JP2012058388A - 露光装置 - Google Patents

露光装置 Download PDF

Info

Publication number
JP2012058388A
JP2012058388A JP2010199893A JP2010199893A JP2012058388A JP 2012058388 A JP2012058388 A JP 2012058388A JP 2010199893 A JP2010199893 A JP 2010199893A JP 2010199893 A JP2010199893 A JP 2010199893A JP 2012058388 A JP2012058388 A JP 2012058388A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
microlens array
substrate
microlens
longitudinal direction
plate
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Pending
Application number
JP2010199893A
Other languages
English (en)
Inventor
Michinobu Mizumura
通伸 水村
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
V Technology Co Ltd
Original Assignee
V Technology Co Ltd
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by V Technology Co Ltd filed Critical V Technology Co Ltd
Priority to JP2010199893A priority Critical patent/JP2012058388A/ja
Publication of JP2012058388A publication Critical patent/JP2012058388A/ja
Pending legal-status Critical Current

Links

Images

Abstract

【課題】マイクロレンズアレイを基板に対して移動させる露光装置において、マイクロレンズアレイの撓みの発生を防止することができ、マイクロレンズと基板との間のギャップを一定にすることができ、高精度のパターンを露光することができる露光装置を提供する。
【解決手段】矩形状の面に2次元的にマイクロレンズ4aが配列されたマイクロレンズアレイ4は、その4辺でマイクロレンズアレイプレート3により支持されている。このマイクロレンズアレイプレート3はその長手方向に直交する方向に移動することにより、基板1の露光すべき領域が露光光で走査される。このマイクロレンズアレイプレートには、その少なくとも長手方向の中央を含む部分に、下方に向けて空気を吹き出す吹出部(多孔質部分5)が設けられている。
【選択図】図1

Description

本発明は、マイクロレンズアレイを使用した露光装置に関し、特に、マイクロレンズアレイを基板上で走査する露光装置に関する。
マイクロレンズアレイを投影レンズとする露光装置としては、結像光学系のもの(特許文献1)と、近接露光系のもの(特許文献2)とがある。いずれも、マイクロレンズを2次元的に配置して形成したマイクロレンズアレイを使用し、各マイクロレンズに対応する開口を有すると共にこの開口に所定のパターンを形成したフォトマスクを前記マイクロレンズアレイの上方に配置することにより、各パターンを透過した露光光を各マイクロレンズにより基板上に結像させる。これにより、基板上の微小領域に所定のパターンを露光することができると共に、基板上の微小領域に夫々異なるパターンを露光することもできる。
これらの露光装置においては、マイクロレンズアレイを露光対象の基板の全面を覆うような大型にすることはできないために、通常、基板の1辺の長さに対応する長さを有する長尺のマイクロレンズアレイを固定しておき、基板をマイクロレンズアレイの長手方向に垂直の方向に移動させることにより、マイクロレンズアレイを透過した露光光が、基板の全面を走査するようにしている。
特開2007−3829号公報 特開2009−277900号公報
しかしながら、基板を移動させる代わりに、基板とマスクを固定し、マイクロレンズアレイをこの基板とマスクとの間に配置し、このマイクロレンズアレイをその面に平行の方向であって長手方向に垂直の方向に移動させて、基板上を露光光で走査する場合、マイクロレンズアレイと、基板とのギャップを一定に維持することが困難であるという問題点がある。即ち、このマイクロレンズアレイは厚さが4mm程度、長さが1m以上であるため、その長手方向に撓みやすく、マイクロレンズと基板との間のギャップが、マイクロレンズアレイの長手方向で変動してしまう。このように、マイクロレンズと基板との間のギャップが位置により変動すると、マイクロレンズによる結像位置が変動し、設計どおりの解像力が得られない。
本発明はかかる問題点に鑑みてなされたものであって、マイクロレンズアレイを基板に対して移動させる露光装置において、マイクロレンズアレイの撓みの発生を防止することができ、マイクロレンズと基板との間のギャップを一定にすることができ、高精度のパターンを露光することができる露光装置を提供することを目的とする。
本発明に係る露光装置は、矩形状の面に2次元的にマイクロレンズが配列されたマイクロレンズアレイと、このマイクロレンズアレイをその4辺で支持するマイクロレンズアレイプレートと、露光対象の基板が設置される基板設置部と、この基板設置部の上方で前記マイクロレンズアレイプレートを前記マイクロレンズアレイの長手方向に直交する方向であって前記基板の表面に平行の方向に移動させる駆動装置と、前記基板設置部の上方に前記マイクロレンズアレイを間に挟んで前記基板に対向するように配置されたマスクと、を有し、前記マイクロレンズアレイプレートには、その少なくとも長手方向の中央を含む部分に、下方に向けて空気を吹き出す吹出部が設けられていることを特徴とする。
この露光装置において、例えば、前記吹出部は、前記マイクロレンズアレイプレートの少なくとも長手方向の中央を含む部分を構成する多孔質部材と、このマイクロレンズアレイプレートの内部に設けられた空気通路と、この空気通路に空気を供給して前記多孔質部材から空気を吹き出させる空気供給部材とを有する。
なお、例えば、前記マスクの前記開口には、露光パターンが形成されている。
本発明によれば、マイクロレンズアレイをその周囲で支持するマイクロレンズアレイプレートの少なくとも長手方向の中央に設けられた吹出部から、下方に向けて空気を吹き出すので、空気の吹出流が基板の表面に吹き付けられてその反力によりプレートの吹出部に対して上方の応力が印加される。このため、マイクロレンズアレイが薄くて長寸であっても、その少なくとも中央部を含む吹出部に上方の応力が印加されているので、マイクロレンズアレイがその長手方向の中央で下方に撓んでしまうことが防止される。よって、マイクロレンズアレイと基板との間のギャップがマイクロレンズアレイの長手方向に均一になり、露光光の焦点位置が基板上で均一になり、設計通りの解像力を得ることができる。
本発明の実施形態に係る露光装置を示す平面図である。 マイクロレンズアレイの移動方向に平行の縦断面図である。 マイクロレンズアレイの移動方向に垂直の方向の縦断面図である。 露光光源11と、マスク10と、マイクロレンズアレイ4と、基板1との配置関係を示す斜視図である。 マイクロレンズアレイプレートを下方からみた斜視図である。
以下、本発明の実施の形態について添付の図面を参照して具体的に説明する。図1は本発明の実施形態に係る露光装置を示す平面図、図2はマイクロレンズアレイの移動方向に平行の縦断面図、図3はマイクロレンズアレイの移動方向に垂直の方向の縦断面図である。また、図4は露光光源11と、マスク10と、マイクロレンズアレイ4と、基板1との配置関係を示す斜視図、図5はマイクロレンズアレイプレートを下方からみた斜視図である。
基板1はX−Yステージ等により所定の露光位置に搬入される。そして、この露光位置の上方に、マイクロレンズアレイ4が配置され、更にその上方にマスク10が配置されている。マイクロレンズアレイ4は矩形をなし、特に長寸の帯状をなす透明基板の下面に、二次元的に配置されて多数のマイクロレンズ4aが形成されている。このマイクロレンズアレイ4はその4辺でマイクロレンズアレイプレート(以下、MLAプレートという)3により支持されている。
基板1の対向する1対の辺に沿って、マイクロレンズアレイスキャンステージ(以下、MLAスキャンステージという)2a、2bが設けられている。MLAプレート3はその長手方向の両端部3a、3bが、夫々MLAスキャンステージ2a,2bに、MLAスキャンステージ2a,2bの長手方向に移動可能に支持されている。これにより、マイクロレンズアレイ4は基板1の全域を移動することができる。
マイクロレンズアレイ4の上方には、基板1の全域に対向するようにして、マスク10が配置されている。このマスク10には、マイクロレンズアレイ4の各マイクロレンズ4aに対応する開口が形成されている。即ち、マスク10には、マイクロレンズアレイ4の長手方向に関し、マイクロレンズ4aのMLA長手方向の配列ピッチと同一ピッチで開口が形成されており、マイクロレンズアレイ4の幅方向(移動方向)に関し、マイクロレンズ4aのMLA幅方向の配列ピッチと同一ピッチで開口が形成されている。そして、各開口には、所定の露光パターンが形成されている。
このマスク10の上方には、露光光源11(図4参照)が設置されており、マイクロレンズアレイ4の面の全域に対して露光光(例えば、i線)を照射する。また、この露光光源11とマイクロレンズアレイ4とは、一体となって、適宜の駆動装置により、マイクロレンズアレイ4の幅方向に移動するように駆動される。
基板1及びマスク10はそのマイクロレンズアレイ4の長手方向の寸法が例えば1.2m、マイクロレンズアレイ4の幅方向の寸法が例えば1.4mである。従って、マイクロレンズアレイ4の長手方向の長さは上記基板に対しては1.2mを超える。また、マイクロレンズアレイ4の厚さは通常4mm程度であり、マイクロレンズアレイ4の各マイクロレンズ4aと基板1との間の間隔(ギャップ)は300μmである。そして、マイクロレンズアレイ4を支持するMLAプレート3と基板1との間の間隔は、30乃至50μmである。なお、マイクロレンズアレイ4とその上方のマスク10との間の間隔も300μm程度である。従って、基板1には、マスク10の露光パターンと等倍の像が正立像で結像する。また、マイクロレンズ4aの焦点深度は、通常、±50μmであるので、マイクロレンズアレイ4の各マイクロレンズ4aと基板1との間の間隔(ギャップ)の変動が、±50μm以内であれば、許容される。
しかしながら、従来は、長さが1.2mを超え、厚さが4mm程度と薄いマイクロレンズアレイ4は、厚さが同様に4mm程度のMLAプレート3により支持されていても、その長手方向の中央部で撓み、この中央部が基板1に向けて接近し、マイクロレンズアレイ4の長手方向に関し、マイクロレンズ4aと基板1との間のギャップは焦点深度を超えて変動する。
そこで、本実施形態においては、MLAプレート3の長手方向の両端部3a、3bの部分を除き、マイクロレンズアレイ4の周囲を取り囲む部分5を、多孔質材料で形成する。この多孔質材料は、例えば、カーボン又はセラミックスの多孔質材料であり、その表面にグラスコーティングが施されている。そして、この部分5の上面及び側面は、非多孔質材料で被覆されており、MLAプレート3の部分5の下面のみが、多孔質のまま露出している。そして、この部分5は内部に空気通路6(図3参照)が形成されており、この空気通路6は、一方の端部3aに接続された配管5a、5bを介して、夫々空気の供給源及び排気源に接続されている。これにより、MLAプレート3の多孔質部分5には、配管5aを介して圧縮空気が供給され、MLAプレート3の多孔質部分5から下方に向けて空気が吹き出されるようになっている。配管5a,5bはMLAプレート3の移動と共に、移動するので、MLAプレート3の移動の間、多孔質部分5から下方に向けて空気が吹き出される。
なお、この多孔質材料で構成する部分5は、必ずしも、マイクロレンズアレイ4の4辺に沿って設ける必要はない。少なくとも、MLAプレート3の長手方向の中央部を含む部分を多孔質材料として、空気を下方に向けて吐出するようにすればよい。例えば、図5に示すように、多孔質部分5をマイクロレンズアレイ4の長辺と平行にこの長辺と同一長さに形成してもよい。
次に、上述のごとく構成された露光装置の動作について説明する。適宜のX−Yステージにより、基板1を所定の露光位置に搬入する。そして、MLAプレート3の多孔質部分5に対し、配管5aを介して空気を供給し、配管5bから空気を排出する。そうすると、空気が多孔質部分5の下面から下方に吐出され、基板1に対して空気が吹き付けられる。これにより、基板1に吹き付けられる空気流の反力として、MLAプレート3には上方に応力が印加され、薄くて長寸のマイクロレンズアレイ4及びMLAプレート3がその長手方向中央部分で下方に撓むことが防止される。その結果、マイクロレンズアレイ4に形成されたマイクロレンズ4aは、その焦点位置がマイクロレンズアレイ4の長手方向についてほぼ均一になる。このマイクロレンズ4aの焦点深度は、通常、±50μm程度であるので、焦点位置がこの±50μm以内で変動しても、マイクロレンズ4aを透過した露光光は、基板1に結像する。本実施形態においては、空気流の吐出によりマイクロレンズアレイ4及びMLAプレート3が上方に応力を受けているので、マイクロレンズアレイ4の長手方向の中央に配置されたマイクロレンズ4aと、端部に配置されたマイクロレンズ4aとは、その基板1との間のギャップの相違が、±50μm以内に収まる。従って、本実施形態においては、マイクロレンズアレイ4の全てのマイクロレンズ4aを透過した露光光は、基板1に結像する。これにより、設計通りの解像力が得られる。
1:基板
2a,2b:MLAスキャンステージ
3:マイクロレンズアレイ(MLA)プレート
3a、3b:端部
4:マイクロレンズアレイ
4a:マイクロレンズ
5:(多孔質)部分
5a、5b:配管
6:空気通路
10:マスク
11:露光光源

Claims (3)

  1. 矩形状の面に2次元的にマイクロレンズが配列されたマイクロレンズアレイと、このマイクロレンズアレイをその4辺で支持するマイクロレンズアレイプレートと、露光対象の基板が設置される基板設置部と、この基板設置部の上方で前記マイクロレンズアレイプレートを前記マイクロレンズアレイの長手方向に直交する方向であって前記基板の表面に平行の方向に移動させる駆動装置と、前記基板設置部の上方に前記マイクロレンズアレイを間に挟んで前記基板に対向するように配置されたマスクと、を有し、前記マイクロレンズアレイプレートには、その少なくとも長手方向の中央を含む部分に、下方に向けて空気を吹き出す吹出部が設けられていることを特徴とする露光装置。
  2. 前記吹出部は、前記マイクロレンズアレイプレートの少なくとも長手方向の中央を含む部分を構成する多孔質部材と、このマイクロレンズアレイプレートの内部に設けられた空気通路と、この空気通路に空気を供給して前記多孔質部材から空気を吹き出させる空気供給部材とを有することを特徴とする請求項1に記載の露光装置。
  3. 前記マスクの前記開口に、露光パターンが形成されていることを特徴とする請求項1又は2に記載の露光装置。
JP2010199893A 2010-09-07 2010-09-07 露光装置 Pending JP2012058388A (ja)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2010199893A JP2012058388A (ja) 2010-09-07 2010-09-07 露光装置

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2010199893A JP2012058388A (ja) 2010-09-07 2010-09-07 露光装置

Publications (1)

Publication Number Publication Date
JP2012058388A true JP2012058388A (ja) 2012-03-22

Family

ID=46055575

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP2010199893A Pending JP2012058388A (ja) 2010-09-07 2010-09-07 露光装置

Country Status (1)

Country Link
JP (1) JP2012058388A (ja)

Cited By (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2013200506A (ja) * 2012-03-26 2013-10-03 Nikon Corp 露光装置、露光方法及びデバイス製造方法
WO2013176178A1 (ja) * 2012-05-22 2013-11-28 株式会社ニコン 露光装置、露光方法及びデバイス製造方法
JP2014168030A (ja) * 2012-03-29 2014-09-11 Nsk Technology Co Ltd 露光装置及び露光方法
WO2016159295A1 (ja) * 2015-03-31 2016-10-06 株式会社ニコン 露光装置、フラットパネルディスプレイの製造方法、デバイス製造方法、及び露光方法

Citations (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH09244255A (ja) * 1996-03-13 1997-09-19 Nikon Corp 液晶用露光装置
JP2000173898A (ja) * 1998-12-08 2000-06-23 Sanee Giken Kk 露光装置
JP2001521278A (ja) * 1997-10-23 2001-11-06 ハグル・リソグラフィ レンズアレイフォトリソグラフィ
JP2007041269A (ja) * 2005-08-03 2007-02-15 Nsk Ltd 露光装置

Patent Citations (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH09244255A (ja) * 1996-03-13 1997-09-19 Nikon Corp 液晶用露光装置
JP2001521278A (ja) * 1997-10-23 2001-11-06 ハグル・リソグラフィ レンズアレイフォトリソグラフィ
JP2000173898A (ja) * 1998-12-08 2000-06-23 Sanee Giken Kk 露光装置
JP2007041269A (ja) * 2005-08-03 2007-02-15 Nsk Ltd 露光装置

Cited By (8)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2013200506A (ja) * 2012-03-26 2013-10-03 Nikon Corp 露光装置、露光方法及びデバイス製造方法
JP2014168030A (ja) * 2012-03-29 2014-09-11 Nsk Technology Co Ltd 露光装置及び露光方法
WO2013176178A1 (ja) * 2012-05-22 2013-11-28 株式会社ニコン 露光装置、露光方法及びデバイス製造方法
WO2016159295A1 (ja) * 2015-03-31 2016-10-06 株式会社ニコン 露光装置、フラットパネルディスプレイの製造方法、デバイス製造方法、及び露光方法
KR20170128599A (ko) * 2015-03-31 2017-11-22 가부시키가이샤 니콘 노광 장치, 플랫 패널 디스플레이의 제조 방법, 디바이스 제조 방법, 및 노광 방법
CN107430357A (zh) * 2015-03-31 2017-12-01 株式会社尼康 曝光装置、平面显示器的制造方法、元件制造方法、及曝光方法
CN107430357B (zh) * 2015-03-31 2021-02-05 株式会社尼康 曝光装置、平面显示器的制造方法、元件制造方法、及曝光方法
KR102558072B1 (ko) 2015-03-31 2023-07-20 가부시키가이샤 니콘 노광 장치, 플랫 패널 디스플레이의 제조 방법, 디바이스 제조 방법, 및 노광 방법

Similar Documents

Publication Publication Date Title
TWI514087B (zh) A method of manufacturing an exposure apparatus and an element
JP5704525B2 (ja) マイクロレンズアレイを使用したスキャン露光装置
JP2010262284A (ja) 保護装置、マスク、マスク形成装置、マスク形成方法、露光装置、デバイス製造方法、及び異物検出装置
KR20010031353A (ko) 사진석판 장치 및 방법
CN1317725A (zh) 曝光设备的光学元件保持装置
JP2015228519A5 (ja) 露光装置及びデバイス製造方法
JP2012058388A (ja) 露光装置
KR20180079270A (ko) 홀더, 리소그래피 장치, 물품의 제조 방법 및 스테이지 장치
WO2012029449A1 (ja) マイクロレンズアレイを使用した露光装置及び光学部材
JP2010272858A (ja) 露光機用光源装置
JP6655753B2 (ja) 照明源としてのマイクロledアレイ
WO2012157409A1 (ja) 露光装置及び遮光板
JP6037199B2 (ja) 露光装置及び露光方法
JP6855008B2 (ja) 露光装置、フラットパネルディスプレイの製造方法、デバイス製造方法、及び露光方法
JP2014035349A (ja) 露光装置、フラットパネルディスプレイの製造方法、及びデバイス製造方法
WO2013176178A1 (ja) 露光装置、露光方法及びデバイス製造方法
JP6428839B2 (ja) 露光方法、露光装置及びデバイス製造方法
JP2010267806A (ja) ステージ装置、ケーブル保持装置、露光装置、及びデバイス製造方法
JP5760292B2 (ja) マイクロレンズアレイを使用した露光装置
JP5704535B2 (ja) マイクロレンズアレイを使用した露光装置
JP6131607B2 (ja) 露光方法、露光装置及びデバイス製造方法
JP6729663B2 (ja) 露光方法及び露光装置
CN110888304B (zh) 曝光设备和制造制品的方法
KR20210014261A (ko) 노광 장치
JP2006243380A (ja) マスクアダプタ、マスクアダプタ付マスク及び露光方法

Legal Events

Date Code Title Description
A621 Written request for application examination

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621

Effective date: 20130830

A977 Report on retrieval

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007

Effective date: 20140210

A131 Notification of reasons for refusal

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131

Effective date: 20140218

A02 Decision of refusal

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A02

Effective date: 20140624