JP5182588B2 - オプティカルインテグレータ、照明光学系、露光装置、およびデバイス製造方法 - Google Patents

Description

本発明は、オプティカルインテグレータ、照明光学系、露光装置、およびデバイス製造方法に関する。さらに詳細には、本発明は、例えば半導体素子、撮像素子、液晶表示素子、薄膜磁気ヘッド等のデバイスをリソグラフィー工程で製造するための露光装置に好適な照明光学系に関するものである。

この種の典型的な露光装置においては、光源から射出された光が、オプティカルインテグレータとしてのフライアイレンズを介して、多数の光源からなる実質的な面光源としての二次光源（一般には照明瞳における所定の光強度分布）を形成する。以下、照明瞳での光強度分布を、「瞳強度分布」という。また、照明瞳とは、照明瞳と被照射面（露光装置の場合にはマスクまたはウェハ）との間の光学系の作用によって、被照射面が照明瞳のフーリエ変換面となるような位置として定義される。

二次光源からの光は、コンデンサーレンズにより集光された後、所定のパターンが形成されたマスクを重畳的に照明する。マスクを透過した光は投影光学系を介してウェハ上に結像し、ウェハ上にはマスクパターンが投影露光（転写）される。マスクに形成されたパターンは高集積化されており、この微細パターンをウェハ上に正確に転写するにはウェハ上において均一な照度分布を得ることが不可欠である。

マスクの微細パターンをウェハ上に正確に転写するために、例えば輪帯状や複数極状（２極状、４極状など）の瞳強度分布を形成し、投影光学系の焦点深度や解像力を向上させる技術が提案されている（特許文献１を参照）。

米国特許公開第２００６／００５５８３４号公報

マスクの微細パターンをウェハ上に忠実に転写するには、瞳強度分布を所望の形状に調整するだけでなく、最終的な被照射面としてのウェハ上の各点に関する瞳強度分布をそれぞれほぼ均一に調整する必要がある。ウェハ上の各点での瞳強度分布の均一性にばらつきがあると、ウェハ上の位置毎にパターンの線幅がばらついて、マスクの微細パターンを露光領域の全体に亘って所望の線幅でウェハ上に忠実に転写することができない。

本発明は、被照射面上の各点での瞳強度分布をそれぞれほぼ均一に調整することのできる照明光学系を提供することを目的とする。また、本発明は、被照射面上の各点での瞳強度分布をそれぞれほぼ均一に調整する照明光学系を用いて、適切な照明条件のもとで良好な露光を行うことのできる露光装置を提供することを目的とする。

前記課題を解決するために、本発明の第１形態では、被照射面を照明する照明光学系に用いられる波面分割型のオプティカルインテグレータにおいて、
前記照明光学系の光軸と直交する平面内の第１方向に所定の屈折力を有する複数の第１屈折面と、
前記複数の第１屈折面に対応するように前記複数の第１屈折面の後側に設けられて、前記第１方向に所定の屈折力を有する複数の第２屈折面と、
少なくとも２つの隣り合う第２屈折面の間に設けられて、前記被照射面に達する光の位置が前記被照射面の中心から前記第１方向に沿って離れるにしたがって減光率の増大する減光率特性を有する減光部とを備えていることを特徴とするオプティカルインテグレータを提供する。

本発明の第２形態では、光源からの光に基づいて被照射面を照明する照明光学系において、
第１形態のオプティカルインテグレータを備えていることを特徴とする照明光学系を提供する。

本発明の第３形態では、所定のパターンを照明するための第２形態の照明光学系を備え、前記所定のパターンを感光性基板に露光することを特徴とする露光装置を提供する。

本発明の第４形態では、第３形態の露光装置を用いて、前記所定のパターンを前記感光性基板に露光する露光工程と、
前記所定のパターンが転写された前記感光性基板を現像し、前記所定のパターンに対応する形状のマスク層を前記感光性基板の表面に形成する現像工程と、
前記マスク層を介して前記感光性基板の表面を加工する加工工程とを含むことを特徴とするデバイス製造方法を提供する。

本発明の照明光学系では、オプティカルインテグレータの隣り合う屈折面の間に、被照射面に達する光の位置がその中心から所定方向に沿って離れるにしたがって減光率の増大する減光率特性を有する減光部が設けられている。したがって、オプティカルインテグレータの減光部の作用により、被照射面上の各点に関する瞳強度分布をそれぞれ独立的に調整し、ひいては各点に関する瞳強度分布を互いにほぼ同じ性状の分布に調整することが可能である。

その結果、本発明の照明光学系では、例えば被照射面上の各点での瞳強度分布を一律に調整する濃度フィルターと、各点に関する瞳強度分布をそれぞれ独立的に調整するオプティカルインテグレータの減光部との協働作用により、被照射面上の各点での瞳強度分布をそれぞれほぼ均一に調整することができる。こうして、本発明の露光装置では、被照射面上の各点での瞳強度分布をそれぞれほぼ均一に調整する照明光学系を用いて、適切な照明条件のもとで良好な露光を行うことができ、ひいては良好なデバイスを製造することができる。

本発明の実施形態にかかる露光装置の構成を概略的に示す図である。 図１のシリンドリカルマイクロフライアイレンズの構成を概略的に示す斜視図である。 照明瞳に形成される４極状の二次光源を示す図である。 ウェハ上に形成される矩形状の静止露光領域を示す図である。 静止露光領域内の中心点Ｐ１に入射する光が形成する４極状の瞳強度分布の性状を説明する図である。 静止露光領域内の周辺点Ｐ２，Ｐ３に入射する光が形成する４極状の瞳強度分布の性状を説明する図である。 （ａ）は中心点Ｐ１に関する瞳強度分布のＺ方向に沿った光強度分布を、（ｂ）は周辺点Ｐ２，Ｐ３に関する瞳強度分布のＺ方向に沿った光強度分布を模式的に示す図である。 図２のシリンドリカルマイクロフライアイレンズに設けられた減光部の構成および作用を説明する図である。 ４極状の瞳強度分布においてＸ方向に間隔を隔てた一対の面光源に対応する領域に減光部としてのＶ字状の切削面が形成されている様子を示す図である。 （ａ）は中心点Ｐ１に達する光線群が本来の大きさの小光源を形成する様子を、（ｂ）は周辺点Ｐ２，Ｐ３に達する光線群が本来の大きさの小光源と本来よりも小さい小光源とを形成する様子を模式的に示す図である。 本実施形態の減光部の作用を説明する第１の図である。 本実施形態の減光部の作用を説明する第２の図である。 図２とは別の形態を有するシリンドリカルマイクロフライアイレンズの構成を概略的に示す斜視図である。 図１３のシリンドリカルマイクロフライアイレンズに設けられた減光部の構成を概略的に示す図である。 ５極状の瞳強度分布においてＸ方向に間隔を隔てた一対の面光源に対応する領域のみに減光部としてのＶ字状の切削面が形成されている様子を示す図である。 半導体デバイスの製造工程を示すフローチャートである。 液晶表示素子等の液晶デバイスの製造工程を示すフローチャートである。

本発明の実施形態を、添付図面に基づいて説明する。図１は、本発明の実施形態にかかる露光装置の構成を概略的に示す図である。図１において、感光性基板であるウェハＷの露光面（転写面）の法線方向に沿ってＺ軸を、ウェハＷの露光面内において図１の紙面に平行な方向にＹ軸を、ウェハＷの露光面内において図１の紙面に垂直な方向にＸ軸をそれぞれ設定している。

図１を参照すると、本実施形態の露光装置では、光源１から露光光（照明光）が供給される。光源１として、たとえば１９３ｎｍの波長の光を供給するＡｒＦエキシマレーザ光源や２４８ｎｍの波長の光を供給するＫｒＦエキシマレーザ光源などを用いることができる。光源１から射出された光は、整形光学系２により所要の断面形状の光束に変換された後、例えば輪帯照明用の回折光学素子３を介して、アフォーカルレンズ４に入射する。

アフォーカルレンズ４は、その前側焦点位置と回折光学素子３の位置とがほぼ一致し且つその後側焦点位置と図中破線で示す所定面５の位置とがほぼ一致するように設定されたアフォーカル系（無焦点光学系）である。回折光学素子３は、基板に露光光（照明光）の波長程度のピッチを有する段差を形成することによって構成され、入射ビームを所望の角度に回折する作用を有する。具体的には、輪帯照明用の回折光学素子３は、矩形状の断面を有する平行光束が入射した場合に、ファーフィールド（またはフラウンホーファー回折領域）に輪帯状の光強度分布を形成する機能を有する。

したがって、回折光学素子３に入射したほぼ平行光束は、アフォーカルレンズ４の瞳面に輪帯状の光強度分布を形成した後、輪帯状の角度分布でアフォーカルレンズ４から射出される。アフォーカルレンズ４の前側レンズ群４ａと後側レンズ群４ｂとの間の光路中において、その瞳位置またはその近傍には、濃度フィルター６が配置されている。濃度フィルター６は平行平面板の形態を有し、その光学面にはクロムや酸化クロム等からなる遮光性ドットの濃密パターンが形成されている。すなわち、濃度フィルター６は、光の入射位置に応じて透過率の異なる透過率分布を有する。濃度フィルター６の具体的な作用については後述する。

アフォーカルレンズ４を介した光は、σ値（σ値＝照明光学系のマスク側開口数／投影光学系のマスク側開口数）可変用のズームレンズ７を介して、オプティカルインテグレータとしてのシリンドリカルマイクロフライアイレンズ９に入射する。シリンドリカルマイクロフライアイレンズ９は、図２に示すように、光源側に配置された第１フライアイ部材（第１光学部材）９ａとマスク側に配置された第２フライアイ部材（第２光学部材）９ｂとにより構成されている。

第１フライアイ部材９ａの光源側（入射側）の面および第２フライアイ部材９ｂの光源側の面には、Ｘ方向に並んで配列された複数の円筒面形状の屈折面（シリンドリカルレンズ群）９ａａおよび９ｂａがそれぞれピッチｐｘで形成されている。第１フライアイ部材９ａのマスク側（射出側）の面および第２フライアイ部材９ｂのマスク側の面には、Ｚ方向に並んで配列された複数の円筒面形状の屈折面（シリンドリカルレンズ群）９ａｂおよび９ｂｂがそれぞれピッチｐｚ（ｐｚ＞ｐｘ）で形成されている。

シリンドリカルマイクロフライアイレンズ９のＸ方向に関する屈折作用（すなわちＸＹ平面に関する屈折作用）に着目すると、光軸ＡＸに沿って入射した平行光束は、第１フライアイ部材９ａの光源側に形成された一群の屈折面９ａａによってＸ方向に沿ってピッチｐｘで波面分割され、その屈折面で集光作用を受けた後、第２フライアイ部材９ｂの光源側に形成された一群の屈折面９ｂａ中の対応する屈折面で集光作用を受け、シリンドリカルマイクロフライアイレンズ９の後側焦点面上に集光する。

シリンドリカルマイクロフライアイレンズ９のＺ方向に関する屈折作用（すなわちＹＺ平面に関する屈折作用）に着目すると、光軸ＡＸに沿って入射した平行光束は、第１フライアイ部材９ａのマスク側に形成された一群の屈折面９ａｂによってＺ方向に沿ってピッチｐｚで波面分割され、その屈折面で集光作用を受けた後、第２フライアイ部材９ｂのマスク側に形成された一群の屈折面９ｂｂ中の対応する屈折面で集光作用を受け、シリンドリカルマイクロフライアイレンズ９の後側焦点面上に集光する。

このように、シリンドリカルマイクロフライアイレンズ９は、シリンドリカルレンズ群が両側面に配置された第１フライアイ部材９ａと第２フライアイ部材９ｂとにより構成されているが、Ｘ方向にｐｘのサイズを有しＺ方向にｐｚのサイズを有する多数の矩形状の微小屈折面（単位波面分割面）が縦横に且つ稠密に一体形成されたマイクロフライアイレンズと同様の光学的機能を発揮する。シリンドリカルマイクロフライアイレンズ９では、微小屈折面の面形状のばらつきに起因する歪曲収差の変化を小さく抑え、たとえばエッチング加工により一体的に形成される多数の微小屈折面の製造誤差が照度分布に与える影響を小さく抑えることができる。

所定面５の位置はズームレンズ７の前側焦点位置またはその近傍に配置され、シリンドリカルマイクロフライアイレンズ９の入射面（すなわち第１フライアイ部材９ａの入射面）はズームレンズ７の後側焦点位置またはその近傍に配置されている。換言すると、ズームレンズ７は、所定面５とシリンドリカルマイクロフライアイレンズ９の入射面とを実質的にフーリエ変換の関係に配置し、ひいてはアフォーカルレンズ４の瞳面とシリンドリカルマイクロフライアイレンズ９の入射面とを光学的にほぼ共役に配置している。

したがって、シリンドリカルマイクロフライアイレンズ９の入射面上には、アフォーカルレンズ４の瞳面と同様に、たとえば光軸ＡＸを中心とした輪帯状の照野が形成される。この輪帯状の照野の全体形状は、ズームレンズ７の焦点距離に依存して相似的に変化する。シリンドリカルマイクロフライアイレンズ９の各単位波面分割面は、上述したように、Ｚ方向に沿って長辺を有し且つＸ方向に沿って短辺を有する矩形状であって、マスクＭ上において形成すべき照明領域の形状（ひいてはウェハＷ上において形成すべき露光領域の形状）と相似な矩形状である。

シリンドリカルマイクロフライアイレンズ９に入射した光束は二次元的に分割され、その後側焦点面またはその近傍の位置（ひいては照明瞳の位置）には、シリンドリカルマイクロフライアイレンズ９の入射面に形成される照野とほぼ同じ光強度分布を有する二次光源、すなわち光軸ＡＸを中心とした輪帯状の実質的な面光源からなる二次光源（瞳強度分布）が形成される。

シリンドリカルマイクロフライアイレンズ９の後側焦点面またはその近傍には、必要に応じて、輪帯状の二次光源に対応した輪帯状の開口部（光透過部）を有する照明開口絞り（不図示）が配置されている。照明開口絞りは、照明光路に対して挿脱自在に構成され、且つ大きさおよび形状の異なる開口部を有する複数の開口絞りと切り換え可能に構成されている。開口絞りの切り換え方式として、たとえば周知のターレット方式やスライド方式などを用いることができる。照明開口絞りは、後述する投影光学系ＰＬの入射瞳面と光学的にほぼ共役な位置に配置され、二次光源の照明に寄与する範囲を規定する。

シリンドリカルマイクロフライアイレンズ９を経た光は、コンデンサー光学系１０を介して、マスクブラインド１１を重畳的に照明する。こうして、照明視野絞りとしてのマスクブラインド１１には、シリンドリカルマイクロフライアイレンズ９の単位波面分割面の形状と焦点距離とに応じた矩形状の照野が形成される。マスクブラインド１１の矩形状の開口部（光透過部）を経た光は、前側レンズ群１２ａと後側レンズ群１２ｂとからなる結像光学系１２を介して、所定のパターンが形成されたマスクＭを重畳的に照明する。すなわち、結像光学系１２は、マスクブラインド１１の矩形状開口部の像をマスクＭ上に形成することになる。

マスクステージＭＳ上に保持されたマスクＭには転写すべきパターンが形成されており、パターン領域全体のうちＹ方向に沿って長辺を有し且つＸ方向に沿って短辺を有する矩形状（スリット状）のパターン領域が照明される。マスクＭのパターン領域を透過した光は、投影光学系ＰＬを介して、ウェハステージＷＳ上に保持されたウェハ（感光性基板）Ｗ上にマスクパターンの像を形成する。すなわち、マスクＭ上での矩形状の照明領域に光学的に対応するように、ウェハＷ上においてもＹ方向に沿って長辺を有し且つＸ方向に沿って短辺を有する矩形状の静止露光領域（実効露光領域）にパターン像が形成される。

こうして、いわゆるステップ・アンド・スキャン方式にしたがって、投影光学系ＰＬの光軸ＡＸと直交する平面（ＸＹ平面）内において、Ｘ方向（走査方向）に沿ってマスクステージＭＳとウェハステージＷＳとを、ひいてはマスクＭとウェハＷとを同期的に移動（走査）させることにより、ウェハＷ上には静止露光領域のＹ方向寸法に等しい幅を有し且つウェハＷの走査量（移動量）に応じた長さを有するショット領域（露光領域）に対してマスクパターンが走査露光される。

本実施形態では、上述したように、シリンドリカルマイクロフライアイレンズ９により形成される二次光源を光源として、照明光学系（２〜１２）の被照射面に配置されるマスクＭをケーラー照明する。このため、二次光源が形成される位置は投影光学系ＰＬの開口絞りＡＳの位置と光学的に共役であり、二次光源の形成面を照明光学系（２〜１２）の照明瞳面と呼ぶことができる。典型的には、照明瞳面に対して被照射面（マスクＭが配置される面、または投影光学系ＰＬを含めて照明光学系と考える場合にはウェハＷが配置される面）が光学的なフーリエ変換面となる。

なお、瞳強度分布とは、照明光学系（２〜１２）の照明瞳面または当該照明瞳面と光学的に共役な面における光強度分布（輝度分布）である。シリンドリカルマイクロフライアイレンズ９による波面分割数が比較的大きい場合、シリンドリカルマイクロフライアイレンズ９の入射面に形成される大局的な光強度分布と、二次光源全体の大局的な光強度分布（瞳強度分布）とが高い相関を示す。このため、シリンドリカルマイクロフライアイレンズ９の入射面および当該入射面と光学的に共役な面における光強度分布についても瞳強度分布と称することができる。図１の構成において、回折光学素子３、アフォーカルレンズ４、ズームレンズ７、およびシリンドリカルマイクロフライアイレンズ９は、シリンドリカルマイクロフライアイレンズ９よりも後側の照明瞳に瞳強度分布を形成する分布形成光学系を構成している。

輪帯照明用の回折光学素子３に代えて、複数極照明（２極照明、４極照明、８極照明など）用の回折光学素子（不図示）を照明光路中に設定することによって、複数極照明を行うことができる。複数極照明用の回折光学素子は、矩形状の断面を有する平行光束が入射した場合に、ファーフィールドに複数極状（２極状、４極状、８極状など）の光強度分布を形成する機能を有する。したがって、複数極照明用の回折光学素子を介した光束は、シリンドリカルマイクロフライアイレンズ９の入射面に、たとえば光軸ＡＸを中心とした複数の所定形状（円弧状、円形状など）の照野からなる複数極状の照野を形成する。その結果、シリンドリカルマイクロフライアイレンズ９の後側焦点面またはその近傍にも、その入射面に形成された照野と同じ複数極状の二次光源が形成される。

また、輪帯照明用の回折光学素子３に代えて、円形照明用の回折光学素子（不図示）を照明光路中に設定することによって、通常の円形照明を行うことができる。円形照明用の回折光学素子は、矩形状の断面を有する平行光束が入射した場合に、ファーフィールドに円形状の光強度分布を形成する機能を有する。したがって、円形照明用の回折光学素子を介した光束は、シリンドリカルマイクロフライアイレンズ９の入射面に、たとえば光軸ＡＸを中心とした円形状の照野を形成する。その結果、シリンドリカルマイクロフライアイレンズ９の後側焦点面またはその近傍にも、その入射面に形成された照野と同じ円形状の二次光源が形成される。また、輪帯照明用の回折光学素子３に代えて、適当な特性を有する回折光学素子（不図示）を照明光路中に設定することによって、様々な形態の変形照明を行うことができる。回折光学素子３の切り換え方式として、たとえば周知のターレット方式やスライド方式などを用いることができる。

以下の説明では、本実施形態の作用効果の理解を容易にするために、シリンドリカルマイクロフライアイレンズ９の後側焦点面またはその近傍の照明瞳には、図３に示すような４つの円弧状の実質的な面光源（以下、単に「面光源」という）２０ａ，２０ｂ，２０ｃおよび２０ｄからなる４極状の瞳強度分布（二次光源）２０が形成されるものとする。また、以下の説明において単に「照明瞳」という場合には、シリンドリカルマイクロフライアイレンズ９の後側焦点面またはその近傍の照明瞳を指すものとする。

図３を参照すると、照明瞳に形成される４極状の瞳強度分布２０は、光軸ＡＸを挟んでＸ方向に間隔を隔てた面光源２０ａおよび２０ｂと、光軸ＡＸを挟んでＺ方向に間隔を隔てた一対の円弧状の実質的な面光源２０ｃおよび２０ｄとを有する。なお、照明瞳におけるＸ方向はシリンドリカルマイクロフライアイレンズ９の矩形状の単位波面分割面の短辺方向であって、ウェハＷの走査方向に対応している。また、照明瞳におけるＺ方向は、シリンドリカルマイクロフライアイレンズ９の矩形状の単位波面分割面の長辺方向であって、ウェハＷの走査方向と直交する走査直交方向（ウェハＷ上におけるＹ方向）に対応している。

ウェハＷ上には、図４に示すように、Ｙ方向に沿って長辺を有し且つＸ方向に沿って短辺を有する矩形状の静止露光領域ＥＲが形成され、この静止露光領域ＥＲに対応するように、マスクＭ上には矩形状の照明領域（不図示）が形成される。ここで、静止露光領域ＥＲ内の１点に入射する光が照明瞳に形成する４極状の瞳強度分布は、入射点の位置に依存することなく、互いにほぼ同じ形状を有する。しかしながら、４極状の瞳強度分布を構成する各面光源の光強度は、入射点の位置に依存して異なる傾向がある。

具体的には、図５に示すように、静止露光領域ＥＲ内の中心点Ｐ１に入射する光が形成する４極状の瞳強度分布２１の場合、Ｚ方向に間隔を隔てた面光源２１ｃおよび２１ｄの光強度の方が、Ｘ方向に間隔を隔てた面光源２１ａおよび２１ｂの光強度よりも大きくなる傾向がある。一方、図６に示すように、静止露光領域ＥＲ内の中心点Ｐ１からＹ方向に間隔を隔てた周辺の点Ｐ２，Ｐ３に入射する光が形成する４極状の瞳強度分布２２の場合、Ｚ方向に間隔を隔てた面光源２２ｃおよび２２ｄの光強度の方が、Ｘ方向に間隔を隔てた面光源２２ａおよび２２ｂの光強度よりも小さくなる傾向がある。

一般に、照明瞳に形成される瞳強度分布の外形形状にかかわらず、ウェハＷ上の静止露光領域ＥＲ内の中心点Ｐ１に関する瞳強度分布（中心点Ｐ１に入射する光が照明瞳に形成する瞳強度分布）のＺ方向に沿った光強度分布は、図７（ａ）に示すように、中央において最も小さく周辺に向かって増大する凹曲線状の分布を有する。一方、ウェハＷ上の静止露光領域ＥＲ内の周辺点Ｐ２，Ｐ３に関する瞳強度分布のＺ方向に沿った光強度分布は、図７（ｂ）に示すように、中央において最も大きく周辺に向かって減少する凸曲線状の分布を有する。

そして、瞳強度分布のＺ方向に沿った光強度分布は、静止露光領域ＥＲ内のＸ方向（走査方向）に沿った入射点の位置にはあまり依存しないが、静止露光領域ＥＲ内のＹ方向（走査直交方向）に沿った入射点の位置に依存して変化する傾向がある。このように、ウェハＷ上の静止露光領域ＥＲ内の各点に関する瞳強度分布（各点に入射する光が照明瞳に形成する瞳強度分布）がそれぞれほぼ均一でない場合、ウェハＷ上の位置毎にパターンの線幅がばらついて、マスクＭの微細パターンを露光領域の全体に亘って所望の線幅でウェハＷ上に忠実に転写することができない。

本実施形態では、上述したように、アフォーカルレンズ４の瞳位置またはその近傍に、光の入射位置に応じて透過率の異なる透過率分布を有する濃度フィルター６が配置されている。また、アフォーカルレンズ４の瞳位置は、その後側レンズ群４ｂとズームレンズ７とにより、シリンドリカルマイクロフライアイレンズ９の入射面と光学的に共役である。したがって、濃度フィルター６の作用により、シリンドリカルマイクロフライアイレンズ９の入射面に形成される光強度分布が調整（補正）され、ひいてはシリンドリカルマイクロフライアイレンズ９の後側焦点面またはその近傍の照明瞳に形成される瞳強度分布も調整される。

ただし、濃度フィルター６は、ウェハＷ上の静止露光領域ＥＲ内の各点に関する瞳強度分布を、各点の位置に依存することなく一律に調整する。その結果、濃度フィルター６の作用により、例えば中心点Ｐ１に関する４極状の瞳強度分布２１がほぼ均一になるように、ひいては各面光源２１ａ〜２１ｄの光強度が互いにほぼ等しくなるように調整することはできるが、その場合には周辺点Ｐ２、Ｐ３に関する４極状の瞳強度分布２２の面光源２２ａ，２２ｂと面光源２２ｃ，２２ｄとの光強度の差は却って大きくなってしまう。

すなわち、濃度フィルター６の作用により、ウェハＷ上の静止露光領域ＥＲ内の各点に関する瞳強度分布をそれぞれほぼ均一に調整するには、濃度フィルター６とは別の手段により、各点に関する瞳強度分布を互いに同じ性状の分布に調整する必要がある。具体的には、例えば中心点Ｐ１に関する瞳強度分布２１および周辺点Ｐ２，Ｐ３に関する瞳強度分布２２において、面光源２１ａ，２１ｂと面光源２１ｃ，２１ｄとの光強度の大小関係と面光源２２ａ，２２ｂと面光源２２ｃ，２２ｄとの光強度の大小関係とをほぼ同じ比率で一致させる必要がある。

本実施形態では、中心点Ｐ１に関する瞳強度分布の性状と周辺点Ｐ２，Ｐ３に関する瞳強度分布の性状とをほぼ一致させるために、具体的には周辺点Ｐ２，Ｐ３に関する瞳強度分布２２において面光源２２ａ，２２ｂの光強度の方が面光源２２ｃ，２２ｄの光強度よりも小さくなるように調整するために、シリンドリカルマイクロフライアイレンズ９に所要の減光特性を有する減光部を設けている。図８は、シリンドリカルマイクロフライアイレンズに設けられた減光部の構成および作用を説明する図である。

図８を参照すると、シリンドリカルマイクロフライアイレンズ９を構成する一対のフライアイ部材９ａおよび９ｂのうち、後側（マスク側）の第２フライアイ部材９ｂの射出側において、Ｚ方向に隣り合う２つの屈折面９ｂｂの間に、Ｘ方向に沿って直線状に延びるＶ字状の切削面９ｃが設けられている。Ｖ字状の切削面９ｃは、図９に模式的に示すように、４極状の瞳強度分布２０においてＸ方向に間隔を隔てた一対の面光源２０ａおよび２０ｂに対応する領域に、Ｘ方向に沿って所要の数（図９では例示的に５つ）だけ形成されている。

その結果、４極状の瞳強度分布２０のうち、Ｘ方向に間隔を隔てた面光源２０ａおよび２０ｂを形成する光はシリンドリカルマイクロフライアイレンズ９を通過する際にＶ字状の切削面９ｃの作用を受けるが、Ｚ方向に間隔を隔てた面光源２０ｃおよび２０ｄを形成する光はＶ字状の切削面９ｃの作用を受けない。以下、図８を参照して、１つの屈折面９ｂｂを介して面光源２０ａ（または２０ｂ）を構成する多数の小光源のうちの１つの小光源２０ａａ（または２０ｂａ）を形成する光線群に着目して、減光部としてのＶ字状の切削面９ｃの作用を説明する。

ウェハＷ上の静止露光領域ＥＲ内の中心点Ｐ１に達する光線群Ｌ１は、屈折面９ｂｂのＺ方向に沿った中央領域を通過する。したがって、光線群Ｌ１は、Ｖ字状の切削面９ｃの作用を受けることなく、屈折面９ｂｂの屈折作用を受けて、本来の大きさ（光量）を有する小光源を照明瞳に形成する。すなわち、光線群Ｌ１は、中心点Ｐ１に関する瞳強度分布２１の面光源２１ａ（または２１ｂ）を構成する多数の小光源のうちの１つの小光源を本来の光量で形成する。

一方、静止露光領域ＥＲ内の周辺点Ｐ２に達する光線群Ｌ２は、屈折面９ｂｂのＺ方向に沿った中央領域から離れた領域、すなわちＶ字状の切削面９ｃのうちの一方の切削面９ｃａおよび屈折面９ｂｂを通過する。換言すれば、光線群Ｌ２の一部は切削面９ｃａに入射し、光線群Ｌ２の残部は屈折面９ｂｂに入射する。切削面９ｃａに入射して反射された光、および切削面９ｃａに入射して屈折された光は、瞳強度分布の形成に寄与することなく、例えば照明光路の外側へ導き出される。

その結果、光線群Ｌ２は、一部がＶ字状の切削面９ｃの減光作用を受け、残部が屈折面９ｂｂの屈折作用を受けて、本来の大きさよりも小さい小光源を照明瞳に形成する。すなわち、光線群Ｌ２は、周辺点Ｐ２に関する瞳強度分布２２の面光源２２ａ（または２２ｂ）を構成する多数の小光源のうちの１つの小光源を、本来よりも小さい光量の小光源として形成する。

静止露光領域ＥＲ内の周辺点Ｐ３に達する光線群Ｌ３についても、一部が切削面９ｃａに入射し、残部が屈折面９ｂｂに入射する。その結果、光線群Ｌ３も光線群Ｌ２と同様に、一部がＶ字状の切削面９ｃの減光作用を受け、残部が屈折面９ｂｂの屈折作用を受けて、本来よりも小さい小光源を照明瞳に形成する。すなわち、光線群Ｌ３は、周辺点Ｐ３に関する瞳強度分布２２の面光源２２ａ（または２２ｂ）を構成する多数の小光源のうちの１つの小光源を、本来よりも小さい光量の小光源として形成する。

こうして、静止露光領域ＥＲ内の中心点Ｐ１に達する光線群Ｌ１は、４極状の瞳強度分布２１の面光源２１ａ，２１ｂにおいて、図１０（ａ）に模式的に示すように、本来の大きさ（すなわち本来の光量）を有する小光源３１をマトリックス状に形成する。これに対し、静止露光領域ＥＲ内の周辺点Ｐ２，Ｐ３に達する光線群Ｌ２，Ｌ３は、４極状の瞳強度分布２２の面光源２２ａ，２２ｂにおいて、図１０（ｂ）に模式的に示すように、本来の大きさ（本来の光量）を有する小光源３２ａと、本来よりも小さい（本来よりも光量の小さい）小光源３２ｂとをマトリックス状に形成する。

実際には、図１０（ｂ）に示す模式図とは異なり、小光源３２ｂは、Ｖ字状の切削面９ｃのＺ方向に沿った位置および数ｎに対応して、Ｚ方向に沿ったｎ個の位置においてＸ方向に沿って並んで形成される。したがって、周辺点Ｐ２，Ｐ３に関する瞳強度分布２２の面光源２２ａ，２２ｂでは、光線群Ｌ２，Ｌ３がＶ字状の切削面９ｃの減光作用を受ける度合い、本来よりも光量の小さい小光源３２ｂが小光源の総数に対して占める割合などに応じて、全体的な光強度が低下する。

ここで、小光源３２ｂが占める割合は、面光源２２ａ，２２ｂに作用するＶ字状の切削面９ｃの数ｎに依存する。また、光線群Ｌ２，Ｌ３がＶ字状の切削面９ｃの減光作用を受ける度合いすなわち減光率は、Ｖ字状の切削面９ｃのＸＹ平面に沿った断面の形状に依存する。一般的には、光線群が静止露光領域ＥＲに達する点が中心点Ｐ１からＹ方向に沿って離れるほど、当該光線群は屈折面９ｂｂのＺ方向に沿った中央領域から離れた領域を通過することになり、切削面９ｃａに入射する光の割合の方が屈折面９ｂｂに入射する光の割合よりも大きくなる。

換言すれば、静止露光領域ＥＲ内の１点に達する光線群がＶ字状の切削面９ｃの減光作用を受ける度合いは、静止露光領域ＥＲの中心点Ｐ１から当該光線群が達する点までのＹ方向（走査直交方向）に沿った距離が大きくなるにしたがって増大する。つまり、減光部としてのＶ字状の切削面９ｃは、被照射面としての静止露光領域ＥＲに達する光線群の位置が静止露光領域ＥＲの中心からＹ方向に沿って離れるにしたがって減光率の増大するような減光率特性を有する。

こうして、中心点Ｐ１に関する瞳強度分布２１のうち、面光源２１ａおよび２１ｂを形成する光はＶ字状の切削面９ｃの減光作用を受けないため、面光源２１ａおよび２１ｂの光強度は本来の大きさで維持される。面光源２１ｃおよび２１ｄを形成する光もＶ字状の切削面９ｃの減光作用を受けないため、面光源２１ｃおよび２１ｄの光強度は本来の大きさで維持される。その結果、中心点Ｐ１に関する瞳強度分布２１は、図１１に示すように、Ｖ字状の切削面９ｃの減光作用を受けることなく、本来の分布のままである。すなわち、Ｚ方向に間隔を隔てた面光源２１ｃ，２１ｄの光強度の方がＸ方向に間隔を隔てた面光源２１ａ，２１ｂの光強度よりも大きい性状はそのまま維持される。

一方、周辺点Ｐ２、Ｐ３に関する瞳強度分布２２のうち、面光源２２ａおよび２２ｂからの光の一部がＶ字状の切削面９ｃの減光作用を受けるため、面光源２２ａおよび２２ｂの全体的な光強度は低下する。面光源２２ｃおよび２２ｄからの光はＶ字状の切削面９ｃの減光作用を受けないため、面光源２２ｃおよび２２ｄの光強度は本来の大きさで維持される。その結果、周辺点Ｐ２、Ｐ３に関する瞳強度分布２２は、図１２に示すように、Ｖ字状の切削面９ｃの減光作用により、本来の分布２２とは異なる性状の瞳強度分布２２’に調整される。すなわち、調整された瞳強度分布２２’では、Ｚ方向に間隔を隔てた面光源２２ｃ，２２ｄの光強度の方がＸ方向に間隔を隔てた面光源２２ａ’，２２ｂ’の光強度よりも大きい性状に変化する。

このように、Ｖ字状の切削面９ｃの作用により、周辺点Ｐ２、Ｐ３に関する瞳強度分布２２は、中心点Ｐ１に関する瞳強度分布２１とほぼ同じ性状の分布２２’に調整される。同様に、中心点Ｐ１と周辺点Ｐ２、Ｐ３との間でＹ方向に沿って並んだ各点に関する瞳強度分布、ひいてはウェハＷ上の静止露光領域ＥＲ内の各点に関する瞳強度分布も、中心点Ｐ１に関する瞳強度分布２１とほぼ同じ性状の分布に調整される。換言すれば、Ｖ字状の切削面９ｃの作用により、ウェハＷ上の静止露光領域ＥＲ内の各点に関する瞳強度分布は互いにほぼ同じ性状の分布に調整される。

さらに別の表現をすれば、シリンドリカルマイクロフライアイレンズ９に設けられた減光部としてのＶ字状の切削面９ｃは、各点に関する瞳強度分布を互いにほぼ同じ性状の分布に調整するために必要な所要の減光率特性、すなわち被照射面としての静止露光領域ＥＲに達する光の位置が中心点Ｐ１からＹ方向に沿って離れるにしたがって減光率の増大する所要の減光率特性を有する。減光部の所要の減光率特性は、上述したように、Ｖ字状の切削面９ｃの数、Ｖ字状の切削面９ｃの断面形状などを適宜設定することにより実現される。

以上のように、本実施形態にかかる波面分割型のオプティカルインテグレータとしてのシリンドリカルマイクロフライアイレンズ９は、Ｚ方向に隣り合う屈折面９ｂｂの間に設けられたＶ字状の切削面９ｃを備えている。減光部としてのＶ字状の切削面９ｃは、被照射面である静止露光領域ＥＲに達する光の位置が中心点Ｐ１からＹ方向に沿って離れるにしたがって減光率の増大する所要の減光率特性を有する。したがって、Ｖ字状の切削面９ｃの形成位置、数、断面形状などを適宜設定して得られる減光部の作用により、被照射面上の各点に関する瞳強度分布をそれぞれ独立的に調整することができ、ひいては各点に関する瞳強度分布を互いにほぼ同じ性状の分布に調整することが可能である。

また、本実施形態の照明光学系（２〜１２）では、ウェハＷ上の静止露光領域ＥＲ内の各点に関する瞳強度分布をそれぞれ独立的に調整するシリンドリカルマイクロフライアイレンズ９の減光部と、光の入射位置に応じて変化する所要の透過率特性を有し、各点に関する瞳強度分布を一律に調整する濃度フィルター６との協働作用により、各点に関する瞳強度分布をそれぞれほぼ均一に調整することができる。したがって、本実施形態の露光装置（１〜ＷＳ）では、ウェハＷ上の静止露光領域ＥＲ内の各点での瞳強度分布をそれぞれほぼ均一に調整する照明光学系（２〜１２）を用いて、マスクＭの微細パターンに応じた適切な照明条件のもとで良好な露光を行うことができ、ひいてはマスクＭの微細パターンを露光領域の全体に亘って所望の線幅でウェハＷ上に忠実に転写することができる。

本実施形態において、ウェハ（被照射面）Ｗ上の光量分布が、例えばシリンドリカルマイクロフライアイレンズ９の減光部の調整作用の影響を受けることが考えられる。この場合、必要に応じて、公知の構成を有する光量分布調整部の作用により、静止露光領域ＥＲ内の照度分布を変更する、または静止露光領域（照明領域）ＥＲの形状を変更して露光量分布を変更することができる。具体的に、照度分布を変更する光量分布調整部としては、特開２００１−３１３２５０号および特開２００２−１００５６１号（並びにそれらに対応する米国特許第６７７１３５０号および第６９２７８３６号）に記載された構成および手法を用いることができる。また、照明領域の形状を変更する光量分布調整部としては、国際特許公開第ＷＯ２００５／０４８３２６号パンフレット（およびそれに対応する米国特許公開第２００７／００１４１１２号公報）に記載された構成および手法を用いることができる。

なお、上述の説明では、波面分割型のオプティカルインテグレータとして、図２に示すような形態を有するシリンドリカルマイクロフライアイレンズ９を用いている。しかしながら、これに限定されることなく、例えば図１３に示すような別の形態を有するシリンドリカルマイクロフライアイレンズ１９を用いることもできる。シリンドリカルマイクロフライアイレンズ１９は、図１３に示すように、光源側に配置された第１フライアイ部材１９ａとマスク側に配置された第２フライアイ部材１９ｂとにより構成されている。

第１フライアイ部材１９ａの光源側の面およびマスク側の面には、Ｘ方向に並んで配列された複数の円筒面形状の屈折面（シリンドリカルレンズ群）１９ａａおよび１９ａｂがそれぞれピッチｐ１で形成されている。第２フライアイ部材１９ｂの光源側の面およびマスク側の面には、Ｚ方向に並んで配列された複数の円筒面形状の屈折面（シリンドリカルレンズ群）１９ｂａおよび１９ｂｂがそれぞれピッチｐ２（ｐ２＞ｐ１）で形成されている。

シリンドリカルマイクロフライアイレンズ１９のＸ方向に関する屈折作用（すなわちＸＹ平面に関する屈折作用）に着目すると、光軸ＡＸに沿って入射した平行光束は、第１フライアイ部材１９ａの光源側に形成された一群の屈折面１９ａａによってＸ方向に沿ってピッチｐ１で波面分割され、その屈折面で集光作用を受けた後、第１フライアイ部材１９ａのマスク側に形成された一群の屈折面１９ａｂ中の対応する屈折面で集光作用を受け、シリンドリカルマイクロフライアイレンズ１９の後側焦点面上に集光する。

シリンドリカルマイクロフライアイレンズ１９のＺ方向に関する屈折作用（すなわちＹＺ平面に関する屈折作用）に着目すると、光軸ＡＸに沿って入射した平行光束は、第２フライアイ部材１９ｂの光源側に形成された一群の屈折面１９ｂａによってＺ方向に沿ってピッチｐ２で波面分割され、その屈折面で集光作用を受けた後、第２フライアイ部材１９ｂのマスク側に形成された一群の屈折面１９ｂｂ中の対応する屈折面で集光作用を受け、シリンドリカルマイクロフライアイレンズ１９の後側焦点面上に集光する。

このように、シリンドリカルマイクロフライアイレンズ１９は、シリンドリカルレンズ群が両側面に配置された第１フライアイ部材１９ａと第２フライアイ部材１９ｂとにより構成され、Ｘ方向にｐ１のサイズを有しＺ方向にｐ２のサイズを有する多数の矩形状の微小屈折面（単位波面分割面）を有する。すなわち、シリンドリカルマイクロフライアイレンズ１９は、Ｚ方向に沿って長辺を有し且つＸ方向に沿って短辺を有する矩形状の単位波面分割面を有する。

シリンドリカルマイクロフライアイレンズ１９を用いる場合も、図２のシリンドリカルマイクロフライアイレンズ９と同様に、例えばＶ字状の切削面からなる減光部を設けることにより、上述の実施形態と同様の効果を発揮することができる。具体的には、図１４に示すように、一対のフライアイ部材１９ａおよび１９ｂのうち、後側（マスク側）の第２フライアイ部材１９ｂの射出側において、Ｚ方向に隣り合う２つの屈折面１９ｂｂの間に、Ｘ方向に沿って直線状に延びるＶ字状の切削面１９ｃが設けられる。Ｖ字状の切削面１９ｃは、一対の切削面１９ｃａにより構成されている。

さらに一般的には、シリンドリカルマイクロフライアイレンズに限定されることなく、照明光学系の光軸と直交する平面内の第１方向に所定の屈折力を有する複数の第１屈折面と、複数の第１屈折面に対応するようにその後側に設けられて第１方向に所定の屈折力を有する複数の第２屈折面とを備えた波面分割型のオプティカルインテグレータに対して本発明を適用することができる。この場合、被照射面に達する光の位置がその中心から第１方向に沿って離れるにしたがって減光率の増大する減光率特性を有する減光部が、少なくとも２つの隣り合う第２屈折面の間に設けられる。

また、上述の説明では、オプティカルインテグレータとしてのシリンドリカルマイクロフライアイレンズ９，１９に、Ｖ字状の切削面９ｃ，１９ｃからなる減光部を設けている。しかしながら、これに限定されることなく、例えばＶ字状の切削面９ｃ，１９ｃに対応するように設けられた反射膜、減光膜、光散乱膜などを用いて減光部を構成することもできる。

また、上述の説明では、照明瞳に４極状の瞳強度分布が形成される変形照明、すなわち４極照明を例にとって、本発明の作用効果を説明している。しかしながら、４極照明に限定されることなく、例えば輪帯状の瞳強度分布が形成される輪帯照明、４極状以外の他の複数極状の瞳強度分布が形成される複数極照明などに対しても、同様に本発明を適用して同様の作用効果を得ることができることは明らかである。

また、図１５に示すように、照明瞳に５極状の瞳強度分布が形成される変形照明を用い、５極状の瞳強度分布２３においてＸ方向に間隔を隔てた一対の面光源２３ａおよび２３ｂのみに減光作用を与え、これら一対の面光源２３ａおよび２３ｂに挟まれて光軸ＡＸ上に位置する面光源２３ｅに減光作用を与えないこともできる。この場合、シリンドリカルマイクロフライアイレンズ９の第２フライアイ部材９ｂの射出側における２つの屈折面９ｂｂの間の領域のＸ方向に沿った全域ではなく、一対の面光源２３ａおよび２３ｂに対応する領域のみにＶ字状の切削面９ｃを設ければ良い。

上述の実施形態の露光装置は、本願特許請求の範囲に挙げられた各構成要素を含む各種サブシステムを、所定の機械的精度、電気的精度、光学的精度を保つように、組み立てることで製造される。これら各種精度を確保するために、この組み立ての前後には、各種光学系については光学的精度を達成するための調整、各種機械系については機械的精度を達成するための調整、各種電気系については電気的精度を達成するための調整が行われる。各種サブシステムから露光装置への組み立て工程は、各種サブシステム相互の、機械的接続、電気回路の配線接続、気圧回路の配管接続等が含まれる。この各種サブシステムから露光装置への組み立て工程の前に、各サブシステム個々の組み立て工程があることはいうまでもない。各種サブシステムの露光装置への組み立て工程が終了したら、総合調整が行われ、露光装置全体としての各種精度が確保される。なお、露光装置の製造は温度およびクリーン度等が管理されたクリーンルームで行うことが望ましい。

次に、上述の実施形態にかかる露光装置を用いたデバイス製造方法について説明する。図１６は、半導体デバイスの製造工程を示すフローチャートである。図１６に示すように、半導体デバイスの製造工程では、半導体デバイスの基板となるウェハＷに金属膜を蒸着し（ステップＳ４０）、この蒸着した金属膜上に感光性材料であるフォトレジストを塗布する（ステップＳ４２）。つづいて、上述の実施形態の露光装置を用い、マスク（レチクル）Ｍに形成されたパターンをウェハＷ上の各ショット領域に転写し（ステップＳ４４：露光工程）、この転写が終了したウェハＷの現像、つまりパターンが転写されたフォトレジストの現像を行う（ステップＳ４６：現像工程）。その後、ステップＳ４６によってウェハＷの表面に生成されたレジストパターンをマスクとし、ウェハＷの表面に対してエッチング等の加工を行う（ステップＳ４８：加工工程）。

ここで、レジストパターンとは、上述の実施形態の露光装置によって転写されたパターンに対応する形状の凹凸が生成されたフォトレジスト層であって、その凹部がフォトレジスト層を貫通しているものである。ステップＳ４８では、このレジストパターンを介してウェハＷの表面の加工を行う。ステップＳ４８で行われる加工には、例えばウェハＷの表面のエッチングまたは金属膜等の成膜の少なくとも一方が含まれる。なお、ステップＳ４４では、上述の実施形態の露光装置は、フォトレジストが塗布されたウェハＷを、感光性基板つまりプレートＰとしてパターンの転写を行う。

図１７は、液晶表示素子等の液晶デバイスの製造工程を示すフローチャートである。図１７に示すように、液晶デバイスの製造工程では、パターン形成工程（ステップＳ５０）、カラーフィルター形成工程（ステップＳ５２）、セル組立工程（ステップＳ５４）およびモジュール組立工程（ステップＳ５６）を順次行う。

ステップＳ５０のパターン形成工程では、プレートＰとしてフォトレジストが塗布されたガラス基板上に、上述の実施形態の露光装置を用いて回路パターンおよび電極パターン等の所定のパターンを形成する。このパターン形成工程には、上述の実施形態の露光装置を用いてフォトレジスト層にパターンを転写する露光工程と、パターンが転写されたプレートＰの現像、つまりガラス基板上のフォトレジスト層の現像を行い、パターンに対応する形状のフォトレジスト層を生成する現像工程と、この現像されたフォトレジスト層を介してガラス基板の表面を加工する加工工程とが含まれている。

ステップＳ５２のカラーフィルター形成工程では、Ｒ（Red）、Ｇ（Green）、Ｂ（Blue）に対応する３つのドットの組をマトリックス状に多数配列するか、またはＲ、Ｇ、Ｂの３本のストライプのフィルターの組を水平走査方向に複数配列したカラーフィルターを形成する。

ステップＳ５４のセル組立工程では、ステップＳ５０によって所定パターンが形成されたガラス基板と、ステップＳ５２によって形成されたカラーフィルターとを用いて液晶パネル（液晶セル）を組み立てる。具体的には、例えばガラス基板とカラーフィルターとの間に液晶を注入することで液晶パネルを形成する。ステップＳ５６のモジュール組立工程では、ステップＳ５４によって組み立てられた液晶パネルに対し、この液晶パネルの表示動作を行わせる電気回路およびバックライト等の各種部品を取り付ける。

また、本発明は、半導体デバイス製造用の露光装置への適用に限定されることなく、例えば、角型のガラスプレートに形成される液晶表示素子、若しくはプラズマディスプレイ等のディスプレイ装置用の露光装置や、撮像素子（ＣＣＤ等）、マイクロマシーン、薄膜磁気ヘッド、及びＤＮＡチップ等の各種デバイスを製造するための露光装置にも広く適用できる。更に、本発明は、各種デバイスのマスクパターンが形成されたマスク（フォトマスク、レチクル等）をフォトリソグラフィ工程を用いて製造する際の、露光工程（露光装置）にも適用することができる。

なお、上述の実施形態では、露光光としてＡｒＦエキシマレーザ光（波長：１９３ｎｍ）やＫｒＦエキシマレーザ光（波長：２４８ｎｍ）を用いているが、これに限定されることなく、他の適当なレーザ光源、たとえば波長１５７ｎｍのレーザ光を供給するＦ₂レーザ光源などに対して本発明を適用することもできる。

また、上述の実施形態では、ウェハＷのショット領域にマスクＭのパターンを走査露光するステップ・アンド・スキャン方式の露光装置に対して本発明を適用している。しかしながら、これに限定されることなく、ウェハＷの各露光領域にマスクＭのパターンを一括露光する動作を繰り返すステップ・アンド・リピート方式の露光装置に対して本発明を適用することもできる。

また、上述の実施形態では、露光装置においてマスクまたはウェハを照明する照明光学系に対して本発明を適用しているが、これに限定されることなく、マスクまたはウェハ以外の被照射面を照明する一般的な照明光学系に対して本発明を適用することもできる。

１ 光源
３ 回折光学素子
４ アフォーカルレンズ
６ 濃度フィルター
７ ズームレンズ
９，１９ シリンドリカルマイクロフライアイレンズ（オプティカルインテグレータ）
１０ コンデンサー光学系
１１ マスクブラインド
１２ 結像光学系
Ｍ マスク
ＰＬ 投影光学系
ＡＳ 開口絞り
Ｗ ウェハ

Claims (18)

1. 被照射面を照明する照明光学系に用いられる波面分割型のオプティカルインテグレータにおいて、
   前記照明光学系の光軸と直交する平面内の第１方向に所定の屈折力を有する複数の第１屈折面と、
   前記複数の第１屈折面に対応するように前記複数の第１屈折面の後側に設けられて、前記第１方向に所定の屈折力を有する複数の第２屈折面と、
   少なくとも２つの隣り合う第２屈折面の間に設けられて、前記被照射面に達する光の位置が前記被照射面の中心から前記第１方向に沿って離れるにしたがって減光率の増大する減光率特性を有する減光部とを備えていることを特徴とするオプティカルインテグレータ。
2. 前記複数の第１屈折面は、前記平面内で前記第１方向と直交する第２方向にほぼ無屈折力であり、前記複数の第２屈折面は、前記第２方向にほぼ無屈折力であることを特徴とする請求項１に記載のオプティカルインテグレータ。
3. 前記減光部は、前記平面内で前記第１方向と直交する第２方向に沿って延びるＶ字状の切削面を有することを特徴とする請求項１または２に記載のオプティカルインテグレータ。
4. 前記減光部は、前記平面内で前記第１方向と直交する第２方向に沿って延びる反射膜を有することを特徴とする請求項１または２に記載のオプティカルインテグレータ。
5. 前記減光部は、前記平面内で前記第１方向と直交する第２方向に沿って延びる減光膜を有することを特徴とする請求項１または２に記載のオプティカルインテグレータ。
6. 前記減光部は、前記平面内で前記第１方向と直交する第２方向に沿って延びる光散乱膜を有することを特徴とする請求項１または２に記載のオプティカルインテグレータ。
7. 光の入射側から順に、第１光学部材と、第２光学部材とを備え、
   前記第１光学部材の射出側には、前記複数の第１屈折面が前記第１方向に沿って配列され、
   前記第２光学部材の射出側には、前記複数の第２屈折面が前記第１方向に沿って配列されていることを特徴とする請求項１乃至６のいずれか１項に記載のオプティカルインテグレータ。
8. 前記複数の第１屈折面は、前記平面内で前記第１方向と直交する第２方向にほぼ無屈折力であり、
   前記複数の第２屈折面は、前記第２方向にほぼ無屈折力であり、
   前記第１光学部材の入射側には、前記第２方向に所定の屈折力を有し且つ前記第１方向にほぼ無屈折力の複数の第３屈折面が前記第２方向に沿って配列され、
   前記第２光学部材の入射側には、前記複数の第３屈折面に対応するように前記第２方向に所定の屈折力を有し且つ前記第１方向にほぼ無屈折力の複数の第４屈折面が前記第２方向に沿って配列されていることを特徴とする請求項７に記載のオプティカルインテグレータ。
9. 光の入射側から順に、第１光学部材と、第２光学部材とを備え、
   前記第２光学部材の入射側には、前記複数の第１屈折面が前記第１方向に沿って配列され、
   前記第２光学部材の射出側には、前記複数の第２屈折面が前記第１方向に沿って配列されていることを特徴とする請求項１乃至６のいずれか１項に記載のオプティカルインテグレータ。
10. 前記複数の第１屈折面は、前記平面内で前記第１方向と直交する第２方向にほぼ無屈折力であり、
    前記複数の第２屈折面は、前記第２方向にほぼ無屈折力であり、
    前記第１光学部材の入射側には、前記第２方向に所定の屈折力を有し且つ前記第１方向にほぼ無屈折力の複数の第３屈折面が前記第２方向に沿って配列され、
    前記第１光学部材の射出側には、前記複数の第３屈折面に対応するように前記第２方向に所定の屈折力を有し且つ前記第１方向にほぼ無屈折力の複数の第４屈折面が前記第２方向に沿って配列されていることを特徴とする請求項９に記載のオプティカルインテグレータ。
11. 前記第１方向に沿って細長い矩形状の単位波面分割面を有することを特徴とする請求項１乃至１０のいずれか１項に記載のオプティカルインテグレータ。
12. 光源からの光に基づいて被照射面を照明する照明光学系において、
    請求項１乃至１１のいずれか１項に記載のオプティカルインテグレータを備えていることを特徴とする照明光学系。
13. 前記オプティカルインテグレータよりも後側の照明瞳に瞳強度分布を形成する分布形成光学系をさらに備えていることを特徴とする請求項１２に記載の照明光学系。
14. 前記被照射面と光学的に共役な面を形成する投影光学系と組み合わせて用いられ、前記照明瞳は前記投影光学系の開口絞りと光学的に共役な位置であることを特徴とする請求項１２または１３に記載の照明光学系。
15. 所定のパターンを照明するための請求項１２乃至１４のいずれか１項に記載の照明光学系を備え、前記所定のパターンを感光性基板に露光することを特徴とする露光装置。
16. 前記所定のパターンの像を前記感光性基板上に形成する投影光学系を備え、該投影光学系に対して前記所定のパターンおよび前記感光性基板を走査方向に沿って相対移動させて、前記所定のパターンを前記感光性基板へ投影露光することを特徴とする請求項１５に記載の露光装置。
17. 前記オプティカルインテグレータにおける前記第１方向は、前記走査方向と直交する方向に対応していることを特徴とする請求項１６に記載の露光装置。
18. 請求項１５乃至１７のいずれか１項に記載の露光装置を用いて、前記所定のパターンを前記感光性基板に露光する露光工程と、
    前記所定のパターンが転写された前記感光性基板を現像し、前記所定のパターンに対応する形状のマスク層を前記感光性基板の表面に形成する現像工程と、
    前記マスク層を介して前記感光性基板の表面を加工する加工工程とを含むことを特徴とするデバイス製造方法。

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