JP5187632B2 - 補正ユニット、照明光学系、露光装置、およびデバイス製造方法 - Google Patents
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Description
前記照明瞳の前側に隣接してパワーを有する光学素子と前記照明瞳の後側に隣接してパワーを有する光学素子との間の照明瞳空間に配置されて、第1減光パターンが形成された第1フィルタと、
前記照明瞳空間において前記第1フィルタよりも後側に配置されて、前記第1減光パターンに対応した第2減光パターンが形成された第2フィルタと、
前記照明瞳空間に配置されて、第3減光パターンが形成された第3フィルタとを備え、
前記第1フィルタと前記第2フィルタとは、前記照明光学系の光軸と直交する平面の面内における相対位置が変更可能であり、
前記第1フィルタおよび前記第2フィルタと前記第3フィルタとは、前記光軸の方向に相対位置が変更可能に構成されていることを特徴とする補正ユニットを提供する。
オプティカルインテグレータを有し、該オプティカルインテグレータよりも後側の照明瞳に瞳強度分布を形成する分布形成光学系と、
前記後側の照明瞳を含む前記照明瞳空間に配置された第2形態の補正ユニットとを備えていることを特徴とする照明光学系を提供する。
前記所定のパターンが転写された前記感光性基板を現像し、前記所定のパターンに対応する形状のマスク層を前記感光性基板の表面に形成する現像工程と、
前記マスク層を介して前記感光性基板の表面を加工する加工工程とを含むことを特徴とするデバイス製造方法を提供する。
3 回折光学素子
4 アフォーカルレンズ
6 濃度フィルタ
7 ズームレンズ
8 マイクロフライアイレンズ(オプティカルインテグレータ)
9 補正ユニット
91〜94 フィルタ
10 コンデンサー光学系
11 マスクブラインド
12 結像光学系
M マスク
MS マスクステージ
PL 投影光学系
AS 開口絞り
W ウェハ
WS ウェハステージ
Claims (31)
- 照明光学系の照明瞳に形成される瞳強度分布を補正する補正ユニットであって、
前記照明瞳の前側に隣接してパワーを有する光学素子と前記照明瞳の後側に隣接してパワーを有する光学素子との間の照明瞳空間に配置されて、第1減光パターンが形成された第1フィルタと、
前記照明瞳空間において前記第1フィルタよりも後側に配置されて、前記第1減光パターンに対応した第2減光パターンが形成された第2フィルタと、
前記照明瞳空間に配置されて、第3減光パターンが形成された第3フィルタとを備え、
前記第1フィルタと前記第2フィルタとは、前記照明光学系の光軸と直交する平面の面内における相対位置が変更可能であり、
前記第1フィルタおよび前記第2フィルタと前記第3フィルタとは、前記光軸の方向に相対位置が変更可能に構成されていることを特徴とする補正ユニット。 - 前記照明瞳空間において前記第3フィルタよりも後側に配置されて、前記第3減光パターンに対応した第4減光パターンが形成された第4フィルタをさらに備え、
前記第3フィルタと前記第4フィルタとは、前記光軸と直交する平面の面内における相対位置が変更可能であり、
前記第1フィルタおよび前記第2フィルタと前記第3フィルタおよび前記第4フィルタとは、前記光軸の方向に相対位置が変更可能に構成されていることを特徴とする請求項1に記載の補正ユニット。 - 前記第3減光パターンは、前記第1減光パターンに対応して形成されていることを特徴とする請求項1または2に記載の補正ユニット。
- 前記第1減光パターンは少なくとも1つの第1単位減光領域を有し、前記第2減光パターンは、前記少なくとも1つの第1単位減光領域に対応して形成されて前記第1単位減光領域と同じ外形形状および同じ大きさの少なくとも1つの第2単位減光領域を有することを特徴とする請求項1乃至3のいずれか1項に記載の補正ユニット。
- 前記第3減光パターンは少なくとも1つの第3単位減光領域を有し、前記第4減光パターンは、前記少なくとも1つの第3単位減光領域に対応して形成されて前記第3単位減光領域と同じ外形形状および同じ大きさの少なくとも1つの第4単位減光領域を有することを特徴とする請求項2乃至4のいずれか1項に記載の補正ユニット。
- 前記第3単位減光領域は、前記第1単位減光領域と同じ外形形状および同じ大きさを有することを特徴とする請求項5に記載の補正ユニット。
- 前記第1フィルタおよび前記第2フィルタのうちの少なくとも一方は、前記光軸廻りに回転可能に構成され、
前記第1フィルタと前記第2フィルタとの前記光軸廻りの相対位置の変化に応じて、前記第1減光パターンと前記第2減光パターンとが前記光軸方向から見て重なり合う重複領域の大きさが変化するように構成されていることを特徴とする請求項1乃至6のいずれか1項に記載の補正ユニット。 - 前記第3フィルタおよび前記第4フィルタのうちの少なくとも一方は、前記光軸廻りに回転可能に構成され、
前記第3フィルタと前記第4フィルタとの前記光軸廻りの相対位置の変化に応じて、前記第3減光パターンと前記第4減光パターンとが前記光軸方向から見て重なり合う重複領域の大きさが変化するように構成されていることを特徴とする請求項2乃至7のいずれか1項に記載の補正ユニット。 - 前記第1フィルタおよび前記第2フィルタのうちの少なくとも一方は、前記光軸を横切る方向に移動可能に構成され、
前記第1フィルタと前記第2フィルタとの前記光軸を横切る方向に沿った相対位置の変化に応じて、前記第1減光パターンと前記第2減光パターンとが前記光軸方向から見て重なり合う重複領域の大きさが変化するように構成されていることを特徴とする請求項1乃至6のいずれか1項に記載の補正ユニット。 - 前記第3フィルタおよび前記第4フィルタのうちの少なくとも一方は、前記光軸を横切る方向に移動可能に構成され、
前記第3フィルタと前記第4フィルタとの前記光軸を横切る方向に沿った相対位置の変化に応じて、前記第3減光パターンと前記第4減光パターンとが前記光軸方向から見て重なり合う重複領域の大きさが変化するように構成されていることを特徴とする請求項2乃至7のいずれか1項に記載の補正ユニット。 - 前記第1乃至前記第4フィルタは、平行平面板の形態を有することを特徴とする請求項2乃至10のいずれか1項に記載の補正ユニット。
- 前記第1乃至前記第4フィルタは、互いに平行な状態を維持することを特徴とする請求項11に記載の補正ユニット。
- 前記第1減光パターンは前記第1フィルタの射出側の面に形成され、前記第2減光パターンは前記第2フィルタの入射側の面に形成されていることを特徴とする請求項1乃至12のいずれか1項に記載の補正ユニット。
- 前記第3減光パターンは前記第3フィルタの射出側の面に形成され、前記第4減光パターンは前記第4フィルタの入射側の面に形成されていることを特徴とする請求項2乃至13のいずれか1項に記載の補正ユニット。
- 前記第1減光パターンは分布形成された複数の第1単位減光領域を有し、
前記第2減光パターンは、前記複数の第1単位減光領域に対応して分布形成された複数の第2単位減光領域を有することを特徴とする請求項1乃至14のいずれか1項に記載の補正ユニット。 - 前記第3減光パターンは分布形成された複数の第3単位減光領域を有し、
前記第4減光パターンは、前記複数の第3単位減光領域に対応して分布形成された複数の第4単位減光領域を有することを特徴とする請求項2乃至15のいずれか1項に記載の補正ユニット。 - 前記第1乃至前記第4減光パターンのうちの少なくとも一方は、入射光を遮る遮光領域を有することを特徴とする請求項2乃至16のいずれか1項に記載の補正ユニット。
- 前記第1乃至前記第4減光パターンのうちの少なくとも一方は、入射光を散乱させる散乱領域を有することを特徴とする請求項2乃至17のいずれか1項に記載の補正ユニット。
- 前記第1乃至前記第4減光パターンのうちの少なくとも一方は、入射光を回折させる回折領域を有することを特徴とする請求項2乃至18のいずれか1項に記載の補正ユニット。
- 光源からの光で被照射面を照明する照明光学系において、
オプティカルインテグレータを有し、該オプティカルインテグレータよりも後側の照明瞳に瞳強度分布を形成する分布形成光学系と、
前記後側の照明瞳を含む前記照明瞳空間に配置された請求項1乃至19のいずれか1項に記載の補正ユニットとを備えていることを特徴とする照明光学系。 - 前記オプティカルインテグレータは所定方向に沿って細長い矩形状の単位波面分割面を有し、前記補正ユニットは前記照明瞳において前記照明光学系の光軸を挟んで前記所定方向に間隔を隔てた一対の領域に関する光または前記所定方向と直交する方向に間隔を隔てた一対の領域に関する光に作用するように位置決めされていることを特徴とする請求項20に記載の照明光学系。
- 前記被照射面上での照度分布または前記被照射面上に形成される照明領域の形状を変更する光量分布調整部をさらに備えることを特徴とする請求項20または21に記載の照明光学系。
- 前記光量分布調整部は、前記補正ユニットによる前記被照射面上の光量分布への影響を補正することを特徴とする請求項22に記載の照明光学系。
- 前記被照射面と光学的に共役な面を形成する投影光学系と組み合わせて用いられ、前記照明瞳は前記投影光学系の開口絞りと光学的に共役な位置であることを特徴とする請求項20乃至23のいずれか1項に記載の照明光学系。
- 前記分布形成光学系は、前記オプティカルインテグレータに隣接する照明瞳に前記瞳強度分布を形成し、
前記補正ユニットは前記隣接する照明瞳に配置されることを特徴とする請求項20乃至24のいずれか1項に記載の照明光学系。 - 前記分布形成光学系は、前記オプティカルインテグレータからの光を導いて前記後側の照明瞳に瞳強度分布を形成するリレー光学系を備え、
前記補正ユニットは、前記後側の照明瞳を含む前記照明瞳空間に配置されることを特徴とする請求項20乃至24のいずれか1項に記載の照明光学系。 - 前記リレー光学系は、前記オプティカルインテグレータに隣接する照明瞳と光学的に共役な位置を前記後側の照明瞳に形成することを特徴とする請求項26に記載の照明光学系。
- 所定のパターンを照明するための請求項20乃至27のいずれか1項に記載の照明光学系を備え、前記所定のパターンを感光性基板に露光することを特徴とする露光装置。
- 前記所定のパターンの像を前記感光性基板上に形成する投影光学系を備え、該投影光学系に対して前記所定のパターンおよび前記感光性基板を走査方向に沿って相対移動させて、前記所定のパターンを前記感光性基板へ投影露光することを特徴とする請求項28に記載の露光装置。
- 前記オプティカルインテグレータにおける前記所定方向は、前記走査方向と直交する方向に対応していることを特徴とする請求項29に記載の露光装置。
- 請求項28乃至30のいずれか1項に記載の露光装置を用いて、前記所定のパターンを前記感光性基板に露光する露光工程と、
前記所定のパターンが転写された前記感光性基板を現像し、前記所定のパターンに対応する形状のマスク層を前記感光性基板の表面に形成する現像工程と、
前記マスク層を介して前記感光性基板の表面を加工する加工工程とを含むことを特徴とするデバイス製造方法。
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