CN104977811A

CN104977811A - 曝光装置及其固定方法

Info

Publication number: CN104977811A
Application number: CN201510122819.XA
Authority: CN
Inventors: 桥本英幸; 中谷猛
Original assignee: Ushio Denki KK
Current assignee: Ushio Denki KK
Priority date: 2014-04-11
Filing date: 2015-03-19
Publication date: 2015-10-14
Anticipated expiration: 2035-03-19
Also published as: JP5858085B2; KR20150118017A; KR102033059B1; TW201543170A; CN104977811B; JP2015204320A; TWI641916B

Abstract

提供一种能够实现高曝光精度的曝光装置。曝光装置具备：排列元件，光学元件被排列成二维状；保持体，保持所述排列元件；投影光学系统，将通过了所述排列元件的光成像到所述感光材料上；被固定部，相对于所述投影光学系统的位置被固定，且所述保持体固定在该被固定部上；固定器具，将所述保持体固定到所述被固定部上；以及凹部，用于将所述保持体通过吸附保持到所述被固定部，且被设置在所述保持体和所述被固定部的至少一方。

Description

曝光装置及其固定方法

技术领域

本发明涉及例如用于光刻的曝光装置，更详细地说，涉及使空间光调制元件调制后的光通过投影光学系统，将由该光产生的像成像到预定的面上的曝光装置。

背景技术

近年来，提出了一种曝光装置，利用DMD(digital mirror device：注册商标)等空间光调制元件调制的光通过投影光学系统，将由该光产生的像成像到感光材料(抗蚀剂)上进行曝光。像这样，将利用了空间光调制元件的曝光装置称为DI(direct image：直接成像)曝光装置。

DI曝光装置的曝光头具备“空间光调制元件(DMD)”、“第一投影光学系统(投影透镜)”、“微透镜阵列(MLA)”、以及“第二投影光学系统(投影透镜)”。这种DI曝光装置具有如下的构成：通过第一投影透镜将由DMD调制的光放大投影到MLA上，利用第二投影透镜将通过了MLA的光投影到预定的光照射面。在此，MLA指的是，与DMD的各像素部分别对应的微透镜根据该DMD的各像素的位置而配置成阵列状的透镜。

作为这种DI曝光装置，有例如专利文献1、专利文献2记载的技术。这些技术涉及具备DMD、第一投影透镜、MLA、以及第二投影透镜等构成要素的曝光装置，将经过了DMD的各像素部(反射镜)的光导向MLA的各微透镜。

专利文献1：日本特许第4510429号公报

专利文献2：日本特开2005-189403号公报

但是，在DI曝光装置中，DMD的更换频度较高，需要每次进行DMD的反射镜和与其对应的MLA的透镜的对位。另外，虽然频度比DMD低，但为了将光照射面上的投影像设为期望的位置和方向，也需要进行MLA的对位。而且，期望在这样的对位之后，将DMD、MLA的位置固定。

但是，由于对位需要高精度，所以用于固定DMD、MLA的位置的作业(例如拧紧螺钉)而产生了无法忽视的位移时，不能实现高曝光精度。在上述专利文献1、专利文献2中没有提出任何关于抑制这种位移而将DMD、MLA的位置固定的构造和方法。

发明内容

本发明的课题在于，提供一种能够实现高曝光精度的曝光装置。另外，本发明的课题在于，提供一种能够应用于该曝光装置的固定方法。

为了解决上述课题，本发明的曝光装置的一个方式，具备；排列元件，光学元件被排列成二维状；保持体，保持所述排列元件；投影光学系统，将通过了所述排列元件的光成像到所述感光材料上；被固定部，相对于所述投影光学系统的位置被固定，所述保持体固定在该被固定部上；固定器具，将所述保持体固定到所述被固定部上；以及凹部，用于将所述保持体通过吸附保持到所述被固定部上，且被设置在所述保持体和所述被固定部的至少一方。根据这种曝光装置，使用凹部将保持体吸附固定之后，利用固定器具进行固定，所以能够抑制伴随固定作业产生的保持体的位移(进而，排列元件的位移)。其结果，能够实现由被高精度地对位的排列元件的高曝光精度。

另外，在所述曝光装置中，优选所述排列元件通过将反射型或者透射型光学元件排列而成，所述投影光学系统将由所述排列元件反射或透射的光成像。

排列元件是反射型或透射型时，排列元件的位移通过后段的投影光学系统等给曝光装置的曝光精度带来很大影响，所以通过如上所述的位移的抑制，曝光精度有效提高。

此外，为了解决上述课题，本发明的固定方法的一个方式固定方法，是在曝光装置中将保持体固定到相对于投影光学系统的位置被固定的被固定部上的固定方法，所述曝光装置对各像素调制来自光源的光而在感光材料上成像，所述曝光装置具备：排列元件，光学元件排列成二维状；所述保持体，保持该排列元件；以及所述投影光学系统，将通过了所述排列元件的光成像到感光材料上，所述固定方法的特征在于，包括：将所述保持体通过吸附保持到所述被固定部上的第1工序；以及利用固定器具将通过所述第1工序保持的所述保持体固定到所述被固定部上的第2工序。

根据这种固定方法，能够抑制第2工序中的伴随固定作业产生的保持体的位移(以及排列元件的位移)，能够实现基于被高精度地对位的排列元件的高曝光精度。

发明的效果：

在本发明的曝光装置以及固定方法中，能够抑制伴随固定作业产生的保持体的位移，所以能够实现高曝光精度。

附图说明

图1是示出本实施方式的曝光装置的概要结构图。

图2是示出曝光头的具体构成的图。

图3A是示出MLA的构成的截面图。

图3B是示出MLA的构成的俯视图。

图4是示出曝光头的图像形成区域的图。

图5是概念性地示出投影光学系统相对于基座的固定方法的图。

图6是示出DMD保持体和MLA保持体的固定位置的图。

图7是示出DMD保持体的详细结构的一例的截面图。

图8是示出DMD保持体的详细结构的一例的立体图。

图9是示出DMD保持体的调整用卡具的一例的图。

图10是示出调整用卡具的臂的一例的图。

图11是示出MLA保持体的详细结构的一例的截面图。

图12是示出MLA保持体的详细结构的一例的立体图。

图13是示出上部保持体171的调整用卡具的一例的图。

图14是示出变形例的MLA保持体的图。

图15是示出串扰的发生图案与调整方向之间的关系的图。

附图标记说明

1…曝光装置；10…曝光头单元；11…曝光头；12…基座；13…光源；14…入射光学系统；15…空间光调制元件(DMD)；15a…DMD保持体；155…用于真空吸附的孔；16…第一投影透镜；17…微透镜阵列(MLA)；17a…透镜元件；17b…MLA保持体；17c…螺钉；18…第二投影透镜；171…上部保持体；172…下部保持体；175…用于真空吸附的孔

具体实施方式

基于附图说明本发明的实施的方式。

图1是本实施方式的曝光装置的概要结构图。

曝光装置1使空间光调制元件调制后的光通过投影光学系统，将由该光生成的像成像到感光材料(抗蚀剂)上进行曝光。这种曝光装置利用空间光调制元件直接形成图像，所以无需掩模(或者刻线)，被称为DI(directimage：直接成像)曝光装置。曝光装置1具备曝光头单元10、搬运作为曝光对象的基板(工件)W的搬运系统20、设置曝光头单元10和搬运系统20的设置台30。在此，工件W例如是涂布了抗蚀剂的树脂制印制电路板。

曝光头单元10具备多个曝光头(光学引擎)11和在此省略了图示的光源。在曝光头11中内置上述的空间光调制元件，曝光头11从光源获得光供给，以预先设定的图案照射光。这些多个曝光头11被共用的基座12支承。该基座12被固定在以跨过设置台30的方式设置的门状的台架(gantry)31，台架31的各端部(腿部)被分别固定在设置台30的侧面。

在此，基座12被直接搭载于台架31的将2个腿部连接的水平的梁部上。在台架31的梁部形成有供曝光头11贯通的贯穿孔(未图示)，基座12跨过该贯穿孔而将两端部(在此，X方向的端部)固定到台架31的梁部。也就是说，基座12以双侧梁状被固定到台架31。

另外，基座12相对于台架31的固定方法可采用能够确保刚性的任意手法。例如，曝光头单元10也可以具备外框架，将该外框架和台架31固定的情况下，将基座12经由曝光头单元10的外框架固定到台架31上。在这种情况下，基座12以双侧梁状被固定到外框架。

另外，搬运系统20具备：通过真空吸附等方法将工件W吸附保持的平板状的工作台21；沿着工作台21的移动方向延伸的2个导向件22；以及作为一例构成工作台21的移动机的电磁铁23。

在此，作为上述移动机构，说明采用线性电动机工作台的例子。在这种情况下，线性电动机工作台是如下的机构：通过空气使移动体(工作台)在平面状的台板(platen)的上方浮起，在台板上以围棋盘状设置了强磁体的凸极，对移动体施加磁力，使移动体与台板的凸极之间的磁力变化，从而使移动体(工作台)移动。

工作台21以其长边方向朝向工作台移动方向的方式配置，并且通过导向件22在补偿了直线度的状态下可进行往返移动地被支承。

在本说明书，将工作台21的移动方向设为X方向，将与X方向垂直的水平方向设为Y方向，将铅直方向设为Z方向。工件W成方形，以一边的方向朝向X方向、另一边朝向Y方向的姿势被保持到工作台21上。另外，在以下的说明，将X方向设为工件W的长度方向，将Y方向设为工件W的宽度方向。

工作台21的移动路径被设计成通过曝光头单元10的正下方，搬运系统20将工件W搬运到各曝光头11的光照射位置、并且使工件W通过该照射位置。在工件W通过的过程中，在工件W上曝光由各曝光头11形成的像的图案。

接着，说明曝光头11的光学构成。

图2是概念性地示出曝光头11的光学构成的图。如图2所示，曝光头11具备入射光学系统14、空间光调制元件15、第一投影透镜16、微透镜阵列(MLA)17、以及第二投影透镜18。

入射光学系统14将光源13的输出光入射到空间光变量元件15，具备光纤14a、准直透镜14b、以及反射镜14c。在此，光源13是射出405nm或365nm这样的波长的光的灯或激光二极管，作为光纤14a例如使用石英纤维。

光源13的输出光被光纤14a引导而入射到准直透镜14b，准直透镜14b将从光纤14a射出而扩散的光转换为平行光后射出。通过了准直透镜14b的光被反射镜14c反射，以角度θ入射到空间光调制元件15。

作为空间光调制元件15，使用数字微镜器件(DMD)。DMD是将例如13.68μm见方的微镜(像素镜)排列成二维状的排列元件。排列数为例如1024×768个，空间光调制元件(DMD)15的整体大小为例如14mm×10.5mm左右。

DMD15的各像素镜的角度由控制部(未图示)控制。控制部输出用于将DMD15的各像素镜的角度控制成只将形成期望图案的反射光入射到第一投影透镜16的控制信号。也就是说，DMD15的各像素镜的角度根据应形成的图像的图案而被选择性地控制。具体地讲，根据应形成的图案，处于应该使光到达工件W的位置的像素镜被控制成由该像素镜反射的光入射到第一投影透镜16的角度(第一角度)，除此之外的像素镜被控制成由该像素镜反射的光不入射到第一投影透镜16的角度(第二角度)。

像这样，只有被第一角度的像素镜反射的光到达工件W的表面，被第二角度的像素镜反射的光不会到达工件W。

第一投影透镜16是将来自DMD15的像放大到例如2倍～5倍后投影到MLA17上的放大投影透镜。

另外，如图3A的截面图、图3B的俯视图所示，MLA17是将多个微小透镜(以下称为透镜元件)17a排列成二维状的光学部件(排列元件)。各透镜元件17a与DMD15的各像素镜成1对1对应。也就是说，各透镜元件17a将一个像素镜的像成像到工件W的表面上。

此外，第二投影透镜18是将被MLA17聚光成点状的光缩小到例如1倍(等倍)～1/2倍左右后投影到工件W上的等倍投影透镜或缩小投影透镜。

像这样，在DI曝光装置1中，在MLA17的前段(光入射侧)和后段(光出射侧)分别配置第一投影透镜16和第二投影透镜18。由第一投影透镜16、MLA17以及第二投影透镜18构成对于DMD15的投影光学系统。另外，第二投影透镜18构成对于MLA17的投影光学系统。

图4是示出曝光头11的图像形成区域的立体示意图。

在该图4中，各曝光头11的图像形成区域用工件W的表面上的四边框(符号E)示出。在由该框示出的图像形成区域E内形成有由一个曝光头11形成的像。

如图4所示，曝光头11在X方向上设置2排，在Y方向上，相对于工件W的移动方向位于后侧的一组中的各曝光头11配置在位于前侧的一组中的各曝光头11之间的位置。

像这样，通过配置各曝光头11，一边使工件W在X方向上移动一边进行曝光时，对于未能在前侧的一组的各曝光头11的图像形成区域E曝光的部分，能够利用后侧的各曝光头11的图像形成区域E曝光。于是，由这些曝光头11整体形成期望的一个图案。

也就是说，未图示的控制部，存储应形成的图像(曝光图案)的数字数据(原数据)，向搬运系统20发送控制信号，使载置了工件W的工作台21以预定速度移动。另外，与此同时，控制部向DMD15发送控制信号，以预定的定时和时序控制各像素镜的角度，以在工件W上形成基于原数据的曝光图案。其结果，涂布了抗蚀剂的工件W通过图像形成区域E，在工件W上形成基于原数据的曝光图案。

在此，说明将投影光学系统的各构成要素固定到基座12上的构成。

图5是概要性地示出投影光学系统相对于基座12的固定方法的图。另外，在该图5中，省略台架31的图示。

在基座12上形成有供被DMD15反射的光通过的贯穿孔12a。

而且，在基座12的上表面，以MLA17配置于贯穿孔12a的上方的方式，将保持了该MLA17的微透镜阵列保持体(MLA保持体)17b固定。MLA保持体17b通过螺钉17c固定到基座12上。

此外，在基座12的上表面，以第一投影透镜16配置于MLA17的上方的方式，将保持该第一投影透镜16的第一投影透镜保持体16a固定。在此，第一投影透镜16例如通过螺钉固定被保持到第一投影透镜保持体16a上。另外，第一投影透镜保持体16a通过螺钉16b被固定到基座12上。

另外，入射光学系统14通过例如螺钉固定方式被固定到第一投影透镜16的上部，保持了DMD15的DMD保持体15a被固定到该入射光学系统14。

另一方面，在基座12的下表面，以第二投影透镜18配置于贯穿孔12a的下方的方式，固定对该第二投影透镜18进行保持的第二投影透镜保持体18a。在此，第二投影透镜18例如通过螺钉固定被保持在第二投影透镜保持体18a。另外，第二投影透镜保持体18a被螺钉18b固定到基座12。

像这样，构成曝光头11的各要素被直接或间接地固定到基座12上，但是，对于入射光学系统14、第一投影透镜16、以及第二投影透镜18，与DMD15(以及DMD保持体15a)、MLA17(以及MLA保持体17b)相比，不要求高精度的对位，所以只是将螺钉和螺钉孔对准之后，通过螺钉固定方式进行固定即可。相对于此，MLA17(以及MLA保持体17b)需要进行与以工件W的移动方向为基准的特定角度对准的高精度的对位，DMD15(以及DMD保持体15a)需要进行与MLA17的位置和角度对准的高精度的对位。而且，在这样的高精度的对位之后，要求在保持对位的精度的状态下进行固定。

以下，详细说明本实施方式中的DMD15(以及DMD保持体15a)和MLA17(以及MLA保持体17b)的具体固定方法。

图6是示出DMD保持体和MLA保持体的固定位置的图。

在该图6中具体示出在图5中概念性地示出的DMD保持体和MLA保持体的固定位置。

MLA保持体17b在被第一投影透镜保持体16a几乎覆盖的状态下固定到基座12上，后面详细说明的调整用的臂从第一投影透镜保持体16a向外侧突出。

如上所述，第一投影透镜保持体16a被螺钉固定到基座12，在第一投影透镜保持体16a的上部螺钉固定有第一投影透镜16。在第一投影透镜16的上部螺钉固定有入射光学系统14，在该入射光学系统14的上部固定有DMD保持体15a。

图7是示出DMD保持体的详细结构的一例的截面图，图8是示出DMD保持体的详细结构的一例的立体图。

在图7中，DMD保持体15a具备三个按压件151、152、153和基板158。作为半导体芯片的DMD15被搭载到基板15b上，三个按压件151、152、153将DMD15和基板15b夹持并相互进行螺钉固定而一体化。像这样一体化的按压件151、152、153隔着倾角调整用的薄片(不锈钢的薄板)155而通过螺钉156固定到基板158上。薄片155设置适当选择的张数，使得DMD15的反射面与固定有DMD保持体15a的入射光学系统14的上表面平行。通过用这样的薄片155进行倾角调整，从DMD15向第一投影透镜16射出的光的方向成为与第一投影透镜16的光轴平行的方向(即图1所示的Z轴的方向)。

DMD保持体15a通过这种结构与DMD15一体化而保持DMD15。与DMD15一体化的DMD保持体15a被固定到入射光学系统14的上部，该入射光学系统14是相对于DMD保持体15a的被固定部。在该入射光学系统14的上部设置有用于将DMD保持体15a真空吸附的孔141和吸附用的接头142。孔141的一端沿着与DMD保持体15a对置的上表面以槽状延伸，通过经由像这样以槽状延伸的孔141的真空吸附，DMD保持体15a被牢固地保持到入射光学系统14的上部。另外，只要能够得到充分的保持力，孔141的端无需为槽状，也可以是例如圆孔等。

DMD保持体15a在高精度的位置调整后，通过真空吸附被临时保持在作为被固定部的入射光学系统14的上部。以真空吸附为代表的吸附保持不会破坏被精密调整的DMD保持体15a的位置，能够将DMD保持体15a保持在入射光学系统14的上部(被固定部)。像这样被保持的DMD保持体15a利用螺钉15c被牢固地固定到入射光学系统14的上部，之后可以解除真空吸附。在利用螺钉15c进行的固定作业中，由于通过真空吸附来保持DMD保持体15a，所以在固定作业过程中的DMD保持体15a的位移被抑制。通过这种固定方法，DMD保持体15a(以及DMD15)被精密且牢固地固定到被固定部。另外，在该例中，将吸附用接头142和孔141设置在被固定部侧，但是采用将接头142和孔141设置在DMD保持体15a侧的方式，当然也同样能够得到吸附作用。

作为DMD保持体15a的位置调整，进行与第一投影透镜16的光轴垂直的面(即、与图1所示的Z轴垂直的XY面)内的、纵横位置和角度的调整。该位置调整是精密的调整，所以使用调整用卡具。

图9是示出DMD保持体的调整用卡具的一例的图，图10是示出调整用卡具的臂的一例的图。

调整用卡具40在DMD保持体15a的位置调整时被临时安装，在位置调整后，在DMD保持体15a被固定后卸下调整用卡具40。

在图9和图10中，调整用卡具40具备三个臂41、42、43，第一臂41和第二臂42在臂的长度方向(XY面内的X方向)上进退，第三臂43在XY面内的Y方向上进退。通过第一臂41和第二臂42向同一方向进退，DMD保持体15a在X方向上移动，通过第三臂43的进退，DMD保持体15a在Y方向上移动。另外，通过第一臂41和第二臂42彼此向相反方向进退，DMD保持体15a在XY面内旋转。各臂41、42、43根据作业者的操作而高精度地进退，所以作业者能够将DMD保持体15a高精度地对位到所需的位置及角度。该所需的位置及角度以MLA17的位置及角度为基准。

接着，说明MLA17(以及MLA保持体17b)的具体固定方法。

图11是示出MLA保持体的详细结构的一例的截面图，图12是示出MLA保持体的详细结构的一例的立体图。

MLA保持体17b具备上部保持体171和下部保持体172，上部保持体171能够相对于下部保持体172精密地旋转。MLA17通过粘合剂而与上部保持体171粘结，从而与上部保持体171一体化。另外，在上部保持体171上设置有角度调整用的臂177。

下部保持体172隔着倾角调整用的薄片173而通过螺钉174被固定到基座12。薄片173设置适当选择的张数，以使MLA17的光轴的方向成为与第一投影透镜16的光轴或第二投影透镜18的光轴平行的方向(即、图1所示的Z轴的方向)。像这样被进行倾斜调整而固定到基座12上的下部保持体172成为用于固定上部保持体171的被固定部。在下部保持体172上设置有用于将上部保持体171真空吸附的孔175和吸附用的接头176。孔175的一端沿着与上部保持体171对置的上表面而以槽状延伸，通过经由像这样沿着槽状的孔175的真空吸附，上部保持体171被牢固地保持在下部保持体172上。另外，只要能够得到充分的保持力，孔175的端无需为槽状，也可以是例如圆孔等。

上部保持体171在与图1所示的Z轴垂直的XY面上进行了精密的角度调整后，通过真空吸附被临时保持到作为被固定部的下部保持体172。该保持也是通过吸附进行的保持，所以不会破坏被精密调整的角度位置，能够保持上部保持体171。像这样被保持的上部保持体171利用螺钉17c被牢固地固定到下部保持体172，之后解除真空吸附。在利用螺钉17c进行的固定作业中，由于上部保持体171通过真空吸附被保持到下部保持体172，所以伴随固定作业而产生的上部保持体171的位移(例如，由拧紧螺钉的力产生的位移)被抑制。通过这种固定方法，上部保持体171被精密且牢固地固定到下部保持体172，进而，MLA17被精密且牢固地固定到基座12。在该例子中，将用于吸附的接头176和孔175设置在作为被固定部的下部保持体172侧，但是将接头176和孔175设置在上部保持体171侧的方式，也同样能够得到吸附作用。

上部保持体171的角度调整也是精密调整，所以使用调整用的卡具。图13是示出上部保持体171的调整用卡具的一例的图。

调整卡具50能够依照作业者的操作将上部保持体171的臂177高精度地按压，作业者能够将上部保持体171和MLA17高精度地对准到期望的角度。该期望的角度是以图1所示的工作台21的工件W的移动方向为基准的特定角度。

另外，对于XY面内的MLA17的位置(即、下部保持体172的位置)，在MLA17上排列的透镜元件的数量比在DMD15上排列的像素镜的数量多而具有富余，所以相比于MLA17的角度调整，DMD15并不要求高精度的对位，所以只要单纯地将螺钉和螺钉孔对准，通过螺钉固定直接固定。

在此，说明可以代替图11、12示出的MLA保持体17b而采用的变形例的MLA保持体。

图14是示出变形例的MLA保持体的图。

在该变形例的MLA保持体117b中，在上部保持体171和下部保持体172上分别设置有用于固定的伸出板178、179，伸出板178、179彼此通过粘合剂60固定，从而上部保持体171被固定到下部保持体172。利用粘合剂60也能够将上部保持体171充分牢固地固定到下部保持体172。

该变形例的情况下，例如由涂布粘合剂60时的应力等引起的上部保持体171的位移被抑制，上部保持体171被精密且牢固地固定到下部保持体172。

以上结束变形例的说明。

接着，说明以MLA17为基准的DMD15的对位。DMD15如上所述使用调整用卡具40进行位置调整，在本实施方式的情况下，该位置调整中的DMD保持体15a的期望的位置以及角度(即、DMD15的所需的位置以及角度)是以MLA17的位置和角度为基准，具体地讲，是从DMD15的各像素镜射出的光入射到MLA17的相应的各透镜元件的位置和角度。DMD15对位到期望的位置和角度时，从DMD15的各像素镜射出的光经由相应的各透镜元件，最终在曝光头11的光照射位置成像为点状。但是，DMD15的位置和角度从期望的位置和角度偏离时，产生成为串扰的多余的光点，曝光精度下降。于是，一边利用摄像机和监视器确认这种串扰的发生状态，一边对DMD15进行位置调整，以减少串扰的发生。

图15是表示串扰的发生图案和调整方向之间的关系的图。

在该图15中，正常成像的光点用斜线示出，串扰的光点用白底示出。另外，在该图15中，示出DMD15的X方向位置从期望的位置偏离的图案1、DMD15的Y方向位置从期望的位置偏离的图案2、以及DMD15的角度从期望的角度偏离的图案3。在任意图案中，均使用图9所示的调整卡具对DMD15进行正常成像的光点和串扰的光点如图所示的箭头向靠近方向进行位置调整。

通过这种位置调整，DMD15相对于MLA17精密地对位，实现串扰少的高精度的曝光。

Claims

1.一种曝光装置，对各像素调制来自光源的光，在感光材料上成像，其特征在于，具备；

排列元件，光学元件被排列成二维状；

保持体，保持所述排列元件；

投影光学系统，将通过了所述排列元件的光成像到所述感光材料上；

被固定部，相对于所述投影光学系统的位置被固定，所述保持体固定在该被固定部上；

固定器具，将所述保持体固定到所述被固定部上；以及

凹部，用于将所述保持体通过吸附保持到所述被固定部上，且被设置在所述保持体和所述被固定部的至少一方。

2.根据权利要求1所述的曝光装置，其特征在于，

所述排列元件通过将反射型或者透射型光学元件排列而成，

所述投影光学系统将由所述排列元件反射或透射的光成像。

3.一种固定方法，是在曝光装置中将保持体固定到相对于投影光学系统的位置被固定的被固定部上的固定方法，所述曝光装置对各像素调制来自光源的光而在感光材料上成像，所述曝光装置具备：排列元件，光学元件排列成二维状；所述保持体，保持该排列元件；以及所述投影光学系统，将通过了所述排列元件的光成像到感光材料上，所述固定方法的特征在于，包括：

将所述保持体通过吸附保持到所述被固定部上的第1工序；以及

利用固定器具将通过所述第1工序保持的所述保持体固定到所述被固定部上的第2工序。