JP2009267400A - 補正フィルター、照明光学系、露光装置、およびデバイス製造方法 - Google Patents
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Abstract
【解決手段】 光源(1)からの光で被照射面(M;W)を照明する照明光学系は、オプティカルインテグレータ(8)を有し、このオプティカルインテグレータよりも後側の照明瞳に瞳強度分布を形成する分布形成光学系(3,4,7,8)と、上記後側の照明瞳を含む照明瞳空間に配置された補正フィルター(9)とを備えている。補正フィルターは、光軸(AX)に沿って所定の厚さを有する光透過性の基板を備え、基板の入射面には第1減光パターンが形成され、射出面には第2減光パターンが形成されている。
【選択図】 図1
Description
前記照明瞳の前側に隣接してパワーを有する光学素子と前記照明瞳の後側に隣接してパワーを有する光学素子との間の照明瞳空間に配置されて、前記照明光学系の光軸に沿って所定の厚さを有する光透過性の基板を備え、
前記基板は、光の入射側の面に形成された第1減光パターンと、光の射出側の面に形成された第2減光パターンとを有することを特徴とする補正フィルターを提供する。
オプティカルインテグレータを有し、該オプティカルインテグレータよりも後側の照明瞳に瞳強度分布を形成する分布形成光学系と、
前記後側の照明瞳を含む前記照明瞳空間に配置された第1形態の補正フィルターとを備えていることを特徴とする照明光学系を提供する。
前記所定のパターンが転写された前記感光性基板を現像し、前記所定のパターンに対応する形状のマスク層を前記感光性基板の表面に形成する現像工程と、
前記マスク層を介して前記感光性基板の表面を加工する加工工程とを含むことを特徴とするデバイス製造方法を提供する。
3 回折光学素子
4 アフォーカルレンズ
6 濃度フィルター
7 ズームレンズ
8 マイクロフライアイレンズ(オプティカルインテグレータ)
9 補正フィルター
10 コンデンサー光学系
11 マスクブラインド
12 結像光学系
M マスク
PL 投影光学系
AS 開口絞り
W ウェハ
Claims (18)
- 照明光学系の照明瞳に形成される瞳強度分布を補正する補正フィルターであって、
前記照明瞳の前側に隣接してパワーを有する光学素子と前記照明瞳の後側に隣接してパワーを有する光学素子との間の照明瞳空間に配置されて、前記照明光学系の光軸に沿って所定の厚さを有する光透過性の基板を備え、
前記基板は、光の入射側の面に形成された第1減光パターンと、光の射出側の面に形成された第2減光パターンとを有することを特徴とする補正フィルター。 - 前記基板は、平行平面板の形態を有することを特徴とする請求項1に記載の補正フィルター。
- 前記第1減光パターンは、前記入射側の面に分布形成された複数の第1単位減光領域を有し、
前記第2減光パターンは、前記複数の第1単位減光領域に対応して前記射出側の面に分布形成された複数の第2単位減光領域を有することを特徴とする請求項1または2に記載の補正フィルター。 - 前記第1単位減光領域および前記第2単位減光領域のうちの少なくとも一方は、入射光を遮る遮光領域を有することを特徴とする請求項3に記載の補正フィルター。
- 前記第1単位減光領域および前記第2単位減光領域のうちの少なくとも一方は、入射光を散乱させる散乱領域を有することを特徴とする請求項3に記載の補正フィルター。
- 前記第1単位減光領域および前記第2単位減光領域のうちの少なくとも一方は、入射光を回折させる回折領域を有することを特徴とする請求項3に記載の補正フィルター。
- 前記第1単位減光領域と前記第2単位減光領域とは、前記光軸方向に見て実質的に重なり合わない形状を有することを特徴とする請求項3乃至6のいずれか1項に記載の補正フィルター。
- 前記第1単位減光領域と前記第2単位減光領域とは、前記光軸方向に見て補完的な形状を有することを特徴とする請求項7に記載の補正フィルター。
- 前記第1単位減光領域と前記第2単位減光領域とは、前記光軸方向に見てほぼ重なり合う形状を有することを特徴とする請求項3乃至6のいずれか1項に記載の補正フィルター。
- 前記補正フィルターに対する光の入射角度が大きくなるにつれて減光率が減少する減光率特性を有する第1補正フィルター領域と、光の入射角度が大きくなるにつれて減光率が増大する減光率特性を有する第2補正フィルター領域とのうちの少なくとも一方の補正フィルター領域を有することを特徴とする請求項1乃至9のいずれか1項に記載の補正フィルター。
- 光源からの光で被照射面を照明する照明光学系において、
オプティカルインテグレータを有し、該オプティカルインテグレータよりも後側の照明瞳に瞳強度分布を形成する分布形成光学系と、
前記後側の照明瞳を含む前記照明瞳空間に配置された請求項1乃至10のいずれか1項に記載の補正フィルターとを備えていることを特徴とする照明光学系。 - 前記オプティカルインテグレータは、所定方向に沿って細長い矩形状の単位波面分割面を有し、
前記補正フィルターは、前記補正フィルターに対する光の入射角度が大きくなるにつれて減光率が減少する減光率特性を有する第1補正フィルター領域を有し、
前記第1補正フィルター領域は、前記照明瞳において前記照明光学系の光軸を挟んで前記所定方向に間隔を隔てた一対の領域に対応して配置されていることを特徴とする請求項11に記載の照明光学系。 - 前記オプティカルインテグレータは、所定方向に沿って細長い矩形状の単位波面分割面を有し、
前記補正フィルターは、前記補正フィルターに対する光の入射角度が大きくなるにつれて減光率が増大する減光率特性を有する第2補正フィルター領域を有し、
前記第2補正フィルター領域は、前記照明瞳において前記照明光学系の光軸を挟んで前記所定方向と直交する方向に間隔を隔てた一対の領域に対応して配置されていることを特徴とする請求項11または12に記載の照明光学系。 - 前記被照射面と光学的に共役な面を形成する投影光学系と組み合わせて用いられ、前記照明瞳は前記投影光学系の開口絞りと光学的に共役な位置であることを特徴とする請求項11乃至13のいずれか1項に記載の照明光学系。
- 所定のパターンを照明するための請求項11乃至14のいずれか1項に記載の照明光学系を備え、前記所定のパターンを感光性基板に露光することを特徴とする露光装置。
- 前記所定のパターンの像を前記感光性基板上に形成する投影光学系を備え、該投影光学系に対して前記所定のパターンおよび前記感光性基板を走査方向に沿って相対移動させて、前記所定のパターンを前記感光性基板へ投影露光することを特徴とする請求項15に記載の露光装置。
- 前記オプティカルインテグレータにおける前記所定方向は、前記走査方向と直交する方向に対応していることを特徴とする請求項16に記載の露光装置。
- 請求項15乃至17のいずれか1項に記載の露光装置を用いて、前記所定のパターンを前記感光性基板に露光する露光工程と、
前記所定のパターンが転写された前記感光性基板を現像し、前記所定のパターンに対応する形状のマスク層を前記感光性基板の表面に形成する現像工程と、
前記マスク層を介して前記感光性基板の表面を加工する加工工程とを含むことを特徴とするデバイス製造方法。
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