JP2012033787A - 伝送光学系、照明光学系、露光装置、およびデバイス製造方法 - Google Patents
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Abstract
【解決手段】 光源の光出力口から射出されたほぼ平行光束状態の光を露光装置本体の光取入口まで導いて該光取入口へほぼ平行光束状態で入射させる伝送光学系は、光出力口と光取入口とを光学的にフーリエ変換の関係にする集光光学系と、光出力口と集光光学系との間の光路中に配置されて、入射光束の角度分布の範囲よりも大きい範囲の角度分布を射出光束に付与する角度分布付与素子とを備えている。
【選択図】 図3
Description
前記光出力口と前記光取入口とを光学的にフーリエ変換の関係にする集光光学系と、
前記光出力口と前記集光光学系との間の光路中に配置されて、入射光束の角度分布の範囲よりも大きい範囲の角度分布を射出光束に付与する角度分布付与素子とを備えていることを特徴とする伝送光学系を提供する。
第1形態の伝送光学系と、
前記露光装置本体の前記光取入口に配置されて、入射光を空間的に変調して射出する空間光変調素子とを備えていることを特徴とする照明光学系を提供する。
前記所定のパターンが転写された前記感光性基板を現像し、前記所定のパターンに対応する形状のマスク層を前記感光性基板の表面に形成することと、
前記マスク層を介して前記感光性基板の表面を加工することと、を含むことを特徴とするデバイス製造方法を提供する。
2a 回折光学素子(角度分布付与素子)
2b 集光光学系
3 回折光学素子(空間光変調素子)
4 アフォーカルレンズ
6 円錐アキシコン系
7 ズームレンズ
8 マイクロフライアイレンズ(オプティカルインテグレータ)
10 コンデンサー光学系
11 マスクブラインド
12 結像光学系
LS レーザ光源
LSa 光出力口
EA 露光装置本体
EAa 光取入口
M マスク
PL 投影光学系
W ウェハ
Claims (14)
- 光源の光出力口から射出されたほぼ平行光束状態の光を露光装置本体の光取入口まで導いて該光取入口へほぼ平行光束状態で入射させる伝送光学系であって、
前記光出力口と前記光取入口とを光学的にフーリエ変換の関係にする集光光学系と、
前記光出力口と前記集光光学系との間の光路中に配置されて、入射光束の角度分布の範囲よりも大きい範囲の角度分布を射出光束に付与する角度分布付与素子とを備えていることを特徴とする伝送光学系。 - 前記角度分布付与素子は、回折光学素子を有することを特徴とする請求項1に記載の伝送光学系。
- 前記回折光学素子は、前記光出力口の直後の位置に配置されていることを特徴とする請求項2に記載の伝送光学系。
- 前記回折光学素子は、矩形状の断面を有する平行光束が入射したときにファーフィールドに環状の断面を有する光束を形成する回折特性を有することを特徴とする請求項2または3に記載の伝送光学系。
- 前記回折光学素子は、矩形状の断面を有する平行光束が入射したときにファーフィールドに複数極状の断面を有する光束を形成する回折特性を有することを特徴とする請求項2または3に記載の伝送光学系。
- 光源からの光により被照射面を照明する照明光学系において、
請求項1乃至5のいずれか1項に記載の伝送光学系と、
前記露光装置本体の前記光取入口に配置されて、入射光を空間的に変調して射出する空間光変調素子とを備えていることを特徴とする照明光学系。 - 前記空間光変調素子を介した光に基づいて、前記照明光学系の照明瞳に所定の光強度分布を形成する分布形成光学系をさらに備えていることを特徴とする請求項6に記載の照明光学系。
- 前記分布形成光学系は、オプティカルインテグレータと、該オプティカルインテグレータと前記空間光変調素子との間の光路中に配置された集光光学系とを有することを特徴とする請求項7に記載の照明光学系。
- 前記空間光変調素子は、回折光学素子を有することを特徴とする請求項6乃至8のいずれか1項に記載の照明光学系。
- 前記空間光変調素子は、所定面に沿って配列されて個別に制御される複数の光学要素を有する空間光変調器を備えていることを特徴とする請求項6乃至9のいずれか1項に記載の照明光学系。
- 所定のパターンを照明するための請求項6乃至10のいずれか1項に記載の照明光学系を備え、前記所定のパターンを感光性基板に露光することを特徴とする露光装置。
- 前記所定のパターンの像を前記感光性基板上に形成する投影光学系を備えていることを特徴とする請求項11に記載の露光装置。
- 前記照明光学系の照明瞳は前記投影光学系の開口絞りと光学的に共役な位置であることを特徴とする請求項12に記載の露光装置。
- 請求項11乃至13のいずれか1項に記載の露光装置を用いて、前記所定のパターンを前記感光性基板に露光することと、
前記所定のパターンが転写された前記感光性基板を現像し、前記所定のパターンに対応する形状のマスク層を前記感光性基板の表面に形成することと、
前記マスク層を介して前記感光性基板の表面を加工することと、を含むことを特徴とするデバイス製造方法。
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