JP5360379B2 - 投影光学系、露光装置、およびデバイス製造方法 - Google Patents
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- Exposure Of Semiconductors, Excluding Electron Or Ion Beam Exposure (AREA)
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Description
前記第1面からの前記光が入射する正レンズ群と、
前記正レンズ群の焦点位置近傍に配列されて個別に姿勢変化可能な複数のミラー要素を有し、該複数のミラー要素のうちの複数の第1反射部と複数の第2反射部とを互いに異なる姿勢に制御して、前記正レンズ群から入射した前記光を第1の光と第2の光とに分割し且つ前記第1の光および前記第2の光を前記正レンズ群に向けて反射する分割反射部と、
前記正レンズ群を含み、前記第1の光に基づいて前記第1面の第1の像を形成し、前記第2の光に基づいて前記第1面の第2の像を形成する結像光学系と、を備える投影光学系が提供される。
感光性を有する基板を保持し、該基板の感光面を前記投影光学系の像面に配置させ、第1方向へ移動する第1ステージ機構と、
パターンを有する物体を保持し、該物体のパターン面を前記第1面に配置させる第2ステージ機構と、を備える露光装置が提供される。
前記パターンが転写された前記基板を現像し、前記パターンに対応する形状の転写パターン層を形成する工程と、
前記転写パターン層を介して前記基板を加工する工程と、
を含むデバイス製造方法が提供される。
11a ミラー要素
21 フライアイレンズ
23 マスクブラインド
LS 光源
IL 照明光学系
IR 照明領域
ER1,ER2 結像領域
M マスク
MS マスクステージ
PL 投影光学系
GM,G1,G2 結像光学系
P プレート
PS 基板ステージ
DR ステージ駆動系
CR 主制御系
Claims (14)
- 第1面からの光に基づいて該第1面の複数の像を形成する投影光学系において、
前記第1面からの前記光が入射する正レンズ群と、
前記正レンズ群の焦点位置近傍に配列されて個別に姿勢変化可能な複数のミラー要素を有し、該複数のミラー要素のうちの複数の第1反射部と複数の第2反射部とを互いに異なる姿勢に制御して、前記正レンズ群から入射した前記光を第1の光と第2の光とに分割し且つ前記第1の光および前記第2の光を前記正レンズ群に向けて反射する分割反射部と、
前記正レンズ群を含み、前記第1の光に基づいて前記第1面の第1の像を形成し、前記第2の光に基づいて前記第1面の第2の像を形成する結像光学系と、を備えることを特徴とする投影光学系。 - 前記第1反射部と前記第2反射部とは、それぞれ前記第1の光と前記第2の光とを前記正レンズ群の光軸を挟んで互いに異なる方向に反射することを特徴とする請求項1に記載の投影光学系。
- 前記第1反射部と前記第2反射部とは、所定の配列方向に沿って交互に設けられ、前記第1の光と前記第2の光とを前記配列方向に沿って分割することを特徴とする請求項1または2に記載の投影光学系。
- 前記第1の像からの前記光に基づいて前記第1面の第1投影像を第2面に形成する第1結像光学系と、
前記第2の像からの前記光に基づいて前記第1面の第2投影像を前記第2面に形成する第2結像光学系と、を備えることを特徴とする請求項1〜3のいずれか1項に記載の投影光学系。 - 前記第1結像光学系は、前記第1投影像を前記第2面の第1結像領域に形成し、前記第2結像光学系は、前記第2投影像を前記第1結像領域から少なくとも所定方向に間隔を隔てた第2結像領域に形成することを特徴とする請求項4に記載の投影光学系。
- 前記第1結像領域と前記第2結像領域とは前記所定方向に整列して設けられることを特徴とする請求項5に記載の投影光学系。
- 前記第1の光を前記所定方向、該所定方向と交差する交差方向、および前記正レンズ群の光軸に平行な方向へ順次偏向する第1群の偏向部材と、
前記第2の光を前記所定方向、前記交差方向、および前記正レンズ群の光軸に平行な方向へ順次偏向する第2群の偏向部材と、を備えることを特徴とする請求項5または6に記載の投影光学系。 - 前記正レンズ群と前記第1結像光学系との間の光路中に配置された第1群の偏向部材と、
前記正レンズ群と前記第2結像光学系との間の光路中に配置された第2群の偏向部材と、を備えることを特徴とする請求項5または6に記載の投影光学系。 - 請求項1〜8のいずれか1項に記載の投影光学系と、
感光性を有する基板を保持し、該基板の感光面を前記投影光学系の像面に配置させ、第1方向へ移動する第1ステージ機構と、
パターンを有する物体を保持し、該物体のパターン面を前記第1面に配置させる第2ステージ機構と、を備えることを特徴とする露光装置。 - 前記第2ステージ機構は、前記第1ステージ機構の前記第1方向への移動に同期して、前記投影光学系により前記第1方向と光学的に対応する第2方向へ移動することを特徴とする請求項9に記載の露光装置。
- 前記物体は、二次元的に配列されて個別にオン・オフ制御可能な複数の画素部と、前記複数の画素部の前記オン・オフ制御を行って前記パターンを形成する画素制御部と、を有することを特徴とする請求項9に記載の露光装置。
- 前記画素制御部は、前記第1ステージ機構の前記交差方向への移動に同期して前記オン・オフ制御を行って前記パターンを変化させることを特徴とする請求項11に記載の露光装置。
- 前記複数のミラー要素の位置と光学的に共役な位置に該複数のミラー要素の分布に対応させて複数の光源を形成し、前記第1面に前記光を照射する照明光学系を備えることを特徴とする請求項9〜12のいずれか1項に記載の露光装置。
- 請求項9〜13のいずれか1項に記載の露光装置を用いて、前記パターンを前記基板に転写する工程と、
前記パターンが転写された前記基板を現像し、前記パターンに対応する形状の転写パターン層を形成する工程と、
前記転写パターン層を介して前記基板を加工する工程と、
を含むことを特徴とするデバイス製造方法。
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