JP2009117671A - 空間光変調ユニット、照明光学装置、露光装置、およびデバイス製造方法 - Google Patents
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Abstract
【解決手段】 照明光学装置は、光の入射順に第1空間光変調器(2)と第2空間光変調器(3)とからなる空間光変調ユニットと、第1空間光変調器および第2空間光変調器を介した光束に基づいて照明瞳に所定の光強度分布を形成する分布形成光学系(5,7)とを備えている。第1空間光変調器は、二次元的に配列されて個別に制御される複数の第1光学要素(2a)を有する。第2空間光変調器は、複数の第1光学要素と対応付けられて配列されて個別に制御される複数の第2光学要素(3a)を有する。
【選択図】 図1
Description
前記第1空間光変調器は、二次元的に配列されて個別に制御される複数の第1光学要素を有し、
前記第2空間光変調器は、前記複数の第1光学要素のそれぞれと対応付けられて配列されて個別に制御される複数の第2光学要素を有することを特徴とする空間光変調ユニットを提供する。
第1形態の空間光変調ユニットと、
前記第1空間光変調器および前記第2空間光変調器を介した光束に基づいて、前記照明光学装置の照明瞳に所定の光強度分布を形成する分布形成光学系とを備えていることを特徴とする照明光学装置を提供する。
前記パターンが転写された前記感光性基板を現像し、前記パターンに対応する形状のマスク層を前記感光性基板の表面に形成する現像工程と、
前記マスク層を介して前記感光性基板の表面を加工する加工工程とを含むことを特徴とするデバイス製造方法を提供する。
2,3 空間光変調器
2a,3a 空間光変調器の複数のミラー要素
5 集光光学系(フーリエ変換レンズ)
7 マイクロフライアイレンズ
8 コンデンサー光学系
9 マスクブラインド
10 結像光学系
LS 光源
CR 制御部
M マスク
PL 投影光学系
W ウェハ
Claims (13)
- 照明光学装置の光路中に配置されて、光の入射順に第1空間光変調器と第2空間光変調器とを備える空間光変調ユニットであって、
前記第1空間光変調器は、二次元的に配列されて個別に制御される複数の第1光学要素を有し、
前記第2空間光変調器は、前記複数の第1光学要素のそれぞれと対応付けられて配列されて個別に制御される複数の第2光学要素を有することを特徴とする空間光変調ユニット。 - 前記複数の第2光学要素は、前記複数の第1光学要素と一対一対応の関係に配列されることを特徴とする請求項1に記載の空間光変調ユニット。
- 前記第1空間光変調器は、二次元的に配列された複数の第1ミラー要素と、該複数の第1ミラー要素の姿勢を個別に制御駆動する第1駆動部とを有し、
前記第2空間光変調器は、二次元的に配列された複数の第2ミラー要素と、該複数の第2ミラー要素の姿勢を個別に制御駆動する第2駆動部とを有することを特徴とする請求項1または2に記載の空間光変調ユニット。 - 前記第1駆動部は、前記複数の第1ミラー要素の各々を経た光束が一対一対応の関係で前記複数の第2ミラー要素の各々に入射するように前記複数の第1ミラー要素の向きを連続的に変化させ、
前記第2駆動部は、前記複数の第2ミラー要素の向きを連続的に変化させることを特徴とする請求項3に記載の空間光変調ユニット。 - 前記第1空間光変調器と前記第2空間光変調器との間の光路中には、パワーを有する光学部材が配置されていないことを特徴とする請求項1乃至4のいずれか1項に記載の空間光変調ユニット。
- 前記第1空間光変調器の前記複数の第1光学要素が配列される面と、前記第2空間光変調器の前記複数の第2光学要素が配列される面とはほぼ平行であることを特徴とする請求項1乃至5のいずれか1項に記載の空間光変調ユニット。
- 前記第1空間光変調器に対してほぼ平行光束を供給する光源と組み合わせて使用されることを特徴とする請求項1乃至6のいずれか1項に記載の空間光変調ユニット。
- 光源からの光に基づいて被照射面を照明する照明光学装置において、
請求項1乃至7のいずれか1項に記載の空間光変調ユニットと、
前記第1空間光変調器および前記第2空間光変調器を介した光束に基づいて、前記照明光学装置の照明瞳に所定の光強度分布を形成する分布形成光学系とを備えていることを特徴とする照明光学装置。 - 前記分布形成光学系は、オプティカルインテグレータと、該オプティカルインテグレータと前記空間光変調ユニットとの間の光路中に配置された集光光学系とを有することを特徴とする請求項8に記載の照明光学装置。
- 前記光源からの光束を前記空間光変調ユニットへ導く送光光学系をさらに備え、
前記送光光学系は、請求項1乃至7のいずれか1項に記載の第2の空間光変調ユニットを有することを特徴とする請求項8または9に記載の照明光学装置。 - 前記光源から前記第2の空間光変調ユニットへ入射する光束の光強度分布を計測する分布計測部と、該分布計測部の計測結果に基づいて前記第2の空間光変調ユニットを制御する制御部とをさらに備えていることを特徴とする請求項10に記載の照明光学装置。
- 所定のパターンを照明するための請求項8乃至11のいずれか1項に記載の照明光学装置を備え、前記所定のパターンを感光性基板に露光することを特徴とする露光装置。
- 請求項12に記載の露光装置を用いて、前記所定のパターンを前記感光性基板に露光する露光工程と、
前記パターンが転写された前記感光性基板を現像し、前記パターンに対応する形状のマスク層を前記感光性基板の表面に形成する現像工程と、
前記マスク層を介して前記感光性基板の表面を加工する加工工程とを含むことを特徴とするデバイス製造方法。
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