JP2005044882A - 搬送装置及び露光装置 - Google Patents
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Abstract
【課題】ウエハホルダに搭載されるウエハの平坦度を向上する
【解決手段】プリアライメント装置80Aは、ウエハWの裏面の外縁部の近傍をそれぞれ支持する少なくとも3つの支持部(95a〜95c)と、ウエハの側面に異なる方向から当接してウエハを保持する少なくとも2つの保持部(94a〜94c)とによって合計5点以上でウエハを保持する。これにより、ウエハの位置合わせを光センサ等を用いることなく行うことができるとともに、ウエハの裏面をバキュームにより吸着支持するための広い面積の支持面を設ける必要がなくなる。従って、ウエハをホルダに搭載する際に、支持部とホルダとの機械的な干渉を回避するためにホルダに設けられる切り欠きを極力小さくすることができるので、ホルダに搭載されるウエハの平坦度(フラットネス)を向上することができる。
【選択図】 図4
【解決手段】プリアライメント装置80Aは、ウエハWの裏面の外縁部の近傍をそれぞれ支持する少なくとも3つの支持部(95a〜95c)と、ウエハの側面に異なる方向から当接してウエハを保持する少なくとも2つの保持部(94a〜94c)とによって合計5点以上でウエハを保持する。これにより、ウエハの位置合わせを光センサ等を用いることなく行うことができるとともに、ウエハの裏面をバキュームにより吸着支持するための広い面積の支持面を設ける必要がなくなる。従って、ウエハをホルダに搭載する際に、支持部とホルダとの機械的な干渉を回避するためにホルダに設けられる切り欠きを極力小さくすることができるので、ホルダに搭載されるウエハの平坦度(フラットネス)を向上することができる。
【選択図】 図4
Description
【0001】
【発明の属する技術分野】
本発明は、搬送装置及び露光装置に係り、更に詳しくは、物体を試料台上の所定位置に搭載するために前記物体を搬送する搬送装置及び該搬送装置を備える露光装置に関する。
【0002】
【従来の技術】
従来より、半導体素子、液晶表示素子等を製造するためのリソグラフィ工程では、マスク又はレチクル(以下、「レチクル」と総称する)に形成されたパターンを投影光学系を介して感光剤(レジスト等)が塗布されたウエハ又はガラスプレート等の物体(以下、「ウエハ」と総称する)上に転写する露光装置が用いられている。この種の露光装置としては、近年では、スループットを重視する観点から、ステップ・アンド・リピート方式の縮小投影露光装置(いわゆるステッパ)や、ステップ・アンド・スキャン方式の走査型投影露光装置(いわゆるスキャニング・ステッパ)等の逐次移動型の露光装置が主として用いられている。かかる露光装置においては、露光に先立ってレチクルとウエハとの位置合わせ(以下、「ウエハアライメント」と呼ぶ)を高精度に行う必要がある。
【0003】
ウエハアライメントとしては、ダイ・バイ・ダイ方式とEGA(エンハンスト・グローバル・アライメント)方式との2つの手法が知られているが、前者はスループットの点で難点があるため、近年では、後者のEGA方式が広く採用されている。かかるEGA方式のウエハアライメントでは、オフアクシス方式のアライメント検出系が用いられることが多く、近年では画像処理方式の結像式アライメントセンサが多く用いられている。
【0004】
EGA方式のウエハアライメントを結像式アライメントセンサを用いて行う場合、ウエハ上の予め定められた複数のショット領域(アライメントショット領域)に付設されたアライメントマークを高倍率で観測する必要があるが、高倍率で観測を行う場合、観測視野が必然的に狭いものとなる。そこで、狭い観測視野で確実にアライメントマークを捉えるために、EGA方式のウエハアライメントに先立って、次のような、ウエハのプリアライメントを行っている。
【0005】
まず、位置検出の対象物であるウエハについて、そのウエハの外縁形状を観察する。そして、観察されたウエハ外縁のノッチあるいはオリエンテーション・フラットの位置や、ウエハ外縁の位置等に基づいて、所定の精度で、設計値を基準としてウエハの中心位置ずれ、回転ずれを検出する。なお、半導体素子の製造に使用されるウエハはほぼ円形であるので、円の方程式を規定するために必要な3つのパラメータ(中心の2次元位置及び半径)の導出に必要な少なくとも3箇所の外縁位置を検出している(例えば、特許文献1参照)。
【0006】
そして、受け渡し時にウエハがずれないようにするため、広い範囲に渡ってウエハ裏面を搬送アームなどにより真空吸着等し、受け渡しの際には、傾き等を十分に管理した状態でウエハの搬送を行っていた。
【0007】
この他、ウエハの位置ずれ計測後のウエハの位置ずれが極力生じないように、試料台上のウエハホルダへ受け渡す直前、或いは受け渡し直後に、上記のウエハプリアライメントを実行するものもある(例えば、特許文献2参照)。
【0008】
ところで、従来、ウエハホルダとしては、その表面に同心円状の複数の溝が形成され、該溝とウエハとの間に形成される空間を真空吸引するバキュームチャック機構(以下、「同心円状のバキュームチャック機構」と呼ぶ)を備えたものが用いられていた。しかるに、近年における回路パターンの微細化に伴い、より高い解像度が要求されるようになるとともに、ウエハのフラットネスの向上が要求されるようになってきた。このため、隣接する同心円状のウエハ接触部の間に広いウエハ非接触部(被バキューム領域)が存在する、従来の同心円状のバキュームチャック機構では、要求されるウエハフラットネス精度を実現することが困難となってきた。そこで、上記の近年におけるウエハフラットネスの要求に応えるものとして、ウエハ表面の最外周部(及び中心部近傍)に設けられた環状の凸部と、該環状の凸部に囲まれた領域に数ミリ間隔で配置された多数のピンとで構成されるピンチャック機構を備えたウエハホルダが採用されるようになってきた(例えば、特許文献3参照)。
【0009】
【特許文献1】
特開平9−186061号公報
【特許文献2】
特開平11−219999号公報
【特許文献3】
特開平5−21584号公報
【0010】
【発明が解決しようとする課題】
上述した特許文献1、特許文献2などに記載の従来技術では、ウエハの位置を予め計測しておき、ウエハの位置が所定の基準位置からずれないように広い範囲でウエハの裏面を搬送アーム等で真空吸着し、受け渡しの際にも傾きを合わせる等の細心の注意を払って、ウエハ搬送を行っていた。しかるにこのような場合、ウエハステージ上、又はウエハのローディングポジションに、搬送アームから試料台(ウエハホルダ)までウエハを搬送する上下動機構を設ける必要があり、その機構にはウエハの位置ずれを防止するためウエハ裏面をバキュームする機構を設ける必要がある。
【0011】
例えば、ウエハステージ上に上下動機構、例えば上下動ピンを設ける場合には、ウエハホルダの所定箇所、例えば中心部に、その上下動ピンの上下動を許容する開口を設ける必要がある。かかる場合、従来の同心円状のバキュームチャック機構を備えたウエハホルダの場合、その中央の非バキューム領域(大気開放領域)に容易にその開口を形成することができた。しかしながら、ピンチャック機構を採用したウエハホルダの場合、中央部近傍に、その上下動ピンの配置領域のみを大気開放部とするための、複雑な形状の凸部を新たに形成しなければならず、加工が難しいものとなっていた。また、この場合、その中央部近傍の大気開放部の存在により、ウエハのフラットネスが低下するおそれがあった。なお、ウエハステージ上に上下動機構を設けると、その分ウエハステージが重量化、大型化し、結果的にウエハステージの位置制御性の低下を招くという不都合もある。
【0012】
また、例えば、ローディングポジションに、上下動機構を設ける場合、例えば上記特許文献2に記載されているように、上下動機構を構成するアーム(例えばウエハロードアーム又はアンロードアーム)がウエハホルダに接触するのを回避するための切り欠きをウエハホルダの外縁部近傍に形成する必要がある。この場合において、ピンチャック機構を備えたウエハホルダを採用すると、その回避領域を大気開放部とするため、複雑な形状の凸部を新たに形成しなければならず、加工が難しいものとなっていた。また、この場合、その大気開放部の存在により、ウエハのフラットネスが低下するおそれがあった。
【0013】
さらに、ウエハ搭載の精度を得るためには光学センサをウエハステージ近傍に設置することが望ましいが、そのためにはウエハステージ近傍に大きなスペースを確保する必要がある。しかしながら、これは、必然的に装置の大型化の要因となる。
【0014】
本発明は係る事情の下になされたもので、その第1の目的は、試料台に搭載された物体の平坦度(フラットネス)を向上させることが可能な搬送装置を提供することにある。
【0015】
また、本発明の第2の目的は、装置の小型化及び高精度な露光の実現が可能な露光装置を提供することにある。
【0016】
【課題を解決するための手段】
請求項1に記載の発明は、物体(W)を試料台(H1,H2)上の所定位置に搭載するために前記物体を搬送する搬送装置であって、前記物体の前記試料台に対向する一側の面の外縁部の近傍をそれぞれ支持するとともに、その支持された前記物体に接近又は離間する方向に移動可能な少なくとも1つの支持部を含む少なくとも3つの支持部(95a〜95c)と、前記物体の側面に異なる方向から当接して前記物体を保持するとともに、前記物体に接近又は離間する方向に移動可能な少なくとも1つの保持部を含む少なくとも2つの保持部(94a〜94c)と、前記移動可能な前記支持部及び前記保持部を、同時又は個別に駆動する駆動機構と、を有し、前記物体を前記一側の面少なくとも3点、側面少なくとも2点の合計5点以上で保持可能な第1の保持装置と;前記第1の保持装置を、前記試料台に対して接近又は離間させるため重力方向に駆動する上下動装置(81)と;を備える搬送装置である。
【0017】
これによれば、第1の保持装置は、物体の試料台に対向する一側の面の外縁部の近傍をそれぞれ支持するとともに、その支持された物体に接近又は離間する方向に移動可能な少なくとも1つの支持部を含む少なくとも3つの支持部と、物体の側面に異なる方向から当接して物体を保持するとともに、物体に接近又は離間する方向に移動可能な少なくとも1つの保持部を含む少なくとも2つの保持部と、前記移動可能な支持部及び保持部を、同時又は個別に駆動する駆動機構とを有し、物体を一側の面少なくとも3点、側面少なくとも2点の合計5点以上で保持可能となっている。そして、第1の保持装置は、上下動装置により、試料台に対して接近又は離間するように重力方向に駆動される。従って、本発明の搬送装置によれば、物体の側面に保持部を機械的に接触させて位置合わせ(アライメント)を行うことができるとともに、物体の一側の面(裏面)の少なくとも3点をバキューム等の手段を用いることなく支持することができる。この結果、物体の位置合わせのために、従来用いられていた光学センサを用いる必要がなくなり、その光学センサの設置スペースの確保が不要となる。また、第1の保持装置に、物体の裏面をバキュームにより吸着支持するための広い面積の支持面を設ける必要がなくなる。このため、物体を試料台に搭載する(あるいは試料台上の物体を搬出する)際に、その物体の裏面をそれぞれ支持する少なくとも3つの支持部と試料台との機械的な干渉を回避するために前記試料台に設けられる切り欠きを極力小さくすることができ、これにより、試料台に搭載される物体の平坦度(フラットネス)を向上することができる。
【0018】
この場合において、請求項2に記載の搬送装置の如く、前記物体は、略V字状又は略U字状の切り欠き(N)が形成された円盤状形状を有し、前記少なくとも3つの支持点のうちの1つの特定支持点は、前記物体を前記切り欠きの近傍で支持し、前記上下動装置により前記第1の保持装置が前記試料台に接近する方向に駆動された際に、前記切り欠きの形状に対応した形状の変形部分(G1)を有する吸着用凸部(128)が前記試料台に形成され、該吸着用凸部の前記変形部分は前記特定支持点が前記試料台に接触するのを回避する回避部を兼ねることとすることができる。
【0019】
この場合において、請求項3に記載の搬送装置の如く、前記第1の保持装置は、前記切り欠きが所定方向を向いた第1の状態と、前記切り欠きが前記第1の状態から90°回転した第2の状態とのいずれの状態で搬入される物体にも対応可能であり、前記第1の状態と第2の状態との相違による前記物体の位置ずれ量を算出し該位置ずれ量が物体の保持部材への搬入時に補正されるように、前記保持装置と前記試料台との相対位置関係を補正する補正装置(50,20)を更に備えることとすることができる。
【0020】
上記請求項1〜3に記載の各搬送装置において、請求項4に記載の搬送装置の如く、前記支持部と前記保持部とは、同数設けられ、各支持部と各保持部とは同一部材に設けられ、前記駆動機構は、前記移動可能な前記支持部及び前記保持部を同時に駆動することとすることができる。
【0021】
上記請求項1〜4に記載の各搬送装置において、請求項5に記載の搬送装置の如く、前記第1の保持装置を駆動する駆動軸とは分離された前記上下動装置の本体部に固定され、物体を前記試料台に対向する一側の面少なくとも3点、側面少なくとも2点の合計5点以上で保持可能な第2の保持装置を更に備え、前記第2の保持装置は、前記物体の一側の面の外縁部の近傍をそれぞれ支持するとともに、その支持された前記物体に接近又は離間する方向に移動可能な少なくとも1つの支持部を含む少なくとも3つの支持部と、前記物体の側面に異なる方向から当接して前記物体を保持するとともに、前記物体に接近又は離間する方向に移動可能な少なくとも1つの保持部を含む少なくとも2つの保持部と、前記移動可能な前記支持部及び前記保持部を、同時又は個別に駆動する駆動機構とを有することとすることができる。
【0022】
この場合において、請求項6に記載の搬送装置の如く、前記第2の保持装置を構成する前記支持部と前記保持部とは、同数設けられ、各支持部と各保持部とは同一部材に設けられ、前記駆動機構は、前記移動可能な前記支持部及び前記保持部を同時に駆動することとすることができる。
【0023】
上記請求項5及び6に記載の各搬送装置において、請求項7に記載の搬送装置の如く、前記物体を搬送するとともに、前記物体に対して加圧気体を噴出して前記物体を浮上させる気体供給部(77)を有する搬送アーム(66A,66B)と;前記搬送アームから前記第1及び第2の保持装置のうち少なくとも一方の特定の保持装置に対する物体の受け渡し時に、その特定の保持装置の少なくとも3つの保持部により前記物体を取り囲んだ状態で、前記気体供給部の作動を開始し、前記物体が浮上した状態で、前記駆動機構を介して前記少なくとも3つの保持部により物体側面を保持する制御装置(50,20)と;を更に備えることとすることができる。
【0024】
この場合において、請求項8に記載の搬送装置の如く、前記搬送アームは、前記物体を真空吸引する真空吸引部を更に有し、前記制御装置は、前記搬送アームから前記特定の保持装置に対する物体の受け渡し時に、前記気体供給部の作動開始に先立って前記真空吸引部の作動を停止することとすることができる。
【0025】
請求項9に記載の発明は、マスク(R)に形成されたパターンを感光物体(W)上に転写する露光装置であって、請求項1〜8のいずれか一項に記載の搬送装置と;前記搬送装置により前記感光物体が搭載される前記試料台が載置され、2次元面内で移動する物体ステージ(WST)と;を備える露光装置である。
【0026】
これによれば、請求項1〜8のいずれか一項に記載の搬送装置により、物体ステージ上に載置された試料台上に感光物体が搭載されるので、感光物体の位置合わせのために従来用いられていた光学センサなどを試料台周辺に配置する必要がなく、また、試料台上に該試料台と、少なくとも3つの支持部との機械的な干渉を回避するために設けられる切り欠きを極力小さくすることができ、これにより、試料台により保持される感光物体の平坦度(フラットネス)を向上することができる。従って、装置の小型化が可能になるとともに、平坦度が向上した感光物体に対して露光(パターンの転写)が行われるので、感光物体の凹凸に起因するパターン転写精度の劣化を抑制した高精度な露光が可能となる。
【0027】
【発明の実施の形態】
《第1の実施形態》
以下、本発明の第1の実施形態を図1〜図11に基づいて説明する。
【0028】
図1には、本第1の実施形態に係る露光装置10が概略的に示されている。露光装置10は、不図示の光源からの照明光によりマスクとしてのレチクルRを照明する照明ユニットILU、レチクルRを保持するマスクステージとしてのレチクルステージRST、レチクルRから射出される照明光を物体(感光物体)としてのウエハW1(又はW2)上に投射する投影光学系PL、及びウエハW1,W2をそれぞれ保持する2つのウエハステージWST1、WST2等を備えている。この露光装置10は、更に、レチクルステージRST、投影光学系PL及びウエハステージWST1,WST2等を保持する本体ボディBDを備えている。
【0029】
前記光源としては、例えばKrFエキシマレーザ光(波長248nm)、ArFエキシマレーザ光(波長193nm)、あるいはF2レーザ光(波長157nm)等のパルス紫外光を出力するパルスレーザ光源が用いられている。
【0030】
前記照明ユニットILUは、例えば、照明系ハウジング40と、該照明系ハウジング40内に所定の位置関係で配置された、可変減光器、ビーム整形光学系、オプティカルインテグレータ(フライアイレンズ、内面反射型インテグレータ、あるいは回折光学素子など)、集光光学系、振動ミラー、照明系開口絞り板、リレーレンズ系、レチクルブラインド、メインコンデンサレンズ、ミラー及びレンズ系等を備え、レチクルステージRST上に保持されたレチクルR上の所定の照明領域(X軸方向に直線的に伸びたスリット状又は矩形状の照明領域)を均一な照度分布で照明する。ここで、レチクルRに照射される矩形スリット状の照明光は、図1中の投影光学系PLの円形投影視野の中央にX軸方向(非走査方向)に細長く延びるように設定され、その照明光のY軸方向(走査方向)の幅はほぼ一定に設定されている。
【0031】
照明ユニットILUとしては、例えば、特開平1−259533号公報(対応米国特許第5,307,207号)等に開示されるものと同様の構成のものが用いられる。
【0032】
前記本体コラムBDは、クリーンルームの床面F上に水平に載置された矩形板状のベースプレートBP、該ベースプレートBP上面に設けられた上下方向に所定の長さで伸びる複数本(ここでは4本)の第1支柱42(但し、図1では、紙面奥側に位置する2本の第1支柱については不図示、図2参照)、該第1支柱42により複数点(ここでは4点)で支持されたベースフレーム46、該ベースフレーム46上に配置された複数(ここでは3つ)の防振ユニット44(但し、図1の紙面奥側に位置する防振ユニットについては不図示)により複数点(ここでは3点)で支持された架台ST、及びベースプレートBP上に配置された複数(ここでは3つ)の防振ユニット56(ただし、図1の紙面奥側に位置する防振ユニットについては不図示)により3点で支持されたウエハステージ定盤54等を備えている。このうち、ベースプレートBPと4本の第1支柱42とによってフレームキャスタFCが構成されている。
【0033】
前記架台STは、その底板部を構成する鏡筒定盤59と、この鏡筒定盤59上面にそれぞれ固定された上下方向に延びる複数本(ここでは3本)の第2支柱58(ただし、図1の紙面奥側に位置する第2支柱については不図示)と、これら3本の第2支柱58によりほぼ水平に支持された矩形板状のレチクルステージ定盤60とを備えている。
【0034】
前記鏡筒定盤59には、その中央部に投影光学系PLを挿入可能な円形開口(不図示)が形成されている。この円形開口内に、投影光学系PLが上方から挿入され、投影光学系PLは、その鏡筒部の高さ方向ほぼ中央に設けられたフランジFLGを介して鏡筒定盤59に支持されている。また、鏡筒定盤59には、前記円形開口から+Y側、−Y側にそれぞれ同一距離だけ離れた位置に一対の円形開口(不図示)がそれぞれ形成され、この一対の円形開口内にアライメント系ALG1,ALG2が挿入され、前述の投影光学系PLと同様にして支持されている。
【0035】
鏡筒定盤59は、前述した3つの防振ユニット44によりほぼ水平に支持されている。これら防振ユニット44のそれぞれは、ベースフレーム46の上面に配置されたエアダンパ又は油圧式のダンパ等の大重量に耐える機械式のダンパと、ボイスコイルモータ等の電磁式のアクチュエータより成る電磁式のダンパとを含んで構成されている。そして、ベースフレーム46の上面の水平面に対する傾斜角が変位センサ(不図示)によって検出され、この変位センサの検出値に基づいて、主制御装置50により、前記の傾斜角が許容範囲内に収まるように、3つの防振ユニット44を構成する電磁式のダンパが駆動され、必要に応じて機械式のダンパの空気圧又は油圧等が制御される。この場合、機械式のダンパによって、床からの高い周波数の振動(暗振動)は露光装置10に伝わる前に減衰され、残存している低い周波数の振動は電磁的なダンパによって減衰される。上記の変位センサとしては、例えば、ベースフレーム46に取り付けられた電気式の水準器、又は光学式の傾斜角検出器等を用いることができる。
【0036】
前記レチクルステージ定盤60は、平面視(上方から見て)矩形の板部材から構成されており、その中央部には照明光ILを通過させるための開口60aが形成されている。
【0037】
前記ウエハステージ定盤54を支持する前記3つの防振ユニット56のそれぞれは、前述した防振ユニット44と同様の構成となっている(但し、耐荷重性は異なる)。そして、ウエハステージ定盤54上面の水平面に対する傾斜角が不図示の変位センサによって検出され、この変位センサの検出値に基づいて、主制御装置50により、前記傾斜角が許容範囲内に収まるように、3つの防振ユニット56が個別に制御される。なお、この場合も、変位センサとして、例えば、ウエハステージベース54に取り付けられた電気式の水準器、又は光学式の傾斜角検出器等を用いることができる。
【0038】
前記レチクルステージRSTは、架台STを構成する前記レチクルステージ定盤60上に配置され、レチクルステージ定盤60の上面はレチクルステージRSTの移動面(移動ガイド面)とされている。レチクルステージRSTは、レチクルRをバキュームチャックあるいは静電チャック等により吸着保持し、例えばリニアモータ等を含む不図示のレチクルステージ駆動系によって駆動され、レチクルRをレチクルステージ定盤60上でY軸方向に大きなストロークで直線駆動するとともに、X軸方向とθz方向(Z軸回りの回転方向)に関しても微小駆動が可能な構成となっている。
【0039】
前記レチクルステージRSTのXY面内の位置(Z軸回りの回転であるθz回転を含む)は、その一部に設けられた移動鏡79を介してレチクルステージ定盤60に固定されたレチクルレーザ干渉計64によって所定の基準位置(レファレンス位置であって、一般には、投影光学系PLなどに固定された参照鏡の位置となる)を基準として0.5〜1nm程度の分解能で検出される。なお、実際には、レチクルステージRST上面の+Y側端部に一対のレトロリフレクタから成るY軸移動鏡が設置され、+X側端部には平面ミラーから成るX軸移動鏡がY軸方向に沿って延設されている。また、これらに対応して不図示ではあるが、Y軸方向の位置計測に用いられる一対のY軸レーザ干渉計と、X軸方向の位置計測に用いられるX軸レーザ干渉計とがそれぞれ設けられている。このように、移動鏡及びレーザ干渉計はともに複数設けられているが、図1ではこれらが代表的に移動鏡79、レチクルレーザ干渉計64として図示されている。なお、レチクルステージRSTの端面を鏡面加工して反射面(上記各移動鏡の反射面に相当)を形成しても良い。また、レチクルレーザ干渉計は、レチクルステージRSTの下面に設けられる反射面と、投影光学系PLが載置される鏡筒定盤59に設置される反射面とにレーザビームを照射し、投影光学系PLの光軸方向(Z軸方向)に関する相対位置関係を検出しても良い。このとき、XY平面内の複数点でそれぞれZ軸方向の相対位置関係を検出し、レチクルステージRSTについてZ軸方向の位置情報に加えてXY平面に対する傾斜情報(すなわち、X軸回りの回転量とY軸回りの回転量との少なくとも一方)を求めるようにしても良い。
【0040】
レチクルレーザ干渉計64によって計測されるレチクルステージRST(すなわちレチクルR)の位置情報(又は速度情報)はステージ制御装置20に送られる。ステージ制御装置20は、基本的にはレチクルレーザ干渉計64から出力される位置情報(或いは速度情報)が指令値(目標位置、目標速度)と一致するようにレチクルステージ駆動系を制御する。
【0041】
前記投影光学系PLとしては、ここでは、物体面側(レチクルR側)と像面側(ウエハW1(又はW2)側)の両方がテレセントリックで円形の投影視野を有し、石英やホタル石を光学硝材とした屈折光学素子(レンズ素子)のみから成る1/4、1/5又は1/6縮小倍率の屈折光学系が使用されている。このため、レチクルRにパルス紫外光が照射されると、レチクルR上の回路パターン領域のうちのパルス紫外光によって照明された部分からの結像光束が投影光学系PLに入射し、その回路パターンの部分倒立像がパルス紫外光の各パルス照射の度に投影光学系PLの像面側の円形視野の中央にスリット状または矩形状に制限されて結像される。これにより、投影された回路パターンの部分倒立像は、投影光学系PLの結像面に配置されたウエハW1(又はW2)上の複数のショット領域のうちの1つのショット領域表面のレジスト層に縮小転写される。
【0042】
前記ウエハステージWST1,WST2は、ウエハステージ定盤54の上方に配置され、例えばリニアモータ等を含むウエハステージ駆動系により駆動され、Y軸方向に連続移動するとともに、X軸方向及びY軸方向にステップ移動する。
【0043】
前記ウエハステージWST1、WST2の上面には、試料台としてのウエハホルダH1,H2(図1では図示せず、図2参照)をそれぞれ介してウエハW1、W2が真空吸着等によりそれぞれ保持されている。また、ウエハステージWST1、WST2それぞれの上面には、アライメント系ALG1、ALG2のベースライン計測に用いられる基準マークその他の基準マークが形成された基準マーク板(不図示)がそれぞれ固定されている。これらの基準マーク板はその表面がウエハW1、W2とほぼ同一高さとされている。また、ウエハステージWST1、WST2それぞれの上面には、移動鏡70、74がそれぞれ設けられている。なお、実際には、図2に示されるように、一方のウエハステージWST1の上面には、−Y側端部にX軸方向に延びるY移動鏡70Yが固定され、−X側端部にY軸方向に延びるX移動鏡70Xが固定されている。また、他方のウエハステージWST2の上面には、+Y側端部にX軸方向に延びるY移動鏡74Yが固定され、−X側端部にY軸方向に延びるX移動鏡74Xが固定されている。このように、ウエハステージWST1、WST2の上面には各2つの移動鏡が設けられているが、図1ではこれらの移動鏡が移動鏡70、74として代表的に図示されている。
【0044】
上記移動鏡70、74をそれぞれ介して、ウエハステージWST1、WST2のXY位置及び回転量(θz方向の回転量(ヨーイング量)、Y軸回りの回転方向(θy方向)の回転量(ローリング量)、X軸回りの回転方向(θx方向)の回転量(ピッチング量))が、ウエハ干渉計システムによってそれぞれ所定の分解能、例えば0.5〜1nm程度の分解能でリアルタイムに計測されている。
【0045】
これを更に詳述すると、ウエハ干渉計システムは、図2に示されるように、一対のウエハY軸干渉計72,78と、3つのウエハX軸干渉計71,73,75とを含んで構成されている。ウエハY軸干渉計72,78は、投影光学系PLの光軸及びアライメント系ALG1,ALG2の検出中心を通るY軸方向の測長軸をそれぞれ有し、ウエハステージWST1上のY移動鏡70Y、ウエハステージWST2上のY移動鏡74Yに対してそれぞれ測長ビームを各複数本照射し、ウエハステージWST1、WST2のY軸方向の位置、ピッチング量、ヨーイング量を常時それぞれ計測している。
【0046】
前記ウエハX軸干渉計73は、投影光学系PLの光軸を通るX軸方向の測長軸を有し、残りのウエハX軸干渉計71,75は、アライメント系ALG1、ALG2の検出中心をそれぞれ通るX軸方向の測長軸をそれぞれ有している。ウエハX軸干渉計73は、投影光学系PLの下方でウエハステージWST1又はWST2が移動する露光の際などに、X軸移動鏡70X又は74Xに複数本のX軸方向の測長ビームを照射し、ウエハステージWST1又はWST2のX軸方向の位置及びローリング量を計測する。前記ウエハX軸干渉計71は、アライメント系ALG1の下方でウエハステージWST1が移動するウエハアライメントの際などに、X軸移動鏡70Xに複数本のX軸方向の測長ビームを照射し、ウエハステージWST1のX軸方向の位置及びローリング量を計測する。さらに、ウエハX軸干渉計75は、アライメント系ALG2の下方でウエハステージWST2が移動するウエハアライメントの際などに、X軸移動鏡74Xに測長ビームを照射し、ウエハステージWST2のX軸方向の位置及びローリング量を計測する。
【0047】
すなわち、本実施形態では、ウエハステージWST1、WST2のいずれについても、露光時、並びにアライメント時及びウエハ交換時のいずれの時にも、いわゆるアッベ誤差がない状態でXY位置を計測できるようになっている。
【0048】
なお、上記移動鏡70X,70Y,74X,74Yに代えて、ウエハステージWST1、WST2の端面を鏡面加工して反射面(上記各移動鏡の反射面に相当)を形成しても良い。
【0049】
また、本実施形態では、上述の如く、X軸及びY軸干渉計はそれぞれ測長軸を複数有する多軸干渉計が用いられているが、少なくとも1つの多軸干渉計は45°傾いてウエハステージWST1又はWST2に設置される反射面を介して、投影光学系PLが載置される鏡筒定盤59に設置される反射面にレーザビームを照射し、投影光学系PLの光軸方向(Z軸方向)に関する相対位置情報を検出するようにしても良い。このとき、XY平面内の複数点でそれぞれZ軸方向の相対位置関係を検出し、ウエハステージWST1又はWST2についてZ軸方向の位置情報に加えてXY平面に対する傾斜情報を求めるようにしても良い。
【0050】
上述したウエハ干渉計システムの各干渉計で計測されるウエハステージWST1、WST2の位置情報は、図1のステージ制御装置20に供給されるようになっている。ステージ制御装置20は、基本的にはウエハ干渉計システムから出力される位置情報(或いは速度情報)が指令値(目標位置、目標速度)と一致するようにウエハステージ駆動系を制御する。
【0051】
前記ウエハホルダH1は、図3(A)の平面図に示されるように、円形板状のベース部126、該ベース部126の上面(図3(A)における紙面手前側の面)の外周縁の近傍の所定幅の環状領域を除く中央部の所定面積の領域に所定間隔(例えば数mm間隔)で設けられた複数の突起状のピン部132,132,……、及びこれら複数のピン部132が配置された前記領域を取り囲む状態で外周縁近傍に設けられた概略環状の吸着用凸部としての凸部(以下、「リム部」と称する)128等を備えている。
【0052】
ウエハホルダH1は、低膨張率の材料(熱膨張係数の絶対値が小さい材料)、例えばセラミックス等より成り、全体として円盤状のセラミックス等の材料の表面をエッチングすることによって、円形板状のベース部126と、このベース部126上面に凸設されたリム部128及び複数のピン部132が一体的に形成されている。
【0053】
図3(B)には、ウエハホルダH1の縦断面図の一部が示されている。この図3(B)からわかるように、前記各ピン部132は、それぞれの先端部分がリム部128とほぼ同一面上に位置するようにされた突起状の形状を有している。
【0054】
前記リム部128は、ベース部126の外縁部に沿ったほぼ円環状の形状を有し、その中央部には図3(B)に示されるように所定深さの溝128cが形成されている。すなわち、リム部128は、溝128cを挟んで、2つのリム部(内側リム部128aと外側リム部128b)により構成されている。
【0055】
また、リム部128は、ウエハのノッチ(V字状の切欠き)Nに対応して形成された凹部G1と、凹部G1に対して図3(A)における反時計回りに90°の位置に形成された凹部G1よりも小さな凹部(以下、「小凹部」と呼ぶ)G2と、凹部G1から時計回りに135°すなわち小凹部G2から反時計回りに135°の位置に形成された小凹部G3とを有している。
【0056】
このようにして構成されるウエハホルダH1は、セラミックス等の素材を円盤状に形成し、その表面(一方の面)にエッチングを施して、ベース部126、ピン部132及びリム部128を一体成形した後に、最終的にウエハWとの接触面となる、複数のピン部132の上端面及びリム部128の上面に、研磨装置、砥粒等を用いて、研磨加工を施すことにより、製造される。従って、複数のピン部132の上端面とリム部128の上面とはほぼ同一平面上に位置している。
【0057】
また、不図示ではあるが、リム部128で囲まれた領域内のベース部126の上面には、ウエハWが載置された際に、ウエハWとリム部128及び複数のピン部132との間に形成される閉空間内を真空吸引するための複数の吸引孔が形成されている。この複数の吸引孔を介して不図示のバキュームポンプにより前記閉空間内の気体が吸引されることにより、その閉空間が外部に対して負圧となり、外部の気体との圧力差により、ウエハWがウエハホルダH1に吸着保持される。
【0058】
なお、ウエハステージWST2側のウエハホルダH2も上述したウエハホルダH1と同様に構成されている。
【0059】
図1に戻り、前記アライメント系ALG1、ALG2は、同じ機能を持ったオフアクシス(off−axis)方式のマーク検出系である。これらのアライメント系ALG1、ALG2としては、本実施形態では、画像処理方式の結像式アライメントセンサの一種であるFIA(Field Image Alignment)系のアライメントセンサが用いられている。これらのアライメント系ALG1、ALG2は、光源(例えばハロゲンランプ)及び結像光学系、検出基準となる指標マークが形成された指標板、及び撮像素子(CCD)等を含んで構成されている。これらのアライメント系ALG1、ALG2では、光源からのブロードバンド(広帯域)光により検出対象であるマークを照明し、このマーク近傍からの反射光を結像光学系及び指標を介してCCDで受光する。このとき、マークの像が指標の像とともにCCDの撮像面に結像される。そして、CCDからの画像信号(撮像信号)に所定の信号処理を施すことにより、検出基準点である指標マークの中心を基準とするマークの位置を計測する。なお、指標をウエハ上のマークを照明するために使用される上記光源(ハロゲンランプ)とは別の光源(例えばLED)を用いて照明するような構成を用いることも可能である。
【0060】
なお、FIA系に限らず、コヒーレントな検出光を対象マークに照射し、その対象マークから発生する散乱光又は回折光を検出したり、その対象マークから発生する2つの回折光(例えば同次数の回折光同士又は同一方向に回折する回折光同士)を干渉させて検出したりするアライメントセンサを単独であるいは適宜組み合わせて用いることは勿論可能である。
【0061】
本実施形態では、アライメント系ALG1は、ウエハステージWST1上に保持されたウエハ上のアライメントマーク、不図示の基準マーク板上に形成された基準マークの位置計測等に用いられる。また、アライメント系ALG2は、ウエハステージWST2上に保持されたウエハ上のアライメントマーク及び不図示の基準マーク板上に形成された基準マークの位置計測等に用いられる。
【0062】
投影光学系PLの鏡筒の下端部の側方には、図1に示されるように、投影光学系PLの最良結像面に向けて複数の結像光束(検出ビーム)を光軸AX方向に対して斜め方向より供給する照射系AF1と、その結像光束のウエハWの表面での各反射光束をそれぞれスリットを介して受光する受光系AF2とから成る斜入射方式の多点焦点位置検出系AFが設けられている。この多点焦点位置検出系AF(AF1,AF2)としては、例えば特開平6−283403号公報などに開示されるものと同様の構成のものが用いられ、ウエハ表面の複数点の結像面に対するZ方向の位置偏差を検出し、ウエハWと投影光学系PLとが所定の間隔を保つようにウエハホルダをZ軸方向及び傾斜方向に駆動するために用いられる。多点焦点位置検出系AFからのウエハ位置情報は、主制御装置50を介してステージ制御装置20に送られる。ステージ制御装置20はこのウエハ位置情報に基づいてウエハホルダH1,H2をZ軸方向及び傾斜方向に駆動する。
【0063】
さらに、ウエハステージ定盤54の+X側には、図2に示されるように、ウエハステージWST1、WST2それぞれに対するウエハのロード及びアンロードを行うための、ウエハ搬送ロボット63A、63Bが配置されている。
【0064】
一方のウエハ搬送ロボット63Aは、多関節ロボットアームから成るロボットアーム66Aと、該ロボットアーム66Aを伸縮(回転を含む)、旋回、及び上下動させるアーム駆動機構62Aとを備えている。前記ロボットアーム66Aの先端部に設けられたハンド部76Aには、複数(図2では3つ)の給排気部77が設けられている。各給排気部77には、不図示の開口が形成され、該開口は、配管及び切り替え機構を介してバキュームポンプ及び気体供給装置(いずれも図示省略)に接続されている。切り替え機構、バキュームポンプ及び気体供給装置は、いずれもステージ制御装置20に接続されている。この場合、ステージ制御装置20は、3つの給排気部77に接続された配管を、切り替え機構を介してバキュームポンプ及び気体供給装置に択一的に接続することができるようになっており、前記配管がバキュームポンプに接続された場合には、給排気部77は、ハンド部76Aに載置された物体、例えばウエハを吸着し、前記配管が気体供給装置に接続された場合には、給排気部77から気体が噴出される。
【0065】
他方のウエハ搬送ロボット63Bは、上記ウエハ搬送ロボット63Aと同様に構成されている。すなわち、ウエハ搬送ロボット63Bは、多関節ロボットアームから成るロボットアーム66Bと、該ロボットアーム66Bを伸縮(回転を含む)、旋回、及び上下動させるアーム駆動機構62Bとを備えている。前記ロボットアーム66Bの先端部には、前述のハンド部76Aと同様に構成されたハンド部76Bが設けられている。
【0066】
なお、ステージ制御装置20による、ウエハ搬送ロボット63A、63Bの制御動作については、後述する。
【0067】
ウエハステージ定盤54の+X側端部のY軸方向の一側及び他側の上方には、図2に示されるように、搬送装置としてのプリアライメント装置80A,80Bがそれぞれ設けられている(図1参照)。一方のプリアライメント装置80Aは、ステージ制御装置20に制御され、ウエハ搬送ロボット63A、ウエハステージWST1との間でウエハの受け渡しを行うとともに、ウエハステージWST1にロードされるウエハのプリアライメントを行う。他方のプリアライメント装置80Bは、ステージ制御装置20に制御され、ウエハ搬送ロボット63B、ウエハステージWST2との間でウエハの受け渡しを行うとともに、ウエハステージWST2にロードされるウエハのプリアライメントを行う。なお、ステージ制御装置20によるプリアライメント装置80A、80Bの制御動作についても後述する。
【0068】
前記一方のプリアライメント装置80Aは、図4(A)及び図4(B)に示されるように、ベースフレーム46の下面に吊り下げ支持された上下動装置としてのエレベータユニット81を備えている。このエレベータユニット81は、内部に不図示の駆動機構を内蔵するエレベータユニット本体83と、該エレベータユニット本体83内の前記駆動機構によって重力方向(図4(A)の上下方向)に沿って駆動される駆動軸97とを備えている。
【0069】
前記エレベータユニット本体83の下端部の外周面には、側面視略L字状の3本のアーム82A,82B,82Cが所定間隔で設けられている。これら3本のアーム82A〜82Cは、図4(A)に示されるように、エレベータユニット本体83の側面に一端部が固定され、その側面から放射方向にそれぞれ延びるほぼ同一長さの水平部と、該水平部の他端部から垂直下方に延び、その下端に内側に向かって延びる曲折部が形成された鉛直部とを、それぞれ有している。また、アーム82A〜82Cそれぞれの曲折部には、ウエハ保持機構87A〜87Cがそれぞれ設けられている。
【0070】
前記ウエハ保持機構87Aは、アーム82Aの鉛直部の下端の曲折部の上面をエレベータユニット本体83の半径方向に沿って往復移動可能な平板状のスライダ85と、該スライダ85の上面に設けられた円盤状の接触部84と、該接触部84の内側のスライダ85上面に突設された支持部としての突起部86とを備えている。スライダ85は、ステージ制御装置20によって制御される不図示の駆動系によって駆動されるようになっている。その他のウエハ保持機構87B,87Cは、ウエハ保持機構87Aと同様の構成になっている。
【0071】
このため、本実施形態では、3つのウエハ保持機構87A〜87Cをそれぞれ構成する接触部84の側面(外周面)をウエハの外周面に圧接した状態で、ウエハを3つの接触部84によって挟持(保持)するとともに、3つの突起部86によりウエハの下面(裏面)を3点で支持することができるようになっている。
【0072】
前記駆動軸97の下端部近傍には、図4(A)に示されるように、所定間隔で3本のウエハ交換用アーム(以下、単に「交換用アーム」と呼ぶ)93A,93B,93Cが設けられている。このうち、交換用アーム93Bと交換用アーム93Cとが、図4(B)に示されるように、中心角90°を成す位置関係で設けられており、残りの交換用アーム93Aは、交換用アーム93B,93Cそれぞれとの間で中心角135°を成す位置関係で設けられている。
【0073】
交換用アーム93Aは、駆動軸97の側面にその一端部が固定され、水平に延びる固定部材91Aと、該固定部材91Aの他端部側に設けられ、該固定部材91Aの長手方向に沿って往復移動可能な略L字状の可動部材92Aとを備えている。可動部材92Aは、固定部材91Aの長手方向に平行な水平部と、該水平部の外側(固定部材91Aの他端部側)の端部から90°折り曲げられ、下方に延びる鉛直部とを備えている。可動部材92Aは、ステージ制御装置20により制御される不図示の駆動機構によって駆動される。可動部材92Aの鉛直部の下端部には、該鉛直部に直交して水平プレートが設けられ、該水平プレート上面の先端部に支持部としての突起部95aが突設されている(図5(A)等参照)。また、可動部材92Aの鉛直部には突起部95aよりやや上方の位置に保持部94aが設けられている。保持部94aは、中央部に貫通孔が形成された円柱状部材から成り、その貫通孔部分に可動部材92Aの鉛直部が挿入され、一体化された構造となっている。突起部95aと保持部94aとによりウエハ保持機構96Aが構成されている。
【0074】
前記交換用アーム93Bは、駆動軸97の側面に固定されたL字状部材によって構成されている。この交換用アーム93Bは、駆動軸97にその一端部が固定され、水平に延びる水平部と、該水平部の他端部側に設けられ、該水平部の外側の端部から90°折り曲げられ、下方に延びる鉛直部とを有する。この交換用アーム93Bの鉛直部の下端部には、ウエハ保持機構96Bが設けられている。このウエハ保持機構96Bは、鉛直部に直交して設けられた水平プレートと、該水平プレート上面の先端部に突設された支持部としての突起部95bと、鉛直部の突起部95bよりやや上方の位置に前述の保持部94aと同様にして設けられた保持部94bとを備えている。この場合、図4(B)から分かるように、保持部94bはウエハWのノッチ(V字状の切り欠き)Nを形成する直線状の2辺に接触するようになっている。
【0075】
残りの交換用アーム93Cは、上記交換用アーム93Bと同様のL字状部材から成り、その鉛直部の下端に前記ウエハ保持機構96Bと同様に支持部としての突起部95cと保持部94cとを含んで構成されたウエハ保持機構96Cを備えている。この場合、交換用アーム93A、93B、93Cにそれぞれ設けられたウエハ保持機構96A、96B、96Cをそれぞれ構成する突起部95a、95b、95cの先端は、同一の水平面上に位置しているとともに、保持部94a、94b、94cはほぼ同一高さ位置に設けられている。
【0076】
従って、本実施形態では、3つのウエハ保持機構96A〜96Cをそれぞれ構成する保持部94a、94b、94cの側面(外周面)をウエハの外周面に圧接した状態で、ウエハを3つの保持部94a〜94cによって挟持(保持)するとともに、3つの突起部95a〜95cによってウエハの下面(裏面)を3点で支持することができるようになっている。
【0077】
さらに、アーム82A〜82Cと交換用アーム93A〜93Cは、図4(B)に示されるように、平面視では、お互いに機械的に干渉しないような配置となっており、駆動軸97を介して交換用アーム93A〜93Cが所定高さまで上昇駆動され、3つの突起部86の先端と3つの突起部95a〜95cの先端とが同一平面上に位置する状態では、これら6つの突起部によって同時にウエハ裏面を下方から支持することができるようになっている。
【0078】
他方のプリアライメント装置80Bは、上記一方のプリアライメント装置80Aと同様に構成されている。
【0079】
次に、本実施形態の露光装置10で行われるウエハ交換動作について、一方のウエハステージWST1側を例にとって、図5(A)〜図10(B)に基づいて詳細に説明する。
【0080】
なお、露光装置10では、例えば特開平10−214783号公報(対応する米国特許第6,341,007号)などに開示されるのと同様にして、一方のウエハステージ側でウエハ交換、ウエハアライメントが行われるのと並行して、他方のウエハステージ側でウエハの露光が行われる。すなわち、露光装置10では、上記の並行処理動作の一部としてウエハ交換が行われるので、以下の説明では、適宜、上記の並行処理動作中の他方のウエハステージWST2側の動作についても説明する。但し、本実施形態の露光装置10で行われる、ウエハステージWST1、WST2上の並行処理動作は、ウエハ交換に関する動作を除き、前述した特開平10−214783号公報などに開示されており、公知であるから、最低限必要な説明に止めるものとする。
【0081】
前提として、図5(A)に示されるように、プリアライメント装置80Aを構成するアーム82A〜82C及び交換用アーム93A〜93Cはいずれもウエハを保持しておらず、また、ウエハステージWST1においては投影光学系PLの直下にてウエハ(便宜上ウエハW’とする)に対する露光動作が行われているものとする。また、これと並行して、ウエハステージWST2側では、一例としてウエハ(便宜上ウエハW”とする)に対する、EGA方式のウエハアライメントが行われているものとする。
【0082】
まず、主制御装置50からの指示に基づき、ステージ制御装置20によりアーム駆動機構62Aを介して、ウエハWを保持したロボットアーム66Aが、図5(B)に示されるように、ウエハ交換位置(プリアライメント装置80Aの直下)まで駆動される。
【0083】
次いで、主制御装置50からの指示に基づき、ステージ制御装置20により、アーム駆動機構62Aを介して、ウエハWを保持したロボットアーム66Aが、図5(C)に示される位置まで上昇駆動される。これにより、ウエハWは、アーム82A〜82Cの内側のウエハの受け渡し位置に位置決めされる。
【0084】
次いで、主制御装置50からの指示に基づき、ステージ制御装置20により、アーム82A〜82Cに設けられた保持機構87A〜87CそれぞれがウエハWに接近する方向に駆動され、保持機構87A〜87Cそれぞれの接触部84がウエハWの外縁部に対して所定距離だけ離れた接触直前の位置で停止する。図6(A)には、このときの保持機構87A〜87Cとウエハとの位置関係が、アーム82Aに設けられた保持機構87Aを代表的に採りあげて示されている。
【0085】
次いで、主制御装置50からの指示に基づき、ステージ制御装置20により、ロボットアーム66Aのハンド部76Aに設けられた3つの給排気部77が切り替え機構を介してバキュームから気体の噴出に切り替えられ、これにより図6(B)に示されるように、ウエハWがハンド部76Aの上面から僅かに浮上する。この状態で、図6(C)に示されるように、ステージ制御装置20により、保持機構87A〜87CそれぞれがウエハWに接近する方向に更に駆動され、それぞれの接触部84が、ウエハWに接触する直前に、ステージ制御装置20は、給排気部77からの気体の噴出を停止する。これにより、ウエハWが自重により僅かに下降すると同時に、保持機構87A〜87Cそれぞれの接触部84がウエハWの外縁部に当接(圧接)し、これにより、ウエハWが3つの接触部によって挟持(保持)される。また、このとき、保持機構87A〜87Cそれぞれの突起部86がウエハWの裏面に接触している。すなわち、このとき、ウエハWは、3つの接触部84でその側面の3点が保持されるとともに、裏面が3つの突起部86によって3点支持されている。
【0086】
その後、主制御装置50からの指示に基づき、ステージ制御装置20により、アーム駆動機構62Aを介してロボットアーム66Aが所定量下降駆動される。図6(D)には、このロボットアーム66Aの下降開始直後のハンド部76Aの状態が示されている。また、図7(A)には、ロボットアーム66Aの下降終了時の状態が示されている。
【0087】
その後、主制御装置50からの指示に基づき、ステージ制御装置20により、ロボットアーム66が、アーム駆動機構62を介して駆動され、プリアライメント装置80Aの直下から退避する。
【0088】
上記のウエハWのロボットアーム66Aから保持機構87A〜87Cへの受け渡しが行われている間も、ウエハステージWST1上ではウエハW’に対する露光が続行されているとともに、ウエハステージWST2側は、前述のウエハアライメントが終了して待機状態となっているものとする。そして、一定時間経過後、ウエハステージWST1上のウエハW’に対する露光が終了すると、主制御装置50の指示に基づき、ステージ制御装置20により、ウエハステージWST1が、図7(B)に示されるように、ウエハ交換位置(プリアライメント装置80Aの直下)まで移動される。このウエハステージWST1のウエハ交換位置への移動と並行して、先にウエハアライメントが終了しているウエハW”を保持したウエハステージWST2が、露光位置(投影光学系PLの直下)に移動される。
【0089】
そして、所定の準備作業(ウエハアライメントの結果得られた各ショット領域の位置座標と露光位置(レチクルパターンの投影位置)との関連付けなど)の後、主制御装置50によってステージ制御装置20その他の制御装置を介してウエハステージWST2上のウエハW”に対するステップ・アンド・スキャン方式の露光が開始される。このウエハW”に対する露光の開始と並行して、ステージ制御装置20により、エレベータユニット81の駆動軸97が下降駆動され、このようにして交換用アーム93A〜93Cの下降駆動が開始される。図7(B)には、この交換用アーム93A〜93Cの下降途中の状態が示されている。
【0090】
そして、交換用アーム93A〜93Cは、図7(C)に示される位置まで下降した段階で停止する。このとき、交換用アーム93A〜93Cにそれぞれ設けられたウエハ保持機構96A、96B、96Cをそれぞれ構成する突起部95a、95b、95cは、いずれもウエハW’の外側に位置している。このとき、可動部材92Aは、エレベータユニット本体83とは反対側の移動限界位置にある。
【0091】
次に、主制御装置50の指示に基づき、ステージ制御装置20によってウエハステージWST1がXY面内で微小駆動され、交換用アーム93B,93Cの突起部95b、95cが、ウエハホルダH1の凹部G1,小凹部G2内に挿入され、ウエハWのノッチN近傍、周縁部近傍の裏面側にそれぞれ挿入された状態となる。
【0092】
次いで、ステージ制御装置20により、ウエハホルダH1によるウエハ(露光済みのウエハ)W’の真空吸着が解除され、交換用アーム93Aを構成する可動部材92Aが固定部材91Aに沿ってウエハW’の中心に向かって駆動される。これにより、交換用アーム93Aに設けられたウエハ保持機構96Aを構成する突起部95aがウエハホルダH1の小凹部G3内に挿入され、ウエハW’の周縁部近傍の裏面側に位置する。その後、ステージ制御装置20により、交換用アーム93A〜93Cが所定量上昇駆動されることにより、その上昇の途中でウエハW’が交換用アーム93A〜93Cにそれぞれ設けられたウエハ保持機構96A〜96Cによって保持され、ウエハホルダH1からアンロードされる。このとき、ウエハW’は、ウエハ保持機構96A〜96Cをそれぞれ構成する突起部95a〜95cによってその裏面が3点支持されるとともに、保持部94a〜94cによって、その側面の3箇所が保持されている。図8(A)には、このようにしてウエハW’がウエハホルダH1からアンロードされた後の状態が示されている。この図8(A)の状態では、未露光のウエハWと露光済みのウエハW’とが、上下方向に重なった状態となっている。
【0093】
次いで、主制御装置50からの指示に基づき、ステージ制御装置20により、ロボットアーム66Aが、図8(A)に示されるように、プリアライメント装置80Aの直下まで再度駆動される。続いて、ロボットアーム66Aが、ステージ制御装置20により所定量上昇駆動される。このロボットアーム66Aの上昇の途中で、ロボットアーム66Aのハンド部76AがウエハW’の裏面に当接し、その後、更にロボットアーム66Aが上昇することにより、ウエハW’がウエハ保持機構96A〜96C(交換用アーム93A〜93C)からロボットアーム66Aのハンド部76Aに受け渡される。図8(B)には、このウエハW’の受け渡しが行われる直前の状態が示されている。なお、受け渡しに先立って、ハンド部76Aの3つの給排気部77によるバキュームが開始されている。
【0094】
上記のウエハW’の受け渡しが終了すると、主制御装置50からの指示に基づき、ステージ制御装置20により、交換用アーム93Aを構成する可動部材92Aが固定部材91Aに沿ってウエハW’の中心とは反対方向に(ウエハW’から離間する方向)に駆動される。そして、ステージ制御装置20により、ロボットアーム66Aのハンド部76Aが水平面内でウエハ保持機構96Aに接近する方向に僅かに駆動される。これにより、ウエハW’の下方にウエハ保持機構96A〜96Cをそれぞれ構成する突起部95a〜95cが位置しなくなる。
【0095】
そこで、主制御装置50の指示に基づき、ステージ制御装置20により、ウエハW’を保持したロボットアーム66Aが、所定量下降駆動される。図8(C)には、ロボットアーム66Aが、ウエハW’を保持して交換用アーム93A〜93Cよりも下方の所定高さまで下降駆動された状態が示されている。
【0096】
次に、図9(A)に示されるように、ステージ制御装置20により、アーム駆動機構62Aを介してロボットアーム66Aが縮められ、露光済みウエハW’はウエハ交換位置から退避する。
【0097】
次いで、ステージ制御装置20により、エレベータユニット81を介して交換用アーム93A〜93Cが上昇駆動され、この途中で交換用アーム93Aの可動部材92Aが固定部材91Aに沿ってウエハWの中心方向に所定量駆動される。これにより、3つの突起部95a〜95cがウエハWの裏面に当接可能な配置となる。そして、ステージ制御装置20により、エレベータユニット81を介して交換用アーム93A〜93Cが上昇駆動されることにより、ウエハWの裏面に保持機構87A〜87Cの3つの突起部86、及びウエハ保持機構96A〜96Cの突起部95a〜95cの合計6つの突起部が同時に接触する。このとき、保持機構87A〜87Cの3つの接触部84とウエハ保持機構96A〜96Cの保持部94a〜94cが、同時にウエハWの側面に接触し、ウエハWの側面を6点で保持した状態となる。図9(B)には、このときの状態が示されている。
【0098】
その後、ステージ制御装置20により、エレベータユニット81を介して交換用アーム93A〜93Cがさらに上昇駆動されると(更なる上昇駆動)、ウエハWは、保持機構87A〜87Cの3つの突起部86から離間し、その裏面が突起部95a〜95cにより3点で支持されるとともに、保持部94a〜94cによってその側面が3箇所で挟持(保持)されるようになる。これと同時に、ステージ制御装置20により、保持機構87A〜87CがウエハWから離間する方向に駆動される。このようにして、アーム82A〜82Cから交換用アーム93A〜93CへのウエハWの受け渡しが終了する。なお、保持機構87A〜87Cの3つの接触部84がウエハWの側面に接触した状態のままで交換用アーム93A〜93Cの上述の「更なる上昇駆動」を行うと、ウエハにストレスを与えるおそれがあるため、好ましくは、この「更なる上昇駆動」を開始する前に、保持機構87A〜87CのウエハWからの離間動作(接触部84のウエハ側面からの退避動作)を行うように動作すれば良い。具体的には、保持部94a〜94cがウエハ側面に接触したことを検知するセンサを設けたり、あるいは交換用アーム93A〜93Cの上昇位置をモニタするようにしたりして、ウエハ側面が保持部94a〜94cに保持されている状態を検知した後に、接触部84の退避動作を開始するようにすれば良い。
【0099】
上記の交換用アーム93A〜93CへのウエハWの受け渡し終了後、ステージ制御装置20により、ウエハWを保持した交換用アーム93A〜93Cがエレベータユニット81を介して下降駆動される。このとき、交換用アーム93A〜93Cの突起部95a〜95cは、それぞれウエハホルダH1の小凹部G3、凹部G1、小凹部G2に対応した位置にある。そして、ウエハWが、図9(C)に示されるように、ウエハホルダH1に接触した段階で、ステージ制御装置20により、交換用アーム93Aの可動部材92AがウエハWから離間する方向に駆動される。次いで、ステージ制御装置20により、ウエハステージWST1が可動部材92Aが駆動された方向に水平面内で駆動される(図10(A)参照)。これにより、交換用アーム93A〜93Cの突起部95a〜95cのいずれもがウエハWの下側に位置しないようになる。この状態で図10(B)に示されるように、ステージ制御装置20により、エレベータユニット81を介して交換用アーム93A〜93Cが上昇駆動されることにより、ウエハステージWST1上へのウエハWのロードが終了し、ウエハホルダH1によるウエハWのバキュームが開始される。これにより、ウエハステージWST1におけるウエハ交換の一連の動作が終了する。
【0100】
ウエハステージWST1上でウエハ交換が行われている間、ウエハステージWST2上ではウエハW”に対するステップ・アンド・スキャン方式の露光が続行されている。
【0101】
そして、ウエハステージWST1側では、主制御装置50により、ウエハWに対するEGA方式のウエハアライメント(計測)が、アライメント系ALG1及びウエハ干渉計システムを用いて、通常のスキャニング・ステッパと同様にして行われ、ウエハW上の複数のショット領域の配列座標がアライメント座標系(Y干渉計72、X干渉計71の測長軸で規定される座標系)上で求められる。次いで、主制御装置50では、その求めたウエハW上の複数のショット領域の配列座標を、不図示の基準マーク板の基準マークを原点とする座標値に変換する。そして、このようにしてウエハアライメントが終了すると、ウエハステージWST1側は待ち状態となる。
【0102】
そして、ウエハステージWST2上のウエハW”に対する露光が終了すると、主制御装置50の指示に基づき、ステージ制御装置20により、ウエハステージWST1が、投影光学系PLの下方からウエハ交換位置(右側ローディングポジション)に移動される。その後、ウエハステージWST2側では、前述したウエハステージWST1側と同様にしてウエハ交換が行なわれる。
【0103】
一方、ウエハステージWST2が、ウエハ交換位置に移動するのとほぼ同時に、主制御装置50の指示に基づき、ステージ制御装置20により、ウエハステージWST1が投影光学系PLの下方の露光位置に移動される。この露光位置への移動が終了し、露光が開始されるのに先立って、主制御装置50では、不図示の一対のレチクルアライメント系を用いて、レチクルR上の一対のアライメントマークと対応する不図示の基準マーク板上の基準マークとを投影光学系PLを介して同時に計測する。これにより、レチクルパターンの投影位置とウエハW上の各ショット領域との位置関係の算出(ウエハアライメントの結果得られた各ショット領域の位置座標と露光位置(レチクルパターンの投影位置)との関連付け)が終了する。
【0104】
その後、主制御装置50では、通常のスキャニング・ステッパと同様にして、ウエハW上の複数のショット領域にステップ・アンド・スキャン方式にてレチクルRのパターンを順次転写する。
【0105】
なお、1枚目のウエハをウエハステージ上にロードする場合、ウエハステージ上にはウエハが載置されていない状態であるので、アーム82A〜82Cにて保持させる必要はなく、ロボットアームから直接交換用アーム93A〜93Cにウエハを搬送することが望ましい。
【0106】
これまでの説明から明らかなように、本実施形態の露光装置10では、交換用アーム93A,93B,93Cによって、ウエハの裏面少なくとも3点、側面少なくとも2点の合計5点以上で保持可能な第1の保持装置が構成されている。また、エレベータユニット本体83に固定され、ウエハをウエハホルダに対向する裏面少なくとも3点、側面少なくとも2点の合計5点以上で保持可能な第2の保持装置が構成されている。主制御装置50とステージ制御装置20及びウエハステージを駆動する駆動系により補正装置が構成され、主制御装置50とステージ制御装置20とにより制御装置が構成されている。
【0107】
以上詳細に説明したように、本実施形態に係るプリアライメント装置80A(又は80B)によると、第1の保持装置(交換用アーム93A,93B,93C)は、ウエハWのウエハホルダに対向する一側の面(裏面)の外縁部の近傍を3点支持するとともに、その支持されたウエハに接近又は離間する方向に移動可能な1つの突起部95aを含む3つの突起部95a〜95cと、ウエハWの側面に異なる方向から当接してウエハを保持するとともに、ウエハに接近又は離間する方向に移動可能な1つの保持部94aを含む3つの保持部94a〜94cを有し、ウエハWを裏面3点、側面3点の合計6点で保持可能となっている。
【0108】
ここで、保持部94bは、ウエハのノッチ部を保持し、残りの保持部94a、94cは、ウエハのノッチ部以外の側面の異なる位置に当接する。また、エレベータユニット81により、交換用アーム93A〜93Cは、ウエハホルダに対して接近又は離間するように重力方向に駆動される。従って、プリアライメント装置80A(又は80B)によると、ウエハの側面に保持部94a〜94cを機械的に接触させて位置合わせ(プリアライメント)を行うことができるとともに、ウエハの裏面側の3点をバキュームチャック等を用いることなく支持することができる。これにより、ウエハWの位置合わせのために、従来用いられていた光学センサを用いる必要がなくなり、その光学センサの設置スペースの確保が不要となる。また、交換用アーム93A,93B,93Cに、ウエハの裏面をバキュームにより吸着支持するための広い面積の支持面を設ける必要がなくなる。このため、ウエハをウエハホルダに搭載する(あるいはウエハホルダ上のウエハを搬出する)際に、そのウエハの裏面をそれぞれ支持する3つの突起部95a〜95cとウエハホルダとの機械的な干渉を回避するためにウエハホルダに設けられる凹部G1〜G3を極力小さくすることができる。すなわち、図11に示されるように点線で囲まれる領域のすべてが吸着部分とされているので、平坦な領域を広く取ることができる。これにより、ウエハホルダに搭載される(保持される)ウエハの平坦度(フラットネス)を向上することが可能となっている。
【0109】
また、本実施形態の露光装置10によると、平坦度が向上したウエハに対して露光(パターンの転写)が行われるので、図11に示される露光可能領域EAにおいては、ウエハの凹凸に起因するパターン転写精度の劣化、例えばウエハの凹凸に起因するデフォーカスなどを抑制した、高精度な露光が可能となる。この結果、露光可能領域EAを広く取ることが可能となるとともに、最終製品であるデバイスの生産性を向上することが可能となる。
【0110】
また、ウエハの位置決めは保持部により強制的に行われるので、従来のプリアライメント装置に用いられたウエハ回転機構、光学観察機構等が不要で、常に高い精度でウエハの位置決めが行われ、高性能である。また、ウエハの撓みの違いにも依存しない。
【0111】
また、上記プリアライメント装置によると、コスト、性能、速度、ピンチャックホルダとの相性、及び省スペース化の面において、非接触のアライメント装置に比べ、その効果は非常に大きい。
【0112】
また、ウエハWは、ノッチNが形成された円盤状形状を有しており、3つの支持点のうちの1つの支持点は、ウエハをノッチ近傍で支持し、エレベータユニット81により交換用アームが下降駆動された際に、ウエハホルダ上のリム部に形成されたノッチNに対応した凹部G1が突起部95bの回避部を兼ねているので、ウエハホルダのリム部に形成する凹部G1をノッチNよりも僅かに大きくとるのみで、突起部95bのウエハホルダへの接触を回避できることから、ウエハホルダにより保持されるウエハのフラットネスを向上することが可能となる。
【0113】
突起部95a〜95cと保持部94a〜94cとは、同数設けられ、各支持部と各保持部とは同一部材(交換用アーム93A〜93C)に設けられ、移動可能な突起部95aと保持部94aを同時に移動することとしているので、構成をシンプルにすることができるとともに、駆動制御を比較的容易に実現することができる。
【0114】
また、本実施形態においては、交換用アームとは別に、エレベータユニット81の本体83に固定され、ウエハをウエハホルダに対向する一側の面(裏面)3点、側面3点の6点で保持可能なアーム82A〜82Cを備えているので、ウエハ交換時において、次に露光に使用されるウエハをアーム82A〜82Cに保持させた状態で、露光が終了したウエハをウエハホルダ上からアンロードすることができる。これにより、ウエハのアンロード終了の後、すぐにウエハをウエハホルダ上にロードすることができるので、露光装置のスループットを向上することが可能となる。
【0115】
この場合、突起部と保持部とは、同数設けられ、各突起部と各保持部とはそれぞれアーム82A〜82Cに設けられ、移動可能な突起部及び保持部は同時に移動可能であるので、アームの配置及び構造をシンプルにすることができるとともに、その駆動制御を比較的簡易に実現することが可能である。
【0116】
また、本実施形態の露光装置10によると、ロボットアーム66Aは、ウエハを搬送するとともに、前記物体に対して加圧気体を噴出して前記物体を浮上させることが可能な給排気部77を有し、ロボットアーム66Aから交換用アーム93A〜93C又はアーム82A〜82Cに対するウエハの受け渡し時に、保持部によりウエハが取り囲まれた状態で、給排気部77の作動を開始し、ウエハが浮上した状態で、少なくとも3つの保持部によりウエハの側面を保持することとしているので、突起部95a〜95cがウエハの裏面を引っ掻くことがなく、これによるゴミの発生(発塵)を極力抑制することができる。
【0117】
なお、上記実施形態では、交換用アーム93A〜93Cにおいては、突起部と保持部とを同数設けることとしたがこれに限らず、突起部と保持部とは異なる数だけ設けることとしても良い。また、その数は3つに限らず、少なくとも突起部が3つ、保持部が2つあれば良い。さらに、上記実施形態では突起部と保持部とを同一部材に設けることとしたが、これに限らず、それぞれ別々に設けることとしても良い。
【0118】
なお、上記実施形態では、アーム82A〜82Cにおいても、突起部86及び接触部84を同数設けることとしたが、本発明がこれに限られるものではなく、異なる数だけ設けることとしても良い。この場合、突起部は少なくとも3つ、保持部は少なくとも2つあれば良い。また、突起部86及び保持部84をそれぞれ同一部材(同一のアーム)に設けなくても良い。
【0119】
なお、上記実施形態では、ロボットアームに給排気部77を設け、ウエハを真空吸引して吸着保持し、交換用アームへの受け渡しの際にはウエハを浮上させることとしたが、これに限られるものではなく、例えば、真空吸引機構のみを設けるものとしても良いし、あるいは、真空吸引機構及び給気機構を別々に設けるものとしても良い。
【0120】
なお、上記実施形態における交換用アーム93A〜93Cの配置、アーム82A〜82Cの配置は、各アームが機械的に干渉しないで、かつロボットアーム66A,66Bが交換用アーム及びアームにウエハを受け渡すことができる配置であれば、任意で良い。
【0121】
更に、アーム82A〜82Cは、ウエハを交換用アーム93A〜93Cの近傍で待機させるための機能を有するので、アーム82A〜82Cを設けずに、別のウエハを待機させる機構を設けることとしても良い。
【0122】
また、上記実施形態では、交換用アーム93A〜93Cのうち、駆動可能な交換用アームを交換用アーム93Aとし、アーム82A〜82Cのうち駆動可能なアームをアーム82A〜82Cの全てとするものとしたが、本発明がこれに限られるものではなく、交換用アーム93A〜93C及びアーム82A〜82Cのいずれも、少なくとも1つのアームが駆動可能であれば良く、その組み合わせは任意で良い。勿論、すべてのアームがウエハに接近する方向及び離間する方向に駆動可能な構成を採用しても良い。
【0123】
《第2の実施形態》
次に、本発明の第2の実施形態を、図12に基づいて説明する。ここで、前述した第1の実施形態と同一若しくは同等の構成部分には、同一の符号を用いるとともにその説明を簡略化し若しくは省略するものとする。
【0124】
本第2の実施形態に係る露光装置では、プリアライメント装置80A、80Bを構成する交換用アームの構成及びウエハホルダの構成が上記第1の実施形態と異なるのみで、その他の部分の構成などは前述した第1の実施形態と同一になっている。従って、以下では、重複説明を避けるべく、交換用アームの構成及びウエハホルダの構成を中心として説明する。
【0125】
図12には、本第2の実施形態に係るプリアライメント装置(80A、80B)を構成する交換用アームの構成を上方(+Z方向)から見た図が概略的に示されている。この図12に示されるように、プリアライメント装置を構成するエレベータユニットの駆動軸97の外周面には、6本の交換用アーム101A〜101Fが、前述した交換用アーム93A〜93Cと同様にして取り付けられている。
【0126】
前記交換用アーム101Aは、駆動軸97から−X側(0時の方向)に延びており、この交換用アーム101Aと対称に、ウエハ交換アーム101Dが駆動軸97から+X側(6時の方向)に延びている。また、交換用アーム101Bは、駆動軸97からX軸及びY軸に45°を成す方向、すなわち、交換用アーム101Aに対して時計回りに45°を成す方向(すなわち1時半の方向)に延びており、この交換用アーム101Bと対称に、ウエハ交換アーム101Eが駆動軸97から7時半の方向に延びている。さらに、交換用アーム101Cは、駆動軸97から+Y方向(3時の方向)に延びており、この交換用アーム101Cと対称に、交換用アーム101Fが−Y方向(9時の方向)に延びている。
【0127】
上記6本の交換用アーム101A〜101Fのうち、交換用アーム101B、101Eとしては、前述した交換用アーム93Aと同様に、その下端に前述したウエハ保持機構96Aと同様に構成され、駆動軸97の半径方向(当該交換用アームの長手方向)に沿って不図示の駆動機構によりスライド駆動可能なウエハ保持機構が設けられている。また、残りの交換用アーム101A、101C、101E、101Fは、前述した交換用アーム96B、96Cと同様に構成されている。
【0128】
プリアライメント装置のその他の構成部分は、前述した第1の実施形態と同様にして構成されている。
【0129】
本第2の実施形態に係るプリアライメント装置によると、図12に実線で示されるノッチNが中心に対して6時の方向(0°の方向)にあるウエハ(以下、このようなウエハを、「0°ウエハW0」と記述する)を保持する場合には、交換用アーム101B、101D、101Fがそれぞれ有するウエハ保持機構(突起部と保持部)によって、前述した第1の実施形態と同様に、0°ウエハW0の裏面の外延部近傍が3点支持されるとともに、外周部の3箇所が保持される。この場合、交換用アーム101Dが有するウエハ保持機構の保持部が0°ウエハW0のノッチNを形成する直線状の2辺に接触するとともに、そのウエハ保持機構の突起部が0°ウエハW0の裏面のノッチNの近傍を支持する。
【0130】
また、図12に二点鎖線(仮想線)にて示されるノッチNが中心に対して3時の方向(90°の方向)にあるウエハ(以下、このようなウエハを、「90°ウエハW90」と記述する)を保持する場合には、交換用アーム101A、101C、101Eがそれぞれ有するウエハ保持機構(突起部と保持部)によって前述した第1の実施形態と同様に、90°ウエハW90の裏面の外延部近傍が3点支持されるとともに、外周部の3箇所が保持される。この場合、交換用アーム101Cが有するウエハ保持機構の保持部が90°ウエハW90のノッチNを形成する直線状の2辺に接触するとともに、そのウエハ保持機構の突起部が90°ウエハW90の裏面のノッチNの近傍を支持する。
【0131】
この場合、図12からも分かるように、0°ウエハW0を保持する場合と90°ウエハW90を保持する場合とでは、ウエハの駆動軸に対する相対位置が異なっているが、両者間における位置誤差(オフセット値)は予め算出又は計測可能である。従って、このオフセットが予め算出又は計測され、その結果が不図示のメモリに記憶されている。そして、ウエハ(W0又はW90)をロードするとき、及びウエハ(W0又はW90)をアンロードするときに、主制御装置50がウエハの種類に応じて当該誤差(オフセット値)を考慮した指示をステージ制御装置20に与えることとしている。この結果、ステージ制御装置20により、上記のウエハの種類に応じた適切な位置にウエハステージ(ウエハホルダ)が移動され、その位置でウエハ(W0又はW90)のロード及びアンロードが行われるようになっている。
【0132】
以上説明したように、本第2の実施形態に係る露光装置によると、前述した第1の実施形態と同等の効果を得られる他、プリアライメント装置がノッチが0°の方向を向いた状態で搬送されるウエハ、ノッチが0°の方向から90°回転した状態で搬送されるウエハのいずれにも対応可能となっているので、0°ウエハ及び90°ウエハのいずれについても、支障なく、ロード及びアンロードを実行することができるという効果がある。
【0133】
なお、上記各実施形態で説明した交換用アームの構成、配置は一例に過ぎず、その他種々の構成、配置を採用することができる。例えば、図13(A)に示されるような交換用アームの構成、配置を採用しても良い。この図13(A)に示されるプリアライメント装置では、エレベータユニットの駆動軸97の外周面に、4本の交換用アーム101G,101H,101I,101Jが前述と同様にして取り付けられている。このうち、交換用アーム101Gは、下端部に、軸102を中心として水平面(XY面)内で回動自在とされた板状部材103を含むウエハ保持機構を有している。板状部材103は、軸102の一側及び他側に突起部と保持部とを各一つ有している。その他の交換用アーム101H,101I,101Jは、前述した交換用アーム96B、96Cと同様に構成されている。
【0134】
この図13(A)に示される交換用アーム101G,101H,101I,101Jを備えたプリアライメント装置では、0°ウエハW0を保持する際には、板状部材103が図13(A)中に実線で示される状態とされるとともに、この板状部材103を含むウエハ保持機構と、交換用アーム101I,101Jがそれぞれ有するウエハ保持機構とが用いられ、0°ウエハW0がその裏面3点で支持されるとともに、側面3箇所(そのうちの一箇所がノッチN)が保持されるようになっている。一方、90°ウエハW90を保持する際には、板状部材103が図13(A)中に二点鎖線(仮想線)で示される状態とされるとともに、この板状部材103を含むウエハ保持機構と、交換用アーム101H,101Iがそれぞれ有するウエハ保持機構とが用いられ、90°ウエハW90がその裏面3点で支持されるとともに、側面3箇所(そのうちの一箇所がノッチN)が保持されるようになっている。この場合、0°ウエハ、90°ウエハのいずれを保持する場合においても交換用アーム101Iのウエハ保持機構が用いられる。このように、交換用アーム101Iのウエハ保持機構を0°ウエハと90°ウエハの保持に共用することにより、交換用アーム及びウエハ保持機構の数を図12の場合よりも削減することができる。
【0135】
あるいは、図13(B)に示されるような交換用アームの構成、配置を採用しても良い。この図13(B)に示されるプリアライメント装置では、エレベータユニットの駆動軸97の外周面に、前述した第1の実施形態と同様に交換用アーム101K,101L,101Mが取り付けられている。但し、これらの交換用アーム101K〜101Mのそれぞれが有するウエハ保持機構は、前述したウエハ保持機構96Aと同様に、駆動軸97の半径方向(当該各交換用アームの長手方向)に沿って不図示の駆動機構によりスライド駆動可能な構成となっている。この場合、各交換用アームのウエハ保持部(突起部と保持部を含む)を必要に応じてスライドすることで、0°ウエハW0及び90°ウエハW90のいずれをも保持できるようになっている。
【0136】
また、この図13(B)に示されるプリアライメント装置を採用する場合には、ウエハホルダのリム部128を図14(A),図14(B)に示されるように形成する必要がある。すなわち、リム部128に形成される3つの凹部G1’,G2’,G3’のうち、ノッチNに対応する凹部G1’,G2’は凹部G3’よりも大きく形成しておく必要がある。これにより、図13(A)に示されるように0°ウエハW0をロード、アンロードすることが可能であるとともに、図13(B)に示されるように90°ウエハW90をロード、アンロードすることも可能である。
【0137】
なお、図13(A)、図13(B)のいずれの交換用アームの配置、構成を採用する場合でも、0°ウエハと90°ウエハのロード又はアンロードを行なう場合には、前述した第2の実施形態と同様に、主制御装置50の指示の下、ステージ制御装置20がオフセット値を考慮してウエハステージの移動を制御することとすれば良い。
【0138】
なお、上記各実施形態では、突起部及び保持部が横シフト(水平方向にスライド)することにより、ウエハに接近又は離間する構成を採用しているが、突起部及び保持部がZ軸回りの回転をすることにより、ウエハに接近又は離間する構成を採用しても良いし、あるいは交換用アーム及びアーム全体が開閉する、すなわち駆動機構によりチルト可能なウエハ保持部を少なくとも3本の交換用アームのそれぞれに設けることとしても良い。
【0139】
なお、上記各実施形態においては、ウエハの受け渡しに必要とされる精度は所定の1つの保持部をノッチに挿入することが可能な数mm程度のレベルで良いので、発塵が少なく、高速でウエハ下に突起部を挿入できる構成を採用することが望ましい。また、プリアライメント装置のうちの駆動部分については、その下側に、ゴミが落下しないようなゴミ落下防止部を設置しておくことが望ましい。
【0140】
また、上記各実施形態においては、ウエハ交換動作が2枚のウエハを重ねた状態で実施されるので、ゴミの落下に十分注意する必要がある。従って、上述のようにゴミ落下防止のカバーを設ける場合には2枚のウエハが上下に重なった状態で同時に動作を行っても良いが、ゴミの落下対策が不十分な場合には、ロボットアームによって保持されたウエハがその上方で待機しているウエハの下側から完全に退避した後に、待機しているウエハのアームから交換用アームへの受け渡しを実行することが望ましい。
【0141】
なお、上記各実施形態では、本発明がスキャニング・ステッパに適用された場合について説明したが、これに限らず、ステップ・アンド・リピート方式のステッパ等の静止露光型の露光装置にも本発明は好適に適用することが可能である。また、上記各実施形態では、ウエハステージを2つ備えたツインウエハステージタイプの露光装置に本発明が適用された場合を説明したが、通常のシングルウエハステージタイプの露光装置にも本発明は適用できることは言うまでもない。
【0142】
また、上記各実施形態では、本発明のステージ装置をウエハステージ装置として採用した場合について説明したが、本発明がこれに限られるものではなくレチクル側のステージ装置としても採用することも可能である。
【0143】
なお、複数のレンズから構成される照明光学系、投影光学系を露光装置本体に組み込み、光学調整をするとともに、多数の機械部品からなるレチクルステージやウエハステージを露光装置本体に取り付けて配線や配管を接続し、更に総合調整(電気調整、動作確認等)をすることにより、上記各実施形態の露光装置を製造することができる。なお、露光装置の製造は温度およびクリーン度等が管理されたクリーンルームで行うことが望ましい。
【0144】
なお、本発明は、半導体製造用の露光装置に限らず、液晶表示素子などを含むディスプレイの製造に用いられる、デバイスパターンをガラスプレート上に転写する露光装置、薄膜磁気ヘッドの製造に用いられるデバイスパターンをセラミックウエハ上に転写する露光装置、撮像素子(CCDなど)、マイクロマシン、有機EL及びDNAチップなどの製造に用いられる露光装置などにも適用することができる。また、半導体素子などのマイクロデバイスだけでなく、光露光装置、EUV露光装置、X線露光装置、及び電子線露光装置などで使用されるレチクル又はマスクを製造するために、ガラス基板又はシリコンウエハなどに回路パターンを転写する露光装置にも本発明を適用できる。ここで、DUV(遠紫外)光やVUV(真空紫外)光などを用いる露光装置では一般的に透過型レチクルが用いられ、レチクル基板としては石英ガラス、フッ素がドープされた石英ガラス、螢石、フッ化マグネシウム、又は水晶などが用いられる。また、プロキシミティ方式のX線露光装置、又は電子線露光装置などでは透過型マスク(ステンシルマスク、メンブレンマスク)が用いられ、マスク基板としてはシリコンウエハなどが用いられる。
【0145】
また、半導体デバイスは、デバイスの機能・性能設計を行うステップ、この設計ステップに基づいたレチクルを製作するステップ、シリコン材料からウエハを製作するステップ、前述した実施形態の露光装置によりレチクルのパターンをウエハに転写するステップ、デバイス組み立てステップ(ダイシング工程、ボンディング工程、パッケージ工程を含む)、検査ステップ等を経て製造される。
【0146】
【発明の効果】
以上説明したように、本発明の搬送装置によれば、物体(ウエハ)のフラットネスを向上することができるという効果がある。
【0147】
また、本発明の露光装置によれば、装置の小型化及び高精度な露光を実現することができるという効果がある。
【図面の簡単な説明】
【図1】第1の実施形態に係る露光装置の構成を示す概略図である。
【図2】ウエハステージWST1、WST2近傍を示す平面図である。
【図3】図3(A)はウエハホルダを示す平面図であり、図3(B)は、ウエハホルダの縦断面図である。
【図4】図4(A)、図4(B)は、プリアライメント装置の構成を説明するための図である。
【図5】図5(A)〜図5(C)は、ウエハ交換方法を説明するための図(その1)である。
【図6】図6(A)〜図6(D)は、搬送アームからアームにウエハを受け渡す方法を説明するための図である。
【図7】図7(A)〜図7(C)は、ウエハ交換方法を説明するための図(その2)である。
【図8】図8(A)〜図8(C)は、ウエハ交換方法を説明するための図(その3)である。
【図9】図9(A)〜図9(C)は、ウエハ交換方法を説明するための図(その4)である。
【図10】図10(A)、図10(B)は、ウエハ交換方法を説明するための図(その5)である。
【図11】第1の実施形態の効果を説明するための図である。
【図12】第2の実施形態に係る交換用アームの配置例を説明するための図である。
【図13】図13(A)、図13(B)は、変形例を説明するための図である。
【図14】図14(A)、図14(B)は、図13(B)に示されるプリアライメント装置を採用する場合におけるウエハホルダのリム部の形状を説明するための図である。
【符号の説明】
10…露光装置、20…ステージ制御装置(補正装置の一部、制御装置の一部)、50…主制御装置(補正装置の一部、制御装置の一部)、66A,66B…ロボットアーム(搬送アーム)、77…給排気部(気体供給部)、80A,80B…プリアライメント装置(搬送装置)、81…エレベータユニット(上下動装置)、84…保持部、86…突起部(支持部)、94a〜94c…保持部、95a〜95c…突起部(支持部)、128…リム部(吸着用凸部)、G1…凹部(回避部)、H1,H2…ウエハホルダ(試料台)、N…ノッチ(切り欠き)、R…レチクル(マスク)、W…ウエハ(物体、感光物体)、WST…ウエハステージ(物体ステージ)。
【発明の属する技術分野】
本発明は、搬送装置及び露光装置に係り、更に詳しくは、物体を試料台上の所定位置に搭載するために前記物体を搬送する搬送装置及び該搬送装置を備える露光装置に関する。
【0002】
【従来の技術】
従来より、半導体素子、液晶表示素子等を製造するためのリソグラフィ工程では、マスク又はレチクル(以下、「レチクル」と総称する)に形成されたパターンを投影光学系を介して感光剤(レジスト等)が塗布されたウエハ又はガラスプレート等の物体(以下、「ウエハ」と総称する)上に転写する露光装置が用いられている。この種の露光装置としては、近年では、スループットを重視する観点から、ステップ・アンド・リピート方式の縮小投影露光装置(いわゆるステッパ)や、ステップ・アンド・スキャン方式の走査型投影露光装置(いわゆるスキャニング・ステッパ)等の逐次移動型の露光装置が主として用いられている。かかる露光装置においては、露光に先立ってレチクルとウエハとの位置合わせ(以下、「ウエハアライメント」と呼ぶ)を高精度に行う必要がある。
【0003】
ウエハアライメントとしては、ダイ・バイ・ダイ方式とEGA(エンハンスト・グローバル・アライメント)方式との2つの手法が知られているが、前者はスループットの点で難点があるため、近年では、後者のEGA方式が広く採用されている。かかるEGA方式のウエハアライメントでは、オフアクシス方式のアライメント検出系が用いられることが多く、近年では画像処理方式の結像式アライメントセンサが多く用いられている。
【0004】
EGA方式のウエハアライメントを結像式アライメントセンサを用いて行う場合、ウエハ上の予め定められた複数のショット領域(アライメントショット領域)に付設されたアライメントマークを高倍率で観測する必要があるが、高倍率で観測を行う場合、観測視野が必然的に狭いものとなる。そこで、狭い観測視野で確実にアライメントマークを捉えるために、EGA方式のウエハアライメントに先立って、次のような、ウエハのプリアライメントを行っている。
【0005】
まず、位置検出の対象物であるウエハについて、そのウエハの外縁形状を観察する。そして、観察されたウエハ外縁のノッチあるいはオリエンテーション・フラットの位置や、ウエハ外縁の位置等に基づいて、所定の精度で、設計値を基準としてウエハの中心位置ずれ、回転ずれを検出する。なお、半導体素子の製造に使用されるウエハはほぼ円形であるので、円の方程式を規定するために必要な3つのパラメータ(中心の2次元位置及び半径)の導出に必要な少なくとも3箇所の外縁位置を検出している(例えば、特許文献1参照)。
【0006】
そして、受け渡し時にウエハがずれないようにするため、広い範囲に渡ってウエハ裏面を搬送アームなどにより真空吸着等し、受け渡しの際には、傾き等を十分に管理した状態でウエハの搬送を行っていた。
【0007】
この他、ウエハの位置ずれ計測後のウエハの位置ずれが極力生じないように、試料台上のウエハホルダへ受け渡す直前、或いは受け渡し直後に、上記のウエハプリアライメントを実行するものもある(例えば、特許文献2参照)。
【0008】
ところで、従来、ウエハホルダとしては、その表面に同心円状の複数の溝が形成され、該溝とウエハとの間に形成される空間を真空吸引するバキュームチャック機構(以下、「同心円状のバキュームチャック機構」と呼ぶ)を備えたものが用いられていた。しかるに、近年における回路パターンの微細化に伴い、より高い解像度が要求されるようになるとともに、ウエハのフラットネスの向上が要求されるようになってきた。このため、隣接する同心円状のウエハ接触部の間に広いウエハ非接触部(被バキューム領域)が存在する、従来の同心円状のバキュームチャック機構では、要求されるウエハフラットネス精度を実現することが困難となってきた。そこで、上記の近年におけるウエハフラットネスの要求に応えるものとして、ウエハ表面の最外周部(及び中心部近傍)に設けられた環状の凸部と、該環状の凸部に囲まれた領域に数ミリ間隔で配置された多数のピンとで構成されるピンチャック機構を備えたウエハホルダが採用されるようになってきた(例えば、特許文献3参照)。
【0009】
【特許文献1】
特開平9−186061号公報
【特許文献2】
特開平11−219999号公報
【特許文献3】
特開平5−21584号公報
【0010】
【発明が解決しようとする課題】
上述した特許文献1、特許文献2などに記載の従来技術では、ウエハの位置を予め計測しておき、ウエハの位置が所定の基準位置からずれないように広い範囲でウエハの裏面を搬送アーム等で真空吸着し、受け渡しの際にも傾きを合わせる等の細心の注意を払って、ウエハ搬送を行っていた。しかるにこのような場合、ウエハステージ上、又はウエハのローディングポジションに、搬送アームから試料台(ウエハホルダ)までウエハを搬送する上下動機構を設ける必要があり、その機構にはウエハの位置ずれを防止するためウエハ裏面をバキュームする機構を設ける必要がある。
【0011】
例えば、ウエハステージ上に上下動機構、例えば上下動ピンを設ける場合には、ウエハホルダの所定箇所、例えば中心部に、その上下動ピンの上下動を許容する開口を設ける必要がある。かかる場合、従来の同心円状のバキュームチャック機構を備えたウエハホルダの場合、その中央の非バキューム領域(大気開放領域)に容易にその開口を形成することができた。しかしながら、ピンチャック機構を採用したウエハホルダの場合、中央部近傍に、その上下動ピンの配置領域のみを大気開放部とするための、複雑な形状の凸部を新たに形成しなければならず、加工が難しいものとなっていた。また、この場合、その中央部近傍の大気開放部の存在により、ウエハのフラットネスが低下するおそれがあった。なお、ウエハステージ上に上下動機構を設けると、その分ウエハステージが重量化、大型化し、結果的にウエハステージの位置制御性の低下を招くという不都合もある。
【0012】
また、例えば、ローディングポジションに、上下動機構を設ける場合、例えば上記特許文献2に記載されているように、上下動機構を構成するアーム(例えばウエハロードアーム又はアンロードアーム)がウエハホルダに接触するのを回避するための切り欠きをウエハホルダの外縁部近傍に形成する必要がある。この場合において、ピンチャック機構を備えたウエハホルダを採用すると、その回避領域を大気開放部とするため、複雑な形状の凸部を新たに形成しなければならず、加工が難しいものとなっていた。また、この場合、その大気開放部の存在により、ウエハのフラットネスが低下するおそれがあった。
【0013】
さらに、ウエハ搭載の精度を得るためには光学センサをウエハステージ近傍に設置することが望ましいが、そのためにはウエハステージ近傍に大きなスペースを確保する必要がある。しかしながら、これは、必然的に装置の大型化の要因となる。
【0014】
本発明は係る事情の下になされたもので、その第1の目的は、試料台に搭載された物体の平坦度(フラットネス)を向上させることが可能な搬送装置を提供することにある。
【0015】
また、本発明の第2の目的は、装置の小型化及び高精度な露光の実現が可能な露光装置を提供することにある。
【0016】
【課題を解決するための手段】
請求項1に記載の発明は、物体(W)を試料台(H1,H2)上の所定位置に搭載するために前記物体を搬送する搬送装置であって、前記物体の前記試料台に対向する一側の面の外縁部の近傍をそれぞれ支持するとともに、その支持された前記物体に接近又は離間する方向に移動可能な少なくとも1つの支持部を含む少なくとも3つの支持部(95a〜95c)と、前記物体の側面に異なる方向から当接して前記物体を保持するとともに、前記物体に接近又は離間する方向に移動可能な少なくとも1つの保持部を含む少なくとも2つの保持部(94a〜94c)と、前記移動可能な前記支持部及び前記保持部を、同時又は個別に駆動する駆動機構と、を有し、前記物体を前記一側の面少なくとも3点、側面少なくとも2点の合計5点以上で保持可能な第1の保持装置と;前記第1の保持装置を、前記試料台に対して接近又は離間させるため重力方向に駆動する上下動装置(81)と;を備える搬送装置である。
【0017】
これによれば、第1の保持装置は、物体の試料台に対向する一側の面の外縁部の近傍をそれぞれ支持するとともに、その支持された物体に接近又は離間する方向に移動可能な少なくとも1つの支持部を含む少なくとも3つの支持部と、物体の側面に異なる方向から当接して物体を保持するとともに、物体に接近又は離間する方向に移動可能な少なくとも1つの保持部を含む少なくとも2つの保持部と、前記移動可能な支持部及び保持部を、同時又は個別に駆動する駆動機構とを有し、物体を一側の面少なくとも3点、側面少なくとも2点の合計5点以上で保持可能となっている。そして、第1の保持装置は、上下動装置により、試料台に対して接近又は離間するように重力方向に駆動される。従って、本発明の搬送装置によれば、物体の側面に保持部を機械的に接触させて位置合わせ(アライメント)を行うことができるとともに、物体の一側の面(裏面)の少なくとも3点をバキューム等の手段を用いることなく支持することができる。この結果、物体の位置合わせのために、従来用いられていた光学センサを用いる必要がなくなり、その光学センサの設置スペースの確保が不要となる。また、第1の保持装置に、物体の裏面をバキュームにより吸着支持するための広い面積の支持面を設ける必要がなくなる。このため、物体を試料台に搭載する(あるいは試料台上の物体を搬出する)際に、その物体の裏面をそれぞれ支持する少なくとも3つの支持部と試料台との機械的な干渉を回避するために前記試料台に設けられる切り欠きを極力小さくすることができ、これにより、試料台に搭載される物体の平坦度(フラットネス)を向上することができる。
【0018】
この場合において、請求項2に記載の搬送装置の如く、前記物体は、略V字状又は略U字状の切り欠き(N)が形成された円盤状形状を有し、前記少なくとも3つの支持点のうちの1つの特定支持点は、前記物体を前記切り欠きの近傍で支持し、前記上下動装置により前記第1の保持装置が前記試料台に接近する方向に駆動された際に、前記切り欠きの形状に対応した形状の変形部分(G1)を有する吸着用凸部(128)が前記試料台に形成され、該吸着用凸部の前記変形部分は前記特定支持点が前記試料台に接触するのを回避する回避部を兼ねることとすることができる。
【0019】
この場合において、請求項3に記載の搬送装置の如く、前記第1の保持装置は、前記切り欠きが所定方向を向いた第1の状態と、前記切り欠きが前記第1の状態から90°回転した第2の状態とのいずれの状態で搬入される物体にも対応可能であり、前記第1の状態と第2の状態との相違による前記物体の位置ずれ量を算出し該位置ずれ量が物体の保持部材への搬入時に補正されるように、前記保持装置と前記試料台との相対位置関係を補正する補正装置(50,20)を更に備えることとすることができる。
【0020】
上記請求項1〜3に記載の各搬送装置において、請求項4に記載の搬送装置の如く、前記支持部と前記保持部とは、同数設けられ、各支持部と各保持部とは同一部材に設けられ、前記駆動機構は、前記移動可能な前記支持部及び前記保持部を同時に駆動することとすることができる。
【0021】
上記請求項1〜4に記載の各搬送装置において、請求項5に記載の搬送装置の如く、前記第1の保持装置を駆動する駆動軸とは分離された前記上下動装置の本体部に固定され、物体を前記試料台に対向する一側の面少なくとも3点、側面少なくとも2点の合計5点以上で保持可能な第2の保持装置を更に備え、前記第2の保持装置は、前記物体の一側の面の外縁部の近傍をそれぞれ支持するとともに、その支持された前記物体に接近又は離間する方向に移動可能な少なくとも1つの支持部を含む少なくとも3つの支持部と、前記物体の側面に異なる方向から当接して前記物体を保持するとともに、前記物体に接近又は離間する方向に移動可能な少なくとも1つの保持部を含む少なくとも2つの保持部と、前記移動可能な前記支持部及び前記保持部を、同時又は個別に駆動する駆動機構とを有することとすることができる。
【0022】
この場合において、請求項6に記載の搬送装置の如く、前記第2の保持装置を構成する前記支持部と前記保持部とは、同数設けられ、各支持部と各保持部とは同一部材に設けられ、前記駆動機構は、前記移動可能な前記支持部及び前記保持部を同時に駆動することとすることができる。
【0023】
上記請求項5及び6に記載の各搬送装置において、請求項7に記載の搬送装置の如く、前記物体を搬送するとともに、前記物体に対して加圧気体を噴出して前記物体を浮上させる気体供給部(77)を有する搬送アーム(66A,66B)と;前記搬送アームから前記第1及び第2の保持装置のうち少なくとも一方の特定の保持装置に対する物体の受け渡し時に、その特定の保持装置の少なくとも3つの保持部により前記物体を取り囲んだ状態で、前記気体供給部の作動を開始し、前記物体が浮上した状態で、前記駆動機構を介して前記少なくとも3つの保持部により物体側面を保持する制御装置(50,20)と;を更に備えることとすることができる。
【0024】
この場合において、請求項8に記載の搬送装置の如く、前記搬送アームは、前記物体を真空吸引する真空吸引部を更に有し、前記制御装置は、前記搬送アームから前記特定の保持装置に対する物体の受け渡し時に、前記気体供給部の作動開始に先立って前記真空吸引部の作動を停止することとすることができる。
【0025】
請求項9に記載の発明は、マスク(R)に形成されたパターンを感光物体(W)上に転写する露光装置であって、請求項1〜8のいずれか一項に記載の搬送装置と;前記搬送装置により前記感光物体が搭載される前記試料台が載置され、2次元面内で移動する物体ステージ(WST)と;を備える露光装置である。
【0026】
これによれば、請求項1〜8のいずれか一項に記載の搬送装置により、物体ステージ上に載置された試料台上に感光物体が搭載されるので、感光物体の位置合わせのために従来用いられていた光学センサなどを試料台周辺に配置する必要がなく、また、試料台上に該試料台と、少なくとも3つの支持部との機械的な干渉を回避するために設けられる切り欠きを極力小さくすることができ、これにより、試料台により保持される感光物体の平坦度(フラットネス)を向上することができる。従って、装置の小型化が可能になるとともに、平坦度が向上した感光物体に対して露光(パターンの転写)が行われるので、感光物体の凹凸に起因するパターン転写精度の劣化を抑制した高精度な露光が可能となる。
【0027】
【発明の実施の形態】
《第1の実施形態》
以下、本発明の第1の実施形態を図1〜図11に基づいて説明する。
【0028】
図1には、本第1の実施形態に係る露光装置10が概略的に示されている。露光装置10は、不図示の光源からの照明光によりマスクとしてのレチクルRを照明する照明ユニットILU、レチクルRを保持するマスクステージとしてのレチクルステージRST、レチクルRから射出される照明光を物体(感光物体)としてのウエハW1(又はW2)上に投射する投影光学系PL、及びウエハW1,W2をそれぞれ保持する2つのウエハステージWST1、WST2等を備えている。この露光装置10は、更に、レチクルステージRST、投影光学系PL及びウエハステージWST1,WST2等を保持する本体ボディBDを備えている。
【0029】
前記光源としては、例えばKrFエキシマレーザ光(波長248nm)、ArFエキシマレーザ光(波長193nm)、あるいはF2レーザ光(波長157nm)等のパルス紫外光を出力するパルスレーザ光源が用いられている。
【0030】
前記照明ユニットILUは、例えば、照明系ハウジング40と、該照明系ハウジング40内に所定の位置関係で配置された、可変減光器、ビーム整形光学系、オプティカルインテグレータ(フライアイレンズ、内面反射型インテグレータ、あるいは回折光学素子など)、集光光学系、振動ミラー、照明系開口絞り板、リレーレンズ系、レチクルブラインド、メインコンデンサレンズ、ミラー及びレンズ系等を備え、レチクルステージRST上に保持されたレチクルR上の所定の照明領域(X軸方向に直線的に伸びたスリット状又は矩形状の照明領域)を均一な照度分布で照明する。ここで、レチクルRに照射される矩形スリット状の照明光は、図1中の投影光学系PLの円形投影視野の中央にX軸方向(非走査方向)に細長く延びるように設定され、その照明光のY軸方向(走査方向)の幅はほぼ一定に設定されている。
【0031】
照明ユニットILUとしては、例えば、特開平1−259533号公報(対応米国特許第5,307,207号)等に開示されるものと同様の構成のものが用いられる。
【0032】
前記本体コラムBDは、クリーンルームの床面F上に水平に載置された矩形板状のベースプレートBP、該ベースプレートBP上面に設けられた上下方向に所定の長さで伸びる複数本(ここでは4本)の第1支柱42(但し、図1では、紙面奥側に位置する2本の第1支柱については不図示、図2参照)、該第1支柱42により複数点(ここでは4点)で支持されたベースフレーム46、該ベースフレーム46上に配置された複数(ここでは3つ)の防振ユニット44(但し、図1の紙面奥側に位置する防振ユニットについては不図示)により複数点(ここでは3点)で支持された架台ST、及びベースプレートBP上に配置された複数(ここでは3つ)の防振ユニット56(ただし、図1の紙面奥側に位置する防振ユニットについては不図示)により3点で支持されたウエハステージ定盤54等を備えている。このうち、ベースプレートBPと4本の第1支柱42とによってフレームキャスタFCが構成されている。
【0033】
前記架台STは、その底板部を構成する鏡筒定盤59と、この鏡筒定盤59上面にそれぞれ固定された上下方向に延びる複数本(ここでは3本)の第2支柱58(ただし、図1の紙面奥側に位置する第2支柱については不図示)と、これら3本の第2支柱58によりほぼ水平に支持された矩形板状のレチクルステージ定盤60とを備えている。
【0034】
前記鏡筒定盤59には、その中央部に投影光学系PLを挿入可能な円形開口(不図示)が形成されている。この円形開口内に、投影光学系PLが上方から挿入され、投影光学系PLは、その鏡筒部の高さ方向ほぼ中央に設けられたフランジFLGを介して鏡筒定盤59に支持されている。また、鏡筒定盤59には、前記円形開口から+Y側、−Y側にそれぞれ同一距離だけ離れた位置に一対の円形開口(不図示)がそれぞれ形成され、この一対の円形開口内にアライメント系ALG1,ALG2が挿入され、前述の投影光学系PLと同様にして支持されている。
【0035】
鏡筒定盤59は、前述した3つの防振ユニット44によりほぼ水平に支持されている。これら防振ユニット44のそれぞれは、ベースフレーム46の上面に配置されたエアダンパ又は油圧式のダンパ等の大重量に耐える機械式のダンパと、ボイスコイルモータ等の電磁式のアクチュエータより成る電磁式のダンパとを含んで構成されている。そして、ベースフレーム46の上面の水平面に対する傾斜角が変位センサ(不図示)によって検出され、この変位センサの検出値に基づいて、主制御装置50により、前記の傾斜角が許容範囲内に収まるように、3つの防振ユニット44を構成する電磁式のダンパが駆動され、必要に応じて機械式のダンパの空気圧又は油圧等が制御される。この場合、機械式のダンパによって、床からの高い周波数の振動(暗振動)は露光装置10に伝わる前に減衰され、残存している低い周波数の振動は電磁的なダンパによって減衰される。上記の変位センサとしては、例えば、ベースフレーム46に取り付けられた電気式の水準器、又は光学式の傾斜角検出器等を用いることができる。
【0036】
前記レチクルステージ定盤60は、平面視(上方から見て)矩形の板部材から構成されており、その中央部には照明光ILを通過させるための開口60aが形成されている。
【0037】
前記ウエハステージ定盤54を支持する前記3つの防振ユニット56のそれぞれは、前述した防振ユニット44と同様の構成となっている(但し、耐荷重性は異なる)。そして、ウエハステージ定盤54上面の水平面に対する傾斜角が不図示の変位センサによって検出され、この変位センサの検出値に基づいて、主制御装置50により、前記傾斜角が許容範囲内に収まるように、3つの防振ユニット56が個別に制御される。なお、この場合も、変位センサとして、例えば、ウエハステージベース54に取り付けられた電気式の水準器、又は光学式の傾斜角検出器等を用いることができる。
【0038】
前記レチクルステージRSTは、架台STを構成する前記レチクルステージ定盤60上に配置され、レチクルステージ定盤60の上面はレチクルステージRSTの移動面(移動ガイド面)とされている。レチクルステージRSTは、レチクルRをバキュームチャックあるいは静電チャック等により吸着保持し、例えばリニアモータ等を含む不図示のレチクルステージ駆動系によって駆動され、レチクルRをレチクルステージ定盤60上でY軸方向に大きなストロークで直線駆動するとともに、X軸方向とθz方向(Z軸回りの回転方向)に関しても微小駆動が可能な構成となっている。
【0039】
前記レチクルステージRSTのXY面内の位置(Z軸回りの回転であるθz回転を含む)は、その一部に設けられた移動鏡79を介してレチクルステージ定盤60に固定されたレチクルレーザ干渉計64によって所定の基準位置(レファレンス位置であって、一般には、投影光学系PLなどに固定された参照鏡の位置となる)を基準として0.5〜1nm程度の分解能で検出される。なお、実際には、レチクルステージRST上面の+Y側端部に一対のレトロリフレクタから成るY軸移動鏡が設置され、+X側端部には平面ミラーから成るX軸移動鏡がY軸方向に沿って延設されている。また、これらに対応して不図示ではあるが、Y軸方向の位置計測に用いられる一対のY軸レーザ干渉計と、X軸方向の位置計測に用いられるX軸レーザ干渉計とがそれぞれ設けられている。このように、移動鏡及びレーザ干渉計はともに複数設けられているが、図1ではこれらが代表的に移動鏡79、レチクルレーザ干渉計64として図示されている。なお、レチクルステージRSTの端面を鏡面加工して反射面(上記各移動鏡の反射面に相当)を形成しても良い。また、レチクルレーザ干渉計は、レチクルステージRSTの下面に設けられる反射面と、投影光学系PLが載置される鏡筒定盤59に設置される反射面とにレーザビームを照射し、投影光学系PLの光軸方向(Z軸方向)に関する相対位置関係を検出しても良い。このとき、XY平面内の複数点でそれぞれZ軸方向の相対位置関係を検出し、レチクルステージRSTについてZ軸方向の位置情報に加えてXY平面に対する傾斜情報(すなわち、X軸回りの回転量とY軸回りの回転量との少なくとも一方)を求めるようにしても良い。
【0040】
レチクルレーザ干渉計64によって計測されるレチクルステージRST(すなわちレチクルR)の位置情報(又は速度情報)はステージ制御装置20に送られる。ステージ制御装置20は、基本的にはレチクルレーザ干渉計64から出力される位置情報(或いは速度情報)が指令値(目標位置、目標速度)と一致するようにレチクルステージ駆動系を制御する。
【0041】
前記投影光学系PLとしては、ここでは、物体面側(レチクルR側)と像面側(ウエハW1(又はW2)側)の両方がテレセントリックで円形の投影視野を有し、石英やホタル石を光学硝材とした屈折光学素子(レンズ素子)のみから成る1/4、1/5又は1/6縮小倍率の屈折光学系が使用されている。このため、レチクルRにパルス紫外光が照射されると、レチクルR上の回路パターン領域のうちのパルス紫外光によって照明された部分からの結像光束が投影光学系PLに入射し、その回路パターンの部分倒立像がパルス紫外光の各パルス照射の度に投影光学系PLの像面側の円形視野の中央にスリット状または矩形状に制限されて結像される。これにより、投影された回路パターンの部分倒立像は、投影光学系PLの結像面に配置されたウエハW1(又はW2)上の複数のショット領域のうちの1つのショット領域表面のレジスト層に縮小転写される。
【0042】
前記ウエハステージWST1,WST2は、ウエハステージ定盤54の上方に配置され、例えばリニアモータ等を含むウエハステージ駆動系により駆動され、Y軸方向に連続移動するとともに、X軸方向及びY軸方向にステップ移動する。
【0043】
前記ウエハステージWST1、WST2の上面には、試料台としてのウエハホルダH1,H2(図1では図示せず、図2参照)をそれぞれ介してウエハW1、W2が真空吸着等によりそれぞれ保持されている。また、ウエハステージWST1、WST2それぞれの上面には、アライメント系ALG1、ALG2のベースライン計測に用いられる基準マークその他の基準マークが形成された基準マーク板(不図示)がそれぞれ固定されている。これらの基準マーク板はその表面がウエハW1、W2とほぼ同一高さとされている。また、ウエハステージWST1、WST2それぞれの上面には、移動鏡70、74がそれぞれ設けられている。なお、実際には、図2に示されるように、一方のウエハステージWST1の上面には、−Y側端部にX軸方向に延びるY移動鏡70Yが固定され、−X側端部にY軸方向に延びるX移動鏡70Xが固定されている。また、他方のウエハステージWST2の上面には、+Y側端部にX軸方向に延びるY移動鏡74Yが固定され、−X側端部にY軸方向に延びるX移動鏡74Xが固定されている。このように、ウエハステージWST1、WST2の上面には各2つの移動鏡が設けられているが、図1ではこれらの移動鏡が移動鏡70、74として代表的に図示されている。
【0044】
上記移動鏡70、74をそれぞれ介して、ウエハステージWST1、WST2のXY位置及び回転量(θz方向の回転量(ヨーイング量)、Y軸回りの回転方向(θy方向)の回転量(ローリング量)、X軸回りの回転方向(θx方向)の回転量(ピッチング量))が、ウエハ干渉計システムによってそれぞれ所定の分解能、例えば0.5〜1nm程度の分解能でリアルタイムに計測されている。
【0045】
これを更に詳述すると、ウエハ干渉計システムは、図2に示されるように、一対のウエハY軸干渉計72,78と、3つのウエハX軸干渉計71,73,75とを含んで構成されている。ウエハY軸干渉計72,78は、投影光学系PLの光軸及びアライメント系ALG1,ALG2の検出中心を通るY軸方向の測長軸をそれぞれ有し、ウエハステージWST1上のY移動鏡70Y、ウエハステージWST2上のY移動鏡74Yに対してそれぞれ測長ビームを各複数本照射し、ウエハステージWST1、WST2のY軸方向の位置、ピッチング量、ヨーイング量を常時それぞれ計測している。
【0046】
前記ウエハX軸干渉計73は、投影光学系PLの光軸を通るX軸方向の測長軸を有し、残りのウエハX軸干渉計71,75は、アライメント系ALG1、ALG2の検出中心をそれぞれ通るX軸方向の測長軸をそれぞれ有している。ウエハX軸干渉計73は、投影光学系PLの下方でウエハステージWST1又はWST2が移動する露光の際などに、X軸移動鏡70X又は74Xに複数本のX軸方向の測長ビームを照射し、ウエハステージWST1又はWST2のX軸方向の位置及びローリング量を計測する。前記ウエハX軸干渉計71は、アライメント系ALG1の下方でウエハステージWST1が移動するウエハアライメントの際などに、X軸移動鏡70Xに複数本のX軸方向の測長ビームを照射し、ウエハステージWST1のX軸方向の位置及びローリング量を計測する。さらに、ウエハX軸干渉計75は、アライメント系ALG2の下方でウエハステージWST2が移動するウエハアライメントの際などに、X軸移動鏡74Xに測長ビームを照射し、ウエハステージWST2のX軸方向の位置及びローリング量を計測する。
【0047】
すなわち、本実施形態では、ウエハステージWST1、WST2のいずれについても、露光時、並びにアライメント時及びウエハ交換時のいずれの時にも、いわゆるアッベ誤差がない状態でXY位置を計測できるようになっている。
【0048】
なお、上記移動鏡70X,70Y,74X,74Yに代えて、ウエハステージWST1、WST2の端面を鏡面加工して反射面(上記各移動鏡の反射面に相当)を形成しても良い。
【0049】
また、本実施形態では、上述の如く、X軸及びY軸干渉計はそれぞれ測長軸を複数有する多軸干渉計が用いられているが、少なくとも1つの多軸干渉計は45°傾いてウエハステージWST1又はWST2に設置される反射面を介して、投影光学系PLが載置される鏡筒定盤59に設置される反射面にレーザビームを照射し、投影光学系PLの光軸方向(Z軸方向)に関する相対位置情報を検出するようにしても良い。このとき、XY平面内の複数点でそれぞれZ軸方向の相対位置関係を検出し、ウエハステージWST1又はWST2についてZ軸方向の位置情報に加えてXY平面に対する傾斜情報を求めるようにしても良い。
【0050】
上述したウエハ干渉計システムの各干渉計で計測されるウエハステージWST1、WST2の位置情報は、図1のステージ制御装置20に供給されるようになっている。ステージ制御装置20は、基本的にはウエハ干渉計システムから出力される位置情報(或いは速度情報)が指令値(目標位置、目標速度)と一致するようにウエハステージ駆動系を制御する。
【0051】
前記ウエハホルダH1は、図3(A)の平面図に示されるように、円形板状のベース部126、該ベース部126の上面(図3(A)における紙面手前側の面)の外周縁の近傍の所定幅の環状領域を除く中央部の所定面積の領域に所定間隔(例えば数mm間隔)で設けられた複数の突起状のピン部132,132,……、及びこれら複数のピン部132が配置された前記領域を取り囲む状態で外周縁近傍に設けられた概略環状の吸着用凸部としての凸部(以下、「リム部」と称する)128等を備えている。
【0052】
ウエハホルダH1は、低膨張率の材料(熱膨張係数の絶対値が小さい材料)、例えばセラミックス等より成り、全体として円盤状のセラミックス等の材料の表面をエッチングすることによって、円形板状のベース部126と、このベース部126上面に凸設されたリム部128及び複数のピン部132が一体的に形成されている。
【0053】
図3(B)には、ウエハホルダH1の縦断面図の一部が示されている。この図3(B)からわかるように、前記各ピン部132は、それぞれの先端部分がリム部128とほぼ同一面上に位置するようにされた突起状の形状を有している。
【0054】
前記リム部128は、ベース部126の外縁部に沿ったほぼ円環状の形状を有し、その中央部には図3(B)に示されるように所定深さの溝128cが形成されている。すなわち、リム部128は、溝128cを挟んで、2つのリム部(内側リム部128aと外側リム部128b)により構成されている。
【0055】
また、リム部128は、ウエハのノッチ(V字状の切欠き)Nに対応して形成された凹部G1と、凹部G1に対して図3(A)における反時計回りに90°の位置に形成された凹部G1よりも小さな凹部(以下、「小凹部」と呼ぶ)G2と、凹部G1から時計回りに135°すなわち小凹部G2から反時計回りに135°の位置に形成された小凹部G3とを有している。
【0056】
このようにして構成されるウエハホルダH1は、セラミックス等の素材を円盤状に形成し、その表面(一方の面)にエッチングを施して、ベース部126、ピン部132及びリム部128を一体成形した後に、最終的にウエハWとの接触面となる、複数のピン部132の上端面及びリム部128の上面に、研磨装置、砥粒等を用いて、研磨加工を施すことにより、製造される。従って、複数のピン部132の上端面とリム部128の上面とはほぼ同一平面上に位置している。
【0057】
また、不図示ではあるが、リム部128で囲まれた領域内のベース部126の上面には、ウエハWが載置された際に、ウエハWとリム部128及び複数のピン部132との間に形成される閉空間内を真空吸引するための複数の吸引孔が形成されている。この複数の吸引孔を介して不図示のバキュームポンプにより前記閉空間内の気体が吸引されることにより、その閉空間が外部に対して負圧となり、外部の気体との圧力差により、ウエハWがウエハホルダH1に吸着保持される。
【0058】
なお、ウエハステージWST2側のウエハホルダH2も上述したウエハホルダH1と同様に構成されている。
【0059】
図1に戻り、前記アライメント系ALG1、ALG2は、同じ機能を持ったオフアクシス(off−axis)方式のマーク検出系である。これらのアライメント系ALG1、ALG2としては、本実施形態では、画像処理方式の結像式アライメントセンサの一種であるFIA(Field Image Alignment)系のアライメントセンサが用いられている。これらのアライメント系ALG1、ALG2は、光源(例えばハロゲンランプ)及び結像光学系、検出基準となる指標マークが形成された指標板、及び撮像素子(CCD)等を含んで構成されている。これらのアライメント系ALG1、ALG2では、光源からのブロードバンド(広帯域)光により検出対象であるマークを照明し、このマーク近傍からの反射光を結像光学系及び指標を介してCCDで受光する。このとき、マークの像が指標の像とともにCCDの撮像面に結像される。そして、CCDからの画像信号(撮像信号)に所定の信号処理を施すことにより、検出基準点である指標マークの中心を基準とするマークの位置を計測する。なお、指標をウエハ上のマークを照明するために使用される上記光源(ハロゲンランプ)とは別の光源(例えばLED)を用いて照明するような構成を用いることも可能である。
【0060】
なお、FIA系に限らず、コヒーレントな検出光を対象マークに照射し、その対象マークから発生する散乱光又は回折光を検出したり、その対象マークから発生する2つの回折光(例えば同次数の回折光同士又は同一方向に回折する回折光同士)を干渉させて検出したりするアライメントセンサを単独であるいは適宜組み合わせて用いることは勿論可能である。
【0061】
本実施形態では、アライメント系ALG1は、ウエハステージWST1上に保持されたウエハ上のアライメントマーク、不図示の基準マーク板上に形成された基準マークの位置計測等に用いられる。また、アライメント系ALG2は、ウエハステージWST2上に保持されたウエハ上のアライメントマーク及び不図示の基準マーク板上に形成された基準マークの位置計測等に用いられる。
【0062】
投影光学系PLの鏡筒の下端部の側方には、図1に示されるように、投影光学系PLの最良結像面に向けて複数の結像光束(検出ビーム)を光軸AX方向に対して斜め方向より供給する照射系AF1と、その結像光束のウエハWの表面での各反射光束をそれぞれスリットを介して受光する受光系AF2とから成る斜入射方式の多点焦点位置検出系AFが設けられている。この多点焦点位置検出系AF(AF1,AF2)としては、例えば特開平6−283403号公報などに開示されるものと同様の構成のものが用いられ、ウエハ表面の複数点の結像面に対するZ方向の位置偏差を検出し、ウエハWと投影光学系PLとが所定の間隔を保つようにウエハホルダをZ軸方向及び傾斜方向に駆動するために用いられる。多点焦点位置検出系AFからのウエハ位置情報は、主制御装置50を介してステージ制御装置20に送られる。ステージ制御装置20はこのウエハ位置情報に基づいてウエハホルダH1,H2をZ軸方向及び傾斜方向に駆動する。
【0063】
さらに、ウエハステージ定盤54の+X側には、図2に示されるように、ウエハステージWST1、WST2それぞれに対するウエハのロード及びアンロードを行うための、ウエハ搬送ロボット63A、63Bが配置されている。
【0064】
一方のウエハ搬送ロボット63Aは、多関節ロボットアームから成るロボットアーム66Aと、該ロボットアーム66Aを伸縮(回転を含む)、旋回、及び上下動させるアーム駆動機構62Aとを備えている。前記ロボットアーム66Aの先端部に設けられたハンド部76Aには、複数(図2では3つ)の給排気部77が設けられている。各給排気部77には、不図示の開口が形成され、該開口は、配管及び切り替え機構を介してバキュームポンプ及び気体供給装置(いずれも図示省略)に接続されている。切り替え機構、バキュームポンプ及び気体供給装置は、いずれもステージ制御装置20に接続されている。この場合、ステージ制御装置20は、3つの給排気部77に接続された配管を、切り替え機構を介してバキュームポンプ及び気体供給装置に択一的に接続することができるようになっており、前記配管がバキュームポンプに接続された場合には、給排気部77は、ハンド部76Aに載置された物体、例えばウエハを吸着し、前記配管が気体供給装置に接続された場合には、給排気部77から気体が噴出される。
【0065】
他方のウエハ搬送ロボット63Bは、上記ウエハ搬送ロボット63Aと同様に構成されている。すなわち、ウエハ搬送ロボット63Bは、多関節ロボットアームから成るロボットアーム66Bと、該ロボットアーム66Bを伸縮(回転を含む)、旋回、及び上下動させるアーム駆動機構62Bとを備えている。前記ロボットアーム66Bの先端部には、前述のハンド部76Aと同様に構成されたハンド部76Bが設けられている。
【0066】
なお、ステージ制御装置20による、ウエハ搬送ロボット63A、63Bの制御動作については、後述する。
【0067】
ウエハステージ定盤54の+X側端部のY軸方向の一側及び他側の上方には、図2に示されるように、搬送装置としてのプリアライメント装置80A,80Bがそれぞれ設けられている(図1参照)。一方のプリアライメント装置80Aは、ステージ制御装置20に制御され、ウエハ搬送ロボット63A、ウエハステージWST1との間でウエハの受け渡しを行うとともに、ウエハステージWST1にロードされるウエハのプリアライメントを行う。他方のプリアライメント装置80Bは、ステージ制御装置20に制御され、ウエハ搬送ロボット63B、ウエハステージWST2との間でウエハの受け渡しを行うとともに、ウエハステージWST2にロードされるウエハのプリアライメントを行う。なお、ステージ制御装置20によるプリアライメント装置80A、80Bの制御動作についても後述する。
【0068】
前記一方のプリアライメント装置80Aは、図4(A)及び図4(B)に示されるように、ベースフレーム46の下面に吊り下げ支持された上下動装置としてのエレベータユニット81を備えている。このエレベータユニット81は、内部に不図示の駆動機構を内蔵するエレベータユニット本体83と、該エレベータユニット本体83内の前記駆動機構によって重力方向(図4(A)の上下方向)に沿って駆動される駆動軸97とを備えている。
【0069】
前記エレベータユニット本体83の下端部の外周面には、側面視略L字状の3本のアーム82A,82B,82Cが所定間隔で設けられている。これら3本のアーム82A〜82Cは、図4(A)に示されるように、エレベータユニット本体83の側面に一端部が固定され、その側面から放射方向にそれぞれ延びるほぼ同一長さの水平部と、該水平部の他端部から垂直下方に延び、その下端に内側に向かって延びる曲折部が形成された鉛直部とを、それぞれ有している。また、アーム82A〜82Cそれぞれの曲折部には、ウエハ保持機構87A〜87Cがそれぞれ設けられている。
【0070】
前記ウエハ保持機構87Aは、アーム82Aの鉛直部の下端の曲折部の上面をエレベータユニット本体83の半径方向に沿って往復移動可能な平板状のスライダ85と、該スライダ85の上面に設けられた円盤状の接触部84と、該接触部84の内側のスライダ85上面に突設された支持部としての突起部86とを備えている。スライダ85は、ステージ制御装置20によって制御される不図示の駆動系によって駆動されるようになっている。その他のウエハ保持機構87B,87Cは、ウエハ保持機構87Aと同様の構成になっている。
【0071】
このため、本実施形態では、3つのウエハ保持機構87A〜87Cをそれぞれ構成する接触部84の側面(外周面)をウエハの外周面に圧接した状態で、ウエハを3つの接触部84によって挟持(保持)するとともに、3つの突起部86によりウエハの下面(裏面)を3点で支持することができるようになっている。
【0072】
前記駆動軸97の下端部近傍には、図4(A)に示されるように、所定間隔で3本のウエハ交換用アーム(以下、単に「交換用アーム」と呼ぶ)93A,93B,93Cが設けられている。このうち、交換用アーム93Bと交換用アーム93Cとが、図4(B)に示されるように、中心角90°を成す位置関係で設けられており、残りの交換用アーム93Aは、交換用アーム93B,93Cそれぞれとの間で中心角135°を成す位置関係で設けられている。
【0073】
交換用アーム93Aは、駆動軸97の側面にその一端部が固定され、水平に延びる固定部材91Aと、該固定部材91Aの他端部側に設けられ、該固定部材91Aの長手方向に沿って往復移動可能な略L字状の可動部材92Aとを備えている。可動部材92Aは、固定部材91Aの長手方向に平行な水平部と、該水平部の外側(固定部材91Aの他端部側)の端部から90°折り曲げられ、下方に延びる鉛直部とを備えている。可動部材92Aは、ステージ制御装置20により制御される不図示の駆動機構によって駆動される。可動部材92Aの鉛直部の下端部には、該鉛直部に直交して水平プレートが設けられ、該水平プレート上面の先端部に支持部としての突起部95aが突設されている(図5(A)等参照)。また、可動部材92Aの鉛直部には突起部95aよりやや上方の位置に保持部94aが設けられている。保持部94aは、中央部に貫通孔が形成された円柱状部材から成り、その貫通孔部分に可動部材92Aの鉛直部が挿入され、一体化された構造となっている。突起部95aと保持部94aとによりウエハ保持機構96Aが構成されている。
【0074】
前記交換用アーム93Bは、駆動軸97の側面に固定されたL字状部材によって構成されている。この交換用アーム93Bは、駆動軸97にその一端部が固定され、水平に延びる水平部と、該水平部の他端部側に設けられ、該水平部の外側の端部から90°折り曲げられ、下方に延びる鉛直部とを有する。この交換用アーム93Bの鉛直部の下端部には、ウエハ保持機構96Bが設けられている。このウエハ保持機構96Bは、鉛直部に直交して設けられた水平プレートと、該水平プレート上面の先端部に突設された支持部としての突起部95bと、鉛直部の突起部95bよりやや上方の位置に前述の保持部94aと同様にして設けられた保持部94bとを備えている。この場合、図4(B)から分かるように、保持部94bはウエハWのノッチ(V字状の切り欠き)Nを形成する直線状の2辺に接触するようになっている。
【0075】
残りの交換用アーム93Cは、上記交換用アーム93Bと同様のL字状部材から成り、その鉛直部の下端に前記ウエハ保持機構96Bと同様に支持部としての突起部95cと保持部94cとを含んで構成されたウエハ保持機構96Cを備えている。この場合、交換用アーム93A、93B、93Cにそれぞれ設けられたウエハ保持機構96A、96B、96Cをそれぞれ構成する突起部95a、95b、95cの先端は、同一の水平面上に位置しているとともに、保持部94a、94b、94cはほぼ同一高さ位置に設けられている。
【0076】
従って、本実施形態では、3つのウエハ保持機構96A〜96Cをそれぞれ構成する保持部94a、94b、94cの側面(外周面)をウエハの外周面に圧接した状態で、ウエハを3つの保持部94a〜94cによって挟持(保持)するとともに、3つの突起部95a〜95cによってウエハの下面(裏面)を3点で支持することができるようになっている。
【0077】
さらに、アーム82A〜82Cと交換用アーム93A〜93Cは、図4(B)に示されるように、平面視では、お互いに機械的に干渉しないような配置となっており、駆動軸97を介して交換用アーム93A〜93Cが所定高さまで上昇駆動され、3つの突起部86の先端と3つの突起部95a〜95cの先端とが同一平面上に位置する状態では、これら6つの突起部によって同時にウエハ裏面を下方から支持することができるようになっている。
【0078】
他方のプリアライメント装置80Bは、上記一方のプリアライメント装置80Aと同様に構成されている。
【0079】
次に、本実施形態の露光装置10で行われるウエハ交換動作について、一方のウエハステージWST1側を例にとって、図5(A)〜図10(B)に基づいて詳細に説明する。
【0080】
なお、露光装置10では、例えば特開平10−214783号公報(対応する米国特許第6,341,007号)などに開示されるのと同様にして、一方のウエハステージ側でウエハ交換、ウエハアライメントが行われるのと並行して、他方のウエハステージ側でウエハの露光が行われる。すなわち、露光装置10では、上記の並行処理動作の一部としてウエハ交換が行われるので、以下の説明では、適宜、上記の並行処理動作中の他方のウエハステージWST2側の動作についても説明する。但し、本実施形態の露光装置10で行われる、ウエハステージWST1、WST2上の並行処理動作は、ウエハ交換に関する動作を除き、前述した特開平10−214783号公報などに開示されており、公知であるから、最低限必要な説明に止めるものとする。
【0081】
前提として、図5(A)に示されるように、プリアライメント装置80Aを構成するアーム82A〜82C及び交換用アーム93A〜93Cはいずれもウエハを保持しておらず、また、ウエハステージWST1においては投影光学系PLの直下にてウエハ(便宜上ウエハW’とする)に対する露光動作が行われているものとする。また、これと並行して、ウエハステージWST2側では、一例としてウエハ(便宜上ウエハW”とする)に対する、EGA方式のウエハアライメントが行われているものとする。
【0082】
まず、主制御装置50からの指示に基づき、ステージ制御装置20によりアーム駆動機構62Aを介して、ウエハWを保持したロボットアーム66Aが、図5(B)に示されるように、ウエハ交換位置(プリアライメント装置80Aの直下)まで駆動される。
【0083】
次いで、主制御装置50からの指示に基づき、ステージ制御装置20により、アーム駆動機構62Aを介して、ウエハWを保持したロボットアーム66Aが、図5(C)に示される位置まで上昇駆動される。これにより、ウエハWは、アーム82A〜82Cの内側のウエハの受け渡し位置に位置決めされる。
【0084】
次いで、主制御装置50からの指示に基づき、ステージ制御装置20により、アーム82A〜82Cに設けられた保持機構87A〜87CそれぞれがウエハWに接近する方向に駆動され、保持機構87A〜87Cそれぞれの接触部84がウエハWの外縁部に対して所定距離だけ離れた接触直前の位置で停止する。図6(A)には、このときの保持機構87A〜87Cとウエハとの位置関係が、アーム82Aに設けられた保持機構87Aを代表的に採りあげて示されている。
【0085】
次いで、主制御装置50からの指示に基づき、ステージ制御装置20により、ロボットアーム66Aのハンド部76Aに設けられた3つの給排気部77が切り替え機構を介してバキュームから気体の噴出に切り替えられ、これにより図6(B)に示されるように、ウエハWがハンド部76Aの上面から僅かに浮上する。この状態で、図6(C)に示されるように、ステージ制御装置20により、保持機構87A〜87CそれぞれがウエハWに接近する方向に更に駆動され、それぞれの接触部84が、ウエハWに接触する直前に、ステージ制御装置20は、給排気部77からの気体の噴出を停止する。これにより、ウエハWが自重により僅かに下降すると同時に、保持機構87A〜87Cそれぞれの接触部84がウエハWの外縁部に当接(圧接)し、これにより、ウエハWが3つの接触部によって挟持(保持)される。また、このとき、保持機構87A〜87Cそれぞれの突起部86がウエハWの裏面に接触している。すなわち、このとき、ウエハWは、3つの接触部84でその側面の3点が保持されるとともに、裏面が3つの突起部86によって3点支持されている。
【0086】
その後、主制御装置50からの指示に基づき、ステージ制御装置20により、アーム駆動機構62Aを介してロボットアーム66Aが所定量下降駆動される。図6(D)には、このロボットアーム66Aの下降開始直後のハンド部76Aの状態が示されている。また、図7(A)には、ロボットアーム66Aの下降終了時の状態が示されている。
【0087】
その後、主制御装置50からの指示に基づき、ステージ制御装置20により、ロボットアーム66が、アーム駆動機構62を介して駆動され、プリアライメント装置80Aの直下から退避する。
【0088】
上記のウエハWのロボットアーム66Aから保持機構87A〜87Cへの受け渡しが行われている間も、ウエハステージWST1上ではウエハW’に対する露光が続行されているとともに、ウエハステージWST2側は、前述のウエハアライメントが終了して待機状態となっているものとする。そして、一定時間経過後、ウエハステージWST1上のウエハW’に対する露光が終了すると、主制御装置50の指示に基づき、ステージ制御装置20により、ウエハステージWST1が、図7(B)に示されるように、ウエハ交換位置(プリアライメント装置80Aの直下)まで移動される。このウエハステージWST1のウエハ交換位置への移動と並行して、先にウエハアライメントが終了しているウエハW”を保持したウエハステージWST2が、露光位置(投影光学系PLの直下)に移動される。
【0089】
そして、所定の準備作業(ウエハアライメントの結果得られた各ショット領域の位置座標と露光位置(レチクルパターンの投影位置)との関連付けなど)の後、主制御装置50によってステージ制御装置20その他の制御装置を介してウエハステージWST2上のウエハW”に対するステップ・アンド・スキャン方式の露光が開始される。このウエハW”に対する露光の開始と並行して、ステージ制御装置20により、エレベータユニット81の駆動軸97が下降駆動され、このようにして交換用アーム93A〜93Cの下降駆動が開始される。図7(B)には、この交換用アーム93A〜93Cの下降途中の状態が示されている。
【0090】
そして、交換用アーム93A〜93Cは、図7(C)に示される位置まで下降した段階で停止する。このとき、交換用アーム93A〜93Cにそれぞれ設けられたウエハ保持機構96A、96B、96Cをそれぞれ構成する突起部95a、95b、95cは、いずれもウエハW’の外側に位置している。このとき、可動部材92Aは、エレベータユニット本体83とは反対側の移動限界位置にある。
【0091】
次に、主制御装置50の指示に基づき、ステージ制御装置20によってウエハステージWST1がXY面内で微小駆動され、交換用アーム93B,93Cの突起部95b、95cが、ウエハホルダH1の凹部G1,小凹部G2内に挿入され、ウエハWのノッチN近傍、周縁部近傍の裏面側にそれぞれ挿入された状態となる。
【0092】
次いで、ステージ制御装置20により、ウエハホルダH1によるウエハ(露光済みのウエハ)W’の真空吸着が解除され、交換用アーム93Aを構成する可動部材92Aが固定部材91Aに沿ってウエハW’の中心に向かって駆動される。これにより、交換用アーム93Aに設けられたウエハ保持機構96Aを構成する突起部95aがウエハホルダH1の小凹部G3内に挿入され、ウエハW’の周縁部近傍の裏面側に位置する。その後、ステージ制御装置20により、交換用アーム93A〜93Cが所定量上昇駆動されることにより、その上昇の途中でウエハW’が交換用アーム93A〜93Cにそれぞれ設けられたウエハ保持機構96A〜96Cによって保持され、ウエハホルダH1からアンロードされる。このとき、ウエハW’は、ウエハ保持機構96A〜96Cをそれぞれ構成する突起部95a〜95cによってその裏面が3点支持されるとともに、保持部94a〜94cによって、その側面の3箇所が保持されている。図8(A)には、このようにしてウエハW’がウエハホルダH1からアンロードされた後の状態が示されている。この図8(A)の状態では、未露光のウエハWと露光済みのウエハW’とが、上下方向に重なった状態となっている。
【0093】
次いで、主制御装置50からの指示に基づき、ステージ制御装置20により、ロボットアーム66Aが、図8(A)に示されるように、プリアライメント装置80Aの直下まで再度駆動される。続いて、ロボットアーム66Aが、ステージ制御装置20により所定量上昇駆動される。このロボットアーム66Aの上昇の途中で、ロボットアーム66Aのハンド部76AがウエハW’の裏面に当接し、その後、更にロボットアーム66Aが上昇することにより、ウエハW’がウエハ保持機構96A〜96C(交換用アーム93A〜93C)からロボットアーム66Aのハンド部76Aに受け渡される。図8(B)には、このウエハW’の受け渡しが行われる直前の状態が示されている。なお、受け渡しに先立って、ハンド部76Aの3つの給排気部77によるバキュームが開始されている。
【0094】
上記のウエハW’の受け渡しが終了すると、主制御装置50からの指示に基づき、ステージ制御装置20により、交換用アーム93Aを構成する可動部材92Aが固定部材91Aに沿ってウエハW’の中心とは反対方向に(ウエハW’から離間する方向)に駆動される。そして、ステージ制御装置20により、ロボットアーム66Aのハンド部76Aが水平面内でウエハ保持機構96Aに接近する方向に僅かに駆動される。これにより、ウエハW’の下方にウエハ保持機構96A〜96Cをそれぞれ構成する突起部95a〜95cが位置しなくなる。
【0095】
そこで、主制御装置50の指示に基づき、ステージ制御装置20により、ウエハW’を保持したロボットアーム66Aが、所定量下降駆動される。図8(C)には、ロボットアーム66Aが、ウエハW’を保持して交換用アーム93A〜93Cよりも下方の所定高さまで下降駆動された状態が示されている。
【0096】
次に、図9(A)に示されるように、ステージ制御装置20により、アーム駆動機構62Aを介してロボットアーム66Aが縮められ、露光済みウエハW’はウエハ交換位置から退避する。
【0097】
次いで、ステージ制御装置20により、エレベータユニット81を介して交換用アーム93A〜93Cが上昇駆動され、この途中で交換用アーム93Aの可動部材92Aが固定部材91Aに沿ってウエハWの中心方向に所定量駆動される。これにより、3つの突起部95a〜95cがウエハWの裏面に当接可能な配置となる。そして、ステージ制御装置20により、エレベータユニット81を介して交換用アーム93A〜93Cが上昇駆動されることにより、ウエハWの裏面に保持機構87A〜87Cの3つの突起部86、及びウエハ保持機構96A〜96Cの突起部95a〜95cの合計6つの突起部が同時に接触する。このとき、保持機構87A〜87Cの3つの接触部84とウエハ保持機構96A〜96Cの保持部94a〜94cが、同時にウエハWの側面に接触し、ウエハWの側面を6点で保持した状態となる。図9(B)には、このときの状態が示されている。
【0098】
その後、ステージ制御装置20により、エレベータユニット81を介して交換用アーム93A〜93Cがさらに上昇駆動されると(更なる上昇駆動)、ウエハWは、保持機構87A〜87Cの3つの突起部86から離間し、その裏面が突起部95a〜95cにより3点で支持されるとともに、保持部94a〜94cによってその側面が3箇所で挟持(保持)されるようになる。これと同時に、ステージ制御装置20により、保持機構87A〜87CがウエハWから離間する方向に駆動される。このようにして、アーム82A〜82Cから交換用アーム93A〜93CへのウエハWの受け渡しが終了する。なお、保持機構87A〜87Cの3つの接触部84がウエハWの側面に接触した状態のままで交換用アーム93A〜93Cの上述の「更なる上昇駆動」を行うと、ウエハにストレスを与えるおそれがあるため、好ましくは、この「更なる上昇駆動」を開始する前に、保持機構87A〜87CのウエハWからの離間動作(接触部84のウエハ側面からの退避動作)を行うように動作すれば良い。具体的には、保持部94a〜94cがウエハ側面に接触したことを検知するセンサを設けたり、あるいは交換用アーム93A〜93Cの上昇位置をモニタするようにしたりして、ウエハ側面が保持部94a〜94cに保持されている状態を検知した後に、接触部84の退避動作を開始するようにすれば良い。
【0099】
上記の交換用アーム93A〜93CへのウエハWの受け渡し終了後、ステージ制御装置20により、ウエハWを保持した交換用アーム93A〜93Cがエレベータユニット81を介して下降駆動される。このとき、交換用アーム93A〜93Cの突起部95a〜95cは、それぞれウエハホルダH1の小凹部G3、凹部G1、小凹部G2に対応した位置にある。そして、ウエハWが、図9(C)に示されるように、ウエハホルダH1に接触した段階で、ステージ制御装置20により、交換用アーム93Aの可動部材92AがウエハWから離間する方向に駆動される。次いで、ステージ制御装置20により、ウエハステージWST1が可動部材92Aが駆動された方向に水平面内で駆動される(図10(A)参照)。これにより、交換用アーム93A〜93Cの突起部95a〜95cのいずれもがウエハWの下側に位置しないようになる。この状態で図10(B)に示されるように、ステージ制御装置20により、エレベータユニット81を介して交換用アーム93A〜93Cが上昇駆動されることにより、ウエハステージWST1上へのウエハWのロードが終了し、ウエハホルダH1によるウエハWのバキュームが開始される。これにより、ウエハステージWST1におけるウエハ交換の一連の動作が終了する。
【0100】
ウエハステージWST1上でウエハ交換が行われている間、ウエハステージWST2上ではウエハW”に対するステップ・アンド・スキャン方式の露光が続行されている。
【0101】
そして、ウエハステージWST1側では、主制御装置50により、ウエハWに対するEGA方式のウエハアライメント(計測)が、アライメント系ALG1及びウエハ干渉計システムを用いて、通常のスキャニング・ステッパと同様にして行われ、ウエハW上の複数のショット領域の配列座標がアライメント座標系(Y干渉計72、X干渉計71の測長軸で規定される座標系)上で求められる。次いで、主制御装置50では、その求めたウエハW上の複数のショット領域の配列座標を、不図示の基準マーク板の基準マークを原点とする座標値に変換する。そして、このようにしてウエハアライメントが終了すると、ウエハステージWST1側は待ち状態となる。
【0102】
そして、ウエハステージWST2上のウエハW”に対する露光が終了すると、主制御装置50の指示に基づき、ステージ制御装置20により、ウエハステージWST1が、投影光学系PLの下方からウエハ交換位置(右側ローディングポジション)に移動される。その後、ウエハステージWST2側では、前述したウエハステージWST1側と同様にしてウエハ交換が行なわれる。
【0103】
一方、ウエハステージWST2が、ウエハ交換位置に移動するのとほぼ同時に、主制御装置50の指示に基づき、ステージ制御装置20により、ウエハステージWST1が投影光学系PLの下方の露光位置に移動される。この露光位置への移動が終了し、露光が開始されるのに先立って、主制御装置50では、不図示の一対のレチクルアライメント系を用いて、レチクルR上の一対のアライメントマークと対応する不図示の基準マーク板上の基準マークとを投影光学系PLを介して同時に計測する。これにより、レチクルパターンの投影位置とウエハW上の各ショット領域との位置関係の算出(ウエハアライメントの結果得られた各ショット領域の位置座標と露光位置(レチクルパターンの投影位置)との関連付け)が終了する。
【0104】
その後、主制御装置50では、通常のスキャニング・ステッパと同様にして、ウエハW上の複数のショット領域にステップ・アンド・スキャン方式にてレチクルRのパターンを順次転写する。
【0105】
なお、1枚目のウエハをウエハステージ上にロードする場合、ウエハステージ上にはウエハが載置されていない状態であるので、アーム82A〜82Cにて保持させる必要はなく、ロボットアームから直接交換用アーム93A〜93Cにウエハを搬送することが望ましい。
【0106】
これまでの説明から明らかなように、本実施形態の露光装置10では、交換用アーム93A,93B,93Cによって、ウエハの裏面少なくとも3点、側面少なくとも2点の合計5点以上で保持可能な第1の保持装置が構成されている。また、エレベータユニット本体83に固定され、ウエハをウエハホルダに対向する裏面少なくとも3点、側面少なくとも2点の合計5点以上で保持可能な第2の保持装置が構成されている。主制御装置50とステージ制御装置20及びウエハステージを駆動する駆動系により補正装置が構成され、主制御装置50とステージ制御装置20とにより制御装置が構成されている。
【0107】
以上詳細に説明したように、本実施形態に係るプリアライメント装置80A(又は80B)によると、第1の保持装置(交換用アーム93A,93B,93C)は、ウエハWのウエハホルダに対向する一側の面(裏面)の外縁部の近傍を3点支持するとともに、その支持されたウエハに接近又は離間する方向に移動可能な1つの突起部95aを含む3つの突起部95a〜95cと、ウエハWの側面に異なる方向から当接してウエハを保持するとともに、ウエハに接近又は離間する方向に移動可能な1つの保持部94aを含む3つの保持部94a〜94cを有し、ウエハWを裏面3点、側面3点の合計6点で保持可能となっている。
【0108】
ここで、保持部94bは、ウエハのノッチ部を保持し、残りの保持部94a、94cは、ウエハのノッチ部以外の側面の異なる位置に当接する。また、エレベータユニット81により、交換用アーム93A〜93Cは、ウエハホルダに対して接近又は離間するように重力方向に駆動される。従って、プリアライメント装置80A(又は80B)によると、ウエハの側面に保持部94a〜94cを機械的に接触させて位置合わせ(プリアライメント)を行うことができるとともに、ウエハの裏面側の3点をバキュームチャック等を用いることなく支持することができる。これにより、ウエハWの位置合わせのために、従来用いられていた光学センサを用いる必要がなくなり、その光学センサの設置スペースの確保が不要となる。また、交換用アーム93A,93B,93Cに、ウエハの裏面をバキュームにより吸着支持するための広い面積の支持面を設ける必要がなくなる。このため、ウエハをウエハホルダに搭載する(あるいはウエハホルダ上のウエハを搬出する)際に、そのウエハの裏面をそれぞれ支持する3つの突起部95a〜95cとウエハホルダとの機械的な干渉を回避するためにウエハホルダに設けられる凹部G1〜G3を極力小さくすることができる。すなわち、図11に示されるように点線で囲まれる領域のすべてが吸着部分とされているので、平坦な領域を広く取ることができる。これにより、ウエハホルダに搭載される(保持される)ウエハの平坦度(フラットネス)を向上することが可能となっている。
【0109】
また、本実施形態の露光装置10によると、平坦度が向上したウエハに対して露光(パターンの転写)が行われるので、図11に示される露光可能領域EAにおいては、ウエハの凹凸に起因するパターン転写精度の劣化、例えばウエハの凹凸に起因するデフォーカスなどを抑制した、高精度な露光が可能となる。この結果、露光可能領域EAを広く取ることが可能となるとともに、最終製品であるデバイスの生産性を向上することが可能となる。
【0110】
また、ウエハの位置決めは保持部により強制的に行われるので、従来のプリアライメント装置に用いられたウエハ回転機構、光学観察機構等が不要で、常に高い精度でウエハの位置決めが行われ、高性能である。また、ウエハの撓みの違いにも依存しない。
【0111】
また、上記プリアライメント装置によると、コスト、性能、速度、ピンチャックホルダとの相性、及び省スペース化の面において、非接触のアライメント装置に比べ、その効果は非常に大きい。
【0112】
また、ウエハWは、ノッチNが形成された円盤状形状を有しており、3つの支持点のうちの1つの支持点は、ウエハをノッチ近傍で支持し、エレベータユニット81により交換用アームが下降駆動された際に、ウエハホルダ上のリム部に形成されたノッチNに対応した凹部G1が突起部95bの回避部を兼ねているので、ウエハホルダのリム部に形成する凹部G1をノッチNよりも僅かに大きくとるのみで、突起部95bのウエハホルダへの接触を回避できることから、ウエハホルダにより保持されるウエハのフラットネスを向上することが可能となる。
【0113】
突起部95a〜95cと保持部94a〜94cとは、同数設けられ、各支持部と各保持部とは同一部材(交換用アーム93A〜93C)に設けられ、移動可能な突起部95aと保持部94aを同時に移動することとしているので、構成をシンプルにすることができるとともに、駆動制御を比較的容易に実現することができる。
【0114】
また、本実施形態においては、交換用アームとは別に、エレベータユニット81の本体83に固定され、ウエハをウエハホルダに対向する一側の面(裏面)3点、側面3点の6点で保持可能なアーム82A〜82Cを備えているので、ウエハ交換時において、次に露光に使用されるウエハをアーム82A〜82Cに保持させた状態で、露光が終了したウエハをウエハホルダ上からアンロードすることができる。これにより、ウエハのアンロード終了の後、すぐにウエハをウエハホルダ上にロードすることができるので、露光装置のスループットを向上することが可能となる。
【0115】
この場合、突起部と保持部とは、同数設けられ、各突起部と各保持部とはそれぞれアーム82A〜82Cに設けられ、移動可能な突起部及び保持部は同時に移動可能であるので、アームの配置及び構造をシンプルにすることができるとともに、その駆動制御を比較的簡易に実現することが可能である。
【0116】
また、本実施形態の露光装置10によると、ロボットアーム66Aは、ウエハを搬送するとともに、前記物体に対して加圧気体を噴出して前記物体を浮上させることが可能な給排気部77を有し、ロボットアーム66Aから交換用アーム93A〜93C又はアーム82A〜82Cに対するウエハの受け渡し時に、保持部によりウエハが取り囲まれた状態で、給排気部77の作動を開始し、ウエハが浮上した状態で、少なくとも3つの保持部によりウエハの側面を保持することとしているので、突起部95a〜95cがウエハの裏面を引っ掻くことがなく、これによるゴミの発生(発塵)を極力抑制することができる。
【0117】
なお、上記実施形態では、交換用アーム93A〜93Cにおいては、突起部と保持部とを同数設けることとしたがこれに限らず、突起部と保持部とは異なる数だけ設けることとしても良い。また、その数は3つに限らず、少なくとも突起部が3つ、保持部が2つあれば良い。さらに、上記実施形態では突起部と保持部とを同一部材に設けることとしたが、これに限らず、それぞれ別々に設けることとしても良い。
【0118】
なお、上記実施形態では、アーム82A〜82Cにおいても、突起部86及び接触部84を同数設けることとしたが、本発明がこれに限られるものではなく、異なる数だけ設けることとしても良い。この場合、突起部は少なくとも3つ、保持部は少なくとも2つあれば良い。また、突起部86及び保持部84をそれぞれ同一部材(同一のアーム)に設けなくても良い。
【0119】
なお、上記実施形態では、ロボットアームに給排気部77を設け、ウエハを真空吸引して吸着保持し、交換用アームへの受け渡しの際にはウエハを浮上させることとしたが、これに限られるものではなく、例えば、真空吸引機構のみを設けるものとしても良いし、あるいは、真空吸引機構及び給気機構を別々に設けるものとしても良い。
【0120】
なお、上記実施形態における交換用アーム93A〜93Cの配置、アーム82A〜82Cの配置は、各アームが機械的に干渉しないで、かつロボットアーム66A,66Bが交換用アーム及びアームにウエハを受け渡すことができる配置であれば、任意で良い。
【0121】
更に、アーム82A〜82Cは、ウエハを交換用アーム93A〜93Cの近傍で待機させるための機能を有するので、アーム82A〜82Cを設けずに、別のウエハを待機させる機構を設けることとしても良い。
【0122】
また、上記実施形態では、交換用アーム93A〜93Cのうち、駆動可能な交換用アームを交換用アーム93Aとし、アーム82A〜82Cのうち駆動可能なアームをアーム82A〜82Cの全てとするものとしたが、本発明がこれに限られるものではなく、交換用アーム93A〜93C及びアーム82A〜82Cのいずれも、少なくとも1つのアームが駆動可能であれば良く、その組み合わせは任意で良い。勿論、すべてのアームがウエハに接近する方向及び離間する方向に駆動可能な構成を採用しても良い。
【0123】
《第2の実施形態》
次に、本発明の第2の実施形態を、図12に基づいて説明する。ここで、前述した第1の実施形態と同一若しくは同等の構成部分には、同一の符号を用いるとともにその説明を簡略化し若しくは省略するものとする。
【0124】
本第2の実施形態に係る露光装置では、プリアライメント装置80A、80Bを構成する交換用アームの構成及びウエハホルダの構成が上記第1の実施形態と異なるのみで、その他の部分の構成などは前述した第1の実施形態と同一になっている。従って、以下では、重複説明を避けるべく、交換用アームの構成及びウエハホルダの構成を中心として説明する。
【0125】
図12には、本第2の実施形態に係るプリアライメント装置(80A、80B)を構成する交換用アームの構成を上方(+Z方向)から見た図が概略的に示されている。この図12に示されるように、プリアライメント装置を構成するエレベータユニットの駆動軸97の外周面には、6本の交換用アーム101A〜101Fが、前述した交換用アーム93A〜93Cと同様にして取り付けられている。
【0126】
前記交換用アーム101Aは、駆動軸97から−X側(0時の方向)に延びており、この交換用アーム101Aと対称に、ウエハ交換アーム101Dが駆動軸97から+X側(6時の方向)に延びている。また、交換用アーム101Bは、駆動軸97からX軸及びY軸に45°を成す方向、すなわち、交換用アーム101Aに対して時計回りに45°を成す方向(すなわち1時半の方向)に延びており、この交換用アーム101Bと対称に、ウエハ交換アーム101Eが駆動軸97から7時半の方向に延びている。さらに、交換用アーム101Cは、駆動軸97から+Y方向(3時の方向)に延びており、この交換用アーム101Cと対称に、交換用アーム101Fが−Y方向(9時の方向)に延びている。
【0127】
上記6本の交換用アーム101A〜101Fのうち、交換用アーム101B、101Eとしては、前述した交換用アーム93Aと同様に、その下端に前述したウエハ保持機構96Aと同様に構成され、駆動軸97の半径方向(当該交換用アームの長手方向)に沿って不図示の駆動機構によりスライド駆動可能なウエハ保持機構が設けられている。また、残りの交換用アーム101A、101C、101E、101Fは、前述した交換用アーム96B、96Cと同様に構成されている。
【0128】
プリアライメント装置のその他の構成部分は、前述した第1の実施形態と同様にして構成されている。
【0129】
本第2の実施形態に係るプリアライメント装置によると、図12に実線で示されるノッチNが中心に対して6時の方向(0°の方向)にあるウエハ(以下、このようなウエハを、「0°ウエハW0」と記述する)を保持する場合には、交換用アーム101B、101D、101Fがそれぞれ有するウエハ保持機構(突起部と保持部)によって、前述した第1の実施形態と同様に、0°ウエハW0の裏面の外延部近傍が3点支持されるとともに、外周部の3箇所が保持される。この場合、交換用アーム101Dが有するウエハ保持機構の保持部が0°ウエハW0のノッチNを形成する直線状の2辺に接触するとともに、そのウエハ保持機構の突起部が0°ウエハW0の裏面のノッチNの近傍を支持する。
【0130】
また、図12に二点鎖線(仮想線)にて示されるノッチNが中心に対して3時の方向(90°の方向)にあるウエハ(以下、このようなウエハを、「90°ウエハW90」と記述する)を保持する場合には、交換用アーム101A、101C、101Eがそれぞれ有するウエハ保持機構(突起部と保持部)によって前述した第1の実施形態と同様に、90°ウエハW90の裏面の外延部近傍が3点支持されるとともに、外周部の3箇所が保持される。この場合、交換用アーム101Cが有するウエハ保持機構の保持部が90°ウエハW90のノッチNを形成する直線状の2辺に接触するとともに、そのウエハ保持機構の突起部が90°ウエハW90の裏面のノッチNの近傍を支持する。
【0131】
この場合、図12からも分かるように、0°ウエハW0を保持する場合と90°ウエハW90を保持する場合とでは、ウエハの駆動軸に対する相対位置が異なっているが、両者間における位置誤差(オフセット値)は予め算出又は計測可能である。従って、このオフセットが予め算出又は計測され、その結果が不図示のメモリに記憶されている。そして、ウエハ(W0又はW90)をロードするとき、及びウエハ(W0又はW90)をアンロードするときに、主制御装置50がウエハの種類に応じて当該誤差(オフセット値)を考慮した指示をステージ制御装置20に与えることとしている。この結果、ステージ制御装置20により、上記のウエハの種類に応じた適切な位置にウエハステージ(ウエハホルダ)が移動され、その位置でウエハ(W0又はW90)のロード及びアンロードが行われるようになっている。
【0132】
以上説明したように、本第2の実施形態に係る露光装置によると、前述した第1の実施形態と同等の効果を得られる他、プリアライメント装置がノッチが0°の方向を向いた状態で搬送されるウエハ、ノッチが0°の方向から90°回転した状態で搬送されるウエハのいずれにも対応可能となっているので、0°ウエハ及び90°ウエハのいずれについても、支障なく、ロード及びアンロードを実行することができるという効果がある。
【0133】
なお、上記各実施形態で説明した交換用アームの構成、配置は一例に過ぎず、その他種々の構成、配置を採用することができる。例えば、図13(A)に示されるような交換用アームの構成、配置を採用しても良い。この図13(A)に示されるプリアライメント装置では、エレベータユニットの駆動軸97の外周面に、4本の交換用アーム101G,101H,101I,101Jが前述と同様にして取り付けられている。このうち、交換用アーム101Gは、下端部に、軸102を中心として水平面(XY面)内で回動自在とされた板状部材103を含むウエハ保持機構を有している。板状部材103は、軸102の一側及び他側に突起部と保持部とを各一つ有している。その他の交換用アーム101H,101I,101Jは、前述した交換用アーム96B、96Cと同様に構成されている。
【0134】
この図13(A)に示される交換用アーム101G,101H,101I,101Jを備えたプリアライメント装置では、0°ウエハW0を保持する際には、板状部材103が図13(A)中に実線で示される状態とされるとともに、この板状部材103を含むウエハ保持機構と、交換用アーム101I,101Jがそれぞれ有するウエハ保持機構とが用いられ、0°ウエハW0がその裏面3点で支持されるとともに、側面3箇所(そのうちの一箇所がノッチN)が保持されるようになっている。一方、90°ウエハW90を保持する際には、板状部材103が図13(A)中に二点鎖線(仮想線)で示される状態とされるとともに、この板状部材103を含むウエハ保持機構と、交換用アーム101H,101Iがそれぞれ有するウエハ保持機構とが用いられ、90°ウエハW90がその裏面3点で支持されるとともに、側面3箇所(そのうちの一箇所がノッチN)が保持されるようになっている。この場合、0°ウエハ、90°ウエハのいずれを保持する場合においても交換用アーム101Iのウエハ保持機構が用いられる。このように、交換用アーム101Iのウエハ保持機構を0°ウエハと90°ウエハの保持に共用することにより、交換用アーム及びウエハ保持機構の数を図12の場合よりも削減することができる。
【0135】
あるいは、図13(B)に示されるような交換用アームの構成、配置を採用しても良い。この図13(B)に示されるプリアライメント装置では、エレベータユニットの駆動軸97の外周面に、前述した第1の実施形態と同様に交換用アーム101K,101L,101Mが取り付けられている。但し、これらの交換用アーム101K〜101Mのそれぞれが有するウエハ保持機構は、前述したウエハ保持機構96Aと同様に、駆動軸97の半径方向(当該各交換用アームの長手方向)に沿って不図示の駆動機構によりスライド駆動可能な構成となっている。この場合、各交換用アームのウエハ保持部(突起部と保持部を含む)を必要に応じてスライドすることで、0°ウエハW0及び90°ウエハW90のいずれをも保持できるようになっている。
【0136】
また、この図13(B)に示されるプリアライメント装置を採用する場合には、ウエハホルダのリム部128を図14(A),図14(B)に示されるように形成する必要がある。すなわち、リム部128に形成される3つの凹部G1’,G2’,G3’のうち、ノッチNに対応する凹部G1’,G2’は凹部G3’よりも大きく形成しておく必要がある。これにより、図13(A)に示されるように0°ウエハW0をロード、アンロードすることが可能であるとともに、図13(B)に示されるように90°ウエハW90をロード、アンロードすることも可能である。
【0137】
なお、図13(A)、図13(B)のいずれの交換用アームの配置、構成を採用する場合でも、0°ウエハと90°ウエハのロード又はアンロードを行なう場合には、前述した第2の実施形態と同様に、主制御装置50の指示の下、ステージ制御装置20がオフセット値を考慮してウエハステージの移動を制御することとすれば良い。
【0138】
なお、上記各実施形態では、突起部及び保持部が横シフト(水平方向にスライド)することにより、ウエハに接近又は離間する構成を採用しているが、突起部及び保持部がZ軸回りの回転をすることにより、ウエハに接近又は離間する構成を採用しても良いし、あるいは交換用アーム及びアーム全体が開閉する、すなわち駆動機構によりチルト可能なウエハ保持部を少なくとも3本の交換用アームのそれぞれに設けることとしても良い。
【0139】
なお、上記各実施形態においては、ウエハの受け渡しに必要とされる精度は所定の1つの保持部をノッチに挿入することが可能な数mm程度のレベルで良いので、発塵が少なく、高速でウエハ下に突起部を挿入できる構成を採用することが望ましい。また、プリアライメント装置のうちの駆動部分については、その下側に、ゴミが落下しないようなゴミ落下防止部を設置しておくことが望ましい。
【0140】
また、上記各実施形態においては、ウエハ交換動作が2枚のウエハを重ねた状態で実施されるので、ゴミの落下に十分注意する必要がある。従って、上述のようにゴミ落下防止のカバーを設ける場合には2枚のウエハが上下に重なった状態で同時に動作を行っても良いが、ゴミの落下対策が不十分な場合には、ロボットアームによって保持されたウエハがその上方で待機しているウエハの下側から完全に退避した後に、待機しているウエハのアームから交換用アームへの受け渡しを実行することが望ましい。
【0141】
なお、上記各実施形態では、本発明がスキャニング・ステッパに適用された場合について説明したが、これに限らず、ステップ・アンド・リピート方式のステッパ等の静止露光型の露光装置にも本発明は好適に適用することが可能である。また、上記各実施形態では、ウエハステージを2つ備えたツインウエハステージタイプの露光装置に本発明が適用された場合を説明したが、通常のシングルウエハステージタイプの露光装置にも本発明は適用できることは言うまでもない。
【0142】
また、上記各実施形態では、本発明のステージ装置をウエハステージ装置として採用した場合について説明したが、本発明がこれに限られるものではなくレチクル側のステージ装置としても採用することも可能である。
【0143】
なお、複数のレンズから構成される照明光学系、投影光学系を露光装置本体に組み込み、光学調整をするとともに、多数の機械部品からなるレチクルステージやウエハステージを露光装置本体に取り付けて配線や配管を接続し、更に総合調整(電気調整、動作確認等)をすることにより、上記各実施形態の露光装置を製造することができる。なお、露光装置の製造は温度およびクリーン度等が管理されたクリーンルームで行うことが望ましい。
【0144】
なお、本発明は、半導体製造用の露光装置に限らず、液晶表示素子などを含むディスプレイの製造に用いられる、デバイスパターンをガラスプレート上に転写する露光装置、薄膜磁気ヘッドの製造に用いられるデバイスパターンをセラミックウエハ上に転写する露光装置、撮像素子(CCDなど)、マイクロマシン、有機EL及びDNAチップなどの製造に用いられる露光装置などにも適用することができる。また、半導体素子などのマイクロデバイスだけでなく、光露光装置、EUV露光装置、X線露光装置、及び電子線露光装置などで使用されるレチクル又はマスクを製造するために、ガラス基板又はシリコンウエハなどに回路パターンを転写する露光装置にも本発明を適用できる。ここで、DUV(遠紫外)光やVUV(真空紫外)光などを用いる露光装置では一般的に透過型レチクルが用いられ、レチクル基板としては石英ガラス、フッ素がドープされた石英ガラス、螢石、フッ化マグネシウム、又は水晶などが用いられる。また、プロキシミティ方式のX線露光装置、又は電子線露光装置などでは透過型マスク(ステンシルマスク、メンブレンマスク)が用いられ、マスク基板としてはシリコンウエハなどが用いられる。
【0145】
また、半導体デバイスは、デバイスの機能・性能設計を行うステップ、この設計ステップに基づいたレチクルを製作するステップ、シリコン材料からウエハを製作するステップ、前述した実施形態の露光装置によりレチクルのパターンをウエハに転写するステップ、デバイス組み立てステップ(ダイシング工程、ボンディング工程、パッケージ工程を含む)、検査ステップ等を経て製造される。
【0146】
【発明の効果】
以上説明したように、本発明の搬送装置によれば、物体(ウエハ)のフラットネスを向上することができるという効果がある。
【0147】
また、本発明の露光装置によれば、装置の小型化及び高精度な露光を実現することができるという効果がある。
【図面の簡単な説明】
【図1】第1の実施形態に係る露光装置の構成を示す概略図である。
【図2】ウエハステージWST1、WST2近傍を示す平面図である。
【図3】図3(A)はウエハホルダを示す平面図であり、図3(B)は、ウエハホルダの縦断面図である。
【図4】図4(A)、図4(B)は、プリアライメント装置の構成を説明するための図である。
【図5】図5(A)〜図5(C)は、ウエハ交換方法を説明するための図(その1)である。
【図6】図6(A)〜図6(D)は、搬送アームからアームにウエハを受け渡す方法を説明するための図である。
【図7】図7(A)〜図7(C)は、ウエハ交換方法を説明するための図(その2)である。
【図8】図8(A)〜図8(C)は、ウエハ交換方法を説明するための図(その3)である。
【図9】図9(A)〜図9(C)は、ウエハ交換方法を説明するための図(その4)である。
【図10】図10(A)、図10(B)は、ウエハ交換方法を説明するための図(その5)である。
【図11】第1の実施形態の効果を説明するための図である。
【図12】第2の実施形態に係る交換用アームの配置例を説明するための図である。
【図13】図13(A)、図13(B)は、変形例を説明するための図である。
【図14】図14(A)、図14(B)は、図13(B)に示されるプリアライメント装置を採用する場合におけるウエハホルダのリム部の形状を説明するための図である。
【符号の説明】
10…露光装置、20…ステージ制御装置(補正装置の一部、制御装置の一部)、50…主制御装置(補正装置の一部、制御装置の一部)、66A,66B…ロボットアーム(搬送アーム)、77…給排気部(気体供給部)、80A,80B…プリアライメント装置(搬送装置)、81…エレベータユニット(上下動装置)、84…保持部、86…突起部(支持部)、94a〜94c…保持部、95a〜95c…突起部(支持部)、128…リム部(吸着用凸部)、G1…凹部(回避部)、H1,H2…ウエハホルダ(試料台)、N…ノッチ(切り欠き)、R…レチクル(マスク)、W…ウエハ(物体、感光物体)、WST…ウエハステージ(物体ステージ)。
Claims (9)
- 物体を試料台上の所定位置に搭載するために前記物体を搬送する搬送装置であって、
前記物体の前記試料台に対向する一側の面の外縁部の近傍をそれぞれ支持するとともに、その支持された前記物体に接近又は離間する方向に移動可能な少なくとも1つの支持部を含む少なくとも3つの支持部と、前記物体の側面に異なる方向から当接して前記物体を保持するとともに、前記物体に接近又は離間する方向に移動可能な少なくとも1つの保持部を含む少なくとも2つの保持部と、前記移動可能な前記支持部及び前記保持部を、同時又は個別に駆動する駆動機構と、を有し、前記物体を前記一側の面少なくとも3点、側面少なくとも2点の合計5点以上で保持可能な第1の保持装置と;
前記第1の保持装置を、前記試料台に対して接近又は離間させるため重力方向に駆動する上下動装置と;を備える搬送装置。 - 前記物体は、略V字状又は略U字状の切り欠きが形成された円盤状形状を有し、
前記少なくとも3つの支持点のうちの1つの特定支持点は、前記物体を前記切り欠きの近傍で支持し、
前記上下動装置により前記第1の保持装置が前記試料台に接近する方向に駆動された際に、前記切り欠きの形状に対応した形状の変形部分を有する吸着用凸部が前記試料台に形成され、該吸着用凸部の前記変形部分は前記特定支持点が前記試料台に接触するのを回避する回避部を兼ねることを特徴とする請求項1に記載の搬送装置。 - 前記第1の保持装置は、前記切り欠きが所定方向を向いた第1の状態と、前記切り欠きが前記第1の状態から90°回転した第2の状態とのいずれの状態で搬入される物体にも対応可能であり、
前記第1の状態と第2の状態との相違による前記物体の位置ずれ量を算出し該位置ずれ量が物体の保持部材への搬入時に補正されるように、前記保持装置と前記試料台との相対位置関係を補正する補正装置を更に備えることを特徴とする請求項2に記載の搬送装置。 - 前記支持部と前記保持部とは、同数設けられ、各支持部と各保持部とは同一部材に設けられ、前記駆動機構は、前記移動可能な前記支持部及び前記保持部を同時に駆動することを特徴とする請求項1〜3のいずれか一項に記載の搬送装置。
- 前記第1の保持装置を駆動する駆動軸とは分離された前記駆動装置の本体部に固定され、物体を前記試料台に対向する一側の面3点、側面少なくとも2点の合計5点以上で保持可能な第2の保持装置を更に備え、
前記第2の保持装置は、前記物体の一側の面の外縁部の近傍を3点支持するとともに、その支持された前記物体に接近又は離間する方向に移動可能な少なくとも1つの支持部を含む少なくとも3つの支持部と、前記物体の側面に異なる方向から当接して前記物体を保持するとともに、前記物体に接近又は離間する方向に移動可能な少なくとも1つの保持部を含む少なくとも2つの保持部と、前記移動可能な前記支持部及び前記保持部を、同時又は個別に駆動する駆動機構とを有することを特徴とする請求項1〜4のいずれか一項に記載の搬送装置。 - 前記第2の保持装置を構成する前記支持部と前記保持部とは、同数設けられ、各支持部と各保持部とは同一部材に設けられ、前記駆動機構は、前記移動可能な前記支持部及び前記保持部を同時に駆動することを特徴とする請求項5に記載の搬送装置。
- 前記物体を搬送するとともに、前記物体に対して加圧気体を噴出して前記物体を浮上させる気体供給部を有する搬送アームと;
前記搬送アームから前記第1及び第2の保持装置のうち少なくとも一方の特定の保持装置に対する物体の受け渡し時に、その特定の保持装置の少なくとも3つの保持部により前記物体を取り囲んだ状態で、前記気体供給部の作動を開始し、前記物体が浮上した状態で、前記駆動機構を介して前記少なくとも3つの保持部により物体側面を保持する制御装置と;を更に備えることを特徴とする請求項5又は6に記載の搬送装置。 - 前記搬送アームは、前記物体を真空吸引する真空吸引部を更に有し、
前記制御装置は、前記搬送アームから前記特定の保持装置に対する物体の受け渡し時に、前記気体供給部の作動開始に先立って前記真空吸引部の作動を停止することを特徴とする請求項7に記載の搬送装置。 - マスクに形成されたパターンを感光物体上に転写する露光装置であって、
請求項1〜8のいずれか一項に記載の搬送装置と;
前記搬送装置により前記感光物体が搭載される前記試料台が載置され、2次元面内で移動する物体ステージと;を備える露光装置。
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