JP2009117672A - 照明光学系、露光装置、およびデバイス製造方法 - Google Patents
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Abstract
【課題】 空間光変調器とオプティカルインテグレータとの間の光路の省スペース化を図りつつ、多様性に富んだ照明条件を実現することのできる照明光学系。
【解決手段】 光源(LS)からの光に基づいて被照射面(M)を照明する照明光学系。二次元的に配列されて個別に制御される複数の光学要素(2a)を有する空間光変調器(2)と、空間光変調器と被照射面との間の光路中に配置されたオプティカルインテグレータ(4)とを備えている。空間光変調器とオプティカルインテグレータとの間の光路中には、実質的にパワーを有する光学部材が配置されていない。
【選択図】 図1
【解決手段】 光源(LS)からの光に基づいて被照射面(M)を照明する照明光学系。二次元的に配列されて個別に制御される複数の光学要素(2a)を有する空間光変調器(2)と、空間光変調器と被照射面との間の光路中に配置されたオプティカルインテグレータ(4)とを備えている。空間光変調器とオプティカルインテグレータとの間の光路中には、実質的にパワーを有する光学部材が配置されていない。
【選択図】 図1
Description
本発明は、照明光学系、露光装置、およびデバイス製造方法に関する。さらに詳細には、本発明は、半導体素子、撮像素子、液晶表示素子、薄膜磁気ヘッド等のデバイスをリソグラフィー工程で製造するための露光装置に好適な照明光学系に関するものである。
この種の典型的な露光装置においては、光源から射出された光束が、オプティカルインテグレータとしてのフライアイレンズを介して、多数の光源からなる実質的な面光源としての二次光源(一般には照明瞳における所定の光強度分布)を形成する。以下、照明瞳での光強度分布を、「瞳強度分布」という。また、照明瞳とは、照明瞳と被照射面(露光装置の場合にはマスクまたはウェハ)との間の光学系の作用によって、被照射面が照明瞳のフーリエ変換面となるような位置として定義される。
二次光源からの光束は、コンデンサーレンズにより集光された後、所定のパターンが形成されたマスクを重畳的に照明する。マスクを透過した光は投影光学系を介してウェハ上に結像し、ウェハ上にはマスクパターンが投影露光(転写)される。なお、マスクに形成されたパターンは高集積化されており、この微細パターンをウェハ上に正確に転写するにはウェハ上において均一な照度分布を得ることが不可欠である。
従来、ズーム光学系を用いることなく瞳強度分布を(ひいては照明条件を)連続的に変更することのできる照明光学系が提案されている(特許文献1を参照)。特許文献1に開示された照明光学系では、アレイ状に配列され且つ傾斜角および傾斜方向が個別に駆動制御される多数の微小な要素ミラーにより構成された可動マルチミラーを用いて、入射光束を反射面毎の微小単位に分割して偏向させることにより、光束の断面を所望の形状または所望の大きさに変換し、ひいては所望の瞳強度分布を実現している。
特許文献1に記載された照明光学系では、空間光変調器としての可動マルチミラーとオプティカルインテグレータとしてのフライアイレンズとの間の光路中に、フーリエ変換レンズとして機能する集光光学系が配置されている。この構成では、空間光変調器で反射された光束が拡がって径方向に比較的大型の集光光学系に入射するため、空間光変調器とオプティカルインテグレータとの間の光路の省スペース化を図ることが困難であり、この光路では集光光学系を透過する分だけ光量損失が発生する。
本発明は、前述の課題に鑑みてなされたものであり、空間光変調器とオプティカルインテグレータとの間の光路の省スペース化を図りつつ、多様性に富んだ照明条件を実現することのできる照明光学系を提供することを目的とする。また、本発明は、多様性に富んだ照明条件を実現することのできる照明光学系を用いて、パターン特性に応じて実現された適切な照明条件のもとで良好な露光を行うことのできる露光装置を提供することを目的とする。
前記課題を解決するために、本発明の第1形態では、光源からの光に基づいて被照射面を照明する照明光学系において、
二次元的に配列されて個別に制御される複数の光学要素を有する空間光変調器と、
前記空間光変調器と前記被照射面との間の光路中に配置されたオプティカルインテグレータとを備え、
前記空間光変調器と前記オプティカルインテグレータとの間の光路中には、実質的にパワーを有する光学部材が配置されていないことを特徴とする照明光学系を提供する。
二次元的に配列されて個別に制御される複数の光学要素を有する空間光変調器と、
前記空間光変調器と前記被照射面との間の光路中に配置されたオプティカルインテグレータとを備え、
前記空間光変調器と前記オプティカルインテグレータとの間の光路中には、実質的にパワーを有する光学部材が配置されていないことを特徴とする照明光学系を提供する。
本発明の第2形態では、所定のパターンを照明するための第1形態の照明光学系を備え、前記所定のパターンを感光性基板に露光することを特徴とする露光装置を提供する。
本発明の第3形態では、第2形態の露光装置を用いて、前記所定のパターンを前記感光性基板に露光する露光工程と、
前記パターンが転写された前記感光性基板を現像し、前記パターンに対応する形状のマスク層を前記感光性基板の表面に形成する現像工程と、
前記マスク層を介して前記感光性基板の表面を加工する加工工程とを含むことを特徴とするデバイス製造方法を提供する。
前記パターンが転写された前記感光性基板を現像し、前記パターンに対応する形状のマスク層を前記感光性基板の表面に形成する現像工程と、
前記マスク層を介して前記感光性基板の表面を加工する加工工程とを含むことを特徴とするデバイス製造方法を提供する。
本発明の照明光学系では、空間光変調器とオプティカルインテグレータとの間の光路中に、実質的にパワーを有する光学部材が配置されていない。換言すれば、この光路中には、光学部材が全く配置されていないか、あるいは例えば平面反射鏡のようなパワーの無い光学部材しか配置されていない。その結果、空間光変調器で反射された光束を拡げることなくオプティカルインテグレータへ入射させることができ、ひいては空間光変調器とオプティカルインテグレータとの間の光路の省スペース化を図ることができる。
こうして、本発明の照明光学系では、空間光変調器とオプティカルインテグレータとの間の光路の省スペース化を図りつつ、空間光変調器の作用により所望の瞳強度分布を自在に実現し、ひいては多様性に富んだ照明条件を実現することができる。また、本発明の露光装置では、多様性に富んだ照明条件を実現することのできる照明光学系を用いて、マスクのパターン特性に応じて実現された適切な照明条件のもとで良好な露光を行うことができ、ひいては良好なデバイスを製造することができる。
本発明の実施形態を、添付図面に基づいて説明する。図1は、本発明の実施形態にかかる露光装置の構成を概略的に示す図である。図1において、感光性基板であるウェハWの法線方向に沿ってZ軸を、ウェハWの面内において図1の紙面に平行な方向にY軸を、ウェハWの面内において図1の紙面に垂直な方向にX軸をそれぞれ設定している。
図1を参照すると、本実施形態の露光装置は、露光光(照明光)を供給するための光源LSを備えている。光源LSとして、たとえば193nmの波長の光を供給するArFエキシマレーザ光源や248nmの波長の光を供給するKrFエキシマレーザ光源などを用いることができる。光源LSから照明光学系の光軸AXに沿ってY方向に射出された光束は、周知の構成を有するビーム送光系1を介して、空間光変調器2に入射する。
ビーム送光系1は、入射光束を適切な大きさおよび形状の断面を有する光束に変換しつつ空間光変調器2へ導くとともに、空間光変調器2に入射する光束の位置変動および角度変動をアクティブに補正する機能を有する。空間光変調器2は、二次元的に配列された複数のミラー要素(一般には光学要素)2aと、制御部CRからの指令にしたがって複数のミラー要素2aの姿勢を個別に制御駆動する駆動部2bとを有する。空間光変調器2の動作および作用については後述する。
空間光変調器2の複数のミラー要素2aにより反射された光は、光路折曲げミラー3を介して、オプティカルインテグレータとしてのマイクロフライアイレンズ(またはフライアイレンズ)4に入射する。マイクロフライアイレンズ4は、たとえば縦横に且つ稠密に配列された多数の正屈折力を有する微小レンズからなる光学素子であり、平行平面板にエッチング処理を施して微小レンズ群を形成することによって構成されている。
マイクロフライアイレンズでは、互いに隔絶されたレンズエレメントからなるフライアイレンズとは異なり、多数の微小レンズ(微小屈折面)が互いに隔絶されることなく一体的に形成されている。しかしながら、レンズ要素が縦横に配置されている点でマイクロフライアイレンズはフライアイレンズと同じ波面分割型のオプティカルインテグレータである。マイクロフライアイレンズ4に入射した光束は多数の微小レンズにより二次元的に分割され、光束が入射した各微小レンズの後側焦点面には光源がそれぞれ形成される。
すなわち、マイクロフライアイレンズ4の後側焦点面には、多数の光源からなる実質的な面光源(以下、「二次光源」という)が形成される。マイクロフライアイレンズ4の後側焦点面に形成された二次光源からの光束は、コンデンサー光学系5を介した後、マスクブラインド6を重畳的に照明する。なお、マイクロフライアイレンズ4の後側または前側に開口絞りを配置して光束を制限することも可能である。
こうして、照明視野絞りとしてのマスクブラインド6には、マイクロフライアイレンズ4を構成する各微小レンズの形状と焦点距離とに応じた矩形状の照野が形成される。マスクブラインド6の矩形状の開口部(光透過部)を介した光束は、結像光学系7の集光作用を受けるとともに、その前群7aと後群7bとの間の光路中に配置された光路折曲げミラー8により偏向されて、所定のパターンが形成されたマスク(レチクル)Mを重畳的に照明する。
すなわち、結像光学系7は、マスクブラインド6の矩形状開口部の像をマスクM上に形成することになる。マスクMを透過した光束は、投影光学系PLを介して、感光性基板であるウェハW上にマスクパターンの像を形成する。こうして、投影光学系PLの光軸AXと直交する平面内においてウェハWを二次元的に駆動制御しながら一括露光またはスキャン露光を行うことにより、ウェハWの各露光領域にはマスクMのパターンが逐次露光される。
本実施形態では、空間光変調器2として、たとえば二次元的に配列された複数のミラー要素2aの向きを連続的にそれぞれ変化させる空間光変調器を用いている。このような空間光変調器として、たとえば特表平10−503300号公報およびこれに対応する欧州特許公開第779530号公報、特開2004−78136号公報およびこれに対応する米国特許第6,900,915号公報、特表2006−524349号公報およびこれに対応する米国特許第7,095,546号公報、並びに特開2006−113437号公報に開示される空間光変調器を用いることができる。なお、二次元的に配列された複数のミラー要素2aの向きを離散的に複数の段階を持つように制御してもよい。
空間光変調器2では、制御部CRからの制御信号に応じて作動する駆動部2bの作用により、複数のミラー要素2aの姿勢がそれぞれ変化し、各ミラー要素2aがそれぞれ所定の向きに設定される。空間光変調器2の複数のミラー要素2aによりそれぞれ所定の角度で反射された光は、図2に示すように、マイクロフライアイレンズ4の入射面に、例えば光軸AXを中心とした輪帯状の光強度分布21からなる照野を形成する。
こうして、マイクロフライアイレンズ4の後側焦点面(ひいては照明瞳)には、入射光束によって形成される照野とほぼ同じ光強度分布を有する二次光源、すなわち光軸AXを中心とした輪帯状の瞳強度分布が形成される。さらに、マイクロフライアイレンズ4の後側焦点面と光学的に共役な別の照明瞳位置、すなわち結像光学系7の瞳位置および投影光学系PLの瞳位置にも、光強度分布21に対応する輪帯状の光強度分布が形成される。
なお、上述の説明では、空間光変調器2の作用によりマイクロフライアイレンズ4の入射面に輪帯状の光強度分布21を形成し、ひいては照明瞳に輪帯状の光強度分布を形成し、この輪帯状の瞳強度分布に基づいて輪帯照明を行っている。しかしながら、輪帯照明に限定されることなく、マイクロフライアイレンズ4の入射面に、例えば複数極状(2極状、4極状など)の光強度分布を形成し、ひいては照明瞳に複数極状の光強度分布を形成し、この複数極状の瞳強度分布に基づいて複数極照明(2極照明、4極照明など)を行うこともできる。
本実施形態の照明光学系(1〜8)では、空間光変調器2とマイクロフライアイレンズ4との間の光路中にパワーの無い光路折曲げミラー3しか配置されていないので、空間光変調器2の複数のミラー要素2aで反射された光束を拡げることなく、マイクロフライアイレンズ4へ入射させることができる。その結果、空間光変調器で反射された光束が拡がって径方向に比較的大型の集光光学系に入射する従来技術に比して、空間光変調器2とマイクロフライアイレンズ4との間の光路の省スペース化を図ることができる。
一般に、露光装置では、マスクMのパターンをウェハWに高精度に且つ忠実に転写するために、パターン特性に応じた適切な照明条件のもとで露光を行うことが重要である。本実施形態の照明光学系(1〜8)では、複数のミラー要素2aの姿勢がそれぞれ個別に変化する空間光変調器2の作用により、瞳強度分布を自在に且つ迅速に変化させることができ、ひいては瞳強度分布の形状および大きさについて多様性に富んだ照明条件を実現することができる。
以上のように、本実施形態において光源LSからの光に基づいて被照射面としてのマスクMを照明する照明光学系(1〜8)では、空間光変調器2とマイクロフライアイレンズ(オプティカルインテグレータ)4との間の光路の省スペース化を図りつつ、空間光変調器2の作用により多様性に富んだ照明条件を実現することができる。また、本実施形態の露光装置(LS〜PL)では、多様性に富んだ照明条件を実現することのできる照明光学系(1〜8)を用いて、マスクMのパターン特性に応じて実現された適切な照明条件のもとで良好な露光を行うことができる。
なお、上述の実施形態では、空間光変調器2とマイクロフライアイレンズ4との間の光路中に光路折曲げミラー3を配置しているが、この光路折曲げミラー3の設置を省略することもできる。この場合、空間光変調器で反射された光束が拡がって入射する集光光学系において光量損失が発生する従来技術に比して、当該光路の省スペース化を図ることができるだけでなく、当該光路での透過部材による光量損失の発生を回避することができる。
また、上述の実施形態では、波面分割型のオプティカルインテグレータであるマイクロフライアイレンズ4の入射面に所定の光強度分布を形成し、ひいては所定の瞳強度分布を実現している。しかしながら、これに限定されることなく、図3に示すように、内面反射型のオプティカルインテグレータ40の入射面に所定の光強度分布の虚像を形成することにより所定の瞳強度分布を実現する変形例も可能である。
図3の変形例では、波面分割型のオプティカルインテグレータであるマイクロフライアイレンズ4に代えて、内面反射型のオプティカルインテグレータとしてのロッド型インテグレータ40を配置している。ロッド型インテグレータ40の採用に伴って、コンデンサー光学系5の配置を省略し、ロッド型インテグレータ40の射出面を視野絞り6の位置にほぼ一致させている。
ロッド型インテグレータ40は、石英や蛍石のような光学材料により例えば角柱状に形成され、内部と外部との境界面すなわち内面での全反射を利用して集光点を通りロッド入射面に平行な面に沿って内面反射数に応じた数の光源を形成する。ここで、形成される光源のほとんどは虚像であるが、中心(集光点)の光源のみが実像となる。すなわち、ロッド型インテグレータ40に入射した光束は内面反射により角度方向に分割され、集光点を通りその入射面に平行な面に沿って多数の光源からなる二次光源が形成される。
こうして、図3の変形例では、空間光変調器2の複数のミラー要素2aを経てロッド型インテグレータ40に入射した光は、ロッド型インテグレータ40の入射面(照明瞳)に所定の光強度分布の虚像(瞳強度分布)を形成する。ロッド型インテグレータ40によりその入射側に形成された所定の瞳強度分布からの光束は、その射出面において重畳された後、結像光学系7を介してマスクMを重畳的に照明する。
なお、上述の説明では、二次元的に配列されて個別に制御される複数の光学要素を有する空間光変調器として、二次元的に配列された複数の反射面の向き(角度:傾き)を個別に制御可能な空間光変調器を用いている。しかしながら、これに限定されることなく、たとえば二次元的に配列された複数の反射面の高さ(位置)を個別に制御可能な空間光変調器を用いることもできる。このような空間光変調器としては、たとえば特開平6−281869号公報及びこれに対応する米国特許第5,312,513号公報、並びに特表2004−520618号公報およびこれに対応する米国特許第6,885,493号公報の図1dに開示される空間光変調器を用いることができる。これらの空間光変調器では、二次元的な高さ分布を形成することで回折面と同様の作用を入射光に与えることができる。なお、上述した二次元的に配列された複数の反射面を持つ空間光変調器を、たとえば特表2006−513442号公報およびこれに対応する米国特許第6,891,655号公報や、特表2005−524112号公報およびこれに対応する米国特許公開第2005/0095749号公報の開示に従って変形しても良い。
また、上述の説明では、複数のミラー要素を有する反射型の空間光変調器を用いているが、これに限定されることなく、たとえば米国特許第5,229,872号公報に開示される透過型の空間光変調器を用いても良い。
また、上述の実施形態および変形例において、空間光変調器を用いて瞳強度分布を形成する際に、瞳強度分布計測装置で瞳強度分布を計測しつつ、この計測結果に応じて空間光変調器を制御してもよい。このような技術は、たとえば特開2006−54328号公報や特開2003−22967号公報およびこれに対応する米国特許公開第2003/0038225号公報に開示されている。
なお、上述の実施形態および変形例では、マスクの代わりに、所定の電子データに基づいて所定パターンを形成する可変パターン形成装置を用いることができる。このような可変パターン形成装置を用いれば、パターン面が縦置きでも同期精度に及ぼす影響を最低限にできる。なお、可変パターン形成装置としては、たとえば所定の電子データに基づいて駆動される複数の反射素子を含むDMD(デジタル・マイクロミラー・デバイス)を用いることができる。DMDを用いた露光装置は、例えば特開2004−304135号公報、国際特許公開第2006/080285号パンフレットに開示されている。また、DMDのような非発光型の反射型空間光変調器以外に、透過型空間光変調器を用いても良く、自発光型の画像表示素子を用いても良い。なお、パターン面が横置きの場合であっても可変パターン形成装置を用いても良い。
上述の実施形態および変形例の露光装置は、本願特許請求の範囲に挙げられた各構成要素を含む各種サブシステムを、所定の機械的精度、電気的精度、光学的精度を保つように、組み立てることで製造される。これら各種精度を確保するために、この組み立ての前後には、各種光学系については光学的精度を達成するための調整、各種機械系については機械的精度を達成するための調整、各種電気系については電気的精度を達成するための調整が行われる。各種サブシステムから露光装置への組み立て工程は、各種サブシステム相互の、機械的接続、電気回路の配線接続、気圧回路の配管接続等が含まれる。この各種サブシステムから露光装置への組み立て工程の前に、各サブシステム個々の組み立て工程があることはいうまでもない。各種サブシステムの露光装置への組み立て工程が終了したら、総合調整が行われ、露光装置全体としての各種精度が確保される。なお、露光装置の製造は温度およびクリーン度等が管理されたクリーンルームで行うことが望ましい。
次に、上述の実施形態および変形例にかかる露光装置を用いたデバイス製造方法について説明する。図4は、半導体デバイスの製造工程を示すフローチャートである。図4に示すように、半導体デバイスの製造工程では、半導体デバイスの基板となるウェハWに金属膜を蒸着し(ステップS40)、この蒸着した金属膜上に感光性材料であるフォトレジストを塗布する(ステップS42)。つづいて、上述の実施形態および変形例の投影露光装置を用い、マスク(レチクル)Mに形成されたパターンをウェハW上の各ショット領域に転写し(ステップS44:露光工程)、この転写が終了したウェハWの現像、つまりパターンが転写されたフォトレジストの現像を行う(ステップS46:現像工程)。その後、ステップS46によってウェハWの表面に生成されたレジストパターンをマスクとし、ウェハWの表面に対してエッチング等の加工を行う(ステップS48:加工工程)。
ここで、レジストパターンとは、上述の実施形態および変形例の投影露光装置によって転写されたパターンに対応する形状の凹凸が生成されたフォトレジスト層であって、その凹部がフォトレジスト層を貫通しているものである。ステップS48では、このレジストパターンを介してウェハWの表面の加工を行う。ステップS48で行われる加工には、例えばウェハWの表面のエッチングまたは金属膜等の成膜の少なくとも一方が含まれる。なお、ステップS44では、上述の実施形態および変形例の投影露光装置は、フォトレジストが塗布されたウェハWを、感光性基板つまりプレートPとしてパターンの転写を行う。
図5は、液晶表示素子等の液晶デバイスの製造工程を示すフローチャートである。図5に示すように、液晶デバイスの製造工程では、パターン形成工程(ステップS50)、カラーフィルタ形成工程(ステップS52)、セル組立工程(ステップS54)およびモジュール組立工程(ステップS56)を順次行う。
ステップS50のパターン形成工程では、プレートPとしてフォトレジストが塗布されたガラス基板上に、上述の実施形態および変形例の投影露光装置を用いて回路パターンおよび電極パターン等の所定のパターンを形成する。このパターン形成工程には、上述の実施形態および変形例の投影露光装置を用いてフォトレジスト層にパターンを転写する露光工程と、パターンが転写されたプレートPの現像、つまりガラス基板上のフォトレジスト層の現像を行い、パターンに対応する形状のフォトレジスト層を生成する現像工程と、この現像されたフォトレジスト層を介してガラス基板の表面を加工する加工工程とが含まれている。
ステップS52のカラーフィルタ形成工程では、R(Red)、G(Green)、B(Blue)に対応する3つのドットの組をマトリックス状に多数配列するか、またはR、G、Bの3本のストライプのフィルタの組を水平走査方向に複数配列したカラーフィルタを形成する。
ステップS54のセル組立工程では、ステップS50によって所定パターンが形成されたガラス基板と、ステップS52によって形成されたカラーフィルタとを用いて液晶パネル(液晶セル)を組み立てる。具体的には、例えばガラス基板とカラーフィルタとの間に液晶を注入することで液晶パネルを形成する。ステップS56のモジュール組立工程では、ステップS54によって組み立てられた液晶パネルに対し、この液晶パネルの表示動作を行わせる電気回路およびバックライト等の各種部品を取り付ける。
また、本発明は、半導体デバイス製造用の露光装置への適用に限定されることなく、例えば、角型のガラスプレートに形成される液晶表示素子、若しくはプラズマディスプレイ等のディスプレイ装置用の露光装置や、撮像素子(CCD等)、マイクロマシーン、薄膜磁気ヘッド、及びDNAチップ等の各種デバイスを製造するための露光装置にも広く適用できる。更に、本発明は、各種デバイスのマスクパターンが形成されたマスク(フォトマスク、レチクル等)をフォトリソグラフィ工程を用いて製造する際の、露光工程(露光装置)にも適用することができる。
なお、上述の実施形態および変形例では、露光光としてArFエキシマレーザ光(波長:193nm)やKrFエキシマレーザ光(波長:248nm)を用いているが、これに限定されることなく、他の適当なレーザ光源、たとえば波長157nmのレーザ光を供給するF2レーザ光源などに対して本発明を適用することもできる。
また、上述の実施形態および変形例では、露光装置においてマスクを照明する照明光学系に対して本発明を適用しているが、これに限定されることなく、マスク以外の被照射面を照明する一般的な照明光学系に対して本発明を適用することもできる。
1 ビーム送光系
2 空間光変調器
2a 空間光変調器の複数のミラー要素
3,8 光路折曲げミラー
4 マイクロフライアイレンズ
5 コンデンサー光学系
6 マスクブラインド
7 結像光学系
LS 光源
CR 制御部
M マスク
PL 投影光学系
W ウェハ
2 空間光変調器
2a 空間光変調器の複数のミラー要素
3,8 光路折曲げミラー
4 マイクロフライアイレンズ
5 コンデンサー光学系
6 マスクブラインド
7 結像光学系
LS 光源
CR 制御部
M マスク
PL 投影光学系
W ウェハ
Claims (7)
- 光源からの光に基づいて被照射面を照明する照明光学系において、
二次元的に配列されて個別に制御される複数の光学要素を有する空間光変調器と、
前記空間光変調器と前記被照射面との間の光路中に配置されたオプティカルインテグレータとを備え、
前記空間光変調器と前記オプティカルインテグレータとの間の光路中には、実質的にパワーを有する光学部材が配置されていないことを特徴とする照明光学系。 - 前記空間光変調器は、二次元的に配列された複数のミラー要素と、該複数のミラー要素の姿勢を個別に制御駆動する駆動部とを有することを特徴とする請求項1に記載の照明光学系。
- 前記駆動部は、前記複数のミラー要素の向きを連続的に変化させることを特徴とする請求項2に記載の照明光学系。
- 前記オプティカルインテグレータは、波面分割型のオプティカルインテグレータを有し、
前記空間光変調器は、前記波面分割型のオプティカルインテグレータの入射面に所定の光強度分布を形成することを特徴とする請求項1乃至3のいずれか1項に記載の照明光学系。 - 前記オプティカルインテグレータは、内面反射型のオプティカルインテグレータを有し、
前記内面反射型のオプティカルインテグレータの入射面には、所定の光強度分布の虚像が形成されることを特徴とする請求項1乃至3のいずれか1項に記載の照明光学系。 - 所定のパターンを照明するための請求項1乃至5のいずれか1項に記載の照明光学系を備え、前記所定のパターンを感光性基板に露光することを特徴とする露光装置。
- 請求項6に記載の露光装置を用いて、前記所定のパターンを前記感光性基板に露光する露光工程と、
前記パターンが転写された前記感光性基板を現像し、前記パターンに対応する形状のマスク層を前記感光性基板の表面に形成する現像工程と、
前記マスク層を介して前記感光性基板の表面を加工する加工工程とを含むことを特徴とするデバイス製造方法。
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JP2007290235A Pending JP2009117672A (ja) | 2007-11-08 | 2007-11-08 | 照明光学系、露光装置、およびデバイス製造方法 |
Country Status (1)
Country | Link |
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JP (1) | JP2009117672A (ja) |
-
2007
- 2007-11-08 JP JP2007290235A patent/JP2009117672A/ja active Pending
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