JPH11186139A - 露光装置におけるマスク保持装置 - Google Patents
露光装置におけるマスク保持装置Info
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Abstract
(57)【要約】
【課題】 マスクステージの下面に真空吸着によりマス
クを保持する露光装置において、マスク保持装置を設け
大型マスクが落下しないように保持すること。 【解決手段】 マスク保持装置を、ばね材のマスク保持
用爪５と、マスク保持用爪をマスクＭ面にほぼ平行な面
上で移動させる駆動手段２と、スライドバー５ａを案内
する傾斜台３から構成する。そして、駆動手段２により
マスク保持用爪５をマスクＭに接近させ、マスク保持用
爪５がマスクＭ下面近傍に到達したとき、上記傾斜台３
によりスライドバー５ａを案内してマスク保持用爪５の
先端を押し上げ、マスク保持用爪５によりマスクＭを支
持する。上記マスク保持装置をマスクステージＭＳの近
傍に複数箇所設け、マスク保持用爪５によりマスクＭを
保持することにより、マスクＭが大型化し、マスクが自
重でたわんで真空がリークしてもマスクＭが落下するこ
とを防ぐことができる。
クを保持する露光装置において、マスク保持装置を設け
大型マスクが落下しないように保持すること。 【解決手段】 マスク保持装置を、ばね材のマスク保持
用爪５と、マスク保持用爪をマスクＭ面にほぼ平行な面
上で移動させる駆動手段２と、スライドバー５ａを案内
する傾斜台３から構成する。そして、駆動手段２により
マスク保持用爪５をマスクＭに接近させ、マスク保持用
爪５がマスクＭ下面近傍に到達したとき、上記傾斜台３
によりスライドバー５ａを案内してマスク保持用爪５の
先端を押し上げ、マスク保持用爪５によりマスクＭを支
持する。上記マスク保持装置をマスクステージＭＳの近
傍に複数箇所設け、マスク保持用爪５によりマスクＭを
保持することにより、マスクＭが大型化し、マスクが自
重でたわんで真空がリークしてもマスクＭが落下するこ
とを防ぐことができる。
Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は、半導体装置、液晶
基板製造装置、マルチチップモジュール等のミクロサイ
ズの加工が必要な様々な電気部品等の製造に使用される
プロキシミティまたはコンタクト露光装置におけるマス
ク保持装置に関する。
基板製造装置、マルチチップモジュール等のミクロサイ
ズの加工が必要な様々な電気部品等の製造に使用される
プロキシミティまたはコンタクト露光装置におけるマス
ク保持装置に関する。
【０００２】
【従来の技術】ＩＣ，ＬＳＩ等の半導体装置等の製造に
際しては、ワークの表面にフォトレジストを塗布し、フ
ォトマスク（以下マスクという）の上面から露光光を含
む光を照射してマスクパターンをワーク上に転写する露
光工程が行われる。上記露光工程においては、投影レン
ズを使用しマスクパターンをワーク上に投影する投影露
光装置、マスクとワークを接近させてマスクパターンを
ワーク上に転写するプロキシミティ露光装置、あるい
は、マスクとワークを密着させてマスクパターンをワー
ク上に転写するコンタクト露光装置が用いられる。
際しては、ワークの表面にフォトレジストを塗布し、フ
ォトマスク（以下マスクという）の上面から露光光を含
む光を照射してマスクパターンをワーク上に転写する露
光工程が行われる。上記露光工程においては、投影レン
ズを使用しマスクパターンをワーク上に投影する投影露
光装置、マスクとワークを接近させてマスクパターンを
ワーク上に転写するプロキシミティ露光装置、あるい
は、マスクとワークを密着させてマスクパターンをワー
ク上に転写するコンタクト露光装置が用いられる。
【０００３】図８は上記コンタクトあるいはプロキシミ
ティ露光装置におけるマスクの取り付けを示す図であ
る。通常、プロキシミティ露光装置あるいはコンタクト
露光装置においては、マスクＭとワークＷを接近もしく
は密着させて露光を行うが、露光の前にマスクＭとワー
クＷを接近させてマスクＭとワークＷのアライメントが
行われる。このアライメントの際、マスクＭがマスクス
テージＭＳの上面に取り付けられていると、ワークステ
ージＷＳの移動範囲がマスクステージＭＳの開口部の大
きさに制限される。そこで、プロキシミティ露光装置あ
るいはコンタクト露光装置においては、ワークステージ
ＷＳの移動可能範囲を大きくするため、通常、マスクＭ
をマスクステージＭＳの下面に取り付ける。マスクＭを
マスクステージＭＳに固定・保持するには、通常、真空
吸着手段が使用される。すなわち、図８に示すように、
マスクステージＭＳの開口部の周縁部にマスク真空吸着
溝ＶＳを設け、マスクＭをマスクステージＭＳの下面に
当接させた後、図示しない真空源から真空吸着溝に真空
を供給し、マスクＭを真空吸着させることにより保持す
る。
ティ露光装置におけるマスクの取り付けを示す図であ
る。通常、プロキシミティ露光装置あるいはコンタクト
露光装置においては、マスクＭとワークＷを接近もしく
は密着させて露光を行うが、露光の前にマスクＭとワー
クＷを接近させてマスクＭとワークＷのアライメントが
行われる。このアライメントの際、マスクＭがマスクス
テージＭＳの上面に取り付けられていると、ワークステ
ージＷＳの移動範囲がマスクステージＭＳの開口部の大
きさに制限される。そこで、プロキシミティ露光装置あ
るいはコンタクト露光装置においては、ワークステージ
ＷＳの移動可能範囲を大きくするため、通常、マスクＭ
をマスクステージＭＳの下面に取り付ける。マスクＭを
マスクステージＭＳに固定・保持するには、通常、真空
吸着手段が使用される。すなわち、図８に示すように、
マスクステージＭＳの開口部の周縁部にマスク真空吸着
溝ＶＳを設け、マスクＭをマスクステージＭＳの下面に
当接させた後、図示しない真空源から真空吸着溝に真空
を供給し、マスクＭを真空吸着させることにより保持す
る。
【０００４】
【発明が解決しようとする課題】ところで、近年、液晶
基板の露光等においては、大型のマスク（例えば４００
ｍｍ×４００ｍｍ）が用いられるようになってきた。マ
スクＭが大型化することにより、次のような問題が生じ
た。一般に、露光装置におけるマスクＭには高価な材料
が使用され、また高精度の表面加工が行われる。これら
の理由により、マスクＭの面積が大きくなるにつれコス
トが非常にアップする。したがって、マスクＭはなるべ
く小さくしたいという要請が強く、通常、マスクＭはワ
ークＷに対して両側で１／２インチ（≒１３ｍｍ）程度
しか大きくない。このため、マスクＭをマスクステージ
ＭＳに固定する際には、このマスクＭの周辺部の約１３
ｍｍの部分を使って真空吸着により保持することにな
る。
基板の露光等においては、大型のマスク（例えば４００
ｍｍ×４００ｍｍ）が用いられるようになってきた。マ
スクＭが大型化することにより、次のような問題が生じ
た。一般に、露光装置におけるマスクＭには高価な材料
が使用され、また高精度の表面加工が行われる。これら
の理由により、マスクＭの面積が大きくなるにつれコス
トが非常にアップする。したがって、マスクＭはなるべ
く小さくしたいという要請が強く、通常、マスクＭはワ
ークＷに対して両側で１／２インチ（≒１３ｍｍ）程度
しか大きくない。このため、マスクＭをマスクステージ
ＭＳに固定する際には、このマスクＭの周辺部の約１３
ｍｍの部分を使って真空吸着により保持することにな
る。
【０００５】一方、大型のマスクＭは自重によりたわみ
が生じやすい。このため、マスクＭがマスクステージＭ
Ｓの下面に上記約１３ｍｍという狭い部分に働く真空吸
着力で固定・保持されている場合、図９に示すように、
マスクＭとマスクステージＭＳとの間に隙間ができ、真
空がリークすることがある。これによってマスクＭをマ
スクステージＭＳに保持する力が弱まり、場合によって
はマスクＭが落下し、高価なマスクを破損することがあ
る。そこで、大型のマスクＭを使用する場合、マスクＭ
を確実に保持し、真空のリークを防ぐ機構が必要となっ
てきた。しかしながら、ねじ止め等でマスクＭをマスク
ステージＭＳに固定する方法を採用すると、ねじの取り
付け、取り外しに時間がかかり、マスク交換時の作業性
が悪くなる。
が生じやすい。このため、マスクＭがマスクステージＭ
Ｓの下面に上記約１３ｍｍという狭い部分に働く真空吸
着力で固定・保持されている場合、図９に示すように、
マスクＭとマスクステージＭＳとの間に隙間ができ、真
空がリークすることがある。これによってマスクＭをマ
スクステージＭＳに保持する力が弱まり、場合によって
はマスクＭが落下し、高価なマスクを破損することがあ
る。そこで、大型のマスクＭを使用する場合、マスクＭ
を確実に保持し、真空のリークを防ぐ機構が必要となっ
てきた。しかしながら、ねじ止め等でマスクＭをマスク
ステージＭＳに固定する方法を採用すると、ねじの取り
付け、取り外しに時間がかかり、マスク交換時の作業性
が悪くなる。
【０００６】一方、ワークステージＷＳ側にマスクＭを
下側から押し付ける機構を設けることも考えられるが、
ワークステージＷＳの近傍にはマスクＭを押し付ける機
構を取り付ける余裕がないことが多い。すなわち、ワー
クステージＷＳは、高い精度で移動させる必要があるこ
とから、ワークステージＷＳを移動させる機構が大型で
あり、また、ワークステージＷＳの近傍には、例えばワ
ークステージＷＳを一定温度に保持するための温度調整
手段の配管、配線が設けられたり、ワークＷの裏面側に
アライメントマークが施されている場合には、裏面アラ
イメントマーク観察用顕微鏡等の色々の設備が取り付け
られ、マスクＭを押し付ける機構を取り付ける余裕がな
い。
下側から押し付ける機構を設けることも考えられるが、
ワークステージＷＳの近傍にはマスクＭを押し付ける機
構を取り付ける余裕がないことが多い。すなわち、ワー
クステージＷＳは、高い精度で移動させる必要があるこ
とから、ワークステージＷＳを移動させる機構が大型で
あり、また、ワークステージＷＳの近傍には、例えばワ
ークステージＷＳを一定温度に保持するための温度調整
手段の配管、配線が設けられたり、ワークＷの裏面側に
アライメントマークが施されている場合には、裏面アラ
イメントマーク観察用顕微鏡等の色々の設備が取り付け
られ、マスクＭを押し付ける機構を取り付ける余裕がな
い。
【０００７】本発明は上記した事情に鑑みなされたもの
であって、その目的とするところは、ワークステージ側
に設置された種々の設備・機構に干渉することなく、大
型のマスクをマスクステージに押さえ付けることがで
き、しかもマスクの交換作業が極めて容易なプロキシミ
ティ／コンタクト露光装置におけるマスク保持装置を提
供することである。
であって、その目的とするところは、ワークステージ側
に設置された種々の設備・機構に干渉することなく、大
型のマスクをマスクステージに押さえ付けることがで
き、しかもマスクの交換作業が極めて容易なプロキシミ
ティ／コンタクト露光装置におけるマスク保持装置を提
供することである。
【０００８】
【課題を解決するための手段】上記課題を解決するた
め、本発明においては、フォトマスクをマスクステージ
の下面に真空吸着によって保持し、マスクステージの上
面側から露光光を含む光を照射するプロキシミティまた
はコンタクト露光装置において、マスク保持用爪を有す
るマスク保持装置を設け、マスク保持用爪によりマスク
を保持させる。上記マスク保持装置には、ばね材のマス
ク保持用爪と、該マスク保持用爪をフォトマスク面にほ
ぼ平行な面上で移動させる駆動手段と、上記マスク保持
用爪に設けられたスライドバーを案内する傾斜台とを設
ける。そして、上記駆動手段によりマスク保持用爪をフ
ォトマスクに接近させ、マスク保持用爪がフォトマスク
下面近傍に到達したとき、上記傾斜台によりスライドバ
ーを案内して上記マスク保持用爪の先端を押し上げ、マ
スク保持用爪によりフォトマスクを支持する。
め、本発明においては、フォトマスクをマスクステージ
の下面に真空吸着によって保持し、マスクステージの上
面側から露光光を含む光を照射するプロキシミティまた
はコンタクト露光装置において、マスク保持用爪を有す
るマスク保持装置を設け、マスク保持用爪によりマスク
を保持させる。上記マスク保持装置には、ばね材のマス
ク保持用爪と、該マスク保持用爪をフォトマスク面にほ
ぼ平行な面上で移動させる駆動手段と、上記マスク保持
用爪に設けられたスライドバーを案内する傾斜台とを設
ける。そして、上記駆動手段によりマスク保持用爪をフ
ォトマスクに接近させ、マスク保持用爪がフォトマスク
下面近傍に到達したとき、上記傾斜台によりスライドバ
ーを案内して上記マスク保持用爪の先端を押し上げ、マ
スク保持用爪によりフォトマスクを支持する。
【０００９】以上のようにマスク保持用爪によりマスク
を保持することにより、マスクが大型化し、マスクが自
重でたわんで真空がリークしてもマスクが落下すること
を防ぐことができる。また、マスク保持用爪は、マスク
面にほぼ平行な方向からマスクに接近するので、ワーク
ステージに設けられた各種機器に干渉することがない。
さらに、マスク保持用爪を移動させる駆動手段と、上記
マスク保持用爪に設けられたスライドバーを案内する傾
斜台を設け、マスク保持用爪を上記駆動手段により移動
させ、マスク保持用爪がフォトマスク下面の近傍に到達
したとき、傾斜台によりマスク保持用爪の先端を押し上
げるようにしたので、ねじ等を用いてマスクを保持する
場合に比べ、作業性を著しく向上させることができる。
を保持することにより、マスクが大型化し、マスクが自
重でたわんで真空がリークしてもマスクが落下すること
を防ぐことができる。また、マスク保持用爪は、マスク
面にほぼ平行な方向からマスクに接近するので、ワーク
ステージに設けられた各種機器に干渉することがない。
さらに、マスク保持用爪を移動させる駆動手段と、上記
マスク保持用爪に設けられたスライドバーを案内する傾
斜台を設け、マスク保持用爪を上記駆動手段により移動
させ、マスク保持用爪がフォトマスク下面の近傍に到達
したとき、傾斜台によりマスク保持用爪の先端を押し上
げるようにしたので、ねじ等を用いてマスクを保持する
場合に比べ、作業性を著しく向上させることができる。
【００１０】
【発明の実施の形態】図１、図２は本発明の第１の実施
例のマスク保持装置の構成を示す図であり、図１はマス
ク保持装置の斜視図、図２は図１のＡ−Ａ断面図であ
る。図１、図２において、マスクステージＭＳの近傍に
設けられた支持台１の上面側にはエアシリンダ２が取り
付けられ、エアシリンダ２の軸２ａには連結プレート４
の一端が取り付けられている。連結プレート４は、マス
クステージＭＳの下面側まで延びており、連結プレート
４の他端には、スライドブロック６（図２参照、図１で
はスライドブロック、スライドテーブルは図示せず）
と、ばね付き蝶番８を介してマスク保持用爪５が取り付
けられている。
例のマスク保持装置の構成を示す図であり、図１はマス
ク保持装置の斜視図、図２は図１のＡ−Ａ断面図であ
る。図１、図２において、マスクステージＭＳの近傍に
設けられた支持台１の上面側にはエアシリンダ２が取り
付けられ、エアシリンダ２の軸２ａには連結プレート４
の一端が取り付けられている。連結プレート４は、マス
クステージＭＳの下面側まで延びており、連結プレート
４の他端には、スライドブロック６（図２参照、図１で
はスライドブロック、スライドテーブルは図示せず）
と、ばね付き蝶番８を介してマスク保持用爪５が取り付
けられている。
【００１１】スライドブロック６は支持台１の下面に設
けられたスライドテーブル７上をスライドするように設
けられており、スライドブロック６の移動方向はエアシ
リンダ２の軸２ａの移動方向と同一方向である。このた
め、エアシリンダ２により軸２ａ、連結プレート４が図
２の左右方向に移動すると、スライドブロック６も左右
方向に移動する。またスライドテーブル７の両側には傾
斜台３が取り付けられている。傾斜台３は同図に示すよ
うにマスクステージＭＳに近い方が滑らかでかつ急峻に
傾斜し、その他の部分はぼぼ平らに形成されている。マ
スク保持用爪５は板ばねで構成されており、その略中央
に上記ばね付き蝶番が取り付けられている。マスク保持
用爪５の一端はマスクＭをマスクステージＭＳに押しつ
けるために丸みが設けられており、他端には丸棒等から
構成されるスライドバー５ａが溶接等により取り付けら
れている。また、スライドバー５ａはばね付き蝶番８に
より常に傾斜台３に押しつけられる方向に付勢されてい
る。
けられたスライドテーブル７上をスライドするように設
けられており、スライドブロック６の移動方向はエアシ
リンダ２の軸２ａの移動方向と同一方向である。このた
め、エアシリンダ２により軸２ａ、連結プレート４が図
２の左右方向に移動すると、スライドブロック６も左右
方向に移動する。またスライドテーブル７の両側には傾
斜台３が取り付けられている。傾斜台３は同図に示すよ
うにマスクステージＭＳに近い方が滑らかでかつ急峻に
傾斜し、その他の部分はぼぼ平らに形成されている。マ
スク保持用爪５は板ばねで構成されており、その略中央
に上記ばね付き蝶番が取り付けられている。マスク保持
用爪５の一端はマスクＭをマスクステージＭＳに押しつ
けるために丸みが設けられており、他端には丸棒等から
構成されるスライドバー５ａが溶接等により取り付けら
れている。また、スライドバー５ａはばね付き蝶番８に
より常に傾斜台３に押しつけられる方向に付勢されてい
る。
【００１２】図２の実線は、エアシリンダ２により軸２
ａが駆動され、連結プレート４がマスクステージＭＳ側
に移動した状態を示しており、エアシリンダ２の軸２ａ
が伸びると、スライドブロック６はスライドテーブル７
上を滑り、連結プレート４、マスク保持用爪５、スライ
ドブロック６の一式がマスクＭ側に移動する。スライド
バー５ａにはばね付き蝶番８により、傾斜台３に押し付
けられる方向の力が働いているので、スライドバー５ａ
は傾斜台３上を移動する。マスク保持用爪５がマスクＭ
を保持する位置まで移動すると、スライドバー５ａは傾
斜台３の傾斜部分により下方に押し下げられる。これに
より、マスク保持用爪５には、ばね付き蝶番８を軸とし
て時計方向に回転させようとする力が働く。このため、
マスク保持用爪５により、マスクＭはマスクステージＭ
Ｓ側に押しつけられる。
ａが駆動され、連結プレート４がマスクステージＭＳ側
に移動した状態を示しており、エアシリンダ２の軸２ａ
が伸びると、スライドブロック６はスライドテーブル７
上を滑り、連結プレート４、マスク保持用爪５、スライ
ドブロック６の一式がマスクＭ側に移動する。スライド
バー５ａにはばね付き蝶番８により、傾斜台３に押し付
けられる方向の力が働いているので、スライドバー５ａ
は傾斜台３上を移動する。マスク保持用爪５がマスクＭ
を保持する位置まで移動すると、スライドバー５ａは傾
斜台３の傾斜部分により下方に押し下げられる。これに
より、マスク保持用爪５には、ばね付き蝶番８を軸とし
て時計方向に回転させようとする力が働く。このため、
マスク保持用爪５により、マスクＭはマスクステージＭ
Ｓ側に押しつけられる。
【００１３】一方、図２の点線に示すように、エアシリ
ンダ２の軸２ａが縮むと、連結プレート４、マスク保持
用爪５、スライドブロック６の一式がマスクＭから離れ
る方向に移動し、スライドバー５ａは傾斜台３の平坦部
分に移動する。これにより、前記したマスク保持用爪５
に働く回転力が解除され、マスク保持用爪５の先端位置
は同図の点線に示す位置となり、マスクＭの保持が解除
される。図１、図２に示すマスク保持装置がマスクステ
ージＭＳの周辺部に少なくとも３〜４組（好ましくは４
組以上）設けられており、これらのマスク保持装置によ
りマスクＭは保持される。
ンダ２の軸２ａが縮むと、連結プレート４、マスク保持
用爪５、スライドブロック６の一式がマスクＭから離れ
る方向に移動し、スライドバー５ａは傾斜台３の平坦部
分に移動する。これにより、前記したマスク保持用爪５
に働く回転力が解除され、マスク保持用爪５の先端位置
は同図の点線に示す位置となり、マスクＭの保持が解除
される。図１、図２に示すマスク保持装置がマスクステ
ージＭＳの周辺部に少なくとも３〜４組（好ましくは４
組以上）設けられており、これらのマスク保持装置によ
りマスクＭは保持される。
【００１４】図３、図４は本実施例のマスク保持装置の
動作を説明する図であり、同図により本実施例の動作を
説明する。図３、図４において、Ｍはマスク、ＭＳはマ
スクステージ、ＶＳはマスク真空吸着溝、ＷＳはワーク
ステージ、ＷＤはワークステージＷＳを移動させるワー
クステージ駆動機構であり、ワークステージ駆動機構Ｗ
ＤによりワークステージＷＳはＸＹＺθ方向（Ｘ方向は
例えば同図の左右方向、Ｙ方向は同図の紙面の垂直方
向、Ｚは上下方向、θ方向はＺ軸を中心とした回転）に
駆動される。また、ＧＳはマスクＭと図示しないワーク
の平行出しを行うための間隙設定機構である（間隙設定
機構については、例えば特開平７−７４０９６号公報を
参照されたい）。なお、上記したように実際には少なく
とも３〜４組のマスク保持装置がマスクステージＭＳの
周辺部に設けられており、少なくとも３〜４か所でマス
クＭを保持するが、各マスク保持装置の動作は同一なの
で、以下の説明では一組のマスク保持装置についての動
作を説明する。
動作を説明する図であり、同図により本実施例の動作を
説明する。図３、図４において、Ｍはマスク、ＭＳはマ
スクステージ、ＶＳはマスク真空吸着溝、ＷＳはワーク
ステージ、ＷＤはワークステージＷＳを移動させるワー
クステージ駆動機構であり、ワークステージ駆動機構Ｗ
ＤによりワークステージＷＳはＸＹＺθ方向（Ｘ方向は
例えば同図の左右方向、Ｙ方向は同図の紙面の垂直方
向、Ｚは上下方向、θ方向はＺ軸を中心とした回転）に
駆動される。また、ＧＳはマスクＭと図示しないワーク
の平行出しを行うための間隙設定機構である（間隙設定
機構については、例えば特開平７−７４０９６号公報を
参照されたい）。なお、上記したように実際には少なく
とも３〜４組のマスク保持装置がマスクステージＭＳの
周辺部に設けられており、少なくとも３〜４か所でマス
クＭを保持するが、各マスク保持装置の動作は同一なの
で、以下の説明では一組のマスク保持装置についての動
作を説明する。
【００１５】（１）図３（ａ）に示すようにワークステ
ージＷＳ上にマスクＭを載置する。この状態では、エア
シリンダ２の軸２ａは縮んでおり、マスク保持用爪５は
前記図２の点線の位置にある。 （２）ワークステージ駆動機構ＷＤにより図３（ｂ）に
示すようにワークステージＷＳを上昇させ、マスクＭを
マスクステージＭＳの下面に当接させる。そのとき、前
記した間隙設定機構ＧＳが働き、マスクＭはマスクステ
ージＭＳと間隙がない状態で接する。この状態では、ワ
ークステージＷＳがマスクＭ全体を下から支持している
ので、マスクＭがたわんだ状態になることはない。
ージＷＳ上にマスクＭを載置する。この状態では、エア
シリンダ２の軸２ａは縮んでおり、マスク保持用爪５は
前記図２の点線の位置にある。 （２）ワークステージ駆動機構ＷＤにより図３（ｂ）に
示すようにワークステージＷＳを上昇させ、マスクＭを
マスクステージＭＳの下面に当接させる。そのとき、前
記した間隙設定機構ＧＳが働き、マスクＭはマスクステ
ージＭＳと間隙がない状態で接する。この状態では、ワ
ークステージＷＳがマスクＭ全体を下から支持している
ので、マスクＭがたわんだ状態になることはない。
【００１６】（３）マスクＭがマスクステージＭＳに当
接したら、真空吸着溝ＶＳに真空を供給してマスクＭを
固定・保持する。 （４）図４（ａ）に示すようにマスク保持装置のエアシ
リンダ２の軸２ａが伸び、前記したようにマスク保持用
爪５がマスクＭをマスクステージＭＳに押さえ付ける。 （５）図４（ｂ）に示すようにワークステージＷＳが下
降する。これにより、マスクＭのマスクステージＭＳへ
の取り付けが終了する。
接したら、真空吸着溝ＶＳに真空を供給してマスクＭを
固定・保持する。 （４）図４（ａ）に示すようにマスク保持装置のエアシ
リンダ２の軸２ａが伸び、前記したようにマスク保持用
爪５がマスクＭをマスクステージＭＳに押さえ付ける。 （５）図４（ｂ）に示すようにワークステージＷＳが下
降する。これにより、マスクＭのマスクステージＭＳへ
の取り付けが終了する。
【００１７】なお、上記実施例では、支持台１を設けマ
スク保持装置を取り付けるようにしているが、マスクＭ
に連結プレート４が通過できる開口部を設け、マスク保
持装置のエアシリンダ２をマスクステージＭＳの上面に
取り付け、スライドテーブル７等をマスクステージＭＳ
の下面に取り付けてもよい。また、マスクステージＭＳ
に開口部を設けず、マスク保持装置全体をマスクステー
ジＭＳの下面側に取り付けてもよい。いずれにせよ、マ
スク保持装置の取り付け位置は、アライメントユニット
やその他のマスクステージＭＳやワークステージＷＳ等
に取り付けられた様々な付属品の取り付け位置を考慮し
て定めればよい。
スク保持装置を取り付けるようにしているが、マスクＭ
に連結プレート４が通過できる開口部を設け、マスク保
持装置のエアシリンダ２をマスクステージＭＳの上面に
取り付け、スライドテーブル７等をマスクステージＭＳ
の下面に取り付けてもよい。また、マスクステージＭＳ
に開口部を設けず、マスク保持装置全体をマスクステー
ジＭＳの下面側に取り付けてもよい。いずれにせよ、マ
スク保持装置の取り付け位置は、アライメントユニット
やその他のマスクステージＭＳやワークステージＷＳ等
に取り付けられた様々な付属品の取り付け位置を考慮し
て定めればよい。
【００１８】図５、図６、図７は本発明の第２の実施例
のマスク保持装置の構成を示す図であり、本実施例はマ
スク保持用爪を回転させてマスクを保持する実施例を示
している。図５はマスクステージＭＳの下面側から本実
施例のマスク保持装置を見た図、図６は本実施例のマス
ク保持装置の動作を示しており、前記図２と同一のもの
には同一の符号が付されている。
のマスク保持装置の構成を示す図であり、本実施例はマ
スク保持用爪を回転させてマスクを保持する実施例を示
している。図５はマスクステージＭＳの下面側から本実
施例のマスク保持装置を見た図、図６は本実施例のマス
ク保持装置の動作を示しており、前記図２と同一のもの
には同一の符号が付されている。
【００１９】図５、図６において、マスクステージＭＳ
の近傍に設けられた支持台１の上面側にはモータ１１が
取り付けられており、モータ１１の軸１１ａは支持台１
を貫通して支持台１の下面側まで伸びており、軸１１ａ
にばね部材から構成されるマスク保持用爪５’が取り付
けられている。マスク保持用爪５’は図７に示すように
ジョイント１２によりモータ１１の軸１１ａに軸支され
ており、図７の矢印方向に回動可能である。マスク保持
用爪５’の一端にはスライドバー５ａ’が取り付けられ
ている。また、支持台１には円弧状に形成された傾斜台
３’が取り付けられており、傾斜台３’の傾斜面は図６
に示すように一方端が滑らかでかつ急峻に傾斜し、その
他の部分はぼぼ平らに形成されている。また、スライド
バー５ａ’はジョイント１２に設けられた図示しないば
ねにより、傾斜台３’に押しつけられる方向に付勢され
ている。
の近傍に設けられた支持台１の上面側にはモータ１１が
取り付けられており、モータ１１の軸１１ａは支持台１
を貫通して支持台１の下面側まで伸びており、軸１１ａ
にばね部材から構成されるマスク保持用爪５’が取り付
けられている。マスク保持用爪５’は図７に示すように
ジョイント１２によりモータ１１の軸１１ａに軸支され
ており、図７の矢印方向に回動可能である。マスク保持
用爪５’の一端にはスライドバー５ａ’が取り付けられ
ている。また、支持台１には円弧状に形成された傾斜台
３’が取り付けられており、傾斜台３’の傾斜面は図６
に示すように一方端が滑らかでかつ急峻に傾斜し、その
他の部分はぼぼ平らに形成されている。また、スライド
バー５ａ’はジョイント１２に設けられた図示しないば
ねにより、傾斜台３’に押しつけられる方向に付勢され
ている。
【００２０】図５の実線、図６（ａ）は、モータ１１に
より軸１１ａが駆動され、マスク保持用爪５’がマスク
Ｍを保持している状態を示しており、モータ１１により
マスク保持用爪５’が回転し、その先端がマスクＭに近
づくように移動すると、スライドバー５ａ’が傾斜台３
上を移動する。そして、マスク保持用爪５’がマスクＭ
を保持する位置まで移動すると、スライドバー５ａ’は
傾斜台３’の傾斜部分により下方に押し下げられる。こ
れにより、マスク保持用爪５’には、ジョイント１２を
軸として時計方向に回転させようとする力が働き、マス
クＭはマスク保持用爪５’によりマスクステージＭＳ側
に押しつけられる。
より軸１１ａが駆動され、マスク保持用爪５’がマスク
Ｍを保持している状態を示しており、モータ１１により
マスク保持用爪５’が回転し、その先端がマスクＭに近
づくように移動すると、スライドバー５ａ’が傾斜台３
上を移動する。そして、マスク保持用爪５’がマスクＭ
を保持する位置まで移動すると、スライドバー５ａ’は
傾斜台３’の傾斜部分により下方に押し下げられる。こ
れにより、マスク保持用爪５’には、ジョイント１２を
軸として時計方向に回転させようとする力が働き、マス
クＭはマスク保持用爪５’によりマスクステージＭＳ側
に押しつけられる。
【００２１】一方、図５の点線、図６（ｂ）に示すよう
に、モータ１１によりマスク保持用爪５’の先端がマス
クＭから離れるように移動すると、スライドバー５ａ’
が傾斜台３’上の平坦部分に移動する。これにより、マ
スク保持用爪５の先端位置は図６（ｂ）に示す位置とな
り、マスクＭの保持が解除される。本実施例のマスク保
持装置によるマスクの保持動作は前記図３、図４で説明
したのと同様であり、ワークステージＷＳに載置された
マスクＭがマスクステージＭＳに当接したら、真空吸着
溝ＶＳに真空を供給してマスクＭを固定・保持し、マス
ク保持装置のモータ１１によりマスク保持用爪５’を回
転させて、マスク保持用爪５’によりマスクＭをマスク
ステージＭＳに押さえ付ける。
に、モータ１１によりマスク保持用爪５’の先端がマス
クＭから離れるように移動すると、スライドバー５ａ’
が傾斜台３’上の平坦部分に移動する。これにより、マ
スク保持用爪５の先端位置は図６（ｂ）に示す位置とな
り、マスクＭの保持が解除される。本実施例のマスク保
持装置によるマスクの保持動作は前記図３、図４で説明
したのと同様であり、ワークステージＷＳに載置された
マスクＭがマスクステージＭＳに当接したら、真空吸着
溝ＶＳに真空を供給してマスクＭを固定・保持し、マス
ク保持装置のモータ１１によりマスク保持用爪５’を回
転させて、マスク保持用爪５’によりマスクＭをマスク
ステージＭＳに押さえ付ける。
【００２２】
【発明の効果】以上説明したように、本発明において
は、以下の効果を得ることができる。 （１）マスク保持装置をマスクの周辺部に設け、マスク
の周辺部をマスク保持装置のマスク保持用爪により押さ
えるようにしたので、マスクが大型化し、マスクが自重
でたわんで真空がリークしてもマスクが落下することを
防ぐことができる。 （２）マスク保持装置のマスク保持用爪は、マスク面に
ほぼ平行な方向からマスクに接近するのでワークステー
ジに設けられた各種機器に干渉することがない。 （３）マスク保持用爪を移動させる駆動手段と、上記マ
スク保持用爪に設けられたスライドバーを案内する傾斜
台を設け、マスク保持用爪を上記駆動手段により移動さ
せ、マスク保持用爪がフォトマスク下面の近傍に到達し
たとき、傾斜台によりマスク保持用爪の先端を押し上げ
るようにしたので、ねじ等を用いてマスクを保持する場
合に比べ、作業性を著しく向上させることができる。
は、以下の効果を得ることができる。 （１）マスク保持装置をマスクの周辺部に設け、マスク
の周辺部をマスク保持装置のマスク保持用爪により押さ
えるようにしたので、マスクが大型化し、マスクが自重
でたわんで真空がリークしてもマスクが落下することを
防ぐことができる。 （２）マスク保持装置のマスク保持用爪は、マスク面に
ほぼ平行な方向からマスクに接近するのでワークステー
ジに設けられた各種機器に干渉することがない。 （３）マスク保持用爪を移動させる駆動手段と、上記マ
スク保持用爪に設けられたスライドバーを案内する傾斜
台を設け、マスク保持用爪を上記駆動手段により移動さ
せ、マスク保持用爪がフォトマスク下面の近傍に到達し
たとき、傾斜台によりマスク保持用爪の先端を押し上げ
るようにしたので、ねじ等を用いてマスクを保持する場
合に比べ、作業性を著しく向上させることができる。
【図１】本発明の第１の実施例のマスク保持装置の構成
を示す図である。
を示す図である。
【図２】第１の実施例のマスク保持装置をマスクステー
ジ面に平行な方向から見た図である。
ジ面に平行な方向から見た図である。
【図３】第１の実施例のマスク保持装置によるマスク保
持動作を説明する図（１）である。
持動作を説明する図（１）である。
【図４】第１の実施例のマスク保持装置によるマスク保
持動作を説明する図（２）である。
持動作を説明する図（２）である。
【図５】本発明の第２の実施例のマスク保持装置をマス
クステージの下面側から見た図である。
クステージの下面側から見た図である。
【図６】本発明の第２の実施例のマスク保持装置を動作
を説明する図である。
を説明する図である。
【図７】第２の実施例におけるモータ軸へのマスク保持
用爪の取り付けを説明する図である。
用爪の取り付けを説明する図である。
【図８】プロキシミティ／コンタクト露光装置における
マスクの取り付けを説明する図である。
マスクの取り付けを説明する図である。
【図９】大型のマスクを取り付けた場合の真空リークを
説明する図である。
説明する図である。
１ 支持台 ２ エアシリンダ ２ａ エアシリンダ軸 ３，３’ 傾斜台 ４ 連結プレート ５，５’ マスク保持用爪 ５ａ，５ａ’ スライドバー ６ スライドブロック ７ スライドテーブル ８ ばね付き蝶番８ １１ モータ １２ ジョイント
Claims (1)
- 【請求項１】 フォトマスクを、マスクステージの下面
に真空吸着によって保持し、マスクステージの上面側か
ら露光光を含む光を照射するプロキシミティまたはコン
タクト露光装置におけるマスク保持装置であって、 ばね材のマスク保持用爪と、該マスク保持用爪をフォト
マスク面にほぼ平行な面上で移動させる駆動手段と、上
記マスク保持用爪に設けられたスライドバーを案内する
傾斜台とを備え、 上記駆動手段によりマスク保持用爪をフォトマスクに接
近させ、マスク保持用爪がフォトマスク下面近傍に到達
したとき、上記傾斜台によりスライドバーを案内して上
記マスク保持用爪の先端を押し上げ、マスク保持用爪に
よりフォトマスクを支持することを特徴とするプロキシ
ミティまたはコンタクト露光装置におけるマスク保持装
置。
Priority Applications (2)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP35466097A JP3928232B2 (ja) | 1997-12-24 | 1997-12-24 | 露光装置におけるマスク保持装置 |
| KR1019980058395A KR100539405B1 (ko) | 1997-12-24 | 1998-12-24 | 노광장치에있어서의마스크지지장치 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP35466097A JP3928232B2 (ja) | 1997-12-24 | 1997-12-24 | 露光装置におけるマスク保持装置 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH11186139A true JPH11186139A (ja) | 1999-07-09 |
| JP3928232B2 JP3928232B2 (ja) | 2007-06-13 |
Family
ID=18439054
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP35466097A Expired - Lifetime JP3928232B2 (ja) | 1997-12-24 | 1997-12-24 | 露光装置におけるマスク保持装置 |
Country Status (2)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP3928232B2 (ja) |
| KR (1) | KR100539405B1 (ja) |
Cited By (10)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2006086289A (ja) * | 2004-09-15 | 2006-03-30 | Nsk Ltd | 近接露光装置 |
| JP2007251137A (ja) * | 2006-02-14 | 2007-09-27 | Asml Netherlands Bv | リソグラフィ装置およびデバイス製造方法 |
| JP2008205479A (ja) * | 2003-07-22 | 2008-09-04 | Asml Netherlands Bv | リソグラフィ・パターン形成機器のための安全機構 |
| US7466397B2 (en) | 2003-07-22 | 2008-12-16 | Asml Netherlands B.V. | Safety mechanism for a lithographic patterning device |
| JP2009003365A (ja) * | 2007-06-25 | 2009-01-08 | Nsk Ltd | 近接スキャン露光装置及びその制御方法 |
| JP2010266561A (ja) * | 2009-05-13 | 2010-11-25 | Hitachi High-Technologies Corp | プロキシミティ露光装置、プロキシミティ露光装置のマスクの位置ずれ防止方法、及び表示用パネル基板の製造方法 |
| JP2011013565A (ja) * | 2009-07-03 | 2011-01-20 | Hitachi High-Technologies Corp | 露光装置 |
| JP2012118544A (ja) * | 2012-01-11 | 2012-06-21 | Nsk Technology Co Ltd | 露光装置及びその制御方法 |
| JP2016218117A (ja) * | 2015-05-15 | 2016-12-22 | 株式会社ブイ・テクノロジー | 密着露光装置における密着方法 |
| CN109891323A (zh) * | 2016-10-24 | 2019-06-14 | Asml荷兰有限公司 | 用于将物体移入和/或移出壳体的设备 |
-
1997
- 1997-12-24 JP JP35466097A patent/JP3928232B2/ja not_active Expired - Lifetime
-
1998
- 1998-12-24 KR KR1019980058395A patent/KR100539405B1/ko not_active IP Right Cessation
Cited By (12)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2008205479A (ja) * | 2003-07-22 | 2008-09-04 | Asml Netherlands Bv | リソグラフィ・パターン形成機器のための安全機構 |
| US7466397B2 (en) | 2003-07-22 | 2008-12-16 | Asml Netherlands B.V. | Safety mechanism for a lithographic patterning device |
| JP2006086289A (ja) * | 2004-09-15 | 2006-03-30 | Nsk Ltd | 近接露光装置 |
| JP4529606B2 (ja) * | 2004-09-15 | 2010-08-25 | 日本精工株式会社 | 近接露光装置及び近接露光装置の制御方法 |
| JP2007251137A (ja) * | 2006-02-14 | 2007-09-27 | Asml Netherlands Bv | リソグラフィ装置およびデバイス製造方法 |
| JP2009003365A (ja) * | 2007-06-25 | 2009-01-08 | Nsk Ltd | 近接スキャン露光装置及びその制御方法 |
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| JP2011013565A (ja) * | 2009-07-03 | 2011-01-20 | Hitachi High-Technologies Corp | 露光装置 |
| JP2012118544A (ja) * | 2012-01-11 | 2012-06-21 | Nsk Technology Co Ltd | 露光装置及びその制御方法 |
| JP2016218117A (ja) * | 2015-05-15 | 2016-12-22 | 株式会社ブイ・テクノロジー | 密着露光装置における密着方法 |
| CN109891323A (zh) * | 2016-10-24 | 2019-06-14 | Asml荷兰有限公司 | 用于将物体移入和/或移出壳体的设备 |
| CN109891323B (zh) * | 2016-10-24 | 2021-03-16 | Asml荷兰有限公司 | 用于将物体移入和/或移出壳体的设备 |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JP3928232B2 (ja) | 2007-06-13 |
| KR100539405B1 (ko) | 2006-04-06 |
| KR19990063453A (ko) | 1999-07-26 |
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|---|---|---|---|
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|
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|
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|
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|
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