JP2000306977A

JP2000306977A - 搬送方法及び搬送装置、並びに露光装置

Info

Publication number: JP2000306977A
Application number: JP11117460A
Authority: JP
Inventors: Hidekazu Kikuchi; 秀和菊地
Original assignee: Nikon Corp; Sendai Nikon Corp
Current assignee: Nikon Corp; Sendai Nikon Corp
Priority date: 1999-04-26
Filing date: 1999-04-26
Publication date: 2000-11-02
Also published as: US20040140436A1

Abstract

(57)【要約】【課題】搬送対象物の載置面がステージの上面より低
い位置にある場合であっても、支障無く搬送対象物をそ
の載置面に載置できるようにする。【解決手段】搬送アーム７０によって対象物４５が運
ばれてくる受け渡し位置の上方に、上下動及び回転が可
能な３本の支持部材４８ｃを備えたエレベータユニット
２６が配置されている。対象物４５が受け渡し位置まで
搬送されると、支持部材４８ｃが位置Ｐ３まで下降した
後、所定角度αだけ回転し、僅かに上昇して対象物４５
をアーム７０から受け取る。アームが退避すると、支持
部材４８ｃがステージＲＳＴの所まで下降して、ステー
ジ上に対象物４５を載置し、支持部材４８ｃが前と反対
方向に所定角度αだけ回転した後、位置Ｐ２まで上昇す
る。このため、対象物の載置面がステージの上面より低
い位置にある場合であっても、支障無く搬送対象物をそ
の載置面に載置できる。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【発明の属する技術分野】本発明は、搬送方法及び搬送
装置、並びに露光装置に係り、更に詳しくは、搬送対象
物としてのマスクの搬送に好適な搬送方法及び搬送装
置、並びに該搬送装置をマスクの搬送装置として備えた
露光装置に関する。

【０００２】

【従来の技術】従来より、半導体素子、液晶表示素子等
の製造におけるリソグラフィ工程では、種々の露光装置
が用いられている。近年においては、ステップ・アンド
・リピート方式の縮小投影露光装置（いわゆるステッ
パ）やステップ・アンド・スキャン方式の走査型露光装
置（いわゆるスキャニング・ステッパ）などの光露光装
置が比較的多く用いられている。

【０００３】例えば、ステッパでは、マスク又はレチク
ル（以下、「レチクル」と総称する）は、ＸＹ面内での
微小駆動（θ回転（Ｚ軸回りの回転）を含む）が可能な
レチクルステージ上に真空吸着等によって保持されてい
る。また、スキャニング・ステッパでは、レチクルステ
ージが走査方向（例えばＹ軸方向）に所定のストローク
で移動するレチクル粗動ステージと、該レチクル粗動ス
テージ上でＸＹ面内での微小駆動（θ回転（Ｚ軸回りの
回転）を含む）が可能なレチクル微動ステージとから構
成され、該レチクル微動ステージ上にレチクルが真空吸
着等によって保持されている。

【０００４】いずれにしても従来の光露光装置では、レ
チクル搭載面が、θ回転が可能なステージの上面となっ
ている。このため、レチクルの搬送シーケンスとして
は、角形のレチクルを保持した搬送ロボットアームが、
前記θ回転が可能なステージの上方まで水平に移動し、
その後搬送ロボットアームが下方に移動してレチクルを
ステージ上にロードし、その後僅かに下方に移動した
後、元の位置に戻っていくというシーケンスが採用され
ていた。

【０００５】また、従来の光露光装置では、レチクルの
θ回転のための駆動機構、例えばレチクルを保持するス
テージの直交する２側面にそれぞれ連結された各２本、
合計４本の押し引き棒、あるいは該押し引き棒と同様の
機能を有する２組みのボイスコイルモータ等が用いられ
る。

【０００６】

【発明が解決しようとする課題】ところで、半導体素子
は年々高集積化し、これに伴い回路パターンが微細化し
ており、将来的にはデバイスルール（実用最小線幅）が
０．１μｍ以下になることは確実視されている。このよ
うな微細パターンの露光を実現するためには、光露光装
置では解決しなければならない問題が山積していること
から、次世代の露光装置として、電子線露光装置（以
下、「ＥＢ露光装置」という）が１つの有力な選択肢と
なることはほぼ間違いがない。

【０００７】しかし、電子線露光装置の場合には、露光
装置が収納されるチャンバ内を真空にする必要があるこ
とから、上述したようなレチクルの真空吸着方式を採用
することが出来ず、静電吸着等の吸着方式を採用する必
要がある。また、０．１μｍ以下の微細パターンの露光
に際しては、ウエハ側（投影レンズの像面側）のみなら
ず、レチクル側（投影レンズの物体面側）のオートフォ
ーカス・オートレベリングも必須となり、このためレチ
クル側にもフォーカス・レベリングセンサを配置するこ
とが必要となる。通常、フォーカス・レベリングセンサ
として斜入射光式の多点焦点位置検出系などが用いられ
るが、かかる多点焦点位置検出系を投影レンズの物体面
側に配置する場合には、ウエハ側と同様にスペース的な
問題で検出面に対して５〜１２°程度の傾斜角で検出光
束を入射させる必要があることから、レチクルをレチク
ルステージ上面でなく、下面近くに位置させることが必
要となる。これを実現させるための手段として、レチク
ルステージに座ぐり穴を設け、この内部に静電チャック
を設ける構成が考えられる。

【０００８】しかしながら、上記のような座ぐり穴構造
を採用すると、レチクル搭載面が、ステージ上面より低
い位置になることから、前述したレチクルの搬送シーケ
ンスを採用することが困難となる。

【０００９】また、従来の光露光装置では、上述するよ
うなレチクルのθ回転のための駆動機構が必要不可欠で
あったことから、レチクルステージの駆動機構の構成が
複雑であった。

【００１０】本発明は、かかる事情の下でなされたもの
で、その第１の目的は、搬送対象物をステージ上に搬送
するための新たな搬送方法及び搬送装置を提供すること
にある。

【００１１】また、本発明の第２の目的は、搬送対象物
の載置面がステージの上面より低い位置にある場合であ
っても、支障無く搬送対象物をその載置面に載置するこ
とができる搬送方法及び搬送装置を提供することにあ
る。

【００１２】また、本発明の第３の目的は、露光精度を
向上させることができる露光装置を提供することにあ
る。

【００１３】

【課題を解決するための手段】請求項１に記載の発明
は、ステージ（ＲＳＴ）との間で搬送対象物（４５）の
受け渡しを行う搬送方法であって、複数の支持部材（４
８ｃ₁、４８ｃ₂、４８ｃ ₃）により前記搬送対象物の一
方の面を支持する第１工程と；前記複数の支持部材に支
持された前記搬送対象物を前記ステージ上に搬入する第
２工程と；前記搬送対象物を前記ステージ上に搬入した
後、前記搬送対象物の他方の面側へ前記複数の支持部材
を退避する第３工程とを含む。

【００１４】これによれば、第１工程で複数の支持部材
により搬送対象物の一方の面が支持され、この複数の支
持部材に支持された搬送対象物が第２工程でステージ上
に搬入される。そして、搬送対象物がステージ上に搬入
された後、第３工程で搬送対象物の他方の面側へ複数の
支持部材が退避される。すなわち、本発明によれば、搬
送対象物のステージ上へのロードを、ステージの載置面
にほぼ垂直な方向にのみ移動する支持部材によって行な
うことができる。

【００１５】この場合において、前記第１工程の処理
は、請求項２に記載の発明の如く、前記複数の支持部材
（４８ｃ₁、４８ｃ₂、４８ｃ₃）の前記搬送対象物（４
５）との接触部が前記搬送対象物の前記一方の面側へ位
置するように前記搬送対象物と前記複数の支持部材とを
相対移動する工程と、当該相対移動の方向と垂直な面内
で前記複数の支持部材をそれぞれ所定方向へ移動する工
程とを含むことができる。ここで、この複数の支持部材
それぞれの所定方向への移動は、同時に行われても良い
が時間的に前後して行われても良い。かかる場合には、
例えば複数の支持部材が最初搬送対象物に関してステー
ジと反対側にあっても、それらの複数の支持部材の搬送
対象物との接触部が搬送対象物の一方の面側（ステージ
側）へ位置するように搬送対象物と複数の支持部材とを
相対移動した後、その相対移動の方向と垂直な面内で複
数の支持部材をそれぞれ所定方向へ移動することによ
り、複数の支持部材により搬送対象物の一方の面を支持
することができる。

【００１６】この場合において、請求項３に記載の発明
の如く、前記第１工程の処理は、前記複数の支持部材
（４８ｃ₁、４８ｃ₂、４８ｃ₃）をそれぞれ所定方向へ
移動する工程の後に、前記搬送対象物（４５）と前記複
数の支持部材とを相対移動させて、前記支持部材の接触
部で前記搬送対象物を支持する工程を更に含むことがで
きる。かかる場合には、複数の支持部材をそれぞれ所定
方向へ移動させた後の時点で、搬送対象物と複数の支持
部材の搬送対象物との接触部とが離れていても、その後
に搬送対象物と複数の支持部材とを相対移動させること
により、複数の支持部材により搬送対象物の一方の面を
支持することができる。

【００１７】上記請求項１〜３に記載の各発明に係る搬
送方法において、請求項４に記載の発明の如く、前記第
２工程の処理は、前記複数の支持部材（４８ｃ₁、４８
ｃ₂、４８ｃ₃）と前記ステージ（ＲＳＴ）とを相対移動
して前記搬送対象物の前記一方の面を前記ステージに当
接させる工程と、その後に前記複数の支持部材を前記ス
テージに対する前記相対移動の方向と垂直な面内でそれ
ぞれ所定方向に移動する工程とを含むことができる。こ
の場合も複数の支持部材それぞれの所定方向への移動
は、同時に行われても良いが時間的に前後して行われて
も良い。かかる場合には、搬送対象物の一方の面（ステ
ージ側の面）を支持した複数の支持部材とステージとを
相対移動して搬送対象物の一方の面をステージに当接さ
せた後、複数の支持部材をステージに対する相対移動の
方向と垂直な面内でそれぞれ所定方向に移動することに
より、搬送対象物をステージ上に搬入した後、複数の支
持部材を搬送対象物から離間することができる。

【００１８】すなわち、本請求項４に記載の発明による
と、搬送対象物のステージ上への搬入を、複数の支持部
材のステージ上の載置面に垂直な方向の相対移動とその
相対移動方向と垂直な面内でのそれぞれの支持部材の移
動により行うので、搬送対象物の載置面がステージの上
面より低い位置にある場合であっても、支障無く搬送対
象物をその載置面に載置することができる。

【００１９】上記請求項１〜４に記載の各発明に係る搬
送方法において、請求項５に記載の発明の如く、前記支
持部材（４８ｃ₁、４８ｃ₂、４８ｃ₃）の前記搬送対象
物（４５）との接触部が、前記ステージ上に支持された
前記搬送対象物の前記一方の面側に位置するように、前
記ステージ（ＲＳＴ）と前記複数の支持部材とを相対移
動する第４工程と；前記相対移動の方向と垂直な面内で
前記複数の支持部材をそれぞれ所定方向へ移動する第５
工程と；前記複数の支持部材と前記ステージとを相対移
動して、前記ステージから前記搬送対象物を搬出する第
６工程と；を更に含むことができる。かかる場合には、
第４工程で支持部材の搬送対象物との接触部が、ステー
ジ上に支持された搬送対象物の前記一方の面側に位置す
るように、搬送対象物と複数の支持部材とが相対移動さ
れ、第５工程でその相対移動の方向と垂直な面内で複数
の支持部材がそれぞれ所定方向へ移動され、第６工程で
複数の支持部材とステージとが相対移動して、ステージ
から搬送対象物が搬出される。従って、本発明によれ
ば、前述の如く、搬送対象物のステージ上への搬入が終
了し、ステージ上の搬送対象物の他方の面側へ退避して
いた複数の支持部材を用いて搬送対象物をステージから
搬出（アンロード）することができる。この場合も、第
５工程における複数の支持部材それぞれの所定方向への
移動は同時に行っても良いが、時間的に前後して行って
も良い。

【００２０】上記請求項１〜５に記載の各発明に係る搬
送方法において、請求項６に記載の発明の如く、前記複
数の支持部材に支持されるまでの前記搬送対象物の移動
は、搬送アーム、例えばロボットアーム等によって行な
うことができる。

【００２１】上記請求項１〜６に記載の各発明に係る搬
送方法において、請求項７に記載の発明の如く、前記第
２工程において前記ステージ（ＲＳＴ）上に前記搬送対
象物（４５）を搬入する前に、前記複数の支持部材（４
８ｃ₁、４８ｃ₂、４８ｃ₃）と前記ステージとを相対移
動して前記搬送対象物とステージとの２次元平面内の位
置合わせを行う工程を更に含んでいても良い。かかる場
合には、搬送対象物をステージ上に搬入するのに先立っ
て、搬送対象物とステージとの２次元平面内の位置合わ
せが可能となる。

【００２２】上記請求項１〜７に記載の各発明に係る搬
送方法において、複数の支持部材（４８ｃ₁、４８ｃ₂、
４８ｃ₃）の搬送対象物との接触部を、搬送対象物の外
部で一方の面側から他方の面側へあるいはその反対向き
に移動させても勿論良いが、請求項８に記載の発明の如
く、前記搬送対象物（４５）には、前記複数の支持部材
が通り抜け可能な空所（４４ａ、４４ｂ、４４ｃ）が形
成されていても良い。かかる場合には、複数の支持部材
の搬送対象物との接触部を、空所を介して一方の面側か
ら他方の面側へあるいはその反対向きに移動させること
ができる。ここで、「空所」とは、複数の支持部材を通
り抜け可能とする空所であれば良いから、搬送対象物の
一部に設けられた穴（開口）等のみならず、搬送対象物
の外周部に形成された切り欠き等をも含む概念である。
本明細書において、空所はかかる意味で用いるものとす
る。

【００２３】上記請求項２〜５に記載の各発明に係る搬
送方法において、複数の支持部材（４８ｃ₁、４８ｃ₂、
４８ｃ₃）それぞれの前記所定方向への移動は、所定の
移動面に沿った同一又は異なる方向の直線移動、例えば
搬送対象物に接近・離間する方向の直線移動、あるいは
搬送対象物の中心に向かう放射方向の直線移動などであ
っても良いが、請求項９に記載の発明の如く、前記複数
の支持部材の前記所定方向への移動は、その移動面に直
交する所定の軸回りの回転移動であっても良い。かかる
場合には、上記の空所として一部が大きく開いた円弧状
の開口、あるいは搬送対象物の外周部に形成された切り
欠きを設けることにより、複数の支持部材の搬送対象物
との接触部を、空所を介し搬送対象物を通り抜けさせる
ことができるとともに、所定角度の回転移動によりその
通り抜けを阻止することができるので、ステージの搬送
対象物の載置部の周囲に殆ど隙間が無いような場合であ
っても、搬送対象物のステージに対する搬入及び搬出の
いずれの場合にも、複数の支持部材により搬送対象物の
一方の面側を円滑に支持することが可能になる。

【００２４】上記請求項８に記載の搬送方法において、
請求項１０に記載の発明の如く、前記搬送対象物（４
５）は、所定の回路パターンが形成されたマスク（Ｒ）
と該マスクに一体的に固定され前記空所（４４ａ、４４
ｂ、４４ｃ）が形成された枠体（４４）とによって構成
しても良い。

【００２５】請求項１１に記載の発明は、搬送対象物
（４５）の一方の面を支持するステージ（ＲＳＴ）との
間で前記搬送対象物の受け渡しを行う搬送装置であっ
て、前記搬送対象物の前記一方の面を支持する複数の支
持部材（４８ｃ₁、４８ｃ₂、４８ｃ₃）と；前記搬送対
象物に関して前記一方の面側の第１位置（Ｐ１）と前記
一方の面と反対側の他方の面側の第２位置（Ｐ２）との
間で前記複数の支持部材を第１方向に駆動する第１の駆
動機構（４３）とを備える。

【００２６】本明細書において、「第１方向」とは、通
常の方向を指す概念ではなく、第１方向に対応する軸方
向の往復移動方向を意味する。

【００２７】これによれば、搬送対象物に関して前記一
方の面側の第１位置と一方の面と反対側の他方の面側の
第２位置との間で複数の支持部材を第１方向に駆動する
第１の駆動機構を備えているので、搬送対象物をステー
ジ上に搬入する際には、第１の駆動機構が搬送対象物の
前記一方の面を支持した複数の支持部材を第１位置へ駆
動することにより、その駆動の途中位置又は第１位置の
近傍で搬送対象物をステージ上に搬入し、搬入後支持部
材が搬送対象物に干渉しない状態で第１の駆動機構が複
数の支持部材をステージ上の搬送対象物の前記一方の面
と反対側の他方の面側の第２位置まで駆動して複数の支
持部材をステージから退避させる。すなわち、本発明に
よれば、搬送対象物のステージ上へのロードを、ステー
ジの搬送対象物の載置面にほぼ垂直な第１方向の支持部
材の移動によって行なうことができる。

【００２８】この場合において、請求項１２に記載の発
明の如く、前記複数の支持部材（４８ｃ₁、４８ｃ₂、４
８ｃ₃）を前記第１方向と垂直な面内で移動させる第２
の駆動機構（４３）を更に備えていても良い。かかる場
合には、複数の支持部材は、第２の駆動機構により第１
方向に垂直な面内で駆動できることから、上記の搬送対
象物のステージ上へのロードの際に、第１の駆動機構に
よる複数の支持部材の第１方向の駆動と、第２の駆動機
構による複数の支持部材それぞれの第１方向と垂直な面
内での駆動の組み合わせにより、ステージ上の搬送対象
物の載置面がステージ上面より低い位置に存在しても支
障無く搬送対象物をその載置面に載置することが可能と
なる。

【００２９】この場合において、第２の駆動機構による
複数の支持部材それぞれの前記所定方向への移動は、第
１方向に垂直な面内の同一又は異なる方向の直線移動、
例えば搬送対象物に接近・離間する方向の直線移動、あ
るいは搬送対象物の中心に向かう放射方向の直線移動な
どであっても良いが、請求項１３に記載の発明の如く、
前記第２の駆動機構による前記複数の支持部材の前記第
１方向と垂直な面内での移動は、前記第１方向の所定軸
回りの回転移動を含んでいても良い。かかる場合には、
ステージにθ回転機構が不要となり、その分ステージの
構成が簡略化される。また、第２の駆動機構による複数
の支持部材それぞれの前記所定方向への移動は同時又は
時間的に前後して行われても良い。

【００３０】この場合において、請求項１４に記載の発
明の如く、前記搬送対象物（４５）に、前記複数の支持
部材（４８ｃ₁、４８ｃ₂、４８ｃ₃）を前記第１方向か
ら挿入・離脱可能な空所（４４ａ、４４ｂ、４４ｃ）が
形成されていることが望ましい。かかる場合には、上記
の空所として一部が大きく開いた円弧状の開口、あるい
は搬送対象物の外周部に形成された切り欠きを設けるこ
とにより、複数の支持部材の搬送対象物との接触部を、
空所を介し搬送対象物を通り抜けさせることができると
ともに、所定角度の回転移動によりその通り抜けを阻止
することができるので、ステージの搬送対象物の載置部
の周囲に殆ど隙間が無いような場合であっても、搬送対
象物のステージに対する搬入及び搬出のいずれの場合に
おいても、複数の支持部材により搬送対象物の一方の面
側を円滑に支持することが可能になる。

【００３１】この場合、請求項１５に記載の発明の如
く、前記空所は、前記複数の支持部材の挿入状態で、そ
れらの支持部材の所定量の回転を許容する空所であって
も良い。

【００３２】上記請求項１１〜１５に記載の各発明に係
る搬送装置において、請求項１６に記載の発明の如く、
前記複数の支持部材（４８ｃ₁、４８ｃ₂、４８ｃ₃）の
前記搬送対象物（４５）との接触部には、弾性部材（５
４）が設けられていても良い。かかる場合には、例えば
支持部材が鉄等の金属であり、搬送対象物がシリコンカ
ーバイド等の非金属である場合に、弾性部材により搬送
対象物と支持部材とが直接接触するのを防止することが
できるので、搬送対象物に傷が付いたり、塵が発生した
りすることを防止することが可能になる。この場合、弾
性部材としてゴムを用いれば、摩擦係数が高いので支持
部材により搬送対象物を安定して支持することができ
る。

【００３３】上記請求項１１〜１６に記載の各発明に係
る搬送装置において、請求項１７に記載の発明の如く、
前記第１の駆動機構（４３）の駆動軸（４３Ｂ）の周囲
には、円筒状のカバー（４８ｂ）を設けても良い。かか
る場合には、駆動軸近傍で発生した塵がステージ側に落
下するのをカバーにより効果的に抑制することができ
る。

【００３４】上記請求項１４及び１５に記載の各発明に
おいて、請求項１８に記載の発明の如く、前記搬送対象
物（４５）は、所定の回路パターンが形成されたマスク
（Ｒ）と該マスクに一体的に固定され前記空所が形成さ
れた枠体（４４）により構成しても良い。また、この場
合、請求項１９に記載の発明の如く、前記マスクは円形
のマスクであり、前記枠体は前記マスクをマウントする
サポートリングであっても良い。

【００３５】請求項２０に記載の発明は、マスク（Ｒ）
に形成されたパターンを光学系（ＰＬ）を介して基板
（Ｗ）上に転写する露光装置であって、前記マスクを保
持するマスクステージ（ＲＳＴ）に対するマスクの搬送
装置として請求項１２〜１９のいずれか一項に記載の搬
送装置を具備することを特徴とする。

【００３６】これによれば、マスクステージのマスク載
置面がマスクステージ上面より低い位置にあっても搬送
装置により、支障無くマスクを載置面に載置できるの
で、結果的に、マスクをマスクステージの下面近くに位
置させることが可能となり、マスクステージ側にも斜入
射光式の多点焦点位置検出系等のフォーカス・レベリン
グセンサを採用することが可能となる。従って、マスク
のフォーカス・レベリング制御が可能となり、従来の露
光装置に比べて一層高精度なマスクパターンの基板上へ
の転写が可能になる。

【００３７】この場合において、前記マスクが反射型マ
スクである場合などは、マスクステージはマスクパター
ンの基板上への転写を行う露光位置近傍でのみ移動可能
な構成でも良いが、例えば、請求項２１に記載の発明の
如く、前記マスクステージは、前記搬送装置との間で前
記マスクの受け渡しを行う受け渡し位置と前記パターン
の前記基板上への転写を行う露光位置との間を移動する
ように構成しても良い。かかる場合には、マスクは透過
型マスクを用いることができる。

【００３８】上記請求項２０及び２１に記載の露光装置
において、請求項２２に記載の発明の如く、前記受け渡
し位置の前記光学系側に配置されたマーク検出系（６８
Ａ、６８Ｂ）を有し、前記マスクステージ上に前記マス
クが搬入される前に前記マーク検出系を用いて前記マス
クに形成された位置合わせマークを検出する計測装置
（６８Ａ、６８Ｂ、１００）を更に備えていても良い。
かかる場合には、マスクをマスクステージに搬入するの
に先立って計測装置によるマスクアライメントが可能に
なる。特に、第２の駆動機構が複数の支持部材を回転駆
動する場合には、少なくともマスクの回転方向について
はマスクステージに搬入するのに先立って位置合わせも
可能になる。

【００３９】上記請求項２０〜２２に記載の各発明に係
る露光装置において、前記光学系は、電子光学系であっ
ても良い。すなわち、露光装置が、マスクを用いる電子
線露光装置であっても良い。

【００４０】上記請求項２０〜２３に記載の各発明に係
る露光装置において、請求項２４に記載の発明の如く、
前記マスクステージの前記マスク載置面は、前記マスク
ステージに形成された凹部（４０）内の底面に設けられ
ていても良い。

【００４１】請求項２５に記載の発明は、マスクステー
ジに載置されるマスク体であって、所定のパターンが形
成されたマスク（Ｒ）と；前記マスクが一体的にマウン
トされ、前記マスクの周辺部を支持する枠体（４４）と
を備える。

【００４２】これによれば、マスク体が、所定のパター
ンが形成されたマスクと；前記マスクが一体的にマウン
トされ、前記マスクの周辺部を支持する枠体とを備える
ことから、例えばマスクが厚さ数ミクロン程度に加工さ
れたいわゆるステンシルマスク等の薄型のマスクであっ
ても、枠体部分を支持（あるいは保持）して搬送するこ
とにより、容易に搬送することができ、このマスク体を
マスクステージ上に載置して支障無く露光を行うことが
できる。この場合、マスクの形状は矩形であっても勿論
良いが、円形であっても良い。円形のマスクは、シリコ
ンウエハ等を素材とし、これを加工することにより容易
に形成することができる。

【００４３】

【発明の実施の形態】以下、本発明の一実施形態を図１
〜図７に基づいて説明する。図１には、本発明に係る搬
送装置を含んで構成された一実施形態に係る露光装置１
０の構成が概略的に示されている。この露光装置１０
は、電子ビームにより基板としてのウエハＷ上にマスク
としてのレチクルＲのパターンを走査露光方式により転
写するＥＢＰＳ（電子ビームプロジェクションシステ
ム）を採用した電子線露光装置（ＥＢ露光装置）であ
る。

【００４４】この露光装置１０は、レチクル用真空チャ
ンバ１２と、ウエハ用真空チャンバ１４とを備えてい
る。

【００４５】レチクル用真空チャンバ１２の内部には、
支持フレーム１６に支持されたＺ軸方向（鉛直軸方向）
を軸方向とする円柱状の照明系１８、該照明系１８の下
方にＸＹ面（水平面）に沿って配置されたレチクルステ
ージベース２０、該レチクルステージベース２０上をレ
チクルＲを保持してＸＹ２次元方向に移動するマスクス
テージとしてのレチクルステージＲＳＴ、レチクルＲの
Ｚ位置及びＸＹ面に対する傾斜を検出するレチクルＡＦ
／ＡＬ系（２２、２４）、搬送装置としてのエレベータ
ユニット２６、及び不図示のレチクルライブラリ等が収
納されている。

【００４６】また、ウエハ用真空チャンバ１４の内部に
は、該チャンバ１４の床面に配置された複数（ここでは
４つ）の防振台２８（但し、紙面奥側の防振台は図示せ
ず）、これらの防振台２８によってほぼ水平に保持され
たウエハステージベース３０、該ウエハステージベース
３０上をウエハＷを保持してＸＹ２次元方向に移動する
基板ステージとしてのウエハステージＷＳＴ、ウエハＷ
のＺ位置及びＸＹ面に対する傾斜を検出するウエハＡＦ
／ＡＬ系（３２、３４）、及びウエハローダ３６等が収
納されている。

【００４７】さらに、露光装置１０は、レチクル用真空
チャンバ１２及びウエハ用真空チャンバ１４に上端部の
一部及び下端部の一部が収納された光学系としての投影
レンズＰＬを備えている。

【００４８】前記照明系１８は、ＬａＢ₆（６ほう化ラ
ンタン）から成る電子銃、ブランキング電極、電子レン
ズから成る照明レンズ、矩形アパーチャ、電子レンズか
ら成る成形レンズ、及び偏向器（いずれも図示せず）等
を備えている。この照明系１８は、電子銃で発せられた
電子ビームをブランキング電極、照明レンズ、矩形アパ
ーチャ及び成形レンズにより、約１ｍｍ角の電子ビーム
の束となるように成形してほぼ均一なエネルギ密度の電
子ビームをレチクルＲ上の約１ｍｍ角の領域（サブフィ
ールドと呼ぶ）に照射して照明する。また、偏向器は、
後述するレチクルＲの１つの分割パターン領域の非走査
方向の幅ＲＷ（図４参照）に相当する変更能力を十分有
しており、この偏向器は後述する装置全体を統括する主
制御装置１００（図１では図示せず、図７参照）によっ
て制御されるようになっている。ここで、１つの分割パ
ターン領域とは、ウエハＷ上の１つの区画領域に転写す
べきパターン領域ではなく、ウエハ上の１つの区画領域
に転写すべきパターンを複数に分割したパターン領域の
１つを意味し、本実施形態では、図４に示されるように
レチクルＲ上には走査方向の長さＬ、非走査方向の幅Ｒ
Ｗの２つの分割パターン領域ＰＡ、ＰＢが形成されてい
るものとする。

【００４９】前記レチクルステージＲＳＴは、レチクル
Ｒを静電吸着により保持して磁気浮上型２次元リニアア
クチュエータ１９（図１では図示せず、図７参照）によ
ってＸＹ２次元方向に駆動されるようになっている。本
実施形態では、この磁気浮上型２次元リニアアクチュエ
ータ１９として、Ｘ駆動コイル、Ｙ駆動コイルに加え、
Ｚ駆動コイルを備えたものが用いられているので、レチ
クルステージＲＳＴはＸＹ面内の移動のみならず、Ｚ軸
方向及びＸＹ面に対する傾斜方向にも微小駆動が可能に
構成されている。勿論、レチクルステージＲＳＴを２組
のリニアモータによって２次元駆動することも可能であ
る。

【００５０】レチクルステージＲＳＴには、図２に示さ
れるように、その中央部に、平面視円形の凹部としての
座ぐり穴４０が形成されており、この座ぐり穴４０内部
の底面には、外周部の一部を残して同心の円形開口４２
が形成されている。そして、座ぐり穴４０内部の底面に
不図示の静電チャックが設けられ、該静電チャックによ
りレチクルＲをマウントして支持するドーナツ状（リン
グ状）の枠体であるサポートリング４４が吸着されるよ
うになっている。ここで、レチクルＲをサポートリング
４４にマウントするのは、本実施形態ではレチクルＲと
して、シリコンウエハを素材とし厚さ数ミクロン程度に
加工された薄型のレチクル（いわゆるステンシルマス
ク）が用いられているため、レチクルＲ単体では搬送が
困難なため、レチクルＲをサポートリング４４にマウン
トして、これらを一体で搬送することとしたためであ
る。すなわち、レチクルＲとサポートリング４４とによ
って、搬送対象物としてのレチクル体４５が構成されて
いる。

【００５１】図１に戻り、レチクルステージＲＳＴのＸ
Ｙ面内の位置は、レチクルステージベース２０に固定さ
れたレチクルレーザ干渉計システム３８によって、投影
レンズＰＬを基準として０．５〜１ｎｍ程度の分解能で
検出されている。このレチクルレーザ干渉計システム３
８の計測値は、ステージ制御系２１（図１では図示せ
ず、図７参照）及びこれを介して主制御装置１００に供
給されている。なお、このレチクルレーザ干渉計システ
ム３８の構成については後述する。

【００５２】レチクルＲのＺ位置及びＸＹ面に対する傾
斜を検出する前記レチクルＡＦ／ＡＬ系としては、投影
レンズＰＬの物体面側にあるレチクルＲに対して複数の
スリット像を形成するための結像光束を投影レンズＰＬ
の光軸方向（Ｚ軸方向）に対して斜め方向より供給する
照射光学系２２と、その結像光束のレチクル表面での各
反射光束をそれぞれスリットを介して受光する受光光学
系２４とから成る斜入射方式の多点焦点位置検出系が用
いられている。この多点焦点位置検出系（２２、２４）
としては、例えば特開平５−１９０４２３号公報に開示
されるものと同様の構成のものが用いられ、この多点焦
点位置検出系（２２、２４）の検出値は、主制御装置１
００及びこれを介してステージ制御系２１に供給され、
ステージ制御系２１ではレチクルＲと投影レンズＰＬと
が所定の間隔を保つようにレチクルステージＲＳＴを２
次元リニアアクチュエータ１９を介してＺ方向及び傾斜
方向に駆動する。

【００５３】前記エレベータユニット２６は、レチクル
ステージＲＳＴに対するレチクルＲの受け渡し位置（ロ
ーディング／アンローディング・ポジション）の真上に
設置されている。このエレベータユニット２６は、図２
に詳細に示されるように、支持フレーム４２の円形開口
４２ａ内に上方から挿入され、フランジ部４３Ａを介し
て複数本のボルト４６により支持フレーム４２に固定さ
れた円柱状の上下動・回転駆動部４３と、該上下動・回
転駆動部４３の上下動・回転軸４３Ｂの先端部に設けら
れた円板状部材から成るテーブル４３Ｃに取り付けられ
た被駆動体４８とを備えている。

【００５４】これを更に詳述すると、上下動・回転軸４
３Ｂは上下動・回転駆動部４３に内蔵された不図示の上
下動・回転機構によって、図２中に矢印Ｃ、Ｃ’で示さ
れる上下方向（Ｚ軸方向）及び図２中の矢印Ｄ方向及び
これと反対方向、すなわちＺ軸回りの回転方向（θ方
向）に駆動されるようになっている。

【００５５】前記被区動体４８は、複数本のねじ５２に
よってテーブル４３Ｃの下面に固定されたリング状の取
付部４８ａと、該取付部４８ａの外周縁部から上方に延
設された円筒状のカバーとしてのカバー部４８ｂと、取
付部４８ａの下面にほぼ１２０°間隔で下方に向けて突
設された支持部材としての３本のフィンガー部４８
ｃ ₁、４８ｃ₂、４８ｃ₃とが一体成形されて成る。勿
論、取付部４８ａ、カバー部４８ｂ及びフィンガー部４
８ｃ₁〜４８ｃ₃を別部材によって形成し、これらを溶接
等によって一体化しても構わない。以下の説明ではカバ
ー部４８ｂを「カバー４８ｂ」と呼び、フィンガー部４
８ｃ₁〜４８ｃ₃を「爪部材４８ｃ₁〜４８ｃ₃」あるいは
総称として「爪部材４８ｃ」と適宜呼ぶものとする。

【００５６】カバー４８ｂは、その上部が開口しその側
面の下部にはテーブル４３Ｃの外周面との間に所定の隙
間があるものの、その底部は取付部４８ａに一体化され
ているので、取付部４８ａとの間には隙間が存在しな
い。従って、上下動・回転軸４３Ｂの上下動、あるいは
回転駆動によって塵等が発生しても、この塵等が下方、
すなわちレチクルステージＲＳＴ側に落下するのを、カ
バー４８ｂによって防止あるいは効果的に抑制できるよ
うになっている。

【００５７】前記３つの爪部材４８ｃ₁〜４８ｃ₃は全く
同様に構成され、各爪部材４８ｃの先端（下端）には、
レチクル体４５を構成するサポートリング４４を支持す
るための鉤の手状の支持部が形成されている。各爪部材
４８ｃの支持部の上面には、弾性部材としてのフッ素系
ゴムから成るラバーピン５４が固着されている。本実施
形態では、サポートリング４４の素材としては、シリコ
ン・カーバイド等の非金属が用いられ、爪部材４８ｃの
素材としては鉄、あるいはステンレス等の金属が用いら
れている。このため、サポートリング４４と爪部材４８
ｃとが直接接触すると、サポートリング４４に傷が付い
たり、そこから塵が発生したりするおそれがある。そこ
で、これら両者が直接接触するのを防止するため、爪部
材４８ｃの支持部の上面にラバーピン５４を固着したも
のである。また、ラバーピン５４の素材として、フッ素
系ゴムが用いられていることから、サポートリング４４
との間の摩擦係数μが比較的大きくなり（例えばμ＞
０．４）、レチクル体４５を後述するようにして支持
（保持）した場合に、これを安定して支持できるように
なっている。

【００５８】サポートリング４４の外周部には、図２の
Ａ−Ａ線断面図である図４に示されるように、前記３本
の爪部材４８ｃ₁、４８ｃ_２、４８ｃ₃にそれぞれ対応し
て、ほぼ１２０°間隔で空所としてのＶ字状の切り欠き
４４ａ、Ｕ字状の切り欠き４４ｂ、４４ｃがそれぞれ形
成されている。また、レチクルステージＲＳＴの座ぐり
穴４０の周壁には、図２のＢ−Ｂ線断面図である図６に
示されるように、前記３本の爪部材４８ｃ₁、４８
ｃ_２、４８ｃ₃にそれぞれ対応して、ほぼ１２０°間隔
で平面視略台形状の切り欠き部４１ａ、４１ｂ、４１ｃ
がそれぞれ形成されている。これらの切り欠き部４１ａ
〜４１ｃは、後述するようにレチクル体４５のレチクル
ステージＲＳＴに対するロード時及びアンロード時に、
爪部材４８ｃ₁〜４８ｃ₃に対し所定角度αのθ回転を許
容し、かつそれ以上の回転を阻止する役目を有する。

【００５９】図３には、レチクルステージベース２０の
平面図が示されている。この図３において、実線で示さ
れるレチクルステージＲＳＴは、レチクルＲのパターン
をウエハＷ上に転写するための露光位置の中心、すなわ
ち十字マークの中心ＡＸで示される投影レンズＰＬの中
心にレチクルステージＲＳＴの中心がほぼ一致した状態
を示し、仮想線（二点鎖線）で示されるレチクルステー
ジＲＳＴは、レチクルＲの受け渡し位置にある状態を示
す。この図３から明らかなように、本実施形態では、レ
チクルステージＲＳＴは、レチクルＲの受け渡し位置と
露光位置との間を移動する構成となっている。換言すれ
ば、レチクルＲのレチクルステージＲＳＴに対する受け
渡し（ロード／アンロード）と露光とが別々の位置で行
われるようになっているので、透過型のレチクルＲを使
用するにもかかわらず、後述するようにエレベータユニ
ット２６によって上方からレチクルステージＲＳＴに対
するレチクルＲの受け渡しができるようになっている。

【００６０】レチクルステージＲＳＴのＸ方向一側（＋
Ｘ側）の側面及びＹ方向一側（＋Ｙ側）の側面には、鏡
面加工により反射面２１ａ、２１ｂがそれぞれ形成され
ている。そして、レチクルステージＲＳＴの走査方向で
あるＹ軸方向の位置は、反射面２１ｂに測長ビームＲＩ
Ｙを投射するレチクルＹレーザ干渉計３８Ｙにより常時
計測されている。また、露光の際のレチクルステージＲ
ＳＴの非走査方向であるＸ軸方向の位置は、露光位置に
あるレチクルステージＲＳＴの反射面２１ａに測長ビー
ムＲＩＸ１を投射するレチクルＸレーザ干渉計３８Ｘ１
によって計測され、レチクルＲのロード、アンロードの
際のレチクルステージＲＳＴのＸ方向の位置は、受け渡
し位置にあるレチクルステージＲＳＴの反射面２１ａに
測長ビームＲＩＸ２を投射可能なレチクルＸレーザ干渉
計３８Ｘ２によって計測されるようになっている。干渉
計３８Ｘ１と干渉計３８Ｘ２とは、移動の途中で切り換
えが必要であるが、この切り換えは、レチクルステージ
ＲＳＴのＹ方向移動途中の干渉計３８Ｘ１、３８Ｘ２か
らの測長ビームが同時に反射面２１ａに照射された位置
で、それまで使用していた干渉計の計測値にそれまで非
使用であった干渉計の計測値を一致させる干渉計計測値
のプリセットを行った後に行われる。この干渉計の切り
換えの際にレチクルステージＲＳＴの回転による誤差を
極力小さくするために、レチクルＹレーザ干渉計３８Ｙ
としてＹ方向位置の計測に加え、θ計測が可能な多軸干
渉計が用いられている。また、各干渉計３８Ｘ１、３８
Ｘ２、３８Ｙからの測長ビームは、レチクルＲのパター
ン面とほぼ同一高さ位置に照射されている（図１参
照）。

【００６１】このように、本実施形態では、レチクルＹ
レーザ干渉計３８Ｙと２つのレチクルＸレーザ干渉計３
８Ｘ１、３８Ｘ２とを含んでレチクルレーザ干渉計シス
テム３８が構成されているが、これら３つの干渉計が図
１では代表的にレチクルレーザ干渉計システム３８とし
て示されている。

【００６２】また、本実施形態では、図３に示されるよ
うに、レチクルステージベース２０には、レチクルＲの
受け渡し位置近傍に一対のマーク検出系としてのレチク
ルアライメント顕微鏡６８Ａ、６８Ｂが配置されてお
り、この一対のレチクルアライメント顕微鏡６８Ａ、６
８Ｂによって、受け渡し位置でレチクルＲのパターン面
に形成された、レチクルアライメントマークを観察でき
るようになっている。レチクルアライメント顕微鏡６８
Ａ、６８Ｂの観察データは、主制御装置１００に供給さ
れるようになっている（図７参照）。

【００６３】図１に戻り、前記投影レンズＰＬは、フラ
ンジ部ＦＬＧがその鏡筒部の高さ方向の中央やや上部に
設けられ、該フランジ部ＦＬＧを介して支持フレーム５
８に支持されている。この投影レンズＰＬとしては、複
数の電子レンズから成る縮小投影レンズが用いられてい
る。この投影レンズＰＬの縮小倍率（投影倍率）βは、
ここでは１／４となっている。

【００６４】前記ウエハステージＷＳＴは、磁気浮上型
の２次元リニアアクチュエータ２９（図１では図示せ
ず、図７参照）によってウエハステージベース３０上を
ＸＹ２次元方向に駆動されるようになっている。このウ
エハステージＷＳＴの上面には、ウエハホルダ６０を介
してウエハＷが静電吸着により固定されている。ウエハ
ホルダ６０は、駆動系６１（図１では図示せず、図７参
照）によりＺ軸方向の微少駆動とＸＹ面に対する傾斜方
向の駆動とＺ軸回りの回転方向（θ方向）の微少駆動と
が可能となっている。ウエハステージＷＳＴのＸＹ面内
の位置は、移動鏡６２を介してウエハレーザ干渉計シス
テム６４によって投影レンズＰＬを基準として０．５〜
１ｎｍ程度の分解能で検出されている。このウエハレー
ザ干渉計システム６４の計測値は、ステージ制御系２１
及びこれを介して主制御装置１００に供給されている
（図７参照）。

【００６５】ウエハステージＷＳＴの上面には、ベース
ライン計測用の基準マークその他の基準マークが形成さ
れた基準マーク板ＦＭが設けられている。この基準マー
ク板ＦＭの表面はウエハＷの表面とほぼ同一高さとされ
ている。

【００６６】ウエハＷのＺ位置及びＸＹ面に対する傾斜
を検出する前記ウエハＡＦ／ＡＬ系としては、投影レン
ズＰＬの像面側にあるウエハＷに対して複数のスリット
像を形成するための結像光束を投影レンズＰＬの光軸方
向（Ｚ軸方向）に対して斜め方向より供給する照射光学
系３２と、その結像光束のウエハ表面での各反射光束を
それぞれスリットを介して受光する受光光学系３４とか
ら成る斜入射方式の多点焦点位置検出系が用いられてい
る。この多点焦点位置検出系（３２、３４）としては、
例えば特開平５−１９０４２３号公報に開示されるもの
と同様の構成のものが用いられ、この多点焦点位置検出
系（３２、３４）の検出値は、主制御装置１００及びこ
れを介してステージ制御系２１に供給され、ステージ制
御系２１ではウエハＷと投影レンズＰＬとが所定の間隔
を保つように駆動系６１を介してウエハホルダ６０をＺ
方向及び傾斜方向に駆動する（図７参照）。

【００６７】さらに、本実施形態の露光装置１０では、
投影レンズＰＬの側面に、ウエハＷ上の各ショット領域
に付設されたアライメントマーク（ウエハマーク）の位
置を検出するためのオフ・アクシス方式のアライメント
顕微鏡、例えば画像処理方式の結像式アライメントセン
サＡＬＧが設けられ、そのアライメントセンサＡＬＧの
計測結果が主制御装置１００に供給されるようになって
いる（図７参照）。そして、主制御装置１００では、露
光に先立ってウエハマークの計測された位置に基づいて
例えば特開昭６１−４４４２９号公報に開示される統計
演算によりウエハＷ上のショット領域の配列座標を算出
するＥＧＡ（エンハンスト・グローバル・アライメン
ト）を行うようになっている。

【００６８】図７には、露光装置１０の制御系の構成部
分の内、これまでに説明した主要な構成部分が示されて
いる。この図７の制御系は、マイクロコンピュータ（あ
るいはワークステーション）から成る主制御装置１００
を中心として構成されている。

【００６９】次に、上述のようにして構成された露光装
置１０におけるレチクルＲ及びこれをマウントするサポ
ートリング４４から成るレチクル体４５の搬送動作につ
いて図１、図２、図４、図５及び図６を参照しつつ説明
する。ここで、図５は図４の円Ｅ内を拡大して示す図で
ある。

【００７０】まず、主制御装置１００からの指示に
基づき、レチクル体４５のサポートリング４４部分を支
持した搬送アームとしてのローダロボットアーム７０
が、図１に矢印Ｈで示されるように水平方向に移動し、
レチクル体４５を受け渡し位置に向けて搬送する。その
後、このローダロボットアーム７０は、主制御装置１０
０からの指示に応じてエレベータユニット２６のほぼ真
下の受け渡し位置まで移動して停止する。このローダロ
ボットアーム７０が、受け渡し位置で停止した状態が図
２に示されている。このとき、３本の爪部材４８ｃ₁〜
４８ｃ₃は、サポートリング４４と干渉しない位置、具
体的には受け渡し位置上方の図２中に符号Ｐ２で示され
る上方移動限界位置（第２位置）に待機している。この
状態では、図２のＡ−Ａ線断面図である図４に示される
ように、サポートリング４４の切り欠き４４ａ、４４
ｂ、４４ｃの内側部分に３本の爪部材４８ｃ₁、４８
ｃ₂、４８ｃ₃がそれぞれ丁度対応している。

【００７１】次いで、主制御装置１００からの指示
に応じ、エレべータユニット２６の上下動・回転駆動部
４３により上下動・回転軸４３Ｂと一体で被駆動体４８
が所定量だけ下方に駆動され、これにより３本の爪部材
４８ｃ₁、４８ｃ₂、４８ｃ₃が図２中に符号Ｐ３で示さ
れる位置まで下降して停止する。この下降の際に、３本
の爪部材４８ｃ₁、４８ｃ₂、４８ｃ₃は、サポートリン
グ４４に形成された切り欠き４４ａ、４４ｂ、４４ｃの
内部を通り抜ける。

【００７２】次に、主制御装置１００からの指示に
応じ、上下動・回転駆動部４３により上下動・回転軸４
３Ｂと一体で被駆動体４８が所定角度α°だけ図２の矢
印Ｄ方向と反対方向に回転駆動される。これにより、３
本の爪部材４８ｃ₁、４８ｃ₂、４８ｃ₃が一体的に所定
角度α°だけ図２の矢印Ｄ方向と反対方向に回転する。
図４には、この回転後の３本の爪部材４８ｃ₁、４８
ｃ₂、４８ｃ₃が、仮想線にてそれぞれ示されている。こ
のとき、３本の爪部材４８ｃ₁、４８ｃ₂、４８ｃ₃は、
サポートリング４４の下方に位置している（図４及び図
５参照）。

【００７３】次いで、主制御装置１００からの指示
に応じ、上下動・回転駆動部４３により上下動・回転軸
４３Ｂと一体で被駆動体４８が所定量だけ上方に駆動さ
れる。これにより、３本の爪部材４８ｃ₁、４８ｃ₂、４
８ｃ₃が上昇して鉤の手状の支持部の上面に固定された
ラバーピン５４がサポートリング４４の底面に接触し、
更に３本の爪部材４８ｃ₁、４８ｃ₂、４８ｃ₃が上昇す
ることにより、レチクル体４５が爪部材４８ｃ₁、４８
ｃ₂、４８ｃ₃によって下方から持ち上げられ、ローダロ
ボットアーム７０から離間する。すなわち、このように
してレチクル体４５がローダロボットアーム７０から３
本の爪部材４８ｃ₁〜４８ｃ_３に渡される。

【００７４】その後、主制御装置１００からの指示
に応じ、該ローダロボットアーム７０は、矢印Ｈ方向と
反対方向に移動して元の位置に戻っていく。

【００７５】上記のようにして、ローダロボットア
ーム７０がレチクル体５０と干渉しない位置まで退避す
ると、主制御装置１００からの指示に応じ、レチクル体
４５のレチクルステージＲＳＴ上への搬入のため、上下
動・回転駆動部４３により上下動・回転軸４３Ｂと一体
で被駆動体４８が、３本の爪部材４８ｃ₁、４８ｃ₂、４
８ｃ₃に支持されたレチクル体４５（のサポートリング
４４）がレチクルステージＲＳＴの座ぐり部４０内部の
底面に当接する直前の位置まで下降駆動され、その位置
で停止される。

【００７６】この爪部材４８ｃ₁、４８ｃ₂、４８ｃ
₃の停止を確認すると、主制御装置１００はレチクルス
テージべース２０上に設置された一対のレチクルアライ
メント顕微鏡６８Ａ、６８Ｂを用いてレチクルＲ上に形
成されたアライメントマーク（位置合わせマーク）を観
察し、その観察結果に基づいて基準点からのアライメン
トマークの位置ずれ、すなわちレチクルＲのＸＹ方向及
びθ方向の誤差成分を算出する。そして、主制御装置１
００は上記のθ方向の誤差成分Δθを補正するための指
令値をエレベータユニット２６の上下動・回転駆動部４
３に与える。これにより、上下動・回転駆動部４３によ
り被駆動体４８、すなわち爪部材４８ｃ₁、４８ｃ₂、４
８ｃ₃が上記指令値に応じて回転駆動され、レチクルＲ
のθ方向誤差が、レチクル体４５のレチクルステージＲ
ＳＴ上への搬入の直前に補正される。一方、レチクルＲ
のＸＹ方向の誤差成分ΔＸ、ΔＹを補正するための指令
値は主制御装置１００からステージ制御系２１に送ら
れ、該ステージ制御系２１によってレチクルステージＲ
ＳＴがＸＹ２次元方向に微少駆動され、レチクルＲのＸ
Ｙ誤差が、レチクル体４５のレチクルステージＲＳＴ上
への搬入の直前に補正される。

【００７７】上述のようにしてレチクルＲのＸＹ方
向及びθ方向の誤差の補正、すなわちレチクルＲのアラ
イメントが完了すると、主制御装置１００からの指示に
応じ、上下動・回転駆動部４３により上下動・回転軸４
３Ｂと一体で被駆動体４８が僅かに下方に駆動される。
これにより、３本の爪部材４８ｃ₁、４８ｃ₂、４８ｃ₃
が図２中に符号Ｐ１で示される位置（第１位置）まで下
降して停止する。この下降の途中で、３本の爪部材４８
ｃ₁、４８ｃ₂、４８ｃ₃に支持されたレチクル体４５
（のサポートリング４４）がレチクルステージＲＳＴの
座ぐり部４０内部の底面に当接し、さらに３本の爪部材
４８ｃ₁、４８ｃ₂、４８ｃ₃が下降することにより、レ
チクル体４５がレチクルステージＲＳＴに渡される。

【００７８】次いで、主制御装置１００からの指示
に応じ、上下動・回転駆動部４３により上下動・回転軸
４３Ｂと一体で被駆動体４８が所定角度α°だけ図２の
矢印Ｄ方向に回転駆動される。これにより、３本の爪部
材４８ｃ₁、４８ｃ₂、４８ｃ₃が一体的に所定角度α°
だけ図２の矢印Ｄ方向に回転し（図６参照）、３本の爪
部材４８ｃ₁、４８ｃ₂、４８ｃ₃がサポートリング４４
の切り欠き４４ａ、４４ｂ、４４ｃの内側部分にそれぞ
れ丁度対応する。その後、主制御装置１００からの指示
に応じ、上下動・回転駆動部４３により上下動・回転軸
４３Ｂと一体で被駆動体４８が上昇駆動され、これによ
り３本の爪部材４８ｃ₁、４８ｃ₂、４８ｃ ₃はレチクル
ステージＲＳＴ上に搭載されたレチクル体４５のサポー
トリング４４の切り欠き４４ａ、４４ｂ、４４ｃを通り
抜けて、図２の位置Ｐ２まで戻る（退避する）。

【００７９】以上により、レチクル体４５のレチクルス
テージＲＳＴへの搬入（ロード）が完了する。

【００８０】レチクルステージＲＳＴ上からレチクル体
４５を搬出（アンロード）する際には、上記のの動作
の除き、上記〜の手順と反対の手順で動作が行われ
る。

【００８１】これまでの説明から明らかなように、本実
施形態では、エレベータユニット２６の上下動・回転駆
動部４３によって、第１の駆動機構と第２の駆動機構と
が構成され、レチクル顕微鏡６８Ａ、６８Ｂと主制御装
置１００とによって計測装置が構成されている。

【００８２】次に、上記のレチクル体５０のロードに続
いて行われる露光装置１０における露光処理工程の他の
動作を簡単に説明する。

【００８３】まず、主制御装置１００の管理の下、ウエ
ハローダ３６によりウエハＷのウエハステージＷＳＴ上
へのロードが行われ、また、ウエハステージＷＳＴ上の
基準マーク板ＦＭ及びアラインメントセンサＡＬＧを用
いてベースライン計測等の準備作業が所定の手順に従っ
て行われる。

【００８４】その後、主制御装置１００により、アライ
ンメントセンサＡＬＧを用いてＥＧＡ等のアラインメン
ト計測が実行される。このような動作において、ウエハ
Ｗの移動が必要な場合には、主制御装置１００がステー
ジ制御系２１を介して２次元リニアアクチュエータ２９
を構成する所定の電機子コイルに供給する電流値、及び
電流方向の少なくとも一方を制御することにより、ウエ
ハＷを保持するウエハステージＷＳＴを所望の方向に移
動させる。アライメント計測の終了後、以下のようにし
て走査露光方式の露光動作が行われる。

【００８５】この露光動作にあたって、まず、ウエハＷ
のＸＹ位置が、ウエハＷ上の最初の区画領域（ファース
ト・ショット）の内の第１分割領域の露光のための走査
開始位置となるように、ウエハステージＷＳＴが移動さ
れる。同時に、レチクルＲのＸＹ位置が、第１分割パタ
ーン領域ＰＡの走査開始位置となるように、レチクルス
テージＲＳＴが移動される。そして、主制御装置１００
からの指示に基づき、ステージ制御系２１が、レチクル
レーザ干渉計システム３８によって計測されたレチクル
ＲのＸＹ位置情報、ウエハレーザ干渉計システム６４に
よって計測されたウエハＷのＸＹ位置情報に基づき、２
次元リニアアクチュエータ１９、２９を介してレチクル
ＲとウエハＷとを投影レンズＰＬの投影倍率に応じた速
度比で相互に逆向きにＹ軸方向に沿って同期移動させる
とともに、これらの走査速度よりはるかに高速に照明系
１８からレチクルＲ上に照射される１ｍｍ角の電子ビー
ムの束を非走査方向（Ｘ方向）に第１分割パターン領域
ＰＡの非走査方向の全域がスキャンされるように偏向す
る。この偏向は、主制御装置１００からの指示に基づ
き、照明系１８内の偏向器により行われる。これによ
り、第１分割パターン領域ＰＡの全体がウエハＷ上のフ
ァースト・ショットの内の第１分割領域に転写される。
このような第１分割領域に対する走査露光中に、ステー
ジ制御系２１では、レチクルＡＦ／ＡＬ系（２２、２
４）の計測値に基づいてレチクルステージＲＳＴをＺ方
向及びＸＹ面に対する傾斜方向に微少駆動してフォース
・レベリング制御を行うとともに、ウエハＡＦ／ＡＬ系
（３２、３４）の計測値に基づいてウエハホルダ６０を
Ｚ方向及びＸＹ面に対する傾斜方向に微少駆動してフォ
ース・レベリング制御を行う。

【００８６】このようにして、第１分割パターン領域Ｐ
Ａの転写が終了すると、ステージ制御系２１によりレチ
クルステージＲＳＴとウエハステージＷＳＴとが同期し
てそれぞれＵ字状の移動軌跡となるように連続的に移動
される。そして、ウエハＷのＸＹ位置が、ウエハＷ上の
ファースト・ショットの内の第２分割領域の露光のため
の走査開始位置となり、レチクルＲのＸＹ位置が、第２
分割パターン領域ＰＢの走査開始位置となると、上記と
同様にして第２分割パターン領域ＰＢのパターンがウエ
ハＷ上のファースト・ショットの内の第１分割領域に隣
接する第２分割領域に転写される。これにより、ウエハ
Ｗ上のファーストショットに対するレチクルパターンの
転写が終了する。

【００８７】このようにして、１つのショット領域に対
するレチクルパターンの転写が終了すると、ウエハステ
ージＷＳＴが所定量ステッピングされて、次のショット
領域に対するレチクルパターンの転写が上記と同様にし
て行われ、このようにして、ステッピングとレチクルパ
ターンの転写とが順次繰り返され、ウエハＷ上に必要な
ショット数のパターンが転写される。

【００８８】以上説明したように、本実施形態による
と、レチクルステージＲＳＴに対するレチクル体４５
（レチクルＲ）のロード及びアンロードを、エレベータ
ユニット２６により上方から行うことができる。従っ
て、レチクル搭載面が、レチクルステージＲＳＴ上面よ
りも低いにもかかわらず、何らの支障無く、搬送対象物
としとしてのレチクル体４５をステージとしてのレチク
ルステージＲＳＴに対し搬入及び搬出することができ
る。このため、本実施形態では、前述の如く、投影レン
ズＰＬの物体面側にも斜入射光式の多点焦点位置検出系
（２２、２４）を何らの不都合なく装備することが可能
になり、走査露光中のウエハＷのフォーカス・レベリン
グ制御に加え、レチクルＲのフォーカス・レベリング制
御をも行うことが可能になっている。従って、本実施形
態の露光装置１０では、従来のウエハ側ＡＦ／ＡＬ系の
みを備えた露光装置に比べて一層高精度なレチクルパタ
ーンのウエハ上への転写が可能になる。

【００８９】また、エレベータユニット２６は、上下動
のみでなくθ回転が可能な３本の爪部材４８ｃ₁〜４８
ｃ₃を備えているので、レチクルステージＲＳＴ上への
レチクル体４５の搬入に先立って、レチクル体をθ回転
させることができるので、結果的にレチクルステージＲ
ＳＴに従来のようなθステージ（θ回転機構）が不要と
なり、レチクルステージＲＳＴの構造を簡略化すること
ができる。

【００９０】また、本実施形態の露光装置１０では、レ
チクル体４５の受け渡し位置の下方に一対のレチクルア
ライメント顕微鏡６８Ａ、６８Ｂが配置されていること
から、該レチクルアライメント顕微鏡６８Ａ、６８Ｂに
よってレチクル体４５をレチクルステージＲＳＴに搭載
する直前で、レチクルアライメントマークを観察・測定
し、エレべータユニット２６によりレチクルのθ誤差を
補正し、レチクルステージＲＳＴのＸＹ移動によってレ
チクルのＸＹ誤差を補正することによって、レチクルア
ライメントを行うことが可能となっている。

【００９１】なお、上記エレベータユニット２６の構成
は、一例であり、本発明に係る搬送装置の構成がこれに
限定されないことは勿論である。すなわち、上記実施形
態では、上下動・回転駆動部４３によって第１の駆動機
構と第２の駆動機構とが構成された場合について説明し
たが、第１の駆動機構と第２の駆動機構とを別々の機構
によって構成しても良い。この場合には、第１の駆動機
構として上下動軸のみを有する機構を用いるとともに、
この上下動軸の先端に複数（少なくとも３本）の支持部
材を水平面内で例えばレチクル体５０の放射方向（半径
方向）に個別に駆動する機構を第２の駆動機構として設
けても良い。かかる場合には、搬送対象物としてのレチ
クル体４５に空所としての切り欠きを必ずしも設けなく
ても、支持部材によりレチクル体４５の下面を支持する
ことが可能となる。

【００９２】なお、上記実施形態では、搬送対象物とし
てのレチクル体４５のサポートリング４４の外周部に空
所として切り欠きを形成する場合について説明したが、
これに限らず、爪部材４８ｃ₁〜４８ｃ₃が通り抜け可能
な空所として一部が大きく開いた円弧状の開口をサポー
トリング４４に形成しても良い。かかる場合には、爪部
材ｃ₁〜４８ｃ₃の鉤の手状の支持部（搬送対象物との接
触部）を、空所を介して通り抜けさせることができると
ともに、所定角度の回転移動によりその通り抜けを阻止
してレチクル体４５を支持部により支持することができ
るので、レチクルステージＲＳＴのレチクル体４５の載
置部の周囲に殆ど隙間が無いような場合であっても、レ
チクル体のレチクルステージＲＳＴに対する搬入及び搬
出を円滑に行うことが可能になる。

【００９３】また、上記実施形態では支持部材としての
爪部材４８ｃが３本ある場合について説明したが、これ
は円板状の搬送対象物を安定性良く支持しかつその構成
を最も簡単にする観点から爪部材を３本設けたものであ
る。しかし、これに限らず、支持部材は２本、あるいは
４本以上設けても構わない。支持部材を２本とする場合
には、各支持部材の搬送対象物との接触部を搬送対象物
の外縁に沿うある程度の範囲を安定性良く支持できる形
状とすれば良い。

【００９４】また、上記実施形態では、レチクルステー
ジＲＳＴに対するレチクル体４５の搬入の際には、支持
部材としての３本の爪部材４８ｃを上下方向に駆動する
ものとしたが、ステージが上下動可能であればステージ
の方を上下動させても良く、あるいは支持部材とステー
ジとを上下方向に相対駆動しても良い。

【００９５】なお、上記実施形態では、本発明がＥＢＰ
Ｓ方式を採用する電子ビーム露光装置に適用された場合
について説明したが、本発明の適用範囲がこれに限定さ
れるものではなく、例えば、光源として超高圧水銀ラン
プ、あるいはＫｒＦエキシマレーザ装置（発振波長２４
８ｎｍ）を備えた遠紫外（ＤＵＶ）露光装置や、ＡｒＦ
エキシマレーザ装置（発振波長１９３ｎｍ）、Ｆ₂レー
ザ装置（発振波長１５７ｎｍ）を光源とする真空紫外
（ＶＵＶ）露光装置、あるいは軟Ｘ線領域の極端紫外光
（ＥＵＶ光）を発する光源を備えたＥＵＶ露光装置など
の露光装置にも本発明は好適に適用できる。

【００９６】かかる光露光装置は、マスクと基板とを同
期移動してマスクのパターンを露光する走査型の露光装
置（例えば米国特許第５，４７３，４１０号）や、マス
クと基板とを静止した状態でマスクのパターンを基板に
転写するとともに、基板を順次ステップ移動させるステ
ップ・アンド・リピート型の露光装置のいずれでも良
い。

【００９７】また、かかる露光装置を構成する投影レン
ズ（投影光学系）の倍率は縮小系のみならず等倍および
拡大系のいずれでも良い。また、投影レンズ（投影光学
系）としては、エキシマレーザなどの遠紫外線を用いる
場合は硝材として石英や蛍石などの遠紫外線を透過する
材料を用い、Ｆ₂レーザ光やＥＵＶ光を用いる場合は反
射屈折系または反射系の光学系にし、レチクルも反射型
タイプのものを用いれば良い。かかる反射型タイプのレ
チクルを用いる場合には、露光位置の近傍でレチクルの
ロード、アンロードを行うようにしても良い。

【００９８】また、ウエハステージやレチクルステージ
にリニアモータ（米国特許第５，６２３，８５３号又は
米国特許第５，５２８，１１８号の公報参照）を用いる
場合は、エアべアリングを用いたエア浮上型およびロー
レンツ力又はリアクタンス力を用いた磁気浮上型のどち
らを用いても良い。また、ステージは、ガイドに沿って
移動するタイブでも良いし、ガイドを設けないガイドレ
スタイプでも良い。

【００９９】ウエハステージの移動により発生する反力
は、特開平８−１６６４７５号公報（米国特許第５，５
２８，ｌ１８号）に記載されているように、フレーム部
材を用いて機械的に床（大地）に逃がしても良い。レチ
クルステージの移動により発生する反力は、特開平８−
３３０２２４号公報（米国特許出願第０８／４１６５５
８号）に記載されているように、フレーム部材を用いて
機械的に床（大地）に逃がしても良い。

【０１００】露光装置の用途としては半導体製造用の露
光装置に限定されることなく、例えば、角型のガラスブ
レートに液晶表示素子パターンを露光する液晶用の露光
装置や、薄膜磁気へッドを製造するための露光装置にも
広く適用できる。

【０１０１】なお、複数の電子レンズ等から構成される
照明系、投影レンズを露光装置本体に組み込み調整をす
るとともに、多数の機械部品からなるレチクルステージ
やウエハステージを露光装置本体に取り付けて配線や配
管を接続し、更に総合調整（電気調整、動作確認等）を
することにより上記実施形態の露光装置を製造すること
ができる。なお、露光装置の製造は温度およびクリーン
度等が管理されたクリーンルームで行うことが望まし
い。

【０１０２】また、半導体デバイスは、デバイスの機能
・性能設計を行うステップ、この設計ステップに基づい
たレチクルを製作するステップ、シリコン材料からウエ
ハを製作するステップ、前述した実施形態の露光装置に
よりレチクルのパターンをウエハに転写するステップ、
デバイス組み立てステップ（ダイシング工程、ボンディ
ング工程、パッケージ工程を含む）、検査ステップ等を
経て製造される。

【０１０３】

【発明の効果】以上説明したように、請求項１に記載の
発明によれば、搬送対象物を上方のみからステージ上に
搬送する新たな搬送方法が提供される。

【０１０４】また、請求項２〜請求項１０に記載の各発
明によれば、搬送対象物の載置面がステージの上面より
低い位置にある場合であっても、支障無く搬送対象物を
その載置面に載置することができる搬送方法が提供され
る。

【０１０５】また、請求項１１に記載の発明によれば、
搬送対象物を上方のみからステージ上に搬送することが
できる新方式の搬送装置を提供することができる。

【０１０６】また、請求項１２〜１９に記載の各発明に
よれば、搬送対象物の載置面がステージの上面より低い
位置にある場合であっても、支障無く搬送対象物をその
載置面に載置することができるという優れた搬送方法を
提供することができる。

【０１０７】また、請求項２０〜２４に記載の各発明に
よれば、露光精度を向上させることができるという優れ
た効果を有する露光装置を提供することができる。

【図面の簡単な説明】

【図１】一実施形態に係る露光装置の構成を概略的に示
す図である。

【図２】図１のエレベータユニット近傍を拡大して示す
図である。

【図３】図１のレチクルステージベースの平面図であ
る。

【図４】図２のＡ−Ａ線断面図である。

【図５】図４の円Ｅ内部分を拡大して示す図である。

【図６】図４のＢ−Ｂ線断面図である。

【図７】図１の装置の制御系の構成を示すブロック図で
ある。

【符号の説明】

１０…露光装置、２６…エレベータユニット（搬送装
置）、４０…座ぐり部（凹部）、４３…上下動・回転駆
動機構（第１の駆動機構、第２の駆動機構）、４３Ｂ…
上下動・回転軸（駆動軸）、４５…レチクル体（搬送対
象物）、４８ｃ1、４８ｃ2、４８ｃ3…爪部材（支持部
材）、４４…サポートリング（枠体）、４４ａ、４４
ｂ、４４ｃ…切り欠き（空所）、４８ａ…カバー、５４
…ラバーピン（弾性部材）、６８Ａ、６８Ｂ…レチクル
顕微鏡（マーク検出系、計測装置の一部）、７０…ロー
ダロボットアーム（搬送アーム）１００…主制御装置
（計測装置の一部）、Ｒ…レチクル（マスク）、ＰＬ…
投影レンズ（光学系）、ＲＳＴ…レチクルステージ（ス
テージ）、Ｗ…ウエハ（基板）。

フロントページの続きＦターム(参考） 5F031 CA02 CA07 DA13 FA12 GA06 HA09 HA13 HA16 JA02 JA38 JA50 LA08 MA27 5F046 BA05 BA07 CA04 CA10 CC01 CC02 CC03 CC09 CC16 CC18 CD02 CD04 CD06 DA05 DB05 EB03 FA10 FA17 FC06 GA03 GA12

Claims

【特許請求の範囲】

【請求項１】ステージとの間で搬送対象物の受け渡し
を行う搬送方法であって、複数の支持部材により前記搬送対象物の一方の面を支持
する第１工程と；前記複数の支持部材に支持された前記
搬送対象物を前記ステージ上に搬入する第２工程と；前
記搬送対象物を前記ステージ上に搬入した後、前記搬送
対象物の他方の面側へ前記複数の支持部材を退避する第
３工程とを含む搬送方法。
【請求項２】前記第１工程の処理は、前記複数の支持
部材の前記搬送対象物との接触部が前記搬送対象物の前
記一方の面側へ位置するように前記搬送対象物と前記複
数の支持部材とを相対移動する工程と、当該相対移動の
方向と垂直な面内で前記複数の支持部材をそれぞれ所定
方向へ移動する工程とを含むことを特徴とする請求項１
に記載の搬送方法。
【請求項３】前記第１工程の処理は、前記複数の支持
部材をそれぞれ所定方向へ移動する工程の後に、前記搬
送対象物と前記複数の支持部材とを相対移動させて、前
記支持部材の接触部で前記搬送対象物を支持する工程を
更に含むことを特徴とする請求項２に記載の搬送方法。
【請求項４】前記第２工程の処理は、前記複数の支持
部材と前記ステージとを相対移動して前記搬送対象物の
前記一方の面を前記ステージに当接させる工程と、その
後に前記複数の支持部材を前記ステージに対する前記相
対移動の方向と垂直な面内でそれぞれ所定方向に移動す
る工程とを含むことを特徴とする請求項１〜３のいずれ
か一項に記載の搬送方法。
【請求項５】前記支持部材の前記搬送対象物との接触
部が、前記ステージ上に支持された前記搬送対象物の前
記一方の面側に位置するように、前記ステージと前記複
数の支持部材とを相対移動する第４工程と；前記相対移
動の方向と垂直な面内で前記複数の支持部材をそれぞれ
所定方向へ移動する第５工程と；前記複数の支持部材と
前記ステージとを相対移動して、前記ステージから前記
搬送対象物を搬出する第６工程と；を更に含むことを特
徴とする請求項１〜４のいずれか一項に記載の搬送方
法。
【請求項６】前記複数の支持部材に支持されるまでの
前記搬送対象物の移動は、搬送アームによって行われる
ことを特徴とする請求項１〜５のいずれか一項に記載の
搬送方法。
【請求項７】前記第２工程において前記ステージ上に
前記搬送対象物を搬入する前に、前記複数の支持部材と
前記ステージとを相対移動して前記搬送対象物とステー
ジとの２次元平面内の位置合わせを行う工程を更に含む
ことを特徴とする請求項１〜６に記載の搬送方法。
【請求項８】前記搬送対象物には、前記複数の支持部
材が通り抜け可能な空所が形成されていることを特徴と
する請求項１〜７のいずれか一項に記載の搬送方法。
【請求項９】前記複数の支持部材それぞれの前記所定
方向への移動は、その移動面に直交する所定の軸回りの
回転移動であることを特徴とする請求項２〜５のいずれ
か一項に記載の搬送方法。
【請求項１０】前記搬送対象物は、所定の回路パター
ンが形成されたマスクと該マスクに一体的に固定され前
記空所が形成された枠体から成ることを特徴とする請求
項８に記載の搬送方法。
【請求項１１】ステージとの間で搬送対象物の受け渡
しを行う搬送装置であって、前記搬送対象物の一方の面を支持する複数の支持部材
と；前記搬送対象物に関して前記一方の面側の第１位置
と前記一方の面と反対側の他方の面側の第２位置との間
で前記複数の支持部材を第１方向に駆動する第１の駆動
機構とを備える搬送装置。
【請求項１２】前記複数の支持部材を前記第１方向と
垂直な面内で移動させる第２の駆動機構を更に備えるこ
とを特徴とする請求項１１に記載の搬送装置。
【請求項１３】前記第２の駆動機構による前記複数の
支持部材の前記第１方向と垂直な面内での移動は、前記
第１方向の所定軸回りの回転移動を含むことを特徴とす
る請求項１２に記載の搬送装置。
【請求項１４】前記搬送対象物に、前記複数の支持部
材を前記第１方向から挿入・離脱可能な空所が形成され
ていることを特徴とする請求項１３に記載の搬送装置。
【請求項１５】前記空所は、前記複数の支持部材の挿
入状態で、それらの支持部材の所定量の回転を許容する
空所であることを特徴とする請求項１４に記載の搬送装
置。
【請求項１６】前記支持部材の前記搬送対象物との接
触部には、弾性部材が設けられていることを特徴とする
請求項１１〜１５のいずれか一項に記載の搬送装置。
【請求項１７】前記第１の駆動機構の駆動軸の周囲に
は、円筒状のカバーが設けられていることを特徴とする
請求項１１〜１６のいずれか一項に記載の搬送装置。
【請求項１８】前記搬送対象物は、所定の回路パター
ンが形成されたマスクと該マスクに一体的に固定され前
記空所が形成された枠体から成ることを特徴とする請求
項１４又は１５に記載の搬送装置。
【請求項１９】前記マスクは円形のマスクであり、前
記枠体は前記マスクをマウントするサポートリングであ
ることを特徴とする請求項１８に記載の搬送装置。
【請求項２０】マスクに形成されたパターンを光学系
を介して基板上に転写する露光装置であって、前記マスクを保持するマスクステージに対するマスクの
搬送装置として請求項１２〜１９のいずれか一項に記載
の搬送装置を具備することを特徴とする露光装置。
【請求項２１】前記マスクステージは、前記搬送装置
との間で前記マスクの受け渡しを行う受け渡し位置と前
記パターンの前記基板上への転写を行う露光位置との間
を移動することを特徴とする請求項２０に記載の露光装
置。
【請求項２２】前記受け渡し位置の前記光学系側に配
置されたマーク検出系を有し、前記マスクステージ上に
前記マスクが搬入される前に前記マーク検出系を用いて
前記マスクに形成された位置合わせマークを検出する計
測装置を更に備えることを特徴とする請求項２０又は２
１に記載の露光装置。
【請求項２３】前記光学系が電子光学系であることを
特徴とする請求項２０〜２２のいずれか一項に記載の露
光装置。
【請求項２４】前記マスクステージの前記マスク載置
面は、前記マスクステージに形成された凹部内の底面に
設けられていることを特徴とする請求項２０〜２３のい
ずれか一項に記載の露光装置。
【請求項２５】マスクステージに載置されるマスク体
であって、所定のパターンが形成されたマスクと；前記マスクが一
体的にマウントされ、前記マスクの周辺部を支持する枠
体とを備えるマスク体。