JP4669833B2 - リソグラフィ装置 - Google Patents
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Description
Claims (11)
- 放射ビームを調整するように構成された照明システムと、
放射ビームの断面にパターンを付与してパターン化された放射ビームを形成するように構成されているパターニングデバイスを投影面に支持するように構成されたパターニングデバイス支持体と、
基板を保持するように構成された基板テーブルと、
パターン化された放射ビームを基板のターゲット部分に投影するように構成された投影システムと、
交換可能オブジェクト支持体を用いて交換可能オブジェクトを交換するように構成される交換デバイスであって、交換可能オブジェクト支持体はパターン化された放射ビームの投影中に交換可能オブジェクトを保持するように構成されており、交換デバイスはロードユニットおよびアンロードユニットを備えており、ロードユニットおよびアンロードユニットはそれぞれが交換可能オブジェクトを保持するための保持デバイスを有しており、ロードユニットの保持デバイスおよびアンロードユニットの保持デバイスは互いに概ね近接して配置され、かつパターン化された放射ビームの投影中に交換可能オブジェクトを交換可能オブジェクト支持体内に保持する平面と略平行な平面に交換可能オブジェクトを保持するように構成されている、交換デバイスと、
を備えるリソグラフィ装置であって、
交換可能オブジェクト支持体は保持デバイスのそれぞれを用いて交換可能オブジェクトを交換するように構成されており、
交換デバイスは第2のロードユニットおよび第2のアンロードユニットを有する、リソグラフィ装置。 - 放射ビームを調整するように構成された照明システムと、
放射ビームの断面にパターンを付与してパターン化された放射ビームを形成するように構成されているパターニングデバイスを投影面に支持するように構成されたパターニングデバイス支持体と、
基板を保持するように構成された基板テーブルと、
パターン化された放射ビームを基板のターゲット部分に投影するように構成された投影システムと、
交換可能オブジェクト支持体を用いて交換可能オブジェクトを交換するように構成される交換デバイスであって、交換可能オブジェクト支持体はパターン化された放射ビームの投影中に交換可能オブジェクトを保持するように構成されており、交換デバイスはロードユニットおよびアンロードユニットを備えており、ロードユニットおよびアンロードユニットはそれぞれが交換可能オブジェクトを保持するための保持デバイスを有しており、ロードユニットの保持デバイスおよびアンロードユニットの保持デバイスは互いに概ね近接して配置され、かつパターン化された放射ビームの投影中に交換可能オブジェクトを交換可能オブジェクト支持体内に保持する平面と略平行な平面に交換可能オブジェクトを保持するように構成されている、交換デバイスと、
を備えるリソグラフィ装置であって、
交換可能オブジェクト支持体は保持デバイスのそれぞれを用いて交換可能オブジェクトを交換するように構成されており、
交換デバイスは第2のロードユニットおよび第2のアンロードユニットを備えており、
交換デバイスがトランスポートユニットを有しており、トランスポートユニットは、1つまたはそれより多い交換可能オブジェクトを、少なくとも一つのロードユニットおよびアンロードユニットより、または、へ向かって移送するように構成され、かつ、少なくとも一つの第2のロードユニットおよび第2のアンロードユニットより、または、へ向かって移送するように構成されている、リソグラフィ装置。 - 交換デバイスは第2のリニア型トランスポートユニットを備えており、第2のリニア型トランスポートユニットは1つまたはそれより多い交換可能オブジェクトを、少なくとも一つのロードユニットおよびアンロードユニットより、または、へ向かって移送するように構成され、かつ、少なくとも一つの第2のロードユニットおよび第2のアンロードユニットより、または、へ向かって移送するように構成されている、請求項2に記載のリソグラフィ装置。
- 交換可能オブジェクトはパターニングデバイスであり、交換可能オブジェクト支持体はパターニングデバイス支持体である、請求項1乃至3の何れか一項に記載のリソグラフィ装置。
- 交換可能オブジェクトは投影システムの交換可能部品であり、交換可能部品はレンズ瞳フィルタまたはレンズエレメントを含み、交換可能オブジェクト支持体は投影システムの部品用の支持体である、請求項1乃至4の何れか一項に記載のリソグラフィ装置。
- ロードユニットの保持デバイスおよびアンロードユニットの保持デバイスは、交換可能オブジェクトを概ね同一平面に保持するように構成されている、請求項1乃至5の何れか一項に記載のリソグラフィ装置。
- 平面は投影面と概ね一致する、請求項6に記載のリソグラフィ装置。
- 交換可能オブジェクト支持体はアンロードユニットの上方の位置からロードユニットの上方の位置へ移動するように構成されており、ロードユニットおよびアンロードユニットは、少なくとも保持デバイスを、交換される交換可能オブジェクトの主面に対し垂直な方向に移動させるようにそれぞれ構成されている、請求項1乃至7の何れか一項に記載のリソグラフィ装置。
- 交換デバイスは、アンロードユニットが交換可能オブジェクト支持体の下方に配置される位置からロードユニットが交換可能オブジェクト支持体の下方に配置される位置へアンロードユニットおよびロードユニットを移動させるように構成されており、ロードユニットおよびアンロードユニットは、少なくとも保持デバイスを、交換される交換可能オブジェクトの主面と垂直な方向に移動させるようにそれぞれ構成されている、請求項1乃至7の何れか一項に記載のリソグラフィ装置。
- 交換デバイスはリニア型トランスポートユニットを備え、リニア型トランスポートユニットは1つまたはそれより多いオブジェクトを、ロードユニットおよび/またはアンロードユニットより、または、へ向かって移送するように構成されている、請求項1乃至9の何れか一項に記載のリソグラフィ装置。
- トランスポートユニットは、交換可能オブジェクトを所望の方向に回転させるように構成された回転ユニットを備える、請求項10に記載のリソグラフィ装置。
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---|---|---|---|---|
WO2003017344A1 (fr) * | 2001-08-20 | 2003-02-27 | Nikon Corporation | Procede de remplacement de masque et dispositif d'exposition |
JP2004356634A (ja) * | 2003-05-29 | 2004-12-16 | Asml Holding Nv | デュアル基板ステージ型ダブル露光リソグラフィシステムにおける方法およびデュアルウェハステージ型ダブル露光システム |
Family Cites Families (15)
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---|---|---|---|---|
US4984953A (en) * | 1987-02-20 | 1991-01-15 | Canon Kabushiki Kaisha | Plate-like article conveying system |
JPH06181166A (ja) | 1992-12-14 | 1994-06-28 | Nikon Corp | 投影露光装置 |
JP3287058B2 (ja) | 1993-04-23 | 2002-05-27 | 株式会社ニコン | 露光装置 |
US5852490A (en) * | 1996-09-30 | 1998-12-22 | Nikon Corporation | Projection exposure method and apparatus |
JPH10239855A (ja) | 1997-02-28 | 1998-09-11 | Nikon Corp | 基板搬送装置 |
WO1999028220A1 (fr) * | 1997-12-03 | 1999-06-10 | Nikon Corporation | Dispositif et procede de transfert de substrats |
US20040075822A1 (en) * | 1998-07-03 | 2004-04-22 | Nikon Corporation | Exposure apparatus and its making method, substrate carrying method, device manufacturing method and device |
EP1052547A3 (en) | 1999-04-21 | 2002-07-31 | Asm Lithography B.V. | Mask-handling apparatus for lithographic projection apparatus |
US6549277B1 (en) * | 1999-09-28 | 2003-04-15 | Nikon Corporation | Illuminance meter, illuminance measuring method and exposure apparatus |
JP2002158155A (ja) * | 2000-11-17 | 2002-05-31 | Canon Inc | 露光装置および露光方法 |
US6492077B1 (en) * | 2001-04-23 | 2002-12-10 | Taiwan Semiconductor Manufacturing Company | Multiple-reticle mask holder and aligner |
US6897940B2 (en) | 2002-06-21 | 2005-05-24 | Nikon Corporation | System for correcting aberrations and distortions in EUV lithography |
WO2004049408A1 (ja) * | 2002-11-28 | 2004-06-10 | Tokyo Electron Limited | 基板処理システム、塗布現像装置及び基板処理装置 |
JP4315420B2 (ja) * | 2003-04-18 | 2009-08-19 | キヤノン株式会社 | 露光装置及び露光方法 |
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Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
WO2003017344A1 (fr) * | 2001-08-20 | 2003-02-27 | Nikon Corporation | Procede de remplacement de masque et dispositif d'exposition |
JP2004356634A (ja) * | 2003-05-29 | 2004-12-16 | Asml Holding Nv | デュアル基板ステージ型ダブル露光リソグラフィシステムにおける方法およびデュアルウェハステージ型ダブル露光システム |
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