の従来例では、ステージ大型化・重量増加に伴う加圧空気流量の増大に対して、以下の点で課題が生じる。
従来、加圧空気を安定的に供給し、調整を行うために空圧機器が用いられ、空圧機器の多くを露光装置外もしくはステージ空間外に配置されることが多い。
その場合、ステージ可動子に加圧空気噴出口であるエアパッドが配置されているため、空圧機器からエアパッドまでは、チューブ、配管等による複雑な引回しの実装を行う。
そのため、ステージの大型化により、実装長さも相当な長さになり、チューブ・配管等による圧力損失も増大する。
ステージの大型化、装置の大型化がされると、重量増大による加圧空気流量の増大だけでなく、圧力損失を補填するための加圧・流量増大も必要となり、加圧空気の消費としては、非効率的なステージの構成となる。
それにより、エアパッドによる重量の増大と、平面的にエアパッドを配置することによるスペースが増大する。
エアパッドの個数が増えることで、それ自体の重量増大だけでなく、それに付加するチューブ・配管等の個数増加、あるいはステージ可動子に配置される空圧機器等の個数増加により、重量・スペースが増大する。
スペースの増大はステージ重量を増大し、スペースの増大は装置を大型化し、圧力損失の増大にも寄与する。
このように、ステージの大型化により、直接的な要因による重量の増大だけでなく、間接的な要因による重量の増大が発生する。
ステージ重量の増大は、ステージの位置制御あるいは姿勢制御を困難にする。
また、ステージ可動子にエアベアリングによる非接触支持の加圧気体噴き出しを設けるため、ステージの姿勢調整・制御を行う場合、エアベアリングによる非接触支持のための加圧空気と、姿勢調整・制御のための加圧空気とが分離されてない。
このため、調整・制御がシステム的に容易でなく、姿勢調整・制御の精度を向上させることは困難であった。
そこで、本発明は、加圧空気の圧力損失を低減し、加圧気体の流量及び圧力の増大を抑制するエアスライダー装置を提供することを目的とする。
まず、図1の全体概略構成図を参照して、本発明の実施例に係る露光装置を説明する。
本実施例の露光装置は、原版であるマスク20のマスクパターンを液晶用のガラス基板などの基板30に投影露光し転写する装置で、サーマルチャンバ10は、露光装置本体を収納する収納ケースである。
水銀ランプ等から成る光源42から射出された光束が、照明光学系41を通って原版であるマスク20を照明して、マスク20上のパターンを投影光学系43により基板30上に転写する。
マスク20は、マスクステージ21により保持され、移動され、基板30は基板チャック32により真空吸着された状態で露光される。
基板チャック32の下方には、移動するための基板ステージ33が本体ベース31上に配置されている。
マスクステージ21および基板ステージ33は、共に、レーザー干渉測長器50により位置が計測されて制御される。
レーザー干渉測長器50は、レ−ザヘッド51、干渉ミラー52,53、および基板ステージ33に取り付けられた第1の反射ミラー54と、マスクステージ21に取り付けられた第2の反射ミラー55とを有する。
マスクステージ21の上方には、マスク20と、基板30の像に対して投影光学系43を介して観察できる観察光学系40が配置される。
サーマルチャンバ10には、露光装置本体の温度調節装置が設けられる。
この温度調節装置は、主に空気の温度調整を行う空調機室11、微小異物を濾過し清浄空気の均一な流れを形成するフィルタボックス12および露光装置環境を外部と遮蔽するブース13とで構成される。ブース13内は、温度調整、流量調整された空気による循環系を有する。
そこで、レーザー干渉測長器50による位置計測制御に対し、計測誤差を最小限とするため、温度変化を最小限にしている。
サーマルチャンバ10は、インラインから基板30の受け渡しをするためのインターフェース開口部1を有し、インターフェース開口部1にシャッター2が構成される。
サーマルチャンバ10の外部から基板30を搬入・搬出する図示されないロボットハンドの基板受け渡し信号に応じ、シャッター2の開閉動作が行われる。
本体ベース31は、露光装置の床からの振動、それ以外の外乱による振動を除振・制御する機能を有し、本体ベース31の面上には、Z方向上面に凹型の凹部66cを有する凹型ステージYガイド66a,66bが左右に1個ずつ配置されている。
第1の気体噴出部であるエアパッド72a,72bは、可動子の突出する凸部76cに設けられ、第2の気体噴出部である噴出口64a,64bの間のガイドの凹部66cに入り込む。
固定子61a,61bは、ガイドである凹型ステージYガイド66a,66bが形成され、本体ベース31に固定される。
可動子62a,62bは、ガイドである凹型ステージYガイド66a,66bに沿って移動される。
可動子62a,62bは、凹型ステージYガイド66a,66bに対向して配置される複数の永久磁石である与圧用永久磁石73a,73bを有する。
第1の気体噴出部であるエアパッド72a,72bは、隣接するである与圧用永久磁石73a,73bの間に配置され、凹型ステージYガイド66a,66bに向けて第1の加圧気体76dを噴出する。
このため、第1の加圧気体76dの静圧により可動子62a,62bを、凹型ステージYガイド66a,66bに対して非接触に浮上して支持する。
さらに、第2の気体噴出部である噴出口64a,64bは、固定子61a,61bに設けられ、可動子62a,62bに向けて第2の加圧気体66dを噴出する。
凹型ステージYガイド66a,66bの上面と凹部66cは、精度面に形成され、凹型ステージYガイド66a,66bは、単一の部品でも、分割して組付けた部品でもよい。
凹型ステージYガイド66a,66bには、凹型ステージYガイド66a,66bの側面と上面とを貫通するL字形状の穴の流路63a,63bと、凹型ステージYガイド66a,66bの凹部66cと側面とを貫通する横穴65a,65bとが構成される。
流路63a,63bは、凹型ステージYガイド66a,66bのX方向の各々、図示されるように2側面に配置されるか、図示されないがX方向の外側の側面のみに配置されるかである。
流路63a,63bは、各々の側面のY方向に複数個配置され、各々の流路のY方向位置は一致してもよい。
各々の流路63a,63bは、側面側から第2の加圧空気が供給され、第2の気体噴出部である噴出口64a,64bから第2の加圧空気がZ方向に噴き出す。
横穴65a,65bは、凹型ステージYガイド66a,66bの凹部66cと側面側を貫通し、流路63a,63bのY方向位置と異なる位置に配置されている。
横穴65a,65bは、凹型ステージYガイド66a,66bの凹部66cに生じた第1の加圧空気の流れを、凹部66cの窪み形状のY方向のみに流れるのではなく、凹部66cから側面にも流れるようにしている。
また、横穴65a,65bには、凹型ステージYガイド66a,66bの凹部66c側から側面側へ、強制的に排気する機能を備える場合も有る。
凸型スライダーベース76a,76bはZ方向下面に凸型の凸部76cを有し、Y方向に一様に十分長い形状である。
凸型スライダーベース76a,76bの凸部76c上には、第1の加圧空気の噴出口となる第1の気体噴出部であるエアパッド72a,72bが配置され、凸部76cから一段低い左右の面には、与圧用永久磁石73a,73bが配置されている。
エアパッド72a,72bは、凸型スライダーベース76a,76bの凸部76cの上に、X,Y方向に複数個配置されている。
ここで、エアパッド72a,72bの各々の複数個をユニットとして図示しているため、単一図示となっている。
エアパッド72a,72bからは、−Z方向に第1の加圧空気が噴き出し、凹型ステージYガイド66a,66bの凹部66cに対して第1の加圧空気を噴き出す。
Y天板71と凹型ステージYガイド66a,66b間は、エアパッド72a,72bと凹型ステージYガイド66a,66bにより非接触支持となっている。
凸型スライダーベース76a,76bの凸部76cのX方向幅、及びエアパッド72a,72bのX方向幅は、凹型ステージYガイド66a,66bの凹部66cのX方向幅より狭い。
与圧用永久磁石73a,73bは、凸型スライダーベース76a,76bの凸部76cから一段低い両面に2ヵ所ずつ配置され、X,Y方向に複数個配置されている。
与圧用永久磁石73a,73bは、各々の複数個をユニットとして図示しているため、単一図示となっている。
与圧用永久磁石73a,73bにより、凹型ステージYガイド66a,66bと与圧用永久磁石73a,73b間に吸引力を発生させる。
エアパッド72a,72bにより、凹型ステージYガイド66a,66bとエアパッド72a,72b間に反発力を発生させる。
これにより、Y天板71と凹型ステージYガイド66a,66b間は、高剛性のガイドを構成している。
Y天板71の上面には、X方向に長いステージXガイド74が配置され、X方向の位置を計測するレーザー干渉計の反射ミラーとしてバーミラー54a、Y方向の位置を計測するレーザー干渉計の反射ミラーとしてバーミラー54bが配置される。
この構成により、XYθの位置計測が可能となる。
X,Y方向のレーザー干渉計を利用した測長装置は、レーザーヘッド51を光源としている。
Y天板71の上面には、Y天板71の傾き角度を計測するレーザーの反射ミラーとしてバーミラー54cも配置されている。
Y天板71の傾き角度は、傾き角度計測器ヘッド81を用いて計測されている。
また、複数のレーザーヘッド51をZ方向に配置し、各々のレーザーとバーミラー54a間の光路差を計測することででもY天板71の傾き角度は計測可能である。
Xガイド74の上部には、X天板75が配置され、Y天板71と同様に、エアベアリングによる非接触支持であり、エアパッドと与圧用永久磁石により高剛性のガイドを構成している。
X天板75の上面は、基板30を吸着する機能も有し、基板30を保持している。
X天板75がX方向に移動することで、X重心移動が発生し、Y天板71にかかる荷重もX天板の移動により変化し、Y天板71の左右のベアリング力におけるバランスが変化し、姿勢変化も生じる場合がある。
傾き角度計測器ヘッド81による傾き角度計測の位置情報101、レーザー干渉計を利用した傾き計測のX方向の姿勢情報102を、流路63a,63bに加圧空気の供給を調整し、制御する流量調整手段・噴出方向制御手段100にフィードバックする。
噴出口64a,64bからの第2の加圧空気をY天板71の姿勢調整・制御力として使用することで、Y天板71のX方向の姿勢を調整・制御することができる。
噴出口64a,64bからの加圧空気の供給は、姿勢調整の利用のほか、エアベアリング力の全体的増加の効果もある。
噴出口64a,64bへの加圧空気の供給は、X方向の4箇所に全て供給するか、基板ステージ外側2箇所のみに供給するか状況に応じて選択可能である。
また、噴出口64a,64bからの第2の加圧空気をY方向の前後で、供給流量差をつけることで、Y天板71のY方向傾き角度の調整・制御も可能となる。
X方向の姿勢調整・制御と同様に、Y方向の姿勢情報を流量調整手段・噴出方向制御手段100にフィードバックすることで、Y方向の姿勢調整・制御が可能となる。
また、固定子61a,61bに第2の気体噴出部である噴出口64a,64bが複数個配置され、可動子62a,62bの移動に追従して、所定の噴出口64a,64bのみから第2の加圧気体66dが噴出される。
すなわち、レーザーヘッド51によるレーザー干渉計からのY方向の位置情報を、上記と同様に流量調整手段・噴出方向制御手段100にフィードバックさせ、噴出口64a,64bからの加圧空気の供給箇所をY天板71の位置に追従させる。
必要な流路63a,63bのみへ第2の加圧空気を供給することで、第2の加圧空気の利用が最小限となり、不必要な所へ第2の加圧空気が供給されることによる、ステージへの影響を極力低減する。
流量調整制御・噴出方向制御の加圧空気を固定された凹型ステージYガイド66a,66bから供給することで、加圧空気供給等の構成部品を可動子となるY天板71から低減し、可動子の重量軽減の効果もある。
さらに、可動子となるY天板71へ加圧空気を供給するための長いチューブ構成が不要となるため、圧力損失が抑えられ、加圧空気の増大を極力抑えることができる。
以上、本実施例1によれば、基板ステージのいわゆるエアベアリングによる非接触支持の加圧空気と、流量調整制御・噴出方向制御の加圧空気とを分離・独立し、そのため流量調整制御・噴出方向制御が容易となっている。
さらに、凹型ステージYガイド66a,66bの凹部のX方向幅と、エアパッド65a,65bのX方向幅との差を極力少なくし、その差の部分から各々の加圧空気の干渉を抑えることで、流量調整制御・噴出方向制御の精度が向上する。
従って、X天板75がX方向に移動した際でも、Y天板71および基板30の姿勢を調整・制御することにより姿勢変動が極力抑えられ、かつ省スペース、省エネルギーでステージの性能を向上する。
ステージ性能の向上により、アライメント精度、重ね合わせ精度、像性能が向上し、省エネルギーで、かつ省スペースな構造で露光装置全体の性能を向上させる。
また、本実施例によればエアパッド72a,72bが可動子の凸部の端部に配置され、噴出口64A,64bが凹部の2つの端部に配置されており、凹部に凸部が入り込む構成となっているため、両者の噴出する気体が干渉しにくい構成となっている。すなわち、噴出口64a,64bによる姿勢調整・制御が容易となり、ステージ性能の向上につながる。
図2の実施例1と同様の動作をする構成要素に関しては、同じ参照番号で示され、その説明を省略し、新規な構成要素のみについて説明する。
本体ベース31面上には、Z方向上面に凸型の凸部67cを有する凸型ステージYガイド67a,67bが左右に1個ずつ配置されている。
ガイドにおいて突出する凸部67cは、第2の気体噴出部である噴出口64a,64bの間の可動子の窪んだ凹部77cに入り込む。
凸型ステージYガイド67a,67bにおいては、凸部67cはY方向に一様に形成され、Y方向に長い形状に形成される。
凸型ステージYガイド67a,67bの凸部67cの上面と、上面から一段低い面は、精度面に形成される。
凸型ステージYガイド67a,67bは、単一の部品でも、分割して組付けた部品でもよい。
凸型ステージYガイド67a,67bには、凸型ステージYガイド67a,67bの側面と、凸部67cの上面から一段低い面とを貫通するL字形状の穴の流路63a,63bが構成されている。
流路63a,63bは、凸型ステージYガイド67a,67bのX方向の各々、図示されるように2側面に配置されるか、図示されないようにX方向の外側の側面のみに配置されるかである。
流路63a,63bは、各々の側面のY方向に複数個配置され、各々の流路のY方向位置は一致してもよい。
各々の流路63a,63bは、側面側から加圧空気が供給され、第2の気体噴出部である噴出口64a,64bから第2の加圧空気67dがZ方向に噴き出す。
凸型ステージYガイド67a,67b上には、Y天板71が配置され、Y天板71のZ方向下面側の左右に、凹型スライダーベース77a,77bが組付けられている。
凹型スライダーベース77a,77bはZ方向下面に凹型の凹部77cを有し、Y方向に一様に十分長い形状に形成される。
凹型スライダーベース77a,77bの凹部77c上には、第1の加圧空気77dの噴出口である第1の気体噴出部であるエアパッド72a,72bが配置され、凹部77cからZ方向に一段高い下面の左右には、与圧用永久磁石73a,73bが配置される。
エアパッド72a,72bは、凹型スライダーベース77a,77bの凹部上77cに、X,Y方向に複数個配置されている。
Y天板71と凸型ステージYガイド 67a,67b間は、エアパッド72a,72bと凸型ステージYガイド67a,67bにより非接触に支持される。
凹型スライダーベース77a,77bの凹部のX方向幅は、エアパッド72a,72bのX方向幅、及び凸型ステージYガイド67a,67bの凸部67cのX方向幅より広い。
与圧用永久磁石73a,73bは、凹型スライダーベース77a,77bの最下面の左右に2ヵ所ずつ配置され、X,Y方向に複数個配置されている。
与圧用永久磁石73a,73bより、凸型ステージYガイド67a,67bと与圧用永久磁石73a,73b間に吸引力を発生させている。
そして、エアパッド72a,72bより、凸型ステージYガイド67a,67bとエアパッド72a,72b間に反発力を発生させている。
これによりY天板71と凸型ステージYガイド67a,67b間は、高剛性のガイドを構成している。
また、加圧空気の噴出口64a,64bが与圧用永久磁石73a,73bの下に配置していることで、省スペースな構造となっている。
基板ステージのX,Y方向の姿勢調整・制御、噴出口64a,64bからの第2の加圧空気67dの供給箇所をY天板71の位置に追従させることにより、可動子62a,62bの重量を軽減し、圧力損失を低減し、第1の第2の加圧空気の干渉を抑制する。この本実施例2の効果は実施例1の効果と同様である。
従って、X天板75がX方向に移動した際でも、Y天板71および基板30の姿勢を調整・制御することにより姿勢変動が極力抑えられ、かつ省スペース、省エネルギーでステージの性能向上を実現することができる。
ステージYガイド、スライダーベースの形状は実施例1のみではなく、本実施例2のような形状でも可能である。
よって、基板ステージを製作・加工するための、工程、精度等の制約を緩和することができる。
また、本実施例によればエアパッド72a,72bが可動子の凹部に配置され、噴出口64A,64bが凸部の両脇に配置されており、凹部に凸部が入り込む構成となっているため、両者の噴出する気体が干渉しにくい構成となっている。すなわち、噴出口64a,64bによる姿勢調整・制御が容易となり、ステージ性能の向上につながる。
図2の実施例1と同様の動作をする構成要素に関しては、同じ参照番号を振り、その説明を省略し、新規な構成要素のみについて説明を行う。
本体ベース31面上には、Z方向上面が平面の平面型ステージYガイド68a,68bが左右に1個ずつ配置されている。
平面型ステージYガイド68a,68bの上面は精度面で、上面の平面はY方向に一様に形成され、Y方向に長い形状に形成される。
平面型ステージYガイド68a,68bには、平面型ステージYガイドの側面と、上面とを貫通するL字形状の穴の流路63a,63bが構成されている。
流路63a,63bは、平面型ステージYガイド68a,68bのX方向の各々、図示されるように2側面に配置されるか、図示されないようにX方向の外側の側面のみに配置されるかである。
流路63a,63bは、各々の側面のY方向に複数個配置され、各々の流路のY方向位置は一致してもよい。
各々の流路63a,63bは、側面側から第2の加圧空気68dが供給され、噴出口64a,64bから第2の加圧空気68dがZ方向に噴き出すようになっている。
平面型ステージYガイド68a,68b上には、Y天板71が配置され、Y天板71のZ方向下面側の左右に、平面型スライダーベース78a,78bが組付けられている。
平面型スライダーベース78a,78bはZ方向下面が平面であり、Y方向に一様に形成され、長い形状に形成される。
平面型スライダーベース78a,78bの下面には、第1の加圧空気の噴出口となる第1の気体噴出部であるエアパッド72a,72bが配置され、左右には、与圧用永久磁石73a,73bが配置されている。
エアパッド72a,72bは、平面型スライダーベース78a,78bの下面の中央部に、X,Y方向に複数個配置されている。
Y天板71と平面型ステージYガイド68a,68b間は、エアパッド72a,72bと平面型ステージYガイド68a,68bとにより非接触に支持される。
与圧用永久磁石73a,73bは、平面型スライダーベース78a,78bの下面の左右に2ヵ所ずつ配置され、X,Y方向に複数個配置されている。
与圧用永久磁石73a,73bより、平面型ステージYガイド68a,68bと与圧用永久磁石73a,73b間に吸引力を発生させている。
そして、エアパッド72a,72bより、平面型ステージYガイド68a,68bとエアパッド72a,72b間に反発力を発生させている。
これによりY天板71と平面型ステージYガイド68a,68b間は、高剛性のガイドを構成している。
平面型スライダーベース78a,78bの同一面上に配置した、エアパッド72a,72bと与圧用永久磁石73a,73bとの間の位置はある程度離れている。
また、加圧空気の噴出口64a,64bが与圧用永久磁石73a,73bの下、または与圧用永久磁石73a,73bより内側でエアパッド72a,72bよりは外側に配置していることで、省スペースな構造となっている。
基板ステージをX,Y方向に姿勢調整・制御し、噴出口64a,64bからの第2の加圧空気68dの供給箇所をY天板71の位置に追従させ、可動子62a,62bの重量を軽減し、圧力損失を低減し、加圧空気の干渉を抑制する。
この本実施例3の効果は実施例1での効果と同様である。
このため、X天板75がX方向に移動した際でも、Y天板71および基板30の姿勢を調整・制御することにより姿勢変動が極力抑えられ、かつ省スペース、省エネルギーでステージの性能を向上させる。
ステージYガイド、スライダーベースの形状は実施例1または実施例2のみではなく、最も実現の可能性の高い本実施例のような形状でも可能である。
よって、基板ステージを製作・加工するための、工程、精度等の制約を大幅に緩和することができる。
デバイス(半導体集積回路素子、液晶表示素子等)は、前述のいずれかの実施例の露光装置を使用して、感光剤を塗布した基板(ウェハ、ガラスプレート等)を露光する工程と、その基板を現像する工程と、他の周知の工程と、を経ることにより製造される。
10:サーマルチャンバ 11:空調機室
12:フィルタボックス 13:ブース
20:マスク 21:マスクステージ
30:基板(プレート) 31:本体ベース
32:基板チャック 33:基板ステージ
40:観察光学系 41:照明光学系
42:光源 43:投影光学系
50:レーザー干渉測長器 51:レーザーヘッド
52,53:干渉ミラー
54,54a,54b,54c,55:反射ミラー、あるいはバーミラー
61a,61b:固定子 62a,62b:可動子
63a,63b:流路 64a,64b:噴出口
65a,65b:横穴
66d、67d、68d:第1の加圧気体
76d、77d、78d:第2の加圧気体
66a,66b:凹型ステージYガイド 66c:凹部
67a,67b:凸型ステージYガイド 67c:凸部
68a,68b:平面型ステージYガイド
71:Y天板 72a,72b:エアパッド
73a,73b:与圧用永久磁石 74:ステージXガイド
75:X天板
76a,76b:凸型スライダーベース 76c:凸部
77a,77b:凹型スライダーベース 77c:凹部
78a,78b:平面型スライダーベース
81:傾き角度計測器ヘッド
Claims (8)
- ガイドが形成され、本体ベースに固定される固定子と、
前記ガイドに沿って移動される可動子と、を有し、
前記可動子は、前記ガイドに対向して配置される複数の永久磁石と、
隣接する前記複数の永久磁石の間に配置され、前記ガイドに向けて第1の加圧気体を噴出する第1の気体噴出部と、を有し、
前記第1の加圧気体の静圧により前記可動子を、前記ガイドに対して非接触に浮上して支持するエアスライダー装置において、
前記固定子に設けられ、前記可動子に向けて第2の加圧気体を噴出する第2の気体噴出部を有することを特徴とするエアスライダー装置。 - 前記第2の気体噴出部は、前記第2の加圧気体の噴出量を調整する流量調整手段と、
前記第2の加圧気体の噴出される方向を調整する噴出方向調整手段と、を有することを特徴とする請求項1に記載のエアスライダー装置。 - 前記第1の気体噴出部は、前記可動子の突出する凸部に設けられ、前記第2の気体噴出部の間の前記ガイドの凹部に入り込むことを特徴とする請求項1または2に記載のエアスライダー装置。
- 前記ガイドにおいて突出する凸部は、前記第2の気体噴出部の間の前記可動子の窪んだ凹部に入り込むことを特徴とする請求項1または2に記載のエアスライダー装置。
- 前記固定子に前記第2の気体噴出部が複数個配置され、
前記可動子の移動に追従して、所定の前記第2の気体噴出部のみから前記第2の加圧気体が噴出されることを特徴とする請求項1から4のいずれかに記載のエアスライダー装置。 - 請求項1から5のいずれかに記載のスライダー装置を有することを特徴とするステージ。
- 請求項6に記載のステージを有することを特徴とする露光装置。
- 請求項1から7のいずれかに記載の露光装置を用いて基板を露光する工程と、
前記基板を現像する工程と、を備えることを特徴とするデバイス製造方法。
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