JP4570151B2 - マスク製造方法 - Google Patents
マスク製造方法 Download PDFInfo
- Publication number
- JP4570151B2 JP4570151B2 JP2005135133A JP2005135133A JP4570151B2 JP 4570151 B2 JP4570151 B2 JP 4570151B2 JP 2005135133 A JP2005135133 A JP 2005135133A JP 2005135133 A JP2005135133 A JP 2005135133A JP 4570151 B2 JP4570151 B2 JP 4570151B2
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- light
- light source
- exposure pattern
- mask
- emulsion plate
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Active
Links
Images
Description
Systems)などを製造する露光装置に使用するマスクの製造を高効率化して、製品の納期を早めることができる。
また、請求項1に記載の発明によれば、露光パターン形成手段として光源が縦横に並設され該光源の各々の発光を独立制御可能な光源アレイを使用することから、多様な露光パターンを短時間で簡易に作成することができる。これにより、マスクの製造が更に高効率化される。
また、請求項1に記載の発明によれば、回折光学素子を使用するのみで光源の出力光の進行方向を変更させることができる。これにより、複数のレンズなど複雑な光学系を使用することなく、光源の出力光をエマルジョンプレート上の所定の領域内に集めて隙間なく露光することが可能となる。
Systems)などを製造する露光装置に使用するマスクの製造を高効率化して、製品の納期を早めることができる。
また、請求項2に記載の発明によれば、露光パターン形成手段として光源が千鳥状に配列され該光源の各々の発光を独立制御可能な光源アレイを使用することから、多様な露光パターンを短時間で簡易に作成することができる。これにより、マスクの製造が更に高効率化される。
まず、本発明の第1の実施形態について図1〜図4を参照して説明する。
)の集合体として構成されており、1つの光源3から出射されたレーザ光はそれぞれ1つの回折光学素子に入射するようになっている。
RAM(Random Access Memory)及び不揮発性の半導体メモリで構成されるROM(Read
Only Memory)から構成されている。
次に、本発明の第2の実施形態について図5及び図6を参照して説明する。なお、第1の実施形態と同一部分には同一符号を付してその説明を省略し、第1の実施形態と異なる構成部分について説明する。
2 露光パターン形成装置
3 光源
4 スイッチング回路
5 窓
6 回折光学素子ユニット
7 ファイバ
8 ファイババンドル
9 縮小投影レンズ
10 ステージ
11 エマルジョンプレート
12 制御部
13 入力部
14 記憶部
15 ステージ駆動部
16 光源
17 DMD
18 コントローラ
19 制御装置
22 CCD
23 モニタ
Claims (6)
- フォトマスクの製造方法において、動作制御により所望の露光パターンを形成することが可能な露光パターン形成手段として光源が縦横に並設され該光源の各々の発光を独立制御可能な光源アレイを使用し、前記光源の各々の発光を独立に制御して前記光源アレイの前記光源によって露光パターンを形成し、前記光源の各々に対応して設けられた回折光学素子を使用し、前記回折光学素子によって前記光源の各々からの出力光の進行方向を変更させ、隣り合う前記光源の出力光を隙間無くエマルジョンプレートに照射してその照射部分を露光し、現像することによって、前記エマルジョンプレートからエマルジョンマスクを製造することを特徴とするマスク製造方法。
- フォトマスクの製造方法において、動作制御により所望の露光パターンを形成することが可能な露光パターン形成手段として光源が千鳥状に配列され該光源の各々の発光を独立制御可能な光源アレイを使用し、前記光源の各々の発光を独立に制御して前記光源アレイの前記光源によって露光パターンを形成し、前記露光パターンをエマルジョンプレートに照射してその照射部分を露光し、現像することによって、前記エマルジョンプレートからエマルジョンマスクを製造することを特徴とするマスク製造方法。
- 前記エマルジョンプレートを支持して水平方向に駆動可能なステージを使用し、前記光源アレイにおける所定の列の前記光源からの出力光の照射の後、前記ステージの駆動により前記光源アレイを一列分走査させて、次の列の前記光源からの出力光の照射を行うことによって、前記光源の出力光を隙間無く前記エマルジョンプレートに照射することを特徴とする請求項2記載のマスク製造方法。
- 前記光源の各々に対応して設けられた回折光学素子を使用し、前記回折光学素子によって前記光源の各々からの出力光を断面がほぼ方形又は矩形となるように整形して前記エマルジョンプレートに照射することを特徴とする請求項1から3いずれか一項に記載のマスク製造方法。
- 前記光源の各々に対応して設けられた回折光学素子を使用し、前記回折光学素子によって前記光源の各々からの出力光をトップハット型の強度分布となるように変換して前記エマルジョンプレートに照射することを特徴とする請求項1から請求項4いずれか一項に記載のマスク製造方法。
- 前記回折光学素子が出射した前記光源の出力光の各々を、その出力光の各々に対応した別々のファイバを介して、それらファイバを束ねたファイババンドルに導いた後に、前記エマルジョンプレートに照射することを特徴とする請求項1,請求項4又は請求項5いずれか一項に記載のマスク製造方法。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2005135133A JP4570151B2 (ja) | 2005-05-06 | 2005-05-06 | マスク製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2005135133A JP4570151B2 (ja) | 2005-05-06 | 2005-05-06 | マスク製造方法 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2006313202A JP2006313202A (ja) | 2006-11-16 |
JP4570151B2 true JP4570151B2 (ja) | 2010-10-27 |
Family
ID=37534726
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2005135133A Active JP4570151B2 (ja) | 2005-05-06 | 2005-05-06 | マスク製造方法 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP4570151B2 (ja) |
Families Citing this family (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPWO2015015749A1 (ja) * | 2013-08-02 | 2017-03-02 | 株式会社ニコンエンジニアリング | 露光装置 |
CN106647185A (zh) * | 2016-12-31 | 2017-05-10 | 江苏九迪激光装备科技有限公司 | 一种丝网印刷直接制版系统及制版方法 |
JP7283893B2 (ja) * | 2018-12-03 | 2023-05-30 | 株式会社エスケーエレクトロニクス | フォトマスクの製造方法 |
CN116974158B (zh) * | 2023-09-25 | 2024-01-02 | 鹏城实验室 | 接近式光刻系统、光源控制优化方法、设备及存储介质 |
Citations (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH0513303A (ja) * | 1991-07-02 | 1993-01-22 | Canon Inc | 縮少投影露光装置 |
JPH0613716A (ja) * | 1992-06-29 | 1994-01-21 | Rohm Co Ltd | 半導体レーザアレイ光源 |
JP2002506231A (ja) * | 1998-03-02 | 2002-02-26 | マイクロニック レーザー システムズ アクチボラゲット | ステッチング誤差防止用改良型パターン・ジェネレータ |
JP2002072452A (ja) * | 2000-08-31 | 2002-03-12 | Asahi Glass Co Ltd | 膜面保護層を有するフォトマスクおよびその製造方法 |
-
2005
- 2005-05-06 JP JP2005135133A patent/JP4570151B2/ja active Active
Patent Citations (5)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH0513303A (ja) * | 1991-07-02 | 1993-01-22 | Canon Inc | 縮少投影露光装置 |
JPH0613716A (ja) * | 1992-06-29 | 1994-01-21 | Rohm Co Ltd | 半導体レーザアレイ光源 |
JP2002506231A (ja) * | 1998-03-02 | 2002-02-26 | マイクロニック レーザー システムズ アクチボラゲット | ステッチング誤差防止用改良型パターン・ジェネレータ |
JP2002506236A (ja) * | 1998-03-02 | 2002-02-26 | マイクロニック レーザー システムズ アクチボラゲット | 変調装置の設計を改良したパターン・ジェネレータ |
JP2002072452A (ja) * | 2000-08-31 | 2002-03-12 | Asahi Glass Co Ltd | 膜面保護層を有するフォトマスクおよびその製造方法 |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JP2006313202A (ja) | 2006-11-16 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
JP4463244B2 (ja) | リソグラフィ装置、デバイス製造方法、および、この方法により製造されて焦点深さの増したデバイス | |
JP2009117671A (ja) | 空間光変調ユニット、照明光学装置、露光装置、およびデバイス製造方法 | |
JP2012063390A (ja) | 露光装置および光源装置 | |
JP2007033882A (ja) | 露光装置及び露光方法並びに配線基板の製造方法 | |
JP2006343684A (ja) | パターン描画装置 | |
KR20120060018A (ko) | 마스크리스 노광 장치 | |
JP2010014797A (ja) | マスクレス露光装置 | |
JP4570151B2 (ja) | マスク製造方法 | |
KR102478399B1 (ko) | 노광 장치, 노광 방법 및 물품 제조 방법 | |
JP5361239B2 (ja) | 露光装置及びデバイス製造方法 | |
JP2006019412A (ja) | 露光装置及びデバイスの製造方法 | |
JP4472560B2 (ja) | マスクレス露光装置及びその露光方法並びに配線基板の製造方法 | |
JP2006337475A (ja) | パターン描画装置 | |
JP2008142747A (ja) | レーザ加工装置 | |
JP2007025613A (ja) | 露光用光源 | |
JP4354431B2 (ja) | リソグラフィシステム | |
KR102362864B1 (ko) | 동적 마스크를 이용하여 포토리소그래피를 수행하기 위한 광학시스템 및 방법 | |
JP4684774B2 (ja) | 露光装置 | |
JP2006319098A (ja) | 描画装置 | |
JP7427352B2 (ja) | 露光装置 | |
JP4510429B2 (ja) | マスク描画手法、及びマスク描画装置 | |
JP2891219B2 (ja) | 露光装置及びそれを用いた素子製造方法 | |
JP2006019510A (ja) | 露光装置及びマイクロデバイスの製造方法 | |
JP4652155B2 (ja) | 露光装置及び露光方法 | |
KR101965951B1 (ko) | 현미경 겸용 광 처리 장치 및 이를 이용하는 광 처리 방법 |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A621 | Written request for application examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621 Effective date: 20080331 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20100330 |
|
A521 | Request for written amendment filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20100528 |
|
TRDD | Decision of grant or rejection written | ||
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 Effective date: 20100720 |
|
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 |
|
A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61 Effective date: 20100809 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20130820 Year of fee payment: 3 |
|
R150 | Certificate of patent or registration of utility model |
Ref document number: 4570151 Country of ref document: JP Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150 Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |