JP5760292B2 - マイクロレンズアレイを使用した露光装置 - Google Patents
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Description
露光光を基板に向けて発光する光源と、この光源からの露光光が入射され露光すべき複数個のパネルに対応するパターンが形成されたマスクと、このマスクを透過した露光光が入射され前記マスクのパターンの正立等倍像を基板上に結像させるマイクロレンズアレイと、前記露光光を前記基板上でスキャンする駆動装置と、を有し、前記駆動装置は、前記マイクロレンズアレイと前記光源との位置関係は固定し、前記マスクと前記基板との位置関係は固定した状態で、前記マイクロレンズアレイ及び前記光源の組み合わせと、前記マスクと前記基板との組み合わせとを、第1の方向に相対的に移動させることにより、前記露光光を前記基板上でスキャンさせるものであり、
前記露光光の照射領域は前記マイクロレンズアレイの大きさに対応するものであり、
前記マイクロレンズアレイは、前記第1の方向に垂直の第2の方向に関して、複数個に分割されて配列された2個以上のユニットとして構成されていて、各前記ユニットは、前記第2の方向に関し、そのユニットが製造せんとするパネルの長さに対応する長さを有すると共に、
前記マイクロレンズアレイの前記第2の方向の長さは、前記マスクの前記第2の方向の長さ又はその長さの整数分の1の長さに対応する長さを有することを特徴とする。
2:第2方向(スキャン方向に直交する方向)
14:光源
15:露光光
18、42:マスクステージ
20:マスク
21:マイクロレンズアレイホルダ
22:マイクロレンズアレイ
23,24,25:パネル
26,27:端縁
28,29,30:マイクロレンズアレイユニット
40:基板
41:露光パターン
Claims (3)
- 露光光を基板に向けて発光する光源と、この光源からの露光光が入射され露光すべき複数個のパネルに対応するパターンが形成されたマスクと、このマスクを透過した露光光が入射され前記マスクのパターンの正立等倍像を基板上に結像させるマイクロレンズアレイと、前記露光光を前記基板上でスキャンする駆動装置と、を有し、前記駆動装置は、前記マイクロレンズアレイと前記光源との位置関係は固定し、前記マスクと前記基板との位置関係は固定した状態で、前記マイクロレンズアレイ及び前記光源の組み合わせと、前記マスクと前記基板との組み合わせとを、第1の方向に相対的に移動させることにより、前記露光光を前記基板上でスキャンさせるものであり、
前記露光光の照射領域は前記マイクロレンズアレイの大きさに対応するものであり、
前記マイクロレンズアレイは、前記第1の方向に垂直の第2の方向に関して、複数個に分割されて配列された2個以上のユニットとして構成されていて、各前記ユニットは、前記第2の方向に関し、そのユニットが製造せんとするパネルの長さに対応する長さを有すると共に、
前記マイクロレンズアレイの前記第2の方向の長さは、前記マスクの前記第2の方向の長さ又はその長さの整数分の1の長さに対応する長さを有することを特徴とするマイクロレンズアレイを使用した露光装置。 - 前記マイクロレンズアレイは前記第2の方向に関して前記マスクの長さに対応する長さを有し、前記マイクロレンズアレイは、前記マスクに対し、1回相対的にスキャンすることにより、前記マスクのパターンを前記基板に転写することを特徴とする請求項1に記載のマイクロレンズアレイを使用した露光装置。
- 前記マイクロレンズアレイは前記第2の方向に関して、nを2以上の整数として、前記マスクの長さの1/nの長さを有し、前記マイクロレンズアレイは、前記マスクに対し、前記第2の方向にn分割された領域を、夫々スキャンすることにより、前記マスクのパターンを前記基板に転写することを特徴とする請求項1に記載のマイクロレンズアレイを使用した露光装置。
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