KR100539405B1 - 노광장치에있어서의마스크지지장치 - Google Patents

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Abstract

본 발명은 마스크 스테이지의 하부면에 진공흡착에 의해 마스크를 지지하는 노광장치에 있어서, 마스크 지지장치를 설치하여 대형 마스크가 낙하되지 않도록 지지하는 것이다. 마스크 지지장치를 스프링재의 마스크 지지용 클로우(5)와, 마스크 지지용 클로우를 마스크(M)면에 거의 평행한 면 위에서 이동시키는 구동수단(2)과, 슬라이드 바(5a)를 안내하는 경사대(3)로 구성한다. 그리고, 구동수단(2)에 의해 마스크 지지용 클로우(5)를 마스크(M)에 접근시켜서 마스크 지지용 클로우(5)가 마스크(M) 하부면 근방에 도달했을 때, 상기 경사대(3)에 의해 슬라이드 바(5a)를 안내하여 마스크 지지용 클로우(5)의 선단을 밀어 올리고, 마스크 지지용 클로우(5)에 의해 마스크(M)를 지지한다. 상기 마스크 지지장치를 마스크 스테이지(MS) 근방에 다수 개소 설치하고, 마스크 지지용 클로우(5)에 의해 마스크(M)를 지지함으로써, 마스크(M)가 대형화하여 마스크가 자중으로 휘어서 진공이 리크되더라도 마스크(M)가 낙하되는 것을 방지할 수 있다.

Description

노광장치에 있어서의 마스크 지지장치
본 발명은 반도체장치, 액정기판 제조장치, 멀티칩 모듈 등의 미크로 사이즈의 가공이 필요한 다양한 전기부품 등의 제조에 사용되는 프록시미티 또는 콘택트 노광장치에 있어서의 마스크 지지장치에 관한 것이다.
IC, LSI 등 반도체장치 등의 제조시에는 워크의 표면에 포토 레지스트를 도포하고, 포토 마스크(이하 마스크라 한다)의 상부면으로부터 노광광(露光光)을 포함한 광을 조사하여 마스크 패턴을 워크상에 전사하는 노광공정이 행해진다.
상기 노광공정에 있어서는, 투영렌즈를 사용하여 마스크 패턴을 워크상에 투영하는 투영노광장치, 마스크와 워크를 접근시켜서 마스크 패턴을 워크상에 전사하는 프록시미티 노광장치 혹은 마스크와 워크를 밀착시켜서 마스크 패턴을 워크상에 전사하는 콘택트 노광장치가 사용된다.
도 8은 상기 콘택트 혹은 프록시미티 노광장치에 있어서 마스크의 장착을 나타낸 도면이다.
통상 프록시미티 노광장치 혹은 콘택트 노광장치에 있어서는, 마스크(M)와 워크(W)를 접근 혹은 밀착시켜서 노광을 행하지만, 노광전에 마스크(M)와 워크(W)를 접근시켜서 마스크(M)와 워크(W)의 얼라인먼트가 행해진다. 이 얼라인먼트시 마스크(M)가 마스크 스테이지(MS)의 상부면에 장착되어 있으면, 워크 스테이지(WS)의 이동범위가 마스크 스테이지(MS)의 개구부 크기로 제한된다. 따라서, 프록시미티 노광장치 혹은 콘택트 노광장치에 있어서는, 워크 스테이지(WS)의 이동가능범위를 크게 하기 위해 통상 마스크(M)를 마스크 스테이지(MS)의 하부면에 장착한다.
마스크(M)를 마스크 스테이지(MS)에 고정·지지하려면, 통상 진공흡착수단이 사용된다. 즉, 도 8에 나타낸 바와 같이, 마스크 스테이지(MS)의 개구부 주가장자리부에 마스크 진공흡착 홈(VS)을 형성하고, 마스크(M)를 마스크 스테이지(MS)의 하부면에 닿게 한 후, 도시하지 않은 진공원으로부터 진공흡착 홈에 진공을 공급하여, 마스크(M)를 진공흡착시켜서 지지한다.
그러나, 최근 액정기판의 노광 등에 있어서는 대형 마스크(예를 들면 400mm × 400mm)가 사용되기에 이르렀다.
마스크(M)가 대형화함으로써 다음과 같은 문제가 생겼다.
일반적으로 노광장치에 있어서의 마스크(M)에는 고가의 재료가 사용되고, 또 정밀한 표면가공이 행해진다. 이러한 이유에 의해 마스크(M)의 면적이 커짐에 따라 비용이 매우 상승된다. 따라서, 마스크(M)는 가능한 한 작게 하고자 하는 요청이 강하여, 통상 마스크(M)는 워크(W)에 대해 양측에서 1/2인치(≒13mm) 정도밖에 크지 않다. 이 때문에 마스크(M)를 마스크 스테이지(MS)에 고정할 때에는 이 마스크(M) 주변부의 약 13mm 부분을 사용하여 진공흡착에 의해 지지하게 된다.
한편, 대형 마스크(M)는 자중에 의해 휘어짐이 발생하기 쉽다. 이 때문에 마스크(M)가 마스크 스테이지(MS)의 하부면에 상기 약 13mm라는 좁은 부분에 작용하는 진공흡착력으로 고정·지지되어 있는 경우, 도 9에 나타낸 바와 같이, 마스크(M)와 마스크 스테이지(MS) 사이에 간격이 생겨서 진공이 리크되는 경우가 있다. 이에 따라 마스크(M)를 마스크 스테이지(MS)에 지지하는 힘이 약해지는데, 경우에 따라서는 마스크(M)가 낙하하여 고가의 마스크를 파손하는 경우가 있다.
그래서, 대형 마스크(M)를 사용하는 경우, 마스크(M)를 확실하게 지지하고, 진공의 리크를 방지하는 기구가 필요해진다. 그러나, 나사 고정 등에 의해 마스크(M)를 마스크 스테이지(MS)에 고정하는 방법을 채용하면 나사를 조이거나 분해하는 데 시간이 걸려서 마스크 교환시의 작업성이 나빠진다.
한편, 워크 스테이지(WS)측에 마스크(M)를 하측으로부터 밀어붙이는 기구를 설치하는 것도 고려되는데, 워크 스테이지(WS) 근방에는 마스크(M)를 밀어붙이는 기구를 설치할 여유가 없는 경우가 많다. 즉, 워크 스테이지(WS)는 정밀하게 이동시킬 필요가 있기 때문에, 워크 스테이지(WS)를 이동시키는 기구가 대형이거나, 또는 워크 스테이지(WS) 근방에는, 예를 들면 워크 스테이지(WS)를 일정 온도로 지지하기 위한 온도조정수단의 배관, 배선이 배설되거나, 워크(W)의 이면측에 얼라인먼트 마크가 있는 경우에는 이면 얼라인먼트 마크 관찰용 현미경 등의 여러 설비가 제공되므로, 마스크(M)를 밀어붙이는 기구를 설치할 여유가 없다.
본 발명은 상기한 사정을 감안하여 이루어진 것으로, 그 목적으로 하는 바는, 워크 스테이지측에 설치된 각종 설비·기구에 간섭하는 일 없이, 대형 마스크를 마스크 스테이지에 꽉 누를 수 있으며, 또 마스크의 교환작업이 매우 용이한 프록시미티/콘택트 노광장치에 있어서의 마스크 지지장치를 제공하는 것이다.
상기 과제를 해결하기 위해, 본 발명에 있어서는, 포토 마스크를 마스크 스테이지의 하부면에 진공흡착에 의해 지지하고, 마스크 스테이지의 상부면측에서 노광광을 포함한 광을 조사하는 프록시미티 또는 콘택트 노광장치에 있어서, 마스크 지지용 클로우(claw)를 가진 마스크 지지장치를 설치하고, 마스크 지지용 클로우에 의해 마스크를 지지시킨다.
상기 마스크 지지장치에는 스프링재의 마스크 지지용 클로우와, 상기 마스크 지지용 클로우를 포토 마스크면에 거의 평행한 면상에서 이동시키는 구동수단과, 상기 마스크 지지용 클로우에 형성된 슬라이드 바를 안내하는 경사대를 설치한다. 그리고, 상기 구동수단에 의해 마스크 지지용 클로우를 포토 마스크에 접근시키고, 마스크 지지용 클로우가 포토 마스크 하부면 근방에 도달했을 때, 상기 경사대에 의해 슬라이드 바를 안내하여 상기 마스크 지지용 클로우의 선단을 밀어 올리고, 마스크 지지용 클로우에 의해 포토 마스크를 지지한다.
이상과 같이 마스크 지지용 클로우에 의해 마스크를 지지함으로써, 마스크가 대형화하고, 마스크가 자중으로 휘어서 진공이 리크하더라도 마스크가 낙하되는 것을 방지할 수 있다. 또, 마스크 지지용 클로우는 마스크면에 거의 평행한 방향에서 마스크에 접근하므로, 워크 스테이지에 설치된 각종 기기에 간섭하는 일이 없다.
또, 마스크 지지용 클로우를 이동시키는 구동수단과, 상기 마스크 지지용 클로우에 설치된 슬라이드 바를 안내하는 경사대를 형성하고, 마스크 지지용 클로우를 상기 구동수단에 의해 이동시키고, 마스크 지지용 클로우가 포토 마스크 하부면 근방에 도달했을 때, 경사대에 의해 마스크 지지용 클로우의 선단을 밀어올리도록 했으므로, 나사 등을 사용하여 마스크를 지지하는 경우에 비해 작업성을 현저하게 향상시킬 수 있다.
도 1, 도 2는 본 발명에 따른 제1실시예의 마스크 지지장치의 구성을 나타낸 도면이고, 도 1은 마스크 지지장치의 사시도, 도 2는 도 1의 A-A 단면도이다.
도 1, 도 2에 있어서, 마스크 스테이지(MS) 근방에 설치된 지지대(1)의 상부면측에는 에어 실린더(2)가 장착되고, 에어 실린더(2)의 축(2a)에는 연결 플레이트(4)의 일단이 장착되어 있다. 연결 플레이트(4)는 마스크 스테이지(MS)의 하부면 측까지 연장되어 있으며, 연결 플레이트(4)의 타단에는 슬라이드 블록(6)(도 2 참조, 도 1에서는 슬라이드 블록, 슬라이드 테이블은 도시생략)과, 스프링이 부착된 이음매(8)를 통해 마스크 지지용 클로우(5)가 장착되어 있다.
슬라이드 블록(6)은 지지대(1)의 하부면에 설치된 슬라이드 테이블(7)상을 슬라이드하도록 설치되어 있으며, 슬라이드 블록(6)의 이동방향은 에어 실린더(2)의 축(2a) 이동방향과 동일방향이다. 이 때문에 에어 실린더(2)에 의해 축(2a), 연결 플레이트(4)가 도 2의 좌우방향으로 이동하면 슬라이드 블록(6)도 좌우방향으로 이동한다.
또, 슬라이드 테이블(7)의 양측에는 경사대(3)가 장착되어 있다. 경사대(3)는 동 도면에 나타낸 바와 같이 마스크 스테이지(MS)에 가까운 쪽이 매끈하고 급격하게 높아지도록 경사지고, 그 밖의 부분은 거의 평평하게 형성되어 있다.
마스크 지지용 클로우(5)는 판 스프링으로 구성되어 있으며, 그 대략 중앙에는 상기 스프링이 부착된 이음매가 장착되어 있다. 마스크 지지용 클로우(5)의 일단은 마스크(M)를 마스크 스테이지(MS)에 밀어붙이기 위해 둥글게 형성되어 있으며, 타단에는 둥근 봉 등으로 구성된 슬라이드 바(5a)가 용접 등에 의해 장착되어 있다. 또, 슬라이드 바(5a)는 스프링이 부착된 이음매(8)에 의해 항상 경사대(3)에 압박되는 방향으로 힘을 받고 있다.
도 2의 실선은 에어 실린더(2)에 의해 축(2a)이 구동되고, 연결 플레이트(4)가 마스크 스테이지(MS)측으로 이동한 상태를 나타내고 있으며, 에어 실린더(2)의 축(2a)이 신장하면 슬라이드 블록(6)은 슬라이드 테이블(7) 위를 미끄러져서 연결 플레이트(4), 마스크 지지용 클로우(5), 슬라이드 블록(6)의 일군이 마스크(M)측으로 이동한다. 슬라이드 바(5a)에는 스프링이 부착된 이음매(8)에 의해 경사대(3)에 압박되는 방향의 힘이 작용하고 있으므로, 슬라이드 바(5a)는 경사대(3) 위를 이동한다.
마스크 지지용 클로우(5)가 마스크(M)를 지지하는 위치까지 이동하면, 슬라이드 바(5a)는 경사대(3)의 경사부분에 의해 하측으로 눌린다. 이에 따라 마스크 지지용 클로우(5)에는 스프링이 부착된 이음매(8)를 축으로 시계방향으로 회전시키고자 하는 힘이 작용한다. 이 때문에, 마스크 지지용 클로우(5)에 의해 마스크(M)는 마스크 스테이지(MS)측으로 눌린다.
한편, 도 2의 점선으로 나타낸 바와 같이, 에어 실린더(2)의 축(2a)이 수축하면, 연결 플레이트(4), 마스크 지지용 클로우(5), 슬라이드 블록(6)의 일군이 마스크(M)로부터 떨어지는 방향으로 이동하고, 슬라이드 바(5a)는 경사대(3)의 평탄부분으로 이동한다. 이에 따라 상기한 마스크 지지용 클로우(5)에 작용하는 회전력이 해제되어, 마스크 지지용 클로우(5)의 선단위치는 동 도면의 점선으로 나타낸 위치가 되고, 마스크(M)의 지지가 해제된다.
도 1, 도 2에 나타낸 마스크 지지장치가 마스크 스테이지(MS)의 주변부에 적어도 3∼4쌍(바락직하게는 4쌍 이상) 설치되어 있으며, 이들 마스크 지지장치에 의해 마스크(M)는 지지된다.
도 3, 도 4는 본 실시예에 따른 마스크 지지장치의 동작을 설명하는 도면으로, 동 도면에 의해 본 실시예의 동작을 설명한다. 도 3, 도 4에 있어서는 M은 마스크, MS는 마스크 스테이지, VS는 마스크 진공흡착 홈, WS는 워크 스테이지, WD는 워크 스테이지(WS)를 이동시키는 워크 스테이지 구동기구이고, 워크 스테이지 구동기구(WD)에 의해 워크 스테이지(WS)는 XYZθ 방향(X방향은 예를 들면 동 도면의 좌우방향, Y방향은 동 도면의 지면의 수직방향, Z는 상하방향, θ방향은 Z축을 중심으로 한 회전)으로 구동된다. 또, GS는 마스크(M)와 도시하지 않은 워크의 평행이동을 하기 위한 간격설정기구이다(간격설정기구에 대해서는 예를 들면 일본국 특개평 7-74096호 공보를 참조하기 바란다).
또, 상기한 바와 같이 실제로는 적어도 3∼4쌍의 마스크 지지장치가 마스크 스테이지(MS)의 주변부에 설치되어 있으며, 적어도 3∼4곳에서 마스크(M)를 지지하지만, 각 마스크 지지장치의 동작은 동일하므로, 이하의 설명에서는 1쌍의 마스크 지지장치에 대한 동작을 설명한다.
(1) 도 3(a)에 나타낸 바와 같이 워크 스테이지(WS)상에 마스크(M)를 재치한다. 이 상태에서는 에어 실린더(2)의 축(2a)은 수축하며, 마스크 지지용 클로우(5)은 상기 도 2의 점선 위치에 있다.
(2) 워크 스테이지 구동기구(WD)에 의해 도 3(b)에 나타낸 바와 같이 워크 스테이지(WS)를 상승시키고, 마스크(M)를 마스크 스테이지(MS)의 하부면에 닿게 한다. 그 때 상기한 간격설정기구(GS)가 작용하며, 마스크(M)는 마스크 스테이지(MS)와 간격이 없는 상태에서 접한다. 이 상태에서는 워크 스테이지(WS)가 마스크(M) 전체를 밑에서부터 지지하고 있으므로, 마스크(M)가 휘는 상태로는 되지 않는다.
(3) 마스크(M)가 마스크 스테이지(MS)에 당접하면, 진공흡착 홈(VS)에 진공을 공급하여 마스크(M)를 고정·지지한다.
(4) 도 4(a)에 나타낸 바와 같이 마스크 지지장치의 에어 실린더(2)의 축(2a)이 신장되고, 상기한 바와 같이 마스크 지지용 클로우(5)가 마스크(M)를 마스크 스테이지(MS)로 누른다.
(5) 도 4(b)에 나타낸 바와 같이 워크 스테이지(WS)가 하강한다. 이에 따라 마스크(M)의 마스크 스테이지(MS)에 대한 장착이 종료된다.
또, 상기 실시예에서는 지지대(1)를 설치하여 마스크 지지장치를 장착하도록 하고 있으나, 마스크(M)에 연결 플레이트(4)가 통과되는 개구부를 형성하고, 마스크 지지장치의 에어 실린더(2)를 마스크 스테이지(MS)의 상부면에 장착하고, 슬라이드 테이블(7) 등을 마스크 스테이지(MS)의 하부면에 장착해도 된다. 또, 마스크 스테이지(MS)에 개구부를 형성하지 않고, 마스크 지지장치 전체를 마스크 스테이지(MS)의 하부면측에 장착해도 된다.
어느 쪽이든 마스크 지지장치의 장착위치는, 얼라인먼트 유닛이나 그 밖의 마스크 스테이지(MS)나 워크 스테이지(WS) 등에 장착된 다양한 부속품의 장착위치를 고려하여 정하면 된다.
도 5, 도 6, 도 7은 본 발명에 따른 제2실시예의 마스크 지지장치의 구성을 나타낸 도면이고, 본 실시예는 마스크 지지용 클로우를 회전시켜서 마스크를 지지하는 실시예를 나타내고 있다.
도 5는 마스크 스테이지(MS)의 하부면측에서 본 실시예의 마스크 지지장치를 본 도면, 도 6은 본 실시예에 따른 마스크 지지장치의 동작을 나타내고 있으며, 상기 도 2와 동일한 것에는 동일한 부호를 붙였다.
도 5, 도 6에 있어서, 마스크 스테이지(MS) 근방에 설치된 지지대(1)의 상부면측에는 모터(11)가 장착되어 있으며, 모터(11)의 축(11a)은 지지대(1)를 관통하여 지지대(1)의 하부면측까지 신장되어 있으며, 축(11a)에 스프링부재로 구성된 마스크 지지용 클로우(5′)가 장착되어 있다. 마스크 지지용 클로우(5′)는 도 7에 나타낸 바와 같이, 조인트(12)에 의해 모터(11)의 축(11a)에 회전지지되어 있으며, 도 7의 화살표방향으로 회전 가능하다.
마스크 지지용 클로우(5′)의 일단에는 슬라이드 바(5a′)가 장착되어 있다. 또, 지지대(1)에는 원호형상으로 형성된 경사대(3′)가 장착되어 있으며, 경사대(3′)의 경사면은 도 6에 나타낸 바와 같이 한쪽 단이 매끈하고 급하게 높아지도록 경사져 있으며, 그 밖의 부분은 거의 평평하게 배설되어 있다. 또, 슬라이드 바(5a′)는 조인트(12)에 형성된 도시하지 않은 스프링에 의해 경사대(3′)에 압박되는 방향으로 힘을 받고 있다.
도 5의 실선, 도 6(a)는 모터(11)에 의해 축(11a)이 구동되고, 마스크 지지용 클로우(5′)가 마스크(M)를 지지하고 있는 상태를 나타내고 있으며, 모터(11)에 의해 마스크 지지용 클로우(5′)가 회전하고, 그 선단이 마스크(M)에 가까워지도록 이동하면 슬라이드 바(5a′)는 경사대(3) 위를 이동한다. 그리고, 마스크 지지용 클로우(5′)가 마스크(M)를 지지하는 위치까지 이동하면, 슬라이드 바(5a′)는 경사대(3′)의 경사부분에 의해 하측으로 눌린다. 이에 따라 마스크 지지용 클로우(5′)에는 조인트(12)를 축으로 시계방향으로 회전시키고자 하는 힘이 작용하고, 마스크(M)는 마스크 지지용 클로우(5′)에 의해 마스크 스테이지(MS)측으로 압박된다.
한편, 도 5의 점선, 도 6(b)에 나타낸 바와 같이, 모터(11)에 의해 마스크 지지용 클로우(5′)의 선단이 마스크(M)로부터 떨어지도록 이동하면, 슬라이드 바(5a′)는 경사대(3′) 위의 평탄부분으로 이동한다. 이에 따라 마스크 지지용 클로우(5)의 선단위치는 도 6(b)에 나타낸 위치가 되며, 마스크(M)의 지지는 해제된다.
본 실시예의 마스크 지지장치에 의한 마스크의 지지동작은 상기 도 3, 도 4에서 설명한 것과 같으며, 워크 스테이지(WS)에 재치된 마스크(M)가 마스크 스테이지(MS)에 닿으면, 진공흡착 홈(VS)에 진공을 공급하여 마스크(M)를 고정·지지하고, 마스크 지지장치의 모터(11)에 의해 마스크 지지용 클로우(5′)을 회전시키고, 마스크 지지용 클로우(5′)에 의해 마스크(M)를 마스크 스테이지(MS)로 밀어붙인다.
이상 설명한 바와 같이, 본 발명에 있어서는 이하의 효과를 얻을 수 있다.
(1) 마스크 지지장치를 마스크 주변부에 설치하고, 마스크 주변부를 마스크 지지장치의 마스크 지지용 클로우에 의해 누르도록 했으므로, 마스크가 대형화하여, 마스크가 자중으로 휘어서 진공이 리크되어도 마스크가 낙하되는 것을 방지할 수 있다.
(2) 마스크 지지장치의 마스크 지지용 클로우는 마스크면에 거의 평행한 방향에서 마스크에 접근하므로, 워크 스테이지에 설치된 각종 기기에 간섭하지 않는다.
(3) 마스크 지지용 클로우를 이동시키는 구동수단과, 상기 마스크 지지용 클로우에 설치된 슬라이드 바를 안내하는 경사대를 설치하고, 마스크 지지용 클로우를 상기 구동수단에 의해 이동시키고, 마스크 지지용 클로우가 포토 마스크 하부면 근방에 도달했을 때, 경사대에 의해 마스크 지지용 클로우의 선단을 밀어 올리도록 했으므로, 나사 등을 사용하여 마스크를 지지하는 경우에 비해 작업성을 현저하게 향상시킬 수 있다.
도 1은 본 발명에 있어서의 제1실시예의 마스크 지지장치의 구성을 나타낸 도면,
도 2는 제1실시예의 마스크 지지장치를 마스크 스테이지면에 평행한 방향에서 본 도면,
도 3은 제1실시예의 마스크 지지장치에 의한 마스크 지지동작을 설명하는 도면(1),
도 4는 제1실시예의 마스크 지지장치에 의한 마스크 지지동작을 설명하는 도면(2),
도 5는 본 발명에 따른 제2실시예의 마스크 지지장치를 마스크 스테이지의 하부면측에서 본 도면,
도 6은 본 발명에 따른 제2실시예의 마스크 지지장치의 동작을 설명하는 도면,
도 7은 제2실시예에 있어서의 모터축에 대한 마스크 지지용 클로우의 장착을 설명하는 도면,
도 8은 프록시미티/콘택트 노광장치에 있어서의 마스크 장착을 설명하는 도면,
도 9는 대형 마스크를 장착한 경우의 진공 리크를 설명하는 도면.
〈도면의 주요부분에 대한 부호의 설명〉
1 : 지지대 2 : 에어 실린더
2a : 에어 실린더축 3, 3′: 경사대
4 : 연결 플레이트 5, 5′: 마스크 지지용 클로우
5a, 5a′: 슬라이드 바 6 : 슬라이드 블록
7 : 슬라이드 테이블 8 : 스프링이 부착된 이음매
11 : 모터 12 : 조인트

Claims (1)

  1. 포토 마스크를 마스크 스테이지의 하부면에 진공흡착에 의해 지지하고, 마스크 스테이지의 상부면측에서 노광광을 포함한 광을 조사하는 프록시미티 또는 콘택트 노광장치에 있어서의 마스크 지지장치에 있어서,
    스프링재의 마스크 지지용 클로우와, 상기 마스크 지지용 클로우를 포토 마스크면에 평행한 면 위에서 이동시키는 구동수단과, 상기 마스크 지지용 클로우에 배설된 슬라이드 바를 안내하는 경사대를 구비하고,
    상기 구동수단에 의해 마스크 지지용 클로우를 포토 마스크에 접근시키고, 마스크 지지용 클로우가 포토 마스크 하부면 근방에 도달했을 때, 상기 경사대에 의해 슬라이드 바를 안내하여 상기 마스크 지지용 클로우의 선단을 밀어 올리고, 마스크 지지용 클로우에 의해 포토 마스크를 지지하는 것을 특징으로 하는 프록시미티 또는 콘택트 노광장치에 있어서의 마스크 지지장치.
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TWI245170B (en) * 2003-07-22 2005-12-11 Asml Netherlands Bv Lithographic apparatus, device manufacturing method, and device manufactured thereby
JP4529606B2 (ja) * 2004-09-15 2010-08-25 日本精工株式会社 近接露光装置及び近接露光装置の制御方法
US7352438B2 (en) * 2006-02-14 2008-04-01 Asml Netherlands B.V. Lithographic apparatus and device manufacturing method
JP2009003365A (ja) * 2007-06-25 2009-01-08 Nsk Ltd 近接スキャン露光装置及びその制御方法
JP5334675B2 (ja) * 2009-05-13 2013-11-06 株式会社日立ハイテクノロジーズ プロキシミティ露光装置、プロキシミティ露光装置のマスクの位置ずれ防止方法、及び表示用パネル基板の製造方法
JP5190034B2 (ja) * 2009-07-03 2013-04-24 株式会社日立ハイテクノロジーズ 露光装置
JP2012118544A (ja) * 2012-01-11 2012-06-21 Nsk Technology Co Ltd 露光装置及びその制御方法
JP6535211B2 (ja) * 2015-05-15 2019-06-26 株式会社ブイ・テクノロジー 密着露光装置における密着方法
US20210208518A1 (en) * 2016-10-24 2021-07-08 Asml Netherlands B.V. Apparatus to move an object in and/or out of a housing
NL2024436A (en) * 2018-12-21 2020-07-07 Asml Holding Nv Direct drive reticle safety latch

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