JP4510429B2 - マスク描画手法、及びマスク描画装置 - Google Patents
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- 238000000034 method Methods 0.000 title claims description 14
- 239000011521 glass Substances 0.000 claims description 3
- 239000000758 substrate Substances 0.000 description 14
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 description 6
- 230000003287 optical effect Effects 0.000 description 6
- 238000010894 electron beam technology Methods 0.000 description 4
- 239000004065 semiconductor Substances 0.000 description 4
- 239000011651 chromium Substances 0.000 description 3
- 238000007689 inspection Methods 0.000 description 3
- VYZAMTAEIAYCRO-UHFFFAOYSA-N Chromium Chemical compound [Cr] VYZAMTAEIAYCRO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229910052804 chromium Inorganic materials 0.000 description 2
- 230000004075 alteration Effects 0.000 description 1
- 238000004364 calculation method Methods 0.000 description 1
- 230000007547 defect Effects 0.000 description 1
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 1
- 239000010453 quartz Substances 0.000 description 1
- VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N silicon dioxide Inorganic materials O=[Si]=O VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
Images
Description
101 DMD
102 ミラー
103a、103b、107a、107b レンズ
104、108 縮小投影光学系
105 マイクロレンズアレイ
106 ピンホール板
109 マスク基板
121 ピンホール板106の投影領域
122 露光された領域
200 EB描画装置
201 電子銃
202a、202b 電子レンズ
203 アパーチャ
204 マスク基板
Claims (4)
- 二次元配列状のマイクロミラーデバイスを用いたパターン投影装置に使用されるマスク描画方法において、
設計データから前記マイクロミラーデバイス用のフレームデータを直接生成させて、前記フレームデータによって前記マイクロミラーデバイスの各マイクロミラーを個々にON、OFF制御し、制御された光線をマスクに描画し、
前記マイクロミラーデバイスからの制御された光線はマイクロレンズ及びピンホール板を介してマスク上に投影され、
前記ピンホール板はガラス板上に多数の穴を有する遮光膜を形成してなる
ことを特徴とするマスク描画方法。 - 二次元配列状の光制御素子として、マイクロミラーデバイスを備えると共に、マイクロミラーデバイスにおける各マイクロミラーから進む光線を通過させるマイクロレンズとを備えたマスク描画装置において、
設計データから得られた前記光制御素子用のフレームデータを格納しておき、当該フレームデータに基づいて前記マイクロミラーデバイスを制御し、
前記マイクロレンズからの光線はピンホール板を介してマスク上に投影され、
前記ピンホール板はガラス板上に多数の穴を有する遮光膜を形成してなる
ことを特徴とするマスク描画装置。 - 請求項2において、前記マイクロミラーデバイスを構成するマイクロミラーは前記フレームデータによりON、OFF制御されることを特徴とするマスク描画装置。
- 請求項2において、前記ピンホール板によるマスク上の投影領域は前記マスクに対して傾斜していることを特徴とするマスク描画装置。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2003389518A JP4510429B2 (ja) | 2003-11-19 | 2003-11-19 | マスク描画手法、及びマスク描画装置 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2003389518A JP4510429B2 (ja) | 2003-11-19 | 2003-11-19 | マスク描画手法、及びマスク描画装置 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2005148634A JP2005148634A (ja) | 2005-06-09 |
JP4510429B2 true JP4510429B2 (ja) | 2010-07-21 |
Family
ID=34696241
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2003389518A Expired - Lifetime JP4510429B2 (ja) | 2003-11-19 | 2003-11-19 | マスク描画手法、及びマスク描画装置 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP4510429B2 (ja) |
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
KR20150118017A (ko) | 2014-04-11 | 2015-10-21 | 우시오덴키 가부시키가이샤 | 노광 장치 및 그 고정 방법 |
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Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP4532381B2 (ja) * | 2005-09-30 | 2010-08-25 | 富士フイルム株式会社 | 描画方法および装置 |
CN110045507A (zh) * | 2019-05-10 | 2019-07-23 | 深圳市光鉴科技有限公司 | 一种直下式光学投射系统及光学投射方法 |
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JP2003059804A (ja) * | 2001-08-15 | 2003-02-28 | Sony Corp | パターン形成装置及びパターン製造方法 |
Family Cites Families (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US6897941B2 (en) * | 2001-11-07 | 2005-05-24 | Applied Materials, Inc. | Optical spot grid array printer |
-
2003
- 2003-11-19 JP JP2003389518A patent/JP4510429B2/ja not_active Expired - Lifetime
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Publication number | Publication date |
---|---|
JP2005148634A (ja) | 2005-06-09 |
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FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
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