JP2001332600A

JP2001332600A - 搬送方法、露光装置

Info

Publication number: JP2001332600A
Application number: JP2000149065A
Authority: JP
Inventors: Takakazu Muto; 貴和武藤
Original assignee: Nikon Corp
Current assignee: Nikon Corp
Priority date: 2000-05-19
Filing date: 2000-05-19
Publication date: 2001-11-30

Abstract

(57)【要約】【課題】トレイによりガラス基板を搬送する際に、基
板に破損が生じた際にも復旧作業を短時間のうちに可能
な効率の良い搬送方法、この基板を露光する露光装置を
提供することを目的とする。【解決手段】露光装置Ｓはガラス基板Ｐを支持可能な
トレイＴを収納するトレイバッファＴＢを備えており、
基板搬送中にガラス基板Ｐの異常が検出された際、トレ
イＴはトレイバッファＴＢに退避されるようになってい
る。したがって、退避後においては清掃等の復旧作業が
効率良く行われる。また、退避させることによって、搬
送経路上に、例えば仮想的なトレイＴやガラス基板Ｐを
設定することができ、通常時の搬送動作を行うことがで
きる。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【発明の属する技術分野】本発明は、基板を支持可能な
基板支持部材により、基板を搬送する搬送方法、及び基
板を露光する露光装置に関するものである。

【０００２】

【従来の技術】近年、パーソナルコンピュータやテレビ
ジョン受像機の表示素子として液晶表示パネルが多用さ
れるようになっている。この液晶表示パネルは、ガラス
基板上に透明薄膜電極をフォトリソグラフィの手法で所
望の形状にパターンニングして製造される。液晶表示パ
ネルを製造する工程においては、マスクに形成された原
画パターンを投影光学系を介してガラス基板上のフォト
レジスト層に露光する投影露光装置や、所望のパターン
が形成されたか否かを検査する検査装置など、各種処理
装置が用いられる。そして、これらの処理装置を用いた
露光工程や検査工程においては、大型基板（ガラス基
板）を処理装置にセットする作業や取り外す作業、ある
いは基板を各種処理装置間で搬送する作業を自動的に行
うための搬送装置（基板搬送システム）が用いられてい
る。

【０００３】図２５には、一例として液晶用露光装置に
採用される基板搬送装置の概略構成図が示されている。
この図に示す基板搬送装置では、ガラス基板（基板）Ｐ
は、次のようにして基板ホルダ１４３に載置される。

【０００４】（１）ガラス基板Ｐをロボットアーム１４
２で下方から保持して基板ホルダ１４３の上方まで搬送
する。

【０００５】（２）この状態で、基板ホルダ１４３に設
けられた基板受け渡しのための複数本の支持棒１４４が
基板ホルダ１４３の上面に設けられた開口を介してホル
ダ上面から突出して上昇し、ガラス基板Ｐを下方から持
ち上げる（あるいはホルダ１４３の上面から突出して停
止している支持棒１４４の上にガラス基板Ｐが載置され
るようにロボットアーム１４２が下降する）。この場
合、支持棒１４４はガラス基板Ｐが大きく撓まないよう
に、ガラス基板Ｐの中央部近辺および周辺部を支持する
ように配置されている。

【０００６】（３）次に、支持棒１４４が所定量上昇
し、ロボットアーム１４２の上面から所定量だけ上方に
ガラス基板Ｐが支持棒１４４によって持ち上げられる
と、ロボットアーム１４２は、ガラス基板Ｐ、支持棒１
４４および基板ホルダ１４３に接触しないようにガラス
基板Ｐの下から退避する。

【０００７】（４）その後、ガラス基板Ｐを下方から支
持した状態で支持棒１４４が下降し、基板ホルダ１４３
の上面より下側に沈み込み、ガラス基板Ｐだけが基板ホ
ルダ１４３の上面に接した状態で載置される。そして、
基板ホルダ１４３上面に設けられた多数の吸気穴（不図
示）を介して基板ホルダ１４３によりガラス基板Ｐが吸
着され固定される。このとき、ガラス基板Ｐの平坦性
（平面度）を向上させるべく、ガラス基板Ｐがバランス
良く基板ホルダ１４３に吸着されるようになっている。
その後、ガラス基板Ｐは基板ホルダ１４３とともに移動
しながら露光装置により露光処理が行われる。なお、ガ
ラス基板Ｐを基板ホルダ１４３から取り外す場合には、
上記（１）〜（４）で説明した手順と逆の手順が行われ
る。

【０００８】ところで、フラットパネルディスプレイ製
造用の基板としては、例えば５００ｍｍ×６００ｍｍで
厚さ０．７ｍｍ程度の薄いガラス基板が用いられること
から、このガラス基板は破損しやすく、大きな撓みが生
じただけでも破損する可能性がある。したがって、上述
した従来の基板搬送装置においては、この薄いガラス基
板を損傷なくロボットアームから基板ホルダに受け渡す
ためには、ガラス基板の中央および周辺部のアームに接
触しない部分に支持棒を複数配置してガラス基板の下面
をバランスよく支持した状態で基板交換を行う必要があ
った。

【０００９】そこで、基板をより安定して支持するため
には、支持棒の数をますます増やさざるを得ないが、支
持棒の数を増やすとそれに応じてこの支持棒の上下動機
構が複雑且つ大型化するとともに、基板ホルダの位置制
御性が悪化してしまうという不都合がある。そのため、
支持棒の数は制限せざるを得ず、その結果、基板にはあ
る程度の撓みが生じているのが現状であるが、この撓み
が原因となって、基板の全体を同時に基板ホルダに当接
させ、または基板ホルダから剥離させることができず、
基板ホルダの上面は部分的に摩耗が進行するという不都
合が生じていた。

【００１０】さらに、上記従来の基板搬送装置にあって
は、ロボットアームは支持棒と干渉しないように移動方
向に櫛の歯状の片持ち梁構造となり、且つ基板を破損さ
せないように支持するために、基板の中央部付近を支持
する必要がある。すなわち、基板と基板ホルダとの間に
ロボットアームが入り込むだけの空間を確保するため
に、支持棒は基板を高く持ち上げる必要があった。しか
しながら、例えば液晶用の露光装置の場合、図２５に示
す投影光学系ＰＬと基板ホルダとの間の空隙（いわゆる
ワーキングディスタンス）が投影光学系の大Ｎ．Ａ．化
に伴い狭くなる傾向にあるため、上記のロボットアーム
が入り込むだけの空間を確保できなくなりつつある。し
たがって、液晶用の露光装置によっては基板ホルダを投
影光学系から離れた所まで移動させてから基板の受け渡
しを行わざるを得ない場合があり、そのため基板ホルダ
の移動ストロークを大きくすることにより、基板の受け
渡し時間が増大するとともにフットプリント（装置の設
置面積）も増大化するという不都合が生じている。

【００１１】そこで、出願人は、上記の不都合を解決す
るための基板支持装置を先に出願した（特願平１０−０
４２８３５号、特願平１１−２１１３９２号）。この基
板支持装置（基板支持部材）は、外周面の内側に一体的
に設けられて基板を支持する支持部を備えたトレイ形状
を成すものであり、この支持部で基板を支持して基板に
撓みが生じることを阻止した状態で、基板支持部材と一
体的に基板の搬送、交換を行うものである。

【００１２】そして、基板支持部材（以下、基板支持部
材を「トレイ」と称する）に支持された基板は、このト
レイとともに所定の処理装置に対して順次搬送され、処
理装置が露光装置である場合には、基板はトレイに支持
された状態のままロボットアームによって投影光学系と
基板ステージとの間の空隙（ワーキングディスタンス）
に挿入され、トレイごと基板ホルダ上に載置され、露光
処理を施される。一方、露光処理を施された基板は、次
の処理装置にトレイごと搬送される。

【００１３】

【発明が解決しようとする課題】ところで、製造工程に
おいて、基板に対してフォトレジストの塗布処理を行う
塗布装置（コータ）や、露光処理後の基板に対して現像
処理を行う現像装置（デベロッパ）などにおいては、ト
レイに基板を支持させた状態のままでは処理が困難であ
るため、基板をトレイから一旦取り外してから所定の処
理を行い、処理終了後に再びトレイに基板を支持させて
から搬送する必要がある。すなわち、露光装置内部にお
いてはトレイを用いた基板搬送を行い、外部装置（コー
タ・デベロッパ）内部においては、あるいは外部装置に
対しては基板をトレイに支持させない状態で搬送する。
このとき、露光装置と外部装置との間において、基板を
トレイから取り外す作業とトレイに基板を支持させる作
業とを効率良く行う必要がある。

【００１４】また、トレイを用いた基板の搬送方法はオ
ペレータにとって負担であった。例えば、製造ラインに
おいて基板に破損などの異常が生じた場合、オペレータ
は基板の破片を回収後、トレイを搬送経路から取り外し
て洗浄を行い、再度そのトレイを取り外した位置に戻す
必要があった。このとき、トレイの回収や設置が困難な
位置で基板が破損した場合、オペレータの作業負担が大
きくなり、製造ラインを復旧させるまでに時間がかかっ
てしまうという問題があった。

【００１５】また、露光装置に対して基板の搬入・搬出
を行う搬送装置が故障など稼働不能になった場合や、メ
ンテナンス時など基板に対して試験的に露光処理を行う
場合、露光装置に対する基板の搬入・搬出はオペレータ
によって直接行われるが、オペレータが露光装置に対し
て基板を搬入・搬出する位置は、通常の稼働時における
搬送装置による搬入・搬出する位置（ポート）と同じで
あった。この場合、ポートは露光装置に１箇所しかな
く、基板の搬入・搬出動作も１枚ずつ行っていたので、
試験的に露光処理を行う場合や装置内の複数の基板を一
斉に回収する作業には、多くの時間を要し、作業性が低
下するといった問題があった。

【００１６】本発明は、このような事情に鑑みてなされ
たもので、基板を支持可能な基板支持部材により基板を
搬送する際に、効率良い基板搬送を行うことができると
ともに、破損など基板に異常が生じた際にも復旧作業を
短時間のうちに可能とする搬送方法、及びこの搬送方法
によって搬送される基板を露光する露光装置を提供する
ことを目的とする。

【００１７】

【課題を解決するための手段】上記の課題を解決するた
め本発明は、実施の形態に示す図１〜図２４に対応付け
した以下の構成を採用している。本発明の搬送方法は、
基板（Ｐ）を支持可能な基板支持部材（Ｔ）により、基
板（Ｐ）を基板処理部（Ｅ、９）へ搬送する搬送方法に
おいて、基板（Ｐ）の異常を検出した際に、基板支持部
材（Ｔ）を退避させることを特徴とする。

【００１８】本発明によれば、基板（Ｐ）の異常を検出
した際に基板支持部材（Ｔ）を退避させることにより、
異常を検出した位置における清掃等の復旧作業を効率良
く行うことができる。また、異常基板（Ｐ）を支持して
いた基板支持部材（Ｔ）を、異常を検出した位置から退
避させることにより、搬送経路上に、例えば仮想的な基
板支持部材及び基板を設定することができる。このと
き、基板支持部材（Ｔ）が搬送経路上から退避されても
通常時の効率良い搬送動作を行うことができる。

【００１９】このとき、基板支持部材（Ｔ）を、基板支
持部材（Ｔ）を収納する支持部材収納部（ＴＢ）に退避
させることにより、支持部材収納部（ＴＢ）から基板支
持部材（Ｔ）を取り出して洗浄など所定の処理を容易に
行うことができるので、作業性を向上することができ
る。また、前述したような仮想的な基板支持部材を設定
して通常時の搬送動作を行うに際し、退避させた基板支
持部材（Ｔ）を支持部材収納部（ＴＢ）から搬送経路に
安定して復旧させることができる。すなわち、退避させ
た基板支持部材（Ｔ）をオペレータによって異常を検出
した位置に戻す作業が不要となるので、復旧作業を効率
良く行うことができる。

【００２０】異常基板（Ｐ）を、基板支持部材（Ｔ）か
ら取り除くことにより、この基板支持部材（Ｔ）を搬送
経路上に復旧させる際の作業効率を向上することができ
る。また、この基板支持部材（Ｔ）を支持部材収納部
（ＴＢ）に安定して収納することができる。

【００２１】基板の異常を表示することにより、搬送経
路上の所定位置における基板の異常は例えばオペレータ
によって確認可能となる。そして、オペレータが異常発
生時の状況や異常基板に関する情報を認識することがで
きるので、復旧作業など所定の処理を迅速に行うことが
できる。したがって作業性は向上する。

【００２２】支持部材収納部（ＴＢ）に退避させた基板
支持部材（Ｔ）を用いて、異常基板（Ｐ）とは異なる基
板（Ｐ）を搬送することにより、退避された基板支持部
材（Ｔ）を通常の搬送動作に安定して復旧することがで
きる。

【００２３】本発明の露光装置は、基板（Ｐ）を支持可
能な基板支持部材（Ｔ）により、基板（Ｐ）を露光する
露光部（Ｅ）へ搬送し、この基板（Ｐ）を露光する露光
装置（Ｓ）において、基板（Ｐ）の異常を検出した際
に、基板支持部材（Ｔ）を退避させる退避手段（Ｈ）を
備えたことを特徴とする。

【００２４】本発明によれば、基板（Ｐ）の異常を検出
した際に基板支持部材（Ｔ）を退避させる退避手段
（Ｈ）を設けることにより、異常を検出した位置から基
板支持部材（Ｔ）を安定して退避させることができ、退
避後においては清掃等の復旧作業が効率良く行われる。
また、異常基板（Ｐ）を支持していた基板支持部材
（Ｔ）を、異常を検出した位置から退避させることによ
って、搬送経路上に、例えば仮想的な基板支持部材及び
基板を設定することができる。このとき、基板支持部材
（Ｔ）が搬送経路上から退避されても通常時の効率良い
搬送動作を行うことができる。

【００２５】このとき、基板支持部材（Ｔ）を収納する
支持部材収納部（ＴＢ）を備え、退避手段（Ｈ）は、支
持部材収納部（ＴＢ）に基板支持部材（Ｔ）を退避する
ので、支持部材収納部（ＴＢ）から基板支持部材（Ｔ）
を取り出して洗浄など所定の処理を容易に行うことがで
きる。また、前述したような仮想的な基板支持部材を設
定して通常時の搬送動作を行うに際し、退避させた基板
支持部材（Ｔ）を支持部材収納部（ＴＢ）から搬送経路
に安定して復旧させることができる。すなわち、退避さ
せた基板支持部材（Ｔ）をオペレータによって異常を検
出した位置に戻す作業が不要となるので、復旧作業を効
率良く行うことができる。

【００２６】また、露光部（Ｅ）に対して基板（Ｐ）を
位置決めするとともに、基板（Ｐ）を収容する基板ステ
ージ部（９）を備えたことにより、露光処理を精度良く
安定して行うことができる。

【００２７】

【発明の実施の形態】以下、本発明の搬送方法、露光装
置を図面を参照しながら説明する。図１は本発明の露光
装置の一実施形態を示す概略平面図である。また、図２
は図１を−Ｙ側から見た概略側面図であり、図３は図１
を＋Ｙ側から見た概略側面図である。ここで、本実施形
態における基板は、液晶ディスプレイパネル製造に用い
られる角型のガラス基板Ｐとする。

【００２８】図１、図２、図３において、露光装置Ｓ
は、マスクＭに形成されたパターンの像をガラス基板Ｐ
上に転写する露光装置本体（露光部）Ｅと、露光装置本
体Ｅに対して基板支持部材（トレイ）Ｔとともにガラス
基板Ｐを搬送する搬送部（搬送ロボット）Ｈと、露光装
置Ｓとこの露光装置Ｓに隣接された外部装置（コータ・
デベロッパ）との間に設けられ、ガラス基板Ｐが受け渡
しされる搬出入ポートＰＯと、ガラス基板Ｐを支持可能
な基板支持部材（トレイ）Ｔを収納する支持部材収納部
（トレイバッファ）ＴＢとを備えている。また、露光装
置本体Ｅ及び搬送部Ｈなど装置全体の動作は制御装置Ｃ
ＯＮＴの指示に基づいて行われる。さらに、露光装置Ｓ
は、搬送状態や装置内に設置されている各種検出部（セ
ンサ）の検出結果を表示するモニタ及びキーボードを備
えた操作表示部ＭＯＮを備えている。露光装置本体Ｅ、
搬送部Ｈ、搬出入ポートＰＯ、トレイバッファＴＢは、
高度に清浄化され、且つ所定温度に調整されたチャンバ
Ｃ内に設けられている。

【００２９】図３に示すように、搬出入ポートＰＯは、
不図示の外部装置（この場合、ガラス基板Ｐにフォトレ
ジストを塗布するコータ）によって所定の処理を施さ
れ、この外部装置から搬入されたガラス基板Ｐを受ける
とともにこのガラス基板Ｐの温度を調整する搬入ポート
１と、露光装置Ｓ内において所定の処理を施され、外部
装置（この場合、露光処理されたガラス基板Ｐを現像す
るデベロッパ）へ搬出されるガラス基板Ｐを受ける搬出
ポート２とから概略構成されている。搬出ポート２は搬
入ポート１の上方に配置されおり、これら搬出入ポート
ＰＯはＺ軸回りに回転可能になっている。つまり、コー
タによって感光剤が塗布されたガラス基板Ｐは搬入ポー
ト１に受けられてから露光装置Ｓ内に搬入され、露光装
置Ｓにおいて露光処理を施されたガラス基板Ｐは搬出ポ
ート２に受けられてからデベロッパに搬出される。ま
た、トレイバッファＴＢ近傍のチャンバＣの一部には、
外部に対してトレイＴの受け取り・渡しが可能な開口部
Ｋ及びこの開口部Ｋを開閉する開閉扉Ｋａが設けられて
おり、この開口部Ｋを介して露光装置外部と内部（トレ
イバッファＴＢ）との間でトレイＴの搬入・搬出が可能
となっている。

【００３０】トレイバッファＴＢは、ガラス基板Ｐを支
持可能なトレイＴを複数収納可能なものであって、図３
に示すように搬出ポート２の上部位置に配置されてい
る。トレイバッファＴＢはトレイＴを個別に収納可能な
棚ＴＢ１〜ＴＢ４を上下方向に複数（４つ）備えてい
る。本実施形態においては、トレイバッファＴＢはトレ
イＴを４つ収納可能に設けられている。

【００３１】図１、図３、図５に示すように、搬送ロボ
ットとしての搬送部Ｈは水平関節型構造を有し、露光装
置本体Ｅ、搬入ポート１、搬出ポート２、トレイバッフ
ァＴＢに対向して配置されており、垂直な関節軸を介し
て連結された複数部分から成るアーム部１０と、このア
ーム部１０の先端に設けられ、２本の爪部１１を有する
搬送アームＨ１（Ｈ２）と、アーム部１０を駆動する駆
動装置１３とを備えている。なお、便宜上図示が簡易化
又は省略されているが、搬送アームＨ１の下方に設けら
れ、この搬送アームＨ１と同様の機構を有し、且つ独立
駆動可能な搬送アームＨ２を備えたダブルアーム構造と
なっている。

【００３２】この搬送部ＨはトレイＴを搬送可能なもの
であって、搬送アームＨ１、Ｈ２は、Ｚ軸まわりに回転
可能に設けられているとともに、Ｘ−Ｙの水平方向に移
動可能に設けられている。さらに、Ｚ方向にも移動可能
に設けられている。したがって、それぞれの搬送アーム
Ｈ１、Ｈ２は、搬入ポート１、搬出ポート２、トレイバ
ッファＴＢの各棚ＴＢ１〜ＴＢ４に対してアクセス可能
となっており、トレイＴ及びトレイＴに支持されたガラ
ス基板ＰをトレイバッファＴＢと露光装置本体Ｅとの間
で搬送可能となっている。

【００３３】図４に示すように、トレイＴは、縦横（及
び一部斜め）に所定間隔で格子状に張り巡らされた複数
本の線状部材１９により全体として略矩形状に形成され
た支持部２０を備えている。また、複数本の線状部材１
９によって構成される各格子の内部には、いずれもがガ
ラス基板Ｐよりも小さい四角形状の開口部２１が複数形
成されている。これらの複数本の線状部材１９は、ここ
では相互に溶接され、あるいは格子状に組み合わされて
いる。

【００３４】そして、つば部１８がこの支持部２０の四
辺それぞれから２つずつ突設されるとともに、支持部２
０の一部を構成している。各つば部１８の下面側には、
円錐状の凹部１８ａ、１８ｂが所定間隔をあけて形成さ
れている。外側に位置する凹部１８ａには、搬送アーム
Ｈ１、Ｈ２の爪部１１に設けられた半球状の突部（不図
示）が嵌合することで、トレイＴが搬送アームＨ１、Ｈ
２に保持されるようになっている。内側に位置する凹部
１８部には、基板ホルダ（基板ステージ部）９、搬入ポ
ート１、搬出ポート２にそれぞれ設けられた半球状の突
部（不図示、なお基板ホルダ９の突部は符号９ｂ；図６
参照）が嵌合することで、トレイＴが保持されるように
なっている。

【００３５】一方、支持部２０の上面側には、この支持
部２０に支持されたガラス基板Ｐの側面を保持して位置
決めする円柱状の複数の位置決め部２２ａ、２２ｂ、２
２ｃが突設されている。位置決め部２２ａは、ガラス基
板Ｐが支持部２０上に縦向き（第１方向）の姿勢ＰＶで
載置されたときに、このガラス基板Ｐの両短辺を側方か
ら保持する位置に配置されている。位置決め部２２ｃ
は、ガラス基板Ｐが支持部２０上に、姿勢ＰＶと互いに
ほぼ直交する横向き（第２方向）の姿勢ＰＨで載置され
たときに、このガラス基板Ｐの両短辺を側方から保持す
る位置に配置されている。また、位置決め部２２ｂは、
ガラス基板Ｐが縦向きの姿勢ＰＶ、または横向きの姿勢
ＰＨで載置されたときに、いずれの向きでもガラス基板
Ｐの長辺を両側方から保持する位置に配置されている。
このように、トレイＴは、ガラス基板Ｐを姿勢ＰＶ、姿
勢ＰＨのいずれかで支持可能に設けられている。なお、
支持部２０上の線状部材１９が交わる箇所にデルリンな
どのプラスチックから成る部材を接着（もしくはネジ止
め）して、この複数のデルリンにより複数の点でガラス
基板Ｐを支持してもよい。この場合、デルリンの高さを
位置決め部２２ａ、２２ｂ、２２ｃの高さよりも低くし
ておけばよい。

【００３６】なお、図５では、ガラス基板Ｐを支持する
トレイＴの四辺にそれぞれ突出された各２つ、合計８つ
のつば部１８のうち、対向する辺のつば部１８が、搬送
ロボットＨの爪部１１によって下方から保持され、搬送
アームＨ１によってトレイＴが保持された状態が示され
ている。

【００３７】そして、図５に示すように、露光装置本体
Ｅの基板ホルダ９の上面には、線状部材１９の配置に対
応して、上記支持部２０が嵌合する溝部９ａが形成され
ている。図６（ａ）、（ｂ）に示すように、溝部９ａの
深さは、支持部２０が嵌合して沈み込んだときに、位置
決め部２２ａ〜２２ｃが基板ホルダの上面から突出し、
且つ支持部２０上に載置されたガラス基板Ｐの上面から
若干突出する寸法に設定されている。これは、基板ホル
ダ９でガラス基板Ｐの吸着をやめた際や、基板ホルダ９
の上面でガラス基板Ｐをエアーフローで浮かせた際に、
トレイＴから外れないようにするためである。したがっ
て、ガラス基板Ｐを浮かせた際に外れなければ、位置決
め部２２ａ〜２２ｃがガラス基板Ｐの上面から突出させ
なくてもよい。また、この基板ホルダ９の上面には、ガ
ラス基板Ｐの撓みを除去するように平面度よく仕上げら
れている。さらに、基板ホルダ９の上面には、ガラス基
板Ｐをこの面に倣わせて密着させるための吸気孔（不図
示）が複数の開口部２１に対応して設けられている。各
吸気孔は不図示の真空ポンプに接続されている。

【００３８】また、露光装置Ｓには、ガラス基板Ｐをト
レイＴの支持部２０に載置する際に、位置決め部２２ａ
〜２２ｃに対してガラス基板Ｐを予め位置合わせするプ
リアライメント装置が設けられている。図７（ａ）に示
すように、プリアライメント装置（位置合わせ装置）２
３は、不図示の駆動部に接続されてトレイＴに対して離
間・接近自在に水平移動する基部２３ａと、この基部２
３ａの下方から突出して、トレイＴに側方から押し当て
られる押し当て部２３ｂと、基部２３ａの先端の上方に
設けられ、ガラス基板Ｐの側面に当接する当接部２３ｃ
とから構成され、支持部２０の四辺の各辺毎に配設され
ている。

【００３９】当接部２３ｃは、ガラス基板Ｐを損傷させ
ないように、ゴム等の軟弾性材で形成されており、ま
た、押し当て部２３ｂがトレイＴの側面に押し当てられ
たときに、図７（ｂ）に示すように、ガラス基板Ｐが位
置決め部２２ａ〜２２ｃに対して位置合わせされる大き
さ、位置に所定の精度で設定されている。また、トレイ
Ｔにおいても、側面と位置決め部２２ａ〜２２ｃとの位
置関係が所定の精度に設定されている。また、図７
（ｃ）に示すように、当接部２３ｃは、位置決め部２２
ａ〜２２ｃよりも上方でガラス基板Ｐに当接する高さに
設定されている。

【００４０】なお、図８には、この搬送アームＨ１の基
板ホルダ９からの退避が完了した直後の状態が示されて
いる。また、図８は、基板ホルダ９上からガラス基板Ｐ
の搬出が開始される直前の状態を示す図でもある。

【００４１】図９、図１０には、搬入ポート１及びこの
搬入ポート１に対してガラス基板Ｐを搬送する第２搬送
部（第２搬送ロボット）１００が示されている。第２搬
送部１００は搬入ポート１に対向して配置されており、
垂直な関節軸を介して連結された複数部分から成るアー
ム部１０１と、このアーム部１０１の先端に設けられ、
櫛状に形成された搬送アーム１０２と、アーム部１０１
を駆動する駆動装置１０３とを備えており、ガラス基板
Ｐを直接支持することが可能となっている。搬入ポート
１は、搬入ポート１の上面に設けられた開口を介して搬
入ポート１正面から突出可能な複数の支持棒３０を備え
ている。搬入ポート１はこの支持棒３０によってガラス
基板Ｐを直接支持可能となている。このとき、支持棒３
０は上下方向に駆動されるようになっている。搬入ポー
ト１が外部装置（コータ）からガラス基板Ｐを受け取る
場合には、支持棒３０を突出させた状態で、トレイＴの
開口部２１が支持棒３０を通るように搬送部Ｈによって
トレイＴを搬入ポート１に載置し、第２搬送部１００に
よって支持棒３０にガラス基板Ｐを支持させる。そし
て、第２搬送部１００の搬送アーム１０２を支持棒３０
から引き抜くとともにガラス基板Ｐを支持した状態で支
持棒３０を下降させることにより、ガラス基板Ｐはトレ
イＴ上に載置される（図１０参照）。そして、このトレ
イＴに支持させたガラス基板Ｐは搬送部Ｈにより搬送可
能となる。また、この搬入ポート１において、ガラス基
板Ｐの温度調節が行われる。

【００４２】一方、搬出ポート２も搬入ポート１と同様
の構成を有しており、搬出ポート２の上面にはガラス基
板Ｐを支持可能な複数の支持棒３０が突出して設けられ
ている。搬出ポート２が露光装置本体Ｅから露光処理済
みのガラス基板Ｐを受け取る場合には、支持棒３０を突
出させた状態で、ガラス基板Ｐを支持した状態のトレイ
Ｔの開口部２１が支持棒３０を通るように搬送部Ｈによ
ってトレイＴを搬出ポート２に載置する。すると、ガラ
ス基板Ｐは支持棒３０に支持され、トレイＴは搬出ポー
ト２の上面に載置されることにより、ガラス基板Ｐとト
レイＴとは分離する。そして、ガラス基板Ｐを支持して
いる支持棒３０の間に、櫛状に形成された搬送アーム１
０２を挿入し上昇させることにより、第２搬送部１００
はガラス基板Ｐを搬送可能となる。搬出ポート２上面に
あるトレイＴのつば部１８を搬送部Ｈの爪部１１によっ
て支持することにより、搬送部ＨはトレイＴを搬送可能
となる。

【００４３】図２、図５に示すように、露光装置本体Ｅ
は、光源５０からの光束をマスクステージＭＳに保持さ
れるマスクＭに照明する照明光学系５２と、この照明光
学系５２内に配され露光用照明光（露光光）ＥＬを通過
させる開口面積を調整してこの露光光ＥＬによるマスク
Ｍの照明範囲を規定する照明範囲調整装置（ブラインド
部）５３と、露光光ＥＬで照明されたマスクＭのパター
ンの像をガラス基板Ｐ上に投影する投影光学系ＰＬと、
ガラス基板ＰとともにトレイＴを保持する基板ホルダ９
とを備えている。

【００４４】照明光学系５２は、例えば水銀ランプ等の
光源５０と、この光源５０から射出された露光光ＥＬを
集光する楕円鏡５１とを備えており、さらに、光源５０
からのから多数の二次元光源を形成して光束の照度ムラ
を除去するフライアイレンズ（不図示）や、各種コンデ
ンサレンズ系を備えている。ブラインド部５３は、例え
ば、平面Ｌ字状に屈曲し露光光ＥＬの光軸と直交する面
内で組み合わせられることによって矩形状の開口を形成
する一対のブレードを備え、ブレードを変位させること
によって開口の大きさを調整し、マスクＭに照明される
露光光ＥＬの照明範囲を調整する。マスクステージＭＳ
は露光時に使用されるマスクＭを搭載するためのもので
あって、マスクＭを真空吸着することによって保持す
る。

【００４５】投影光学系ＰＬは、照明光学系５２によっ
て照明されたマスクＭのパターンの像をガラス基板Ｐに
結像させ、基板Ｐの特定領域（ショット領域）にパター
ンの像を露光するものである。この投影光学系ＰＬに
は、等倍の正立正像を投影する光学系が用いられてい
る。

【００４６】基板ホルダ（基板ステージ部）９は、前述
したようにガラス基板ＰをトレイＴとともに支持するも
のであって、ベース８の上面に沿ってＸ−Ｙ面内で自在
に駆動されるようになっている。なお、基板ホルダ９の
ＸＹ方向の位置は、Ｘ移動鏡及びＸ軸レーザー干渉計、
Ｙ移動鏡及びＹ軸レーザー干渉計を備えたレーザー干渉
システムによって調整される。すなわち、Ｘ移動鏡とＸ
軸レーザー干渉計とによりガラス基板ＰのＸ位置が、同
様に、Ｙ移動鏡とＹ軸レーザー干渉計とによりガラス基
板ＰのＹ位置がそれぞれ検出される。一方、ガラス基板
ＰのＺ方向の位置は斜入射方式の焦点検出系の１つであ
る多点フォーカス位置検出系（図示せず）によって検出
される。

【００４７】そして、露光装置本体Ｅにおいては、基板
ホルダ９上に長方形のガラス基板Ｐが載置された状態
で、ステップ・アンド・スキャン方式の露光処理が行わ
れ、マスクＭに形成されたパターンの像が、ガラス基板
Ｐ上の複数、例えば４つの露光領域（パターン領域）に
順次転写されるようになっている。すなわち、露光装置
本体Ｅでは、照明光学系５２からの露光光ＥＬにより、
マスクＭのパターンの照明領域が照明された状態で、制
御装置ＣＯＮＴにより不図示の駆動装置を介して、マス
クＭを保持するマスクステージＭＳとガラス基板Ｐを保
持する基板ホルダ９とを同期して所定の走査方向（ここ
ではＹ方向とする）に同一速度で同一方向に移動させる
ことにより、ガラス基板Ｐ上の１つの露光領域にマスク
Ｍのパターンの像が逐次転写される、すなわち走査露光
が行われる。このとき、制御装置ＣＯＮＴは、レーザー
干渉システム及び多点フォーカス位置検出系により得ら
れたガラス基板ＰのＸＹ方向及びＺ方向の位置情報に基
づいて、マスクＭのパターン面とガラス基板Ｐ表面とが
投影光学系ＰＬに関して共役となるように、且つ投影光
学系ＰＬの結像面とガラス基板Ｐとが一致するように、
基板ＰのＸＹ方向、Ｚ方向及び傾斜方向の位置決め動作
を行う。

【００４８】この１つの露光領域の走査露光の終了後
に、制御装置ＣＯＮＴにより基板ホルダ９を次の露光領
域の走査開始位置まで所定量Ｘ方向に移動するステッピ
ング動作が行われる。そして、露光装置本体Ｅでは、こ
のような走査露光とステッピング動作とを繰り返し行う
ことにより、順次４つの露光領域にマスクＭのパターン
の像が転写される。

【００４９】また、露光装置Ｓ内のトレイＴ（ガラス基
板Ｐ）搬送経路の所定位置にはガラス基板Ｐ及びトレイ
Ｔの有無を検出するための不図示の有無センサ（ガラス
基板用有無センサ、トレイ用有無センサ）が設けられて
いる。この有無センサは光学式センサであり、搬送経路
においてガラス基板Ｐ（トレイＴ）に検出光を照射し反
射（又は透過）した光を検出することによりガラス基板
Ｐ（トレイＴ）の有無を検出する。ガラス基板用有無セ
ンサ及びトレイ用有無センサは各所定位置においてそれ
ぞれ２つ以上設置されており、ガラス基板Ｐ及びトレイ
Ｔのそれぞれの傾きを検出可能となっている。なお、ト
レイ用有無センサとして、例えば溝部９ａ内に設けて溝
部９ａ内に線状部材が配置されたことを検出する構成と
するようにしてもよい。

【００５０】露光装置Ｓの外部にはキーボードとモニタ
とを備えた操作表示部ＭＯＮが設けられており、この操
作表示部ＭＯＮによって制御装置ＣＯＮＴの操作、及び
所望のガラス基板ＰやトレイＴの選択・登録が可能とな
っている。また、上記有無センサの検出結果、すなわ
ち、露光装置Ｓ内でのトレイＴの位置に関する情報やト
レイＴ上のガラス基板Ｐの有無情報が操作表示部ＭＯＮ
のモニタに常に表示されるようになっており、オペレー
タは基板Ｐ及びトレイＴの搬送状態を常に確認できる構
成となっている。

【００５１】以上説明したような構成を備える露光装置
Ｓによって、ガラス基板Ｐを支持可能なトレイＴによ
り、この基板Ｐを露光装置本体Ｅに対して搬送し、所定
の処理を行う方法について説明する。

【００５２】《ガラス基板Ｐの搬入工程》まず、ガラス
基板Ｐを外部装置（この場合、コータ）から露光装置Ｓ
に搬入する手順について説明する。本発明の搬送方法の
うち、外部装置から露光装置Ｓにガラス基板Ｐを搬入す
る方法は、トレイバッファＴＢから搬送部Ｈによって所
定のトレイＴを取り出し、搬入ポート１に設置する工程
（工程１）と、搬入ポート１にトレイＴが設置されたこ
とを外部装置（コータ）に通知する工程（工程２）と、
コータから第２搬送部１００によってフォトレジストが
塗布されたガラス基板Ｐを搬入ポート１に設置する工程
（工程３）と、搬入ポート１においてトレイＴにガラス
基板Ｐを支持させる工程（工程４）と、ガラス基板Ｐが
トレイＴに支持されたことを確認後、搬送部Ｈによって
ガラス基板Ｐを支持したトレイＴを露光装置本体Ｅまで
搬送する工程（工程５）と、ガラス基板ＰをトレイＴに
載せたまま露光装置本体Ｅの基板ホルダ（基板ステージ
部）９にロードし、露光処理を行う工程（工程６）とを
備えている。

【００５３】（工程１）ガラス基板Ｐをコータから露光
装置Ｓに搬入するのに際し、まず、搬送部Ｈのうち、搬
送アームＨ１（あるいは搬送アームＨ２）をトレイバッ
ファＴＢに接近させ、予め指定されたトレイＴをトレイ
バッファＴＢから取り出す。トレイＴの対向する辺のつ
ば部１８が、搬送ロボットＨの爪部１１によって下方か
ら保持される。搬送部ＨはＺ方向の移動及びＺ軸まわり
の回転が可能となっているので、２つの搬送アームＨ
１、Ｈ２のうち、どちらのアームによっても搬入ポート
１、搬出ポート２、トレイバッファＴＢの各棚、基板ホ
ルダ９に対するトレイＴ及びガラス基板Ｐのロード・ア
ンロードが可能となっている。そして、トレイバッファ
ＴＢから搬送部Ｈによって取り出されたトレイＴは、そ
の開口部２１が搬入ポート１の支持棒３０に通されるよ
うに搬入ポート１に設置される。

【００５４】（工程２）搬入ポート１には有無センサ
（不図示）が設けられており、搬入ポート１にトレイＴ
が設置されたことを検出した有無センサは、この検出結
果を制御装置ＣＯＮＴに出力する。制御装置ＣＯＮＴは
有無センサの検出結果に基づいて搬入ポート１にトレイ
Ｔが設置されたと判断し、外部装置（コータ）に対して
ガラス基板Ｐの搬入許可を通知する。搬入許可を受けた
コータからは、フォトレジストが塗布されたガラス基板
Ｐが第２搬送部１００により搬入ポート１に搬送され
る。

【００５５】（工程３）フォトレジストが塗布されたガ
ラス基板Ｐがコータから搬入ポート１に搬送されると、
搬入ポート１が回転して搬入ポート１上のトレイＴを縦
向きの姿勢ＰＶに対応するように位置させる。なお、ガ
ラス基板Ｐを横向きの姿勢ＰＨで載置するときには、搬
出入ポートＰＯの回転角を９０°ずらせばよい。

【００５６】（工程４）トレイＴの位置が決まると、搬
入ポート１の支持棒３０がトレイＴの開口部２１を通っ
て上昇し、トレイＴの上方でガラス基板Ｐを下方から吸
着支持する。次に、ガラス基板Ｐの高さが図７（ｃ）に
示すように、位置決め部２２ａ〜２２ｃよりも高く、且
つプリアライメント装置２３の当接部２３ｃと同じ高さ
になるまで支持棒３０が下降すると、ガラス基板Ｐに対
する吸着を解除する。

【００５７】そして、駆動部の作動により基部２３ａが
トレイＴに接近移動して、押し当て部２３ｂがトレイＴ
の側面に押し当てられるとともに、当接部２３ｃがガラ
ス基板Ｐの側面に当接して、このガラス基板Ｐを所定位
置に移動させる。このとき、当接部２３ｃは、ガラス基
板Ｐの四辺を同時に位置合わせするため、ガラス基板Ｐ
はトレイＴの上方で正確に位置合わせされる。この後、
支持棒３０がガラス基板Ｐを吸着しながら下降すること
で、ガラス基板Ｐは位置決め部２２ａ、２２ｂに位置決
めされた状態で支持部２０上に支持される。ここで、ガ
ラス基板Ｐは、露光処理が実施される温度に調整され
る。

【００５８】（工程５）搬入ポート１においてガラス基
板ＰがトレイＴに支持されたら、搬送部Ｈは、このガラ
ス基板ＰをトレイＴごと露光装置本体Ｅの基板ホルダ９
に搬送する。すなわち、搬送部Ｈにおいて、駆動装置１
３によりアーム部１０を介して搬送アームＨ１が駆動さ
れ、トレイＴと一体的に温調済みのガラス基板Ｐが保持
される。次に、搬送アームＨ１は、ガラス基板Ｐが露光
装置本体Ｅの基板ホルダ９に対向するように向きを変
え、トレイＴを基板ホルダ９の上方まで搬送する。この
とき、駆動装置１３では、支持部２０の格子を構成する
各線状部材１９が基板ホルダ９の溝部９ａと対向するよ
うに搬送アームＨ１の位置を調整している。

【００５９】（工程６）次に、駆動装置１３によって搬
送アームＨ１が所定量下降駆動され、その結果、支持部
２０の格子を構成する各線状部材１９が基板ホルダ９の
溝部９ａに嵌まり、支持部２０が基板ホルダ９の上面よ
り下がり、ガラス基板Ｐが基板ホルダ９の上面に設置さ
れる。このとき、図６（ａ）、（ｂ）に示すように、支
持部２０は溝部９ａに沈み込むが、位置決め部２２ａ、
２２ｂは基板ホルダ９の上面から突出するので、ガラス
基板Ｐに対する位置決めは維持される。そして、制御装
置ＣＯＮＴにより真空ポンプの吸引が開始され、基板ホ
ルダ９に複数の開口部２１に対応して形成された各吸気
孔を介してガラス基板Ｐの下面が基板ホルダ９に吸着さ
れ固定される。

【００６０】基板ホルダ９へのガラス基板Ｐの受け渡し
が完了すると、駆動装置１３により搬送アームＨ１が駆
動され、図８に示すように基板ホルダ９上から退避す
る。搬送アームＨ１の退避が終了したら、ガラス基板Ｐ
に対する露光処理が開始され、マスクＭに形成されたパ
ターンの像がガラス基板Ｐ上に転写される。

【００６１】《ガラス基板Ｐの搬出工程》一方、露光処
理を施されたガラス基板Ｐを外部装置（この場合、デベ
ロッパ）に搬出する方法は、基板ホルダ９からガラス基
板ＰをトレイＴごとアンロードする工程（工程７）と、
アンロードされたガラス基板ＰをトレイＴごと搬出ポー
ト２まで搬送する工程（工程８）と、搬出ポート２にお
いて、ガラス基板ＰとトレイＴとを分離する工程（工程
９）と、トレイＴから分離されたガラス基板Ｐを第２搬
送部１００によって外部装置に搬出する工程（工程１
０）とを備えている。

【００６２】（工程７）露光処理が終了すると、駆動装
置１３により搬送アームＨ２が駆動され、基板ホルダ９
上に載置されたトレイＴの下方で基板ホルダ９の両側に
搬送アームＨ２の爪部１１によってトレイＴのつば部１
８の下面に当接し、さらに上方に搬送アームＨ２が駆動
されると、つば部１８を介してガラス基板Ｐを支持する
トレイＴが基板ホルダ９の上方に持ち上げられ、支持部
２０と溝部９ａとの嵌合が解除される。ここで、位置決
め部２２ａ、２２ｂがガラス基板Ｐに対する位置決め状
態を維持しているので、トレイＴを上方へ移動したとき
にガラス基板Ｐを支持部２０上に円滑に載置することが
できる。

【００６３】（工程８）この支持部２０と溝部９ａとの
嵌合解除が完了する位置までトレイＴが持ち上げられた
時点で駆動装置１３により搬送アームＨ２が駆動され、
ガラス基板Ｐを保持したトレイＴが基板ホルダ９上から
退避される。搬送部Ｈは、基板ホルダ９からアンロード
されたトレイＴ及びガラス基板Ｐを搬出ポート２に搬送
する。搬出ポート２の上方までトレイＴ及びガラス基板
Ｐを搬送した搬送部Ｈは、このトレイＴ及びガラス基板
Ｐを支持している搬送アームＨ２を下降させる。

【００６４】（工程９）このとき、搬送アームＨ２は、
トレイＴの開口部２１を搬出ポート２の支持棒３０に通
すようにトレイＴを下降させる。開口部２１を通過した
支持棒３０は複数の位置でガラス基板Ｐを支持する。こ
のとき、トレイＴは開口部２１を支持棒３０に通すの
で、搬出ポート２の上面に載置される。こうして、搬出
ポート２においてガラス基板ＰとトレイＴとが分離され
る。なお、工程３にて搬入ポート１の回転角を９０°ず
らしてガラス基板Ｐを搬入した場合には、搬出時には、
搬出ポート２で元に戻して待機するようにすればよい。

【００６５】（工程１０）トレイＴから分離されたガラ
ス基板Ｐを支持している搬出ポート２の支持棒３０に、
第２搬送部１００がアクセスする。そして、櫛状に形成
された第２搬送部１００の搬送アーム１０２を複数の支
持棒３０の間に挿入させ、駆動装置１０３によって上昇
させることにより、搬送アーム１０２でガラス基板Ｐが
支持される。ガラス基板Ｐを支持した第２搬送部１００
はこのガラス基板Ｐを外部装置（デベロッパ）に搬送す
る。一方、搬出ポート２上面に載置されているトレイＴ
には搬送部Ｈの搬送アームＨ１がアクセスし、このトレ
イＴを搬入ポート１に搬送して、次に露光処理されるべ
きガラス基板Ｐの搬入に備える。なお、ガラス基板Ｐが
取り除かれたトレイＴは、搬送部Ｈの搬送アームによっ
てトレイバッファＴＢなど所定の位置に搬送されてもよ
い。

【００６６】以上説明した工程１〜工程１０は、制御装
置ＣＯＮＴの指示に基づいて行われる。また、搬送され
るトレイＴの位置及びトレイＴ上のガラス基板Ｐの有無
は搬送経路に設けられた有無センサによって検出される
ようになっており、このトレイＴの位置に関する情報及
びトレイＴ上のガラス基板Ｐの有無に関する情報は、操
作表示部ＭＯＮのモニタに常に出力されるようになって
おり、オペレータによって常時確認可能となっている。

【００６７】《複数のガラス基板Ｐの搬送方法》次に、
複数のガラス基板Ｐを順次搬送する方法について、図１
１〜図１６を用いて説明する。ここで、図１１に示され
ている「搬入ポート交換」とは、搬入ポート１に設置さ
れたガラス基板ＰをトレイＴとともに一方の搬送アーム
Ｈ１で取り出し、他方の搬送アームＨ２によって空のト
レイ（ガラス基板Ｐを支持していないトレイ）Ｔを搬入
ポート１に設置する動作、またはそのいずれか一方の動
作である。「基板ステージ交換」とは、トレイＴに支持
されたガラス基板Ｐを露光装置本体Ｅの基板ホルダ（基
板ステージ部）９に対してロード・アンロードする動作
である。「搬出ポート交換」とは、搬出ポート２に供給
され、ガラス基板Ｐを支持しているトレイＴから外部装
置にガラス基板Ｐのみを搬出し、搬出ポート２上に残っ
た空のトレイＴを一方の搬送アームＨ１でトレイバッフ
ァＴＢに収納し、他方の搬送アームＨ２で露光装置本体
Ｅの基板ホルダ９からガラス基板Ｐを支持したトレイＴ
を搬出ポート２に設置する動作である。以上、３つの動
作を基本動作として複数のガラス基板ＰをトレイＴに支
持させて順次搬送する。

【００６８】また、図１２はガラス基板Ｐの搬送方法を
説明するための露光装置Ｓの概略図であって、以下の説
明はこの図１２の表示例に基づいて行う。図１２には、
搬入ポート１及び搬出ポート２と、トレイＴを個別に収
納可能な４つの棚ＴＢ１〜ＴＢ４を備えたトレイバッフ
ァＴＢと、搬送部Ｈに設けられた２本の搬送アームのう
ち上アームＨ１及び下アームＨ２と、露光装置本体Ｅに
設けられた基板ホルダ９とが示されている。また、
「○」はトレイＴを表しており、この「○」に書かれた
数字はガラス基板Ｐを表している（すなわち、「○」に
数字が書かれたものは、トレイＴにガラス基板Ｐが支持
されている状態を示している）。また、この「○」に書
かれた数字自体は、露光装置Ｓに搬入されるガラス基板
Ｐの搬入順序を示している。したがって、図１２では、
搬出ポート２にはトレイＴに支持された１番目のガラス
基板Ｐが設置されており、搬入ポート１には空のトレイ
Ｔが設置されており、基板ホルダ９上にはトレイＴに支
持された２番目のガラス基板Ｐが設置されており、トレ
イバッファＴＢ１及びＴＢ２には空のトレイＴがそれぞ
れ収納されている状態が示されている。また、矢印ｙ１
は外部装置に対するガラス基板Ｐの搬入許可通知の信号
を示すものであり、一方、矢印ｙ２は露光装置Ｓから外
部装置へのガラス基板Ｐの搬出許可通知の信号を示すも
のである。

【００６９】以下、図１３〜図１６を用いて複数のガラ
ス基板Ｐを順次搬送する搬送方法について説明する。露
光装置Ｓ内にはガラス基板Ｐが一枚もなく、４つの空の
トレイＴは全てトレイバッファＴＢに収納されている状
態を初期状態とする（図１３：ステップＳＡ１）。

【００７０】操作表示部ＭＯＮから制御装置ＣＯＮＴを
操作し、露光装置Ｓに処理の開始を指示すると、搬送部
Ｈの上アームＨ１がトレイバッファＴＢの棚ＴＢ４から
空のトレイＴを１つ取り出し、搬入ポート１に搬送す
る。これと同時に、制御装置ＣＯＮＴは外部装置（コー
タ）に対してガラス基板Ｐの搬入許可を通知する（ステ
ップＳＡ２）。

【００７１】ガラス基板Ｐは第２搬送部によって外部装
置から搬入ポート１に搬送される。ガラス基板Ｐの搬入
を待っている間、搬送部Ｈの下アームＨ２がトレイバッ
ファＴＢの棚ＴＢ３から空のトレイＴを１つ取り出す
（ステップＳＡ３）。

【００７２】ガラス基板Ｐが搬入ポート１のトレイＴ上
に載置され、搬入ポート１の支持棒が沈み込むことによ
って１番目のガラス基板ＰがトレイＴに支持されたこと
が有無センサによって検出されたら、搬送部Ｈの上アー
ムＨ１がこのガラス基板Ｐを支持したトレイＴを搬入ポ
ート１から取り出す。これと同時に、ステップＳＡ３に
おいて下アームＨ２によって取り出された空のトレイＴ
が下アームＨ２によって搬入ポート１に搬送される（図
１４：ステップＳＡ４）。

【００７３】下アームＨ２がトレイＴを搬入ポート１に
搬送したら、制御装置ＣＯＮＴは外部装置に対して２番
目のガラス基板Ｐの搬入許可を通知する。これと同時
に、１番目のガラス基板Ｐを支持したトレイＴが上アー
ムＨ１によって露光装置本体Ｅに搬送され、基板ホルダ
９にロードされる（ステップＳＡ５）。

【００７４】基板ホルダ９に１番目のガラス基板Ｐを支
持したトレイＴをロードした上アームＨ１は基板ホルダ
９から退避され、基板ホルダ９にロードされたガラス基
板Ｐに対して露光処理が行われる。１番目のガラス基板
Ｐに対する露光処理を行っている間、基板ホルダ９から
退避した上アームＨ１はトレイバッファＴＢの棚ＴＢ２
から空のトレイＴを取り出す。このとき、搬入ポート１
に設置されているトレイＴには、外部装置より２番目の
ガラス基板Ｐが第２搬送部によって設置されている（ス
テップＳＡ６）。

【００７５】２番目のガラス基板Ｐを支持しているトレ
イＴは下アームＨ２によって搬入ポート１から取り出さ
れる。これと同時に、空のトレイＴを支持している上ア
ームＨ１はこのトレイＴを搬入ポート１に設置する（図
１５：ステップＳＡ７）。

【００７６】上アームＨ１によって空のトレイＴが搬入
ポート１に設置されたら、制御装置ＣＯＮＴは３番目の
ガラス基板Ｐを露光装置Ｓに搬入するよう外部装置に搬
入許可を通知する。このとき、１番目のガラス基板Ｐに
対する露光処理は終了しており、上アームＨ１は露光処
理を施された１番目のガラス基板ＰをトレイＴごと基板
ホルダ９からアンロードする。そして、下アームＨ２は
１番目のガラス基板Ｐがアンロードされた基板ホルダ９
に対して２番目のガラス基板Ｐを支持しているトレイＴ
を基板ホルダ９にロードする（ステップＳＡ８）。

【００７７】基板ホルダ９に２番目のガラス基板Ｐをロ
ードした下アームＨ２は基板ホルダ９から退避する。そ
して、基板ホルダ９にロードされた２番目のガラス基板
Ｐに対して露光処理が施される。また、外部装置からは
第２搬送部によって３番目のガラス基板Ｐが搬入ポート
１に設置されている空のトレイＴ上に搬送される。これ
と同時に、下アームＨ２がトレイバッファＴＢの棚ＴＢ
１から空のトレイＴを取り出す。また、露光処理を施さ
れ、上アームＨ１によってアンロードされた１番目のガ
ラス基板ＰはトレイＴごと搬出ポート２に搬送される
（ステップＳＡ９）。

【００７８】制御装置ＣＯＮＴは、搬出ポート２上にあ
るトレイＴに支持された１番目のガラス基板Ｐを搬出す
るために外部装置に対して搬出許可の通知を行う。上ア
ーム１は搬入ポート１のトレイＴに支持された３番目の
ガラス基板ＰをトレイＴごと取り出す。一方、空のトレ
イＴを支持している下アームＨ２はこの空のトレイＴを
搬入ポート１に設置する（図１６：ステップＳＡ１
０）。

【００７９】露光装置本体Ｅにおいて露光処理を施され
た２番目のガラス基板Ｐが下アームＨ２によってトレイ
Ｔごと基板ホルダ９からアンロードされる。次いで、上
アームＨ１によって３番目のガラス基板ＰがトレイＴご
と基板ホルダ９にロードされる。一方、搬入ポート１に
おいては外部装置に対してガラス基板Ｐの搬入許可が通
知される。搬出ポート２においては１番目のガラス基板
ＰとトレイＴとが分離され、第２搬送部によって露光処
理を施された１番目のガラス基板Ｐのみが外部装置に搬
出される（ステップＳＡ１１）。

【００８０】３番目のガラス基板Ｐに対する露光処理が
施されている間、ステップＳＡ１１において１番目のガ
ラス基板Ｐと分離され搬出ポート２に残っている空のト
レイＴが上アームＨ１によって保持される。次いで、下
アームＨ２によりアンロードされた２番目のガラス基板
ＰがトレイＴごと搬出ポート２に搬送される。また、搬
入ポート１に設置されている空のトレイＴには、外部装
置から第２搬送部によって４番目のガラス基板Ｐが設置
される（ステップＳＡ１２）。

【００８１】以上、ステップＳＡ１〜ＳＡ１２に示した
手順は、図１１のフローチャート図で示したように、搬
入ポート交換（ステップＳＡ４、ＳＡ７、ＳＡ１０）
と、基板ステージ交換（ステップＳＡ５、ＳＡ８、ＳＡ
１１）と、搬出ポート交換（ステップＳＡ６、ＳＡ９、
ＳＡ１２）とを繰り返すことによって、複数のガラス基
板ＰをトレイＴを用いて順次搬送する構成である。この
とき、例えば基板ステージ交換においては、ステップＳ
Ａ５では上アームＨ１によってトレイＴに支持されたガ
ラス基板Ｐのロードが行われ、ステップＳＡ８では下ア
ームＨ２によってロードが行われ、ステップＳＡ１１に
おいては再び上アームＨ１によってロードが行われる。
すなわち、基板ステージ交換においては、上下のアーム
Ｈ１、Ｈ２が交互にロードを行うという規則性がある。
搬入ポート交換、搬出ポート交換においても同様の規則
性がある。

【００８２】以上説明したように、ガラス基板Ｐを支持
するためのトレイＴを搬入ポート１に搬送し、この搬入
ポート１においてトレイＴにガラス基板Ｐを支持させ、
トレイＴとともにガラス基板Ｐを搬送することにより、
大型且つ薄型のガラス基板Ｐを安定且つ迅速に搬送する
ことができる。一方、露光装置本体Ｅにおいて露光処理
を施されたガラス基板ＰをトレイＴとともに搬出ポート
２まで搬送し、この搬出ポート２においてガラス基板Ｐ
とトレイＴとを分離することにより、コータ・デベロッ
パなどトレイＴを用いた搬送が好ましくない処理装置に
対してガラス基板Ｐのみの搬送を行うことができる。こ
のように、処理装置に応じて、トレイＴを用いた基板搬
送とトレイＴを用いない基板搬送とを使い分けることに
より、効率良く安定した搬送動作を実現することができ
る。また、トレイＴを複数収納可能なトレイバッファＴ
Ｂを設置したことにより、複数のガラス基板Ｐを順次ト
レイＴに支持させて搬送することができる。

【００８３】《露光装置Ｓ内のガラス基板Ｐの回収処
理》次に、露光装置Ｓ内に存在するガラス基板Ｐを回収
する方法について、図１７〜図２０を用いて説明する。
なお、以下においても図１２の表示例に基づいて説明を
行う。

【００８４】例えば、トレイＴの洗浄作業を行いたいと
きなどトレイＴを全て装置外に持ち出したい場合には、
露光装置Ｓ内の全てのガラス基板Ｐの回収を行えば作業
を容易に行うことができる。このとき、以下に説明する
手順によって露光装置Ｓ内の全てのガラス基板Ｐを効率
良く回収することができる。

【００８５】搬出ポート２に露光処理済みの２番目のガ
ラス基板ＰがトレイＴとともに設置されており、搬入ポ
ート１に外部装置から搬入された４番目のガラス基板Ｐ
がトレイＴとともに設置されている。一方、上アームＨ
１には空のトレイＴが保持されており、露光装置本体Ｅ
では３番目のガラス基板Ｐに対する露光処理が行われて
いる。この状態を初期状態とする（図１８：ステップＳ
Ｂ１）。

【００８６】制御装置ＣＯＮＴが露光装置Ｓ内の全ての
ガラス基板Ｐの回収を指示する。ガラス基板Ｐの回収の
指示が行われると、これ以降、外部装置からのガラス基
板Ｐの搬入は行われない。まず、搬出ポート２上にある
２番目のガラス基板Ｐを外部装置に搬出するため、制御
装置ＣＯＮＴは外部装置へ搬出許可を通知する。そし
て、搬出ポート２上のガラス基板ＰとトレイＴとが分離
され、２番目のガラス基板Ｐが第２搬送部によって外部
装置に搬出される。一方、搬入ポート１上のトレイＴに
支持されている４番目のガラス基板ＰはトレイＴごと下
アームＨ２に保持される。次いで、上アームＨ１によっ
て空のトレイＴが搬入ポート１に設置される（ステップ
ＳＢ２）。

【００８７】上アームＨ１は、露光装置本体Ｅの基板ホ
ルダ９から３番目のガラス基板ＰをトレイＴごとアンロ
ードする。次いで、下アームＨ２が４番目のガラス基板
ＰをトレイＴごと基板ホルダ９にロードする。このと
き、搬入ポート１及び搬出ポート２にはそれぞれ空のト
レイＴが設置された状態となっている（ステップＳＢ
３）。

【００８８】搬出ポート２上の空のトレイＴは下アーム
Ｈ２に保持される。次いで、上アームＨ１によって、露
光処理済みの３番目のガラス基板ＰがトレイＴごと搬出
ポート２に設置される（図１９：ステップＳＢ４）。

【００８９】空のトレイＴを保持している下アームＨ２
は、この空のトレイＴをトレイバッファＴＢの棚ＴＢ１
に収納する。一方、搬出ポート２においては、３番目の
ガラス基板ＰとトレイＴとが分離され、この３番目のガ
ラス基板Ｐが第２搬送部によって外部装置に搬出される
（ステップＳＢ５）。

【００９０】下アームＨ２は、基板ホルダ９上の４番目
のガラス基板ＰをトレイＴごとアンロードする。このと
き、搬入ポート１及び搬出ポート２にはそれぞれ空のト
レイＴが設置された状態となっている（ステップＳＢ
６）。

【００９１】上アームＨ１が、搬出ポート２に設置され
ている空のトレイＴを保持する。次いで、４番目のガラ
ス基板ＰをトレイＴごと保持している下アームＨ２が、
このガラス基板ＰをトレイＴごと搬出ポート２に設置す
る（図２０：ステップＳＢ７）。

【００９２】外部装置へ搬出許可が通知されるととも
に、搬出ポート２においては４番目のガラス基板Ｐとト
レイＴとが分離され、この４番目のガラス基板Ｐが第２
搬送部によって外部装置に搬出される。ここで、露光装
置Ｓ内の全てのガラス基板Ｐが装置外に搬出されたこと
になる。一方、空のトレイＴを保持している上アームＨ
１は、この空のトレイＴをトレイバッファＴＢの棚ＴＢ
２に収納する（ステップＳＢ８）。

【００９３】不図示の有無センサの検出結果に基づい
て、露光装置Ｓ内の全てのガラス基板Ｐが装置外に搬出
されたことを確認したら、搬入ポート１及び搬出ポート
２上に設置されているそれぞれの空のトレイＴを上アー
ムＨ１によってトレイバッファＴＢの棚ＴＢ３、ＴＢ４
に収納する。以上で露光装置Ｓ内の全てのガラス基板Ｐ
の回収、及びトレイＴの回収が終了する（ステップＳＢ
９）。

【００９４】以上、ステップＳＢ１〜ＳＢ９に示した手
順は、図１７のフローチャート図で示したように、ガラ
ス基板Ｐの回収を開始し、搬入ポート１にガラス基板Ｐ
がある場合には搬入ポート交換を行い、搬入ポート１に
ガラス基板Ｐがない場合にはトレイＴの収納動作を行
い、次いで、搬入ポート交換、基板ステージ交換、搬出
ポート交換を繰り返す。

【００９５】以上説明したように、ガラス基板Ｐ及びト
レイＴを全て回収することにより、例えば、トレイＴに
フォトレジストが付着した際の洗浄等の所定の処理を容
易に効率良く行うことができる。すなわち、回収したト
レイＴを装置外部に一括して持ち出し、洗浄することが
できる。このとき、トレイＴの回収先としてトレイバッ
ファＴＢを設けたことにより、回収されたトレイＴをト
レイバッファＴＢから開口部Ｋを介して一括して取り出
すことができるなど、回収作業性を更に向上することが
できる。また、露光装置Ｓ内部のガラス基板Ｐも全て回
収されるので、露光装置Ｓ内部の清掃等の所定の処理も
効率良く行うことができる。

【００９６】また、露光装置Ｓのメンテナンス等でガラ
ス基板Ｐを所定枚数（例えば２、３枚）だけ露光処理し
たい場合には、ステップＳＢ９に示した状態で、４つの
トレイＴのうち任意のトレイＴにガラス基板Ｐを支持さ
せ、このガラス基板ＰをトレイＴごと露光装置本体Ｅの
基板ホルダ９に搬送し、露光処理を行うことができる。
すなわち、トレイバッファＴＢを設けたことにより、搬
出入ポートＰＯを用いずにトレイＴに支持させたガラス
基板Ｐを露光装置Ｓ内の搬送経路に供給することができ
る。なお、このときのガラス基板Ｐの搬送枚数はトレイ
バッファＴＢに収納可能な４枚まで対応可能である。

【００９７】さらに、トレイＴを用いたガラス基板Ｐの
搬送において、トレイバッファＴＢを設けたことによ
り、外部装置の故障等の理由で露光装置Ｓ内のガラス基
板Ｐが外部装置に搬出できない場合には、トレイバッフ
ァＴＢにおいて全てのガラス基板Ｐを回収することも可
能である。

【００９８】《ガラス基板Ｐの異常を検出した際の搬送
方法》次に、露光装置Ｓ内に存在するガラス基板Ｐに対
して破損などの異常が生じた場合の復旧処理について図
２１〜図２３を用いて説明する。なお、以下においても
図１２の表示例に基づいて説明を行う。

【００９９】例えば、露光装置Ｓ内において搬送中のト
レイＴ上のガラス基板Ｐが破損した場合、従来では、こ
のガラス基板Ｐ及びトレイＴをオペレータによって回収
し、破損位置周辺を清掃した後、再び破損位置に空のト
レイＴを設置していた。空のトレイＴを再び破損位置に
戻す作業は露光装置Ｓ内のトレイＴの位置管理及び個数
管理のために必要なものであるが、破損位置がトレイＴ
の再設置作業に困難な位置であると作業性が低かった。
このとき、以下に説明する手順によって露光装置Ｓ内の
ガラス基板Ｐが破損した際の復旧作業を効率良く行うこ
とができる。

【０１００】図１６のステップＳＡ１０で示した状態に
おいて、上アームＨ１に支持されている３番目のガラス
基板Ｐが破損した場合を想定する。このとき、露光装置
Ｓ内のトレイＴ（ガラス基板Ｐ）の搬送経路の所定位置
には、ガラス基板Ｐ及びトレイＴの有無を検出するため
の有無センサが設けられており、トレイ用有無センサの
みがトレイＴを検出し、ガラス基板用有無センサはガラ
ス基板Ｐを検出しない場合には、制御装置ＣＯＮＴはガ
ラス基板Ｐに異常（破損）が発生したと判断する。ガラ
ス基板Ｐの破損が検出された場合、この検出結果は操作
表示部ＭＯＮのモニタに出力され、オペレータはガラス
基板Ｐに破損が発生したことを認識する。オペレータは
操作表示部ＭＯＮの表示によってガラス基板Ｐの破損を
報知されたら、例えば露光装置Ｓ内の破損発生位置（異
常発生位置）を目視等によって確認し、その後所定の処
理を行う。

【０１０１】すなわち、破損発生位置である上アームＨ
１のガラス基板Ｐがオペレータによって取り除かれる。
そして、この破損したガラス基板Ｐを支持していたトレ
イＴが露光装置Ｓ外部へ一旦退避される。このとき、ト
レイＴは例えば搬送アーム（退避手段）Ｈや、オペレー
タによってトレイバッファＴＢに退避される。そして、
破損現場周辺の清掃を行う。このとき、制御装置ＣＯＮ
Ｔには上アームＨ１上のガラス基板Ｐが消失したという
情報（ロスト情報）が入力される。ロスト情報を入力さ
れた制御装置ＣＯＮＴは、ガラス基板Ｐが消失した位置
（この場合、上アームＨ１）にロスト情報があるとし
て、以降、このロスト情報のある位置に消失したガラス
基板Ｐが仮想的に存在すると認識して通常の搬送処理を
行う。すなわち、制御装置ＣＯＮＴはロスト情報を認識
しつつ、ステップＳＡ１〜ＳＡ１２で示したような通常
の手順でガラス基板Ｐを搬送させる。なお、制御装置Ｃ
ＯＮＴが消失したガラス基板Ｐを仮想的に認識している
位置を図中、「＊」で示す。なお、退避されたトレイＴ
は、トレイバッファＴＢの棚ＴＢ２に収納されている
（図２１：ステップＳＣ１）。

【０１０２】下アームＨ２が露光装置本体Ｅの基板ホル
ダ９から２番目のガラス基板ＰをトレイＴごとアンロー
ドするとともに、ロスト情報を保持している上アームＨ
１がこのロスト情報を露光装置本体Ｅの基板ホルダ９に
ロードする（すなわち、上アームＨ１によって３番目の
ガラス基板Ｐを仮想的に基板ホルダ９にロードする）。
一方、搬入ポート１上のトレイＴに外部装置からガラス
基板Ｐを搬入するために、制御装置ＣＯＮＴは外部装置
に対して搬入許可通知を行う（ステップＳＣ２）。

【０１０３】露光装置本体Ｅにロードされたロスト情報
（仮想的な３番目のガラス基板Ｐ）に対して仮想的な露
光処理が行われる（実際には露光処理は行われない）。
このとき、上アームＨ１によって搬出ポート２上の空の
トレイＴが保持される。次いで、ステップＳＣ２におい
てアンロードされた２番目のガラス基板Ｐが下アームＨ
２によってトレイＴごと搬出ポート２に設置される。ま
た、搬入ポート１の空のトレイＴ上には外部装置から４
番目のガラス基板Ｐが第２搬送部によって設置される
（ステップＳＣ３）。

【０１０４】搬出ポート２に設置されている２番目のガ
ラス基板ＰはトレイＴから分離され、搬出許可通知後、
第２搬送部によって外部装置に搬出される。また、下ア
ームＨ２は、ステップＳＣ３において搬入された４番目
のガラス基板ＰをトレイＴごと保持する。次いで、ステ
ップＳＣ３において空のトレイＴを保持した上アームＨ
１は、この空のトレイＴを搬入ポート１に設置する（図
２２：ステップＳＣ４）。

【０１０５】搬入ポート１に設置された空のトレイＴに
対して外部装置からガラス基板Ｐを搬入するために制御
装置ＣＯＮＴは外部装置に対して搬入許可通知を行う。
このとき、露光装置本体Ｅにおいては、基板ホルダ９上
に位置するロスト情報（仮想的な３番目のガラス基板
Ｐ）が上アームＨ１によって仮想的にアンロードされ、
一方、下アームＨ２によって４番目のガラス基板Ｐがト
レイＴごと露光装置本体Ｅの基板ホルダ９にロードされ
る（ステップＳＣ５）。

【０１０６】４番目のガラス基板Ｐに対する露光処理が
行われている間、搬出ポート２上の空のトレイＴは下ア
ームＨ２に保持される。一方、上アームＨ１上のロスト
情報（仮想的な第３のガラス基板Ｐ）が搬出ポート２に
設置される。また、搬入ポート１上の空のトレイＴに
は、外部装置から第２搬送部によって５番目のガラス基
板Ｐが搬入される（ステップＳＣ６）。

【０１０７】搬入ポート１上の５番目のガラス基板Ｐは
トレイＴごと上アームＨ１に保持される。次いで、ステ
ップＳＣ６によって下アームＨ１に保持された空のトレ
イＴは搬入ポート１に設置される。また、搬出ポート２
に位置するロスト情報は外部装置に仮想的に搬出される
（図２３：ステップＳＣ７）。

【０１０８】露光装置本体Ｅによって露光処理を施され
た４番目のガラス基板Ｐは下アームＨ２によってトレイ
Ｔごと基板ホルダ９からアンロードされる。次いで、上
アームＨ１に保持されている５番目のガラス基板Ｐがト
レイＴごと露光装置本体Ｅの基板ホルダ９にロードされ
る。搬入ポート１においては、次のガラス基板Ｐを搬入
するために外部装置に対して搬入許可通知が行われる
（ステップＳＣ８）。

【０１０９】下アームＨ１に保持されている露光処理済
みの４番目のガラス基板ＰはトレイＴごと搬出ポート２
に設置される。また、搬入ポート１のトレイＴ上には外
部装置から６番目のガラス基板Ｐが第２搬送部によって
設置される。一方、ステップＳＣ１によってトレイバッ
ファＴＢに退避されていたトレイＴは上アームＨ１に保
持され、搬送経路に復旧される（ステップＳＣ９）。

【０１１０】以上説明したように、ガラス基板Ｐの破損
（異常）を検出した際に、このガラス基板Ｐを支持して
いたトレイＴを退避させることにより、破損を検出した
位置における清掃等の復旧作業を効率良く行うことがで
きる。また、破損したガラス基板Ｐを支持していたトレ
イＴを、破損を検出した位置から退避させることによ
り、この破損が生じた位置にロスト情報を設定すること
が可能となる。そして、このロスト情報を設定すること
により、破損したガラス基板Ｐが発生した際にも、ステ
ップＳＡ１〜ＳＡ１２で示したような通常時の搬送動作
と同じ搬送動作を安定して行うことができる。

【０１１１】また、破損したガラス基板Ｐを支持してい
たトレイＴを、トレイバッファＴＢに収納し、ロスト情
報を付与した状態で通常の搬送動作を行うことにより、
所定の段階（ステップＳＣ９）で、このトレイＴを容易
に安定して搬送ラインに復旧させることができる。した
がって、例えば破損発生位置がオペレータによってトレ
イＴを設置しにくい位置であっても、従来のように破損
位置にトレイＴを再設置するような作業は不要となるの
で、効率良い復旧作業を行うことができる。さらに、ト
レイＴを、トレイバッファＴＢに退避させることによ
り、トレイバッファＴＢからトレイＴを取り出して洗浄
など所定の処理を容易に行うことができるので、作業性
を向上することができる。

【０１１２】ガラス基板Ｐの異常を検出した際、このガ
ラス基板ＰをトレイＴから取り除くことにより、このト
レイＴをトレイバッファＴＢに安定して収納することが
できるとともに、搬送経路上に復旧させる際の作業効率
を向上することができる。さらに、異常なガラス基板Ｐ
をトレイＴから取り除くことにより、ロスト情報を付与
可能となる。

【０１１３】ガラス基板Ｐの異常を検出し、この検出結
果を操作表示部ＭＯＮによって表示することにより、露
光装置Ｓ内の搬送経路上におけるトレイＴの位置やトレ
イＴ上のガラス基板Ｐの有無など、搬送されるトレイＴ
及びガラス基板Ｐに関する情報をオペレータが確認可能
となる。すなわち、オペレータが露光装置Ｓの稼働状況
や異常発生時の状況を確実に認識することができるの
で、特に異常発生時に対する復旧作業の作業性を向上す
ることができる。

【０１１４】トレイバッファＴＢに退避させたトレイＴ
を用いて、破損したガラス基板Ｐとは異なるガラス基板
Ｐを搬送することにより、退避されたトレイＴを通常の
搬送動作に安定して復旧することができる。

【０１１５】複数のガラス基板ＰがトレイＴによって順
次搬送される際、あるガラス基板Ｐが破損した際にも、
制御装置ＣＯＮＴは破損したガラス基板Ｐの位置に仮想
的なガラス基板Ｐ（ロスト情報）を設定するので、トレ
イＴの搬送順序とガラス基板Ｐの搬送順序とを対応させ
つつ安定した搬送動作を行うことができる。そして、ガ
ラス基板Ｐを支持していないトレイＴに対し、ロスト情
報に基づいて所定のタイミングでトレイＴを搬送経路に
復旧させることができる。

【０１１６】なお、上記実施形態においては、外部装置
はコータ・デベロッパとして説明したが、例えば、ガラ
ス基板Ｐを露光装置Ｓ外部で搬送する搬送用無人車（Ａ
ＧＶ）などであってもよい。

【０１１７】本実施形態の露光装置Ｓとして、マスクＭ
と基板Ｐとを同期移動してマスクＭのパターンを露光す
る走査型の露光装置にも適用することができる。

【０１１８】本実施形態の露光装置Ｓとして、マスクＭ
と基板Ｐとを静止した状態でマスクＭのパターンを露光
し、基板Ｐを順次ステップ移動させるステップ・アンド
・リピート型の露光装置にも適用することができる。

【０１１９】本実施形態の露光装置Ｓとして、投影光学
系を用いることなくマスクＭと基板Ｐとを密接させてマ
スクＭのパターンを露光するプロキシミティ露光装置に
も適用することができる。

【０１２０】露光装置Ｓの用途としては角型のガラスプ
レートに液晶表示素子パターンを露光する液晶用の露光
装置に限定されることなく、半導体製造用の露光装置
や、例えば、薄膜磁気ヘッドを製造するための露光装置
にも広く適当できる。

【０１２１】本実施形態の露光装置Ｓの光源は、ｇ線
（４３６ｎｍ）、ｉ線（３６５ｎｍ）、ＫｒＦエキシマ
レーザ（２４８ｎｍ）、ＡｒＦエキシマレーザ（１９３
ｎｍ）、Ｆ２レーザ（１５７ｎｍ）のみならず、Ｘ線や
電子線などの荷電粒子線を用いることができる。例え
ば、電子線を用いる場合には電子銃として、熱電子放射
型のランタンヘキサボライト（LaB6）、タンタル（Ta）
を用いることができる。さらに、電子線を用いる場合
は、マスクＭを用いる構成としてもよいし、マスクＭを
用いずに直接基板上にパターンを形成する構成としても
よい。

【０１２２】投影光学系の倍率は等倍系のみならず縮小
および拡大系のいずれでもよい。

【０１２３】投影光学系としては、エキシマレーザなど
の遠紫外線を用いる場合は硝材として石英や蛍石などの
遠紫外線を透過する材料を用い、Ｆ２レーザやＸ線を用
いる場合は反射屈折系または屈折系の光学系にし（レチ
クルも反射型タイプのものを用いる）、また、電子線を
用いる場合には光学系として電子レンズおよび偏向器か
らなる電子光学系を用いればいい。なお、電子線が通過
する光路は真空状態にすることはいうまでもない。

【０１２４】ウエハステージやマスクステージにリニア
モータを用いる場合は、エアベアリングを用いたエア浮
上型およびローレンツ力またはリアクタンス力を用いた
磁気浮上型のどちらを用いてもいい。また、ステージ
は、ガイドに沿って移動するタイプでもいいし、ガイド
を設けないガイドレスタイプでもよい。

【０１２５】ステージの駆動装置として平面モ−タを用
いる場合、磁石ユニット（永久磁石）と電機子ユニット
のいずれか一方をステージに接続し、磁石ユニットと電
機子ユニットの他方をステージの移動面側（ベース）に
設ければよい。

【０１２６】基板ステージの移動により発生する反力
は、特開平８−１６６４７５号公報に記載されているよ
うに、フレーム部材を用いて機械的に床（大地）に逃が
してもよい。本発明は、このような構造を備えた露光装
置においても適用可能である。

【０１２７】マスクステージの移動により発生する反力
は、特開平８−３３０２２４号公報に記載されているよ
うに、フレーム部材を用いて機械的に床（大地）に逃が
してもよい。本発明は、このような構造を備えた露光装
置においても適用可能である。

【０１２８】以上のように、本願実施形態の露光装置
は、本願特許請求の範囲に挙げられた各構成要素を含む
各種サブシステムを、所定の機械的精度、電気的精度、
光学的精度を保つように、組み立てることで製造され
る。これら各種精度を確保するために、この組み立ての
前後には、各種光学系については光学的精度を達成する
ための調整、各種機械系については機械的精度を達成す
るための調整、各種電気系については電気的精度を達成
するための調整が行われる。各種サブシステムから露光
装置への組み立て工程は、各種サブシステム相互の、機
械的接続、電気回路の配線接続、気圧回路の配管接続等
が含まれる。この各種サブシステムから露光装置への組
み立て工程の前に、各サブシステム個々の組み立て工程
があることはいうまでもない。各種サブシステムの露光
装置への組み立て工程が終了したら、総合調整が行わ
れ、露光装置全体としての各種精度が確保される。な
お、露光装置の製造は温度およびクリーン度等が管理さ
れたクリーンルームで行うことが望ましい。

【０１２９】半導体デバイスは、図２４に示すように、
デバイスの機能・性能設計を行うステップ２０１、この
設計ステップに基づいたマスクを製作するステップ２０
２、デバイスの基材となる基板（ガラスプレート、ウェ
ーハ）を製造するステップ２０３、前述した実施形態の
露光装置によりマスクのパターンを基板に露光する基板
処理ステップ２０４、デバイス組み立てステップ（ダイ
シング工程、ボンディング工程、パッケージ工程を含
む）２０５、検査ステップ２０６等を経て製造される。

【０１３０】

【発明の効果】本発明の搬送方法、露光装置は、以下の
ような効果を有するものである。請求項１に記載の搬送
方法によれば、基板の異常を検出した際に基板支持部材
を退避させることにより、異常を検出した位置における
清掃等の復旧作業を効率良く行うことができる。また、
異常基板を支持していた基板支持部材を、異常を検出し
た位置から退避させることにより、搬送経路上に、例え
ば仮想的な基板支持部材及び基板を設定することができ
る。このとき、基板支持部材が搬送経路上から退避され
ても通常時の効率良い搬送動作を行うことができる。

【０１３１】請求項２に記載の搬送方法によれば、基板
支持部材を、基板支持部材を収納する支持部材収納部に
退避させることにより、支持部材収納部から基板支持部
材を取り出して洗浄など所定の処理を容易に行うことが
できるので、作業性を向上することができる。また、前
述したような仮想的な基板支持部材を設定して通常時の
搬送動作を行うに際し、退避させた基板支持部材を支持
部材収納部から搬送経路に安定して復旧させることがで
きる。すなわち、退避させた基板支持部材をオペレータ
によって異常を検出した位置に戻す作業が不要となるの
で、復旧作業を効率良く行うことができる。

【０１３２】請求項３に記載の搬送方法によれば、異常
基板を、基板支持部材から取り除くことにより、この基
板支持部材を搬送経路上に復旧させる際の作業効率を向
上することができる。また、この基板支持部材を支持部
材収納部に安定して収納することができる。

【０１３３】請求項４に記載の搬送方法によれば、基板
の異常を表示することにより、搬送経路上の所定位置に
おける基板の異常は例えばオペレータによって確認可能
となる。そして、オペレータが異常発生時の状況や異常
基板に関する情報を認識することができるので、復旧作
業など所定の処理を迅速に行うことができる。したがっ
て作業性は向上する。

【０１３４】請求項５に記載の搬送方法によれば、支持
部材収納部に退避させた基板支持部材を用いて、異常基
板とは異なる基板を搬送することにより、退避された基
板支持部材を通常の搬送動作に安定して復旧することが
できる。

【０１３５】請求項６に記載の露光装置によれば、基板
の異常を検出した際に基板支持部材を退避させる退避手
段を設けることにより、異常を検出した位置から基板支
持部材を安定して退避させることができ、退避後におい
ては清掃等の復旧作業が効率良く行われる。また、異常
基板を支持していた基板支持部材を、異常を検出した位
置から退避させることによって、搬送経路上に、例えば
仮想的な基板支持部材及び基板を設定することができ
る。このとき、基板支持部材が搬送経路上から退避され
ても通常時の効率良い搬送動作を行うことができる。

【０１３６】請求項７に記載の露光装置によれば、基板
支持部材を収納する支持部材収納部を備え、退避手段
は、支持部材収納部に基板支持部材を退避するので、支
持部材収納部から基板支持部材を取り出して洗浄など所
定の処理を容易に行うことができる。また、前述したよ
うな仮想的な基板支持部材を設定して通常時の搬送動作
を行うに際し、退避させた基板支持部材を支持部材収納
部から搬送経路に安定して復旧させることができる。す
なわち、退避させた基板支持部材をオペレータによって
異常を検出した位置に戻す作業が不要となるので、復旧
作業を効率良く行うことができる。

【０１３７】請求項８に記載の露光装置によれば、露光
部に対して基板を位置決めするとともに、基板を収容す
る基板ステージ部を備えたことにより、露光処理を精度
良く安定して行うことができる。

【図面の簡単な説明】

【図１】本発明の露光装置の一実施形態を説明するため
の概略平面図である。

【図２】図１を−Ｙ側から見た概略側面図である。

【図３】図１を＋Ｙ側から見た概略側面図である。

【図４】基板支持部材を説明するための平面図である。

【図５】露光装置本体及び搬送部を説明するための斜視
図である。

【図６】基板ホルダの溝部に基板支持部材が嵌合する様
子を説明するための図であって（ａ）は正面断面図、
（ｂ）は横断面図である。

【図７】基板支持部材及び基板に当接して基板を位置合
わせするプリアライメント装置を説明するための図であ
って（ａ）は正面図、（ｂ）は平面図、（ｃ）は側面図
である。

【図８】搬送部により基板が基板支持部材とともに基板
ホルダに載置された様子を説明するための斜視図であ
る。

【図９】外部装置と搬出入ポートとの間で第２搬送部に
より基板が搬送される様子を説明するための斜視図であ
る。

【図１０】第１搬送部により基板が搬出入ポートに載置
された様子を説明するための斜視図である。

【図１１】基板を搬送する方法を説明するためのフロー
チャート図である。

【図１２】図１３〜図１６及び図１８〜図２３において
各部の名称を説明するための図である。

【図１３】本発明の基板の搬送方法を説明するための図
である。

【図１４】本発明の基板の搬送方法を説明するための図
である。

【図１５】本発明の基板の搬送方法を説明するための図
である。

【図１６】本発明の基板の搬送方法を説明するための図
である。

【図１７】基板を回収する方法を説明するためのフロー
チャート図である。

【図１８】本発明の基板の回収方法を説明するための図
である。

【図１９】本発明の基板の回収方法を説明するための図
である。

【図２０】本発明の基板の回収方法を説明するための図
である。

【図２１】本発明の異常基板が生じた際の復旧方法を説
明するための図である。

【図２２】本発明の異常基板が生じた際の復旧方法を説
明するための図である。

【図２３】本発明の異常基板が生じた際の復旧方法を説
明するための図である。

【図２４】半導体デバイスの製造工程の一例を示すフロ
ーチャート図である。

【図２５】従来の基板搬送方法を説明するための図であ
る。

【符号の説明】９基板ホルダ（基板ステージ部）ＣＯＮＴ制御装置Ｅ露光装置本体（基板処理部、露光部）Ｈ搬送部（搬送ロボット、退避手段）Ｐガラス基板（基板）Ｔトレイ（基板支持部材）ＴＢトレイバッファ（支持部材収納部）

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続きＦターム(参考） 5F031 CA05 DA13 EA18 FA02 FA03 FA07 FA12 FA15 GA05 GA07 GA45 GA47 GA49 GA50 HA12 HA14 HA34 JA05 JA06 JA17 JA22 KA01 KA03 KA11 KA12 KA20 MA27 NA02 PA02 PA18 5F046 CC01 CD01 CD05

Claims

【特許請求の範囲】

【請求項１】基板を支持可能な基板支持部材により、
前記基板を基板処理部へ搬送する搬送方法において、前記基板の異常を検出した際に、前記基板支持部材を退
避させることを特徴とする搬送方法。
【請求項２】請求項１に記載の搬送方法において、前記基板支持部材は、前記基板支持部材を収納する支持
部材収納部に、退避されることを特徴とする搬送方法。
【請求項３】請求項１又は２に記載の搬送方法におい
て、前記異常基板は、前記基板支持部材から取り除かれるこ
とを特徴とする搬送方法。
【請求項４】請求項３に記載の搬送方法において、前記基板の異常を表示することを特徴とする搬送方法。
【請求項５】請求項１〜４のいずれか一項に記載の搬
送方法において、前記支持部材収納部に前記退避させた基板支持部材を用
いて、前記異常基板とは異なる基板を搬送することを特
徴とする搬送方法。
【請求項６】基板を支持可能な基板支持部材により、
前記基板を露光する露光部へ搬送し、該基板を露光する
露光装置において、前記基板の異常を検出した際に、前記基板支持部材を退
避させる退避手段を備えたことを特徴とする露光装置。
【請求項７】請求項６に記載の露光装置において、前記基板支持部材を収納する支持部材収納部を備え、前記退避手段は、前記支持部材収納部に前記基板支持部
材を退避することを特徴とする露光装置。
【請求項８】請求項６又は７に記載の露光装置におい
て、前記露光部に対して前記基板を位置決めするとともに、
前記基板を収容する基板ステージ部を備えたことを特徴
とする露光装置。