JP5137773B2 - リソグラフィ装置 - Google Patents
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Description
放射(例えば、UV又はEUV放射)の投影ビームBPを提供する照明システム(照明装置)ILと、
アイテムPLに対してパターニング・デバイスを正確に配置するための第1の配置機構PMに連結され、パターニング・デバイス(例えば、マスク)MAを支持する第1の支持構造体(例えば、マスク・テーブル/ホルダ)MTと、
アイテムPLに対して基板を正確に配置するための第2の配置機構PWに連結され、基板(例えば、レジストを被覆したウェハ)Wを支持する基板テーブル(例えば、ウェハ・テーブル/ホルダ)WTと、
基板Wのターゲット部分C(例えば、1つ以上のダイを含む)上に、パターニング・デバイスMAによって投影ビームPBに与えられたパターンを像形成する投影システム(例えば、反射投影レンズ)PLとを備える。
ステップ・モード:マスク・テーブルMT及び基板テーブルWTは、本質的に静止したままであり、一方、投影ビームに与えられた全体パターンは、1回の操作でターゲット部分C上に投影される(すなわち、単一の静的露光)。基板テーブルWTは、異なるターゲット部分Cが露光されることができるように、次にX及び/又はY方向にシフトされる。ステップ・モードにおいて、露光される領域の最大サイズは、単一の静的露光で像形成されるターゲット部分Cのサイズを制限する。
走査モード:マスク・テーブルMT及び基板テーブルWTは、同期して走査され、一方、投影ビームに与えられたパターンは、ターゲット部分Cに投影される(すなわち、単一の動的露光)。マスク・テーブルMTに対する基板テーブルWTの速度及び方向は、投影システムPLの拡大(縮小)及び像反転特性によって決定される。走査モードにおいて、露光領域の最大サイズは、単一の動的露光におけるターゲット部分の幅(非走査方向における)を制限し、一方、走査動きの長さは、ターゲット部分の高さ(走査方向における)を決定する。
他のモード:マスク・テーブルMTは、プログラム可能なパターニング手段を本質的に静止して保持したままであり、基板テーブルWTは、投影ビームに与えられたパターンが、ターゲットC上に投影される間に、移動又は走査される。このモードにおいて、一般に、パルス状にされた放射源が用いられ、プログラム可能なパターニング・デバイスは、必要であれば、基板テーブルWTの各移動の後で、又は走査の間の連続する放射パルスの間で更新される。この動作モードは、上述したタイプのプログラム可能なミラー・アレイなどのプログラム可能なパターニング・デバイスを使用するマスクレス・リソグラフィに容易に適用されることができる。
1a 第1の基板
1b 第2の基板
1c 第3の基板
5 処理ユニット
7 ピン
10、10.1、10.2、110 ロボット
11、111 第1の対象物ハンドラ
12 第1のアーム
15 ハブ
15a 回転軸
21、121 第2の対象物ハンドラ
22 第2のアーム
30 装填ステーション
31 受容ユニット
32 装填ユニット
40 排出ステーション
50 トラック
50.2、50.3 トラック・フロー
60 干渉計
120 共通ロボット・アーム
125 ドッキング機構
126 カウンタ・プレート
127 リスト・アセンブリ
128 半球投影部
129 孔
132 プレ・アライナ
134 制御キャビン
136 ホルダ
137.1、137.2、137.3 基板位置
138 基板バッファ
139.1、139.2、139.3 エア・シャワー
140 Zストローク・モータ
141.1、141.2 ベルト
Claims (2)
- (a)交換可能な対象物を伴うリソグラフィ・プロセスを実行するように構成された処理ユニットを備えるリソグラフィ装置であって、
前記処理ユニットは、放射のビームを調整する照明システムと、前記放射のビームに所望のパターンを与えるパターンニング・デバイスを支持するように構成された支持構造体と、基板を保持するように構成された基板ホルダと、前記パターン形成されたビームを、前記基板のターゲット部分上に投影するように構成された投影システムと、を有し、
前記リソグラフィ装置はさらに、
(b)トラックと前記処理ユニットとの間で交換可能な対象物を交換するためのトラック・インターフェースを備え、前記トラック・インターフェースは、移送ユニットを含み、前記移送ユニットは、第1の交換可能な対象物を、前記トラックから基板トラック受容ユニットを介して前記処理ユニットへ移送し、且つ第2の交換可能な対象物を、前記処理ユニットから基板トラック排出ステーションを介して前記トラックへ移送するように構成される単一のロボットを有し、前記基板トラック受容ユニット及び前記基板トラック排出ステーションは、互いに垂直方向に積み重ねられ、
前記基板トラック受容ユニット及び/又は前記基板トラック排出ステーションは、前記処理ユニットと前記トラックとの間で基板を緩衝するように構成されたバッファ・ステーションを含み、
前記バッファ・ステーションは、前記バッファ・ステーションにおける前記基板の温度制御のための複数のエア・シャワーを備え、
前記複数のエア・シャワーは、互いに垂直方向に積み重ねられており、
前記エア・シャワー間に前記基板が配置され、前記基板の両面に前記温度制御のためのエア・フローが提供される、
リソグラフィ装置。 - 前記基板トラック受容ユニットが、前記基板トラック排出ステーションの上方に積み重ねられる、
請求項1に記載のリソグラフィ装置。
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