JPH09325309A - プリアライメント装置及びプリアライメント方法 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】 【課題】本発明は、プリアライメント装置及びプリアラ
イメント方法において、簡易な構成で、感光基板に損傷
が生じることを防止し得るようにする。 【解決手段】感光基板が載置されるプレートステージ
と、プレートステージを所望の方向に傾斜させるプレー
トステージ傾斜手段とを設け、またプレートステージの
載置面上にプリアライメント基準位置として基準ピンを
設け、さらにプレートステージの傾斜方向を制御して感
光基板を基準ピンの方向に滑らせて当接させることで位
置合わせを行う制御手段を設けるようにした。プレート
ステージの傾斜によつて感光基板を滑らせて基準ピンに
当接させることで位置合わせするようにしたことによ
り、感光基板の自重を用いて位置合わせすることがで
き、複雑な構成を設けること無く感光基板を位置合わせ
し得ると共に感光基板に過剰な力が加わることを防止で
きる。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【発明の属する技術分野】本発明はプリアライメント装
置及びプリアライメント方法に関し、例えば液晶基板を
製作するために用いる露光装置に適用して好適なもので
ある。

【０００２】

【従来の技術】一般に、液晶基板等を製作するために、
レチクル上に形成された所望のパターンを感光基板のレ
ジスト層に投影露光する露光工程においては、感光基板
を載置する露光装置の基板ステージ上で、露光処理を開
始する前に予め所定の露光位置に感光基板を位置合わせ
（以下、これをプリアライメントと呼ぶ）する必要があ
る。すなわち、レチクルにレーザ光を照射して出射され
る出射光を感光基板に照射することにより、この照射位
置にレチクル上に形成されているパターン像が投影さ
れ、かくして感光基板のレチクル層にパターン像が潜像
される。しかし、このパターン像を投影する感光基板上
の露光領域は予め定められた位置に設けられているた
め、レーザ光によるパターン像の投影光がこの露光領域
内に正しく照射されるように感光基板を位置合わせして
おく必要がある。

【０００３】図５において、１は全体として従来の露光
装置で用いられているプリアライメント装置を示し、プ
レート２をステージ３上に設けられたプレートホルダ４
の載置面上に載置する。ここでプレート２は例えば一方
の辺が隣接する他方の辺に比して長い矩形形状のガラス
基板でなり、表面に感光剤が塗布されている。プレート
２はプリアライメント処理後の工程で、この塗布面に所
望のパターン像が投影露光される。

【０００４】プレートホルダ４には空圧制御装置５が接
続されており、載置面上に載置されたプレート２に空圧
制御装置５によつて正圧又は負圧を与えることができる
ようになされている。すなわち空圧制御装置５は所定圧
の空気を送出して、プレートホルダ４の載置面上に設け
られている複数の微小な貫通孔（図示せず）から吹き出
させることにより、プレート２に正圧をかける。また空
圧制御装置５は空圧系統を切り換えて、プレートホルダ
４の載置面上に設けられている複数の微小な貫通孔から
所定圧で空気を吸引することにより、プレート２に負圧
をかける。これによりプレートホルダ４は、空圧制御装
置５によつてプレート２に負圧がかけられた場合に載置
面に載置されたプレート２を吸着して保持することがで
き、また正圧がかけられた場合に載置面に載置されたプ
レート２をフローさせて載置面との摩擦力を低下させる
ことができる。

【０００５】プリアライメント装置１は、プレート２を
フローさせた状態でステージ制御装置６の制御により駆
動部を駆動させる。駆動部はモータ又は空圧で動作する
アクチユエータでなり、先端部に設けられている押し付
けピンをプレートホルダ４の載置面上で内側方向に移動
させる。押し付けピンはプレートホルダ４上に載置され
ているプレート２に押し当てられ、押し付けピンの移動
に伴つてプレート２を移動させる。ここで駆動部及び押
し付けピンとしては、図中に示すＸ方向にプレート２を
移動させるものとして駆動部７Ａ及び押し付けピン８Ａ
が、またＹ方向にプレート２を移動させるものとして駆
動部７Ｂ及び押し付けピン８Ｂがそれぞれ設けられてい
る。

【０００６】またプレートホルダ４の載置面上で、駆動
部７Ａ及び押し付けピン８Ａ、駆動部７Ｂ及び押し付け
ピン８Ｂにそれぞれ対向する外周側にはアライメント基
準ピン９Ａ及び９Ｂとアライメント基準ピン９Ｃとがそ
れぞれ設けられている。ここではプレート２の長辺側、
すなわちＸ方向にプレート２を移動させる押し付けピン
８Ａの移動方向にアライメント基準ピン９Ａ及び９Ｂ
が、またプレート２の短辺側、すなわちＹ方向にプレー
ト２を移動させる押し付けピン８Ｂの移動方向にアライ
メント基準ピン９Ｃが設けられている。アライメント基
準ピン９Ａ、９Ｂ及び９Ｃはプレート２を所定の露光位
置に位置合わせするための基準位置として設けられてお
り、プレート２の隣接する２辺をそれぞれアライメント
基準ピン９Ａ、９Ｂ及び９Ｃと当接させることにより、
プレート２を所定の露光位置に位置合わせする。

【０００７】プリアライメント装置１は、ステージ制御
装置６によつて駆動部７Ａ又は７Ｂを制御して押し付け
ピン８Ａ又は８Ｂを駆動させ、この押し付けピン８Ａ又
は８Ｂの移動によつてプレートホルダ４上に載置されて
いるプレート２をアライメント基準ピン９Ａ及び９Ｂ、
又はアライメント基準ピン９ＣにＸ、Ｙ方向でそれぞれ
押し付けてプレート２を所定の露光位置に位置合わせす
る。ここで押し付けピン８Ａ及び８Ｂによるアライメン
ト基準ピン９Ａ、９Ｂ及び９Ｃへのプレート２の押し付
け順序としては、まずＸ方向に移動する押し付けピン８
Ａを駆動させてアライメント基準ピン９Ａ及び９Ｂに押
し付けることでプレート２の長辺側の位置合わせを行
う。この後、今度はＹ方向に移動する押し付けピン８Ｂ
を駆動させてアライメント基準ピン９Ｃに押し付けるこ
とでプレート２の短辺側の位置合わせを行う。

【０００８】また、こうして位置合わせした後、プレー
ト２の状態が安定したら、空圧制御装置５によりプレー
トホルダ４の載置面を介してプレート２にかけられてい
る空圧を負圧に切り換えて、プレート２を吸着し固定す
る。なお、こうしてプレート２が固定されたらステージ
制御装置６によつて、プレート２をアライメント基準ピ
ン９Ａ、９Ｂ及び９Ｃに押し付けていた押し付けピン８
Ａ及び８Ｂを移動前の位置に戻す。こうしてプレート２
のプリアライメントが完了する。

【０００９】

【発明が解決しようとする課題】ところでかかる構成の
プリアライメント装置１においては、押し付けピン８Ａ
及び８Ｂをそれぞれ駆動させるためにアクチユエータで
なる駆動部７Ａ及び７Ｂと駆動部７を制御するための制
御部６とが必要であり、装置構成が複雑になるという問
題がある。特にステージ３上にはプレート２の位置を検
出するためのレーザ干渉計（図示せず）等を設ける必要
もあるため、大きな配置場所を要する駆動部７Ａ及び７
Ｂの配置位置はある程度限定されてしまつていた。

【００１０】またこのように駆動部７Ａ及び７Ｂの配置
場所が限定されてしまうことにより、プレート２のどの
辺を位置合わせの際の基準辺にするかということも限定
されてしまうことになる。すなわち駆動部７Ａ及び７Ｂ
の配置場所が限定されてしまうため、押し付けピン８Ａ
及び８Ｂの移動方向が限定されてしまう。従つて、押し
付けピン８Ａ及び８Ｂによつてプレート２を押し付け得
る方向も限定されてしまい、アライメント基準ピン９
Ａ、９Ｂ及び９Ｃを設ける位置も限定されてしまうこと
になる。これにより、プレート２のどの辺を基準辺にす
るかが限定されてしまうことになるわけである。このよ
うな基準辺の限定はプレート２の載置方向等を限定して
しまうため、製造ライン上にプリアライメント装置１を
配する上で大きな制限となつていた。

【００１１】さらに駆動部７Ａ及び７Ｂによる押し付け
ピン８Ａ及び８Ｂのプレート２への押付力は微妙な調整
が困難であるという問題もある。このため押し付けピン
８Ａ及び８Ｂによつてプレート２をアライメント基準ピ
ン９Ａ、９Ｂ及び９Ｃにそれぞれ押し付けた際に押付力
が大きすぎてプレート２やプレート上形成されたデバイ
スパターンに傷やクラツクを生じさせてしまう場合があ
つた。このような問題を回避するために、アライメント
基準ピン９Ａ、９Ｂ及び９Ｃに換えて凸形形状でなる所
定長の突出部を設ける手法も考えられる。この場合、こ
の突出部の壁面にプレート２を押し付けてプリアライメ
ントを行う。これによつて、点の支持では無く辺で支持
することで押付力を辺全体に分散させ、傷又はクラツク
の発生を低下させる。しかし、プレート２の外周は必ず
しも平らに仕上げられているわけでは無いため、このよ
うな突出部にプレート２を押し付けた場合、本来の目的
である位置合わせの精度を低下させてしまうことにな
る。

【００１２】本発明は以上の点を考慮してなされたもの
で、簡易な構成で、感光基板に損傷が生じることを防止
し得るプリアライメント装置及びプリアライメント方法
を提案しようとするものである。

【００１３】

【課題を解決するための手段】かかる課題を解決するた
め本発明においては、感光基板（２）が載置されるプレ
ートステージ（１１）と、プレートステージ（１１）を
所望の方向に傾斜させるプレートステージ傾斜手段（１
２、１３及び１４）とを設け、またプレートステージ
（１１）の載置面上にプリアライメント基準位置として
基準ピン（９Ａ、９Ｂ及び９Ｃ）を設け、さらにプレー
トステージ（１１）の傾斜方向を制御して感光基板
（２）を基準ピン（９Ａ、９Ｂ及び９Ｃ）の方向に滑ら
せて当接させることで位置合わせを行う制御手段（１
５）を設けるようにした。。

【００１４】プレートステージを傾斜させて感光基板を
滑らせることで基準ピンに当接させて位置合わせするよ
うにしたことにより、感光基板の自重を用いて位置合わ
せすることができ、複雑な構成を設けること無く感光基
板を位置合わせし得ると共に感光基板に過剰な力が加わ
ることを防止できる。

【００１５】

【発明の実施の形態】以下図面について、本発明の一実
施例を詳述する。

【００１６】図５との対応部分に同一符号を付して示す
図１において、１０は全体としてプリアライメント装置
を示し、液晶基板の製造工程において矩形形状の感光基
板に露光処理を施す露光装置内に設けられている。プリ
アライメント装置１０はステージ３上に設けられたプレ
ートホルダ１１を傾斜させてプレート２を傾斜方向に滑
らせることによつて移動させ、これによつてプレート２
の隣接する所定の２辺をプリアライメント基準ピン９Ａ
及び９Ｂ、プリアライメント基準ピン９Ｃにそれぞれ当
接させてプレート２のプリアライメントを行うようにな
されている。

【００１７】プレートホルダ１１はステージ３上に配さ
れており、所定の一辺のほぼ中央に設けられた突出部１
１Ａをピボツト部１２と係合させて支持されている。ま
たプレートホルダ１１は突出部１１Ａを設けた一辺と対
向する他辺の両端近傍に設けられた突出部１１Ｂ及び１
１Ｃをチルト駆動部１３及び１４と係合させて支持され
ている。なお、これ以外の部分ではプレートホルダ１１
はステージ３に取り付けられておらず、単に載置された
状態でなる。チルト駆動部１３、１４は例えばピエゾ素
子やモータ等のアクチユエータで構成されている。

【００１８】ここで図２に示すように、プレートホルダ
１１の所定の一辺に設けられた突出部１１Ａの先端には
鋼球が固定されて取り付けられている。またピボツト部
１２の上面には円錐形状の穴が形成されており、この穴
に突出部１１Ａの先端に設けられた鋼球が係合された状
態となつている。なお、突出部１１Ｂ及び１１Ｃとチル
ト駆動部１３及び１４との係合部も同一構造でなる。さ
らにプレートホルダ１１の他の一辺に設けられた突出部
１１Ｂ及び１１Ｃを支持しているチルト駆動部１３及び
１４は、ステージ制御装置１５から与えられる制御信号
に応じて上下に駆動するようになされており、この上下
動によつて突出部１１Ｂ及び１１Ｃを持ち上げる。

【００１９】プリアライメント装置１０は、突出部１１
Ａの先端の鋼球とピボツト部１２との係合部を支点とし
て、チルト駆動部１３及び１４の上下動によりプレート
ホルダ１１を一定のストロークで所望の方向に無段階で
自在に傾けることができるようになされている。この
際、突出部１１Ｂ及び１１Ｃとチルト駆動部１３及び１
４との係合部も突出部１１Ａとピボツト部１２との係合
部と同一の構造でなつているため、チルト駆動部１３及
び１４によつて突出部１１Ｂ及び１１Ｃを持ち上げた場
合、プレートホルダ１１がどのような角度に傾斜しても
問題無く可動する。

【００２０】またプレートホルダ１１には空圧制御装置
５が接続されており、空圧制御装置５によつて載置面上
に載置されたプレート２に正圧又は負圧をかけることが
できるようになされている。すなわち空圧制御装置５は
所定圧の空気を送出して、プレートホルダ１１の載置面
上に設けられている複数の微小な貫通孔（図示せず）か
ら吹き出させることにより、プレートホルダ１１の載置
面上に載置されたプレート２に正圧をかける。また空圧
制御装置５は空圧系統を切り換えて、プレートホルダ１
１の載置面上に設けられている複数の微小な貫通孔から
所定圧で空気を吸引することにより、プレートホルダ１
１の載置面上に載置されたプレート２に負圧をかける。
これによりプレートホルダ１１は、空圧制御装置５によ
りプレート２に負圧がかけられた場合にはプレート２を
吸着して保持することができ、また正圧がかけられた場
合にはプレート２をフローさせて載置面との摩擦力を低
下させることができる。

【００２１】さらにプレートホルダ１１の載置面上に
は、プリアライメント基準ピン９Ａ、９Ｂ及び９Ｃがそ
れぞれ所定のプリアライメント基準位置に設けられてい
る。このプリアライメント基準位置は、所定の露光位置
に正しく載置した際のプレート２の隣接する２辺の直線
上にそれぞれ設定されている。具体的には、図中に示す
Ｘ、Ｙ方向において、Ｘ方向、すなわち突出部１１Ａが
設けられている辺側にプリアライメント基準ピン９Ａ及
び９Ｂが設けられており、Ｙ方向、すなわち突出部１１
Ａが設けられている辺に隣接する辺側にプリアライメン
ト基準ピン９Ｃが設けられている。プリアライメント装
置１０は、プレートホルダ１１の載置面上に載置された
プレート２の隣接する２辺をそれぞれプリアライメント
基準ピン９Ａ及び９Ｂとプリアライメント基準ピン９Ｃ
とに当接させることにより、プレート２のプリアライメ
ントを行う。

【００２２】以上の構成において、プリアライメント装
置１０は図３（Ａ）〜（Ｃ）に示すような以下の手順で
プレート２のプリアライメントを実行する。まず図３
（Ａ）に示すように、搬送されてきたプレート２がプレ
ートホルダ１１上に載置される。プリアライメント装置
１０は、空圧制御装置５から所定圧の空気を供給させ、
これをプレートホルダ１１の載置面上に設けられている
貫通孔から吹き出させてプレート２をフローさせる。こ
れにより、プレートホルダ１１とプレート２との接触部
の摩擦力が低下する。

【００２３】この後、プリアライメント装置１０はステ
ージ制御装置１５から制御信号を送出してチルト駆動部
１３及び１４をそれぞれ駆動させる。チルト駆動部１３
及び１４は上方向に同期しながら駆動し、突出部１１Ａ
及び１１Ｂを持ち上げる。こうしてプレートホルダ１１
が、突出部１１Ａとピボツト部１２との係合部を支点と
して、図中に示す矢印Ａの方向に傾斜する。プレート２
はプレートホルダ１１の載置面との摩擦力が低下してい
るため、この傾斜によつて図中に示す矢印Ｂの方向（す
なわちＸ方向）に容易に滑り出す。滑り出した方向には
プリアライメント基準ピン９Ａ及び９Ｂが設けられてお
り、プレート２はこの２つのピンに当接した状態で停止
する。ステージ制御装置１５はプレート２の状態が安定
するまで、一定時間だけプレートホルダ１１の傾斜を維
持する。こうしてプリアライメント装置１０は、プレー
ト２のＸ方向のプリアライメントを完了する。

【００２４】次に図３（Ｂ）に示すように、プリアライ
メント装置１０はステージ制御装置１５から制御信号を
送出してチルト駆動部１４のみを下方向に駆動させる。
チルト駆動部１４は下方向に駆動して突出部１１Ｂを下
に下ろす。この状態では、チルト駆動部１３によつて突
出部１１Ａの側だけが持ち上げられている状態となつて
いる。こうしてプレートホルダ１１が、突出部１１Ａと
ピボツト部１２との係合部を支点として、図中に示す矢
印Ｃの方向に傾斜する。プレート２はプレートホルダ１
１の載置面との摩擦力が低下しているため、この傾斜に
よつて図中に示す矢印Ｄの方向（すなわちＹ方向）に、
プリアライメント基準ピン９Ａ及び９Ｂをガイドとして
容易に滑り出す。滑り出した方向にはプリアライメント
基準ピン９Ｃが設けられており、プレート２はこのピン
に当接した状態で停止する。ここでステージ制御装置１
５はプレート２の状態が安定するまで、一定時間だけプ
レートホルダ１１の傾斜をそのままの状態で維持する。
こうしてプリアライメント装置１０は、プレート２のＹ
方向のプリアライメントを完了する。

【００２５】こうして図３（Ｃ）に示すように、プレー
ト２のプリアライメントをＸ及びＹ方向共に完了した
ら、空圧制御装置５の空圧系統を切り換えて、プレート
ホルダ１１の載置面上に設けられている複数の微小な貫
通孔から所定圧で空気を吸引させ、プレートホルダ１１
の載置面上でプレート２を吸着保持する。この後、ステ
ージ制御装置１５によつてチルト駆動部１３及び１４を
初期状態に戻す。具体的には、チルト駆動部１３を下方
向に駆動して突出部１１Ｂを下ろし、プレートホルダ１
１を水平に戻す。かくしてプレート２のプリアライメン
ト手順が全て完了する。

【００２６】このようにプリアライメント装置１０で
は、チルト駆動部１３及び１４を上下動させてプレート
ホルダ１１を傾斜させ、これによつてプレート２を自重
で傾斜方向に滑らせることで位置合わせを行うようにし
たことにより、従来のような押し付け機構を廃すること
ができ構成を簡易にすることができる。ここで従来の露
光装置においては、露光処理の際にピント合わせをする
ため、またプレート２が変形している場合にプレート２
の変形に応じて、投影される露光光を補正するためにプ
レートホルダ１１の上下方向への移動及び全方向への傾
斜を行うチルト機構を元々有している機種が存在する。
この場合は、チルト駆動部１３及び１４やピボツト部１
２等の追加構成を設ける必要が無く、ステージ制御装置
１５に上述したようなプリアライメント手順を実行させ
てこのチルト機構を駆動させるようにすればよく、構成
を一層簡易にすることができる。

【００２７】また、このようにプレートホルダ１１を傾
斜させて、プレート２を自重によつて傾斜方向に滑らせ
ることで位置合わせを行うようにしたことにより、従来
のような押し付け機構によつて位置合わせを行つた場合
に比して、過剰な力がプレート２にかかることを防止す
ることができ、プリアライメント基準ピン９Ａ、９Ｂ及
び９Ｃにプレート２を当接させた際の傷やクラツクの発
生を防止することができる。この際、空圧制御装置５に
よつて供給される空圧を用いてプレート２をフローさせ
てプレート２とプレートホルダ１１の載置面との摩擦力
を低下させているためにプレート２が傾斜方向に滑り易
くなつている。これにより、プレートホルダ１１に最小
限の傾斜角を持たせるだけでプレートの自重によりプレ
ート２を傾斜方向に滑らせることができ、プリアライメ
ント基準ピン９Ａ、９Ｂ及び９Ｃにプレート２を当接さ
せた際の衝撃を一層軽減させることができる。

【００２８】さらに押し付け機構を廃して、プレートホ
ルダ１１の傾斜のみでプレート２をプリアライメントし
得るようにしたことにより、プリアライメントの際の基
準位置となるプリアライメント基準ピン９Ａ、９Ｂ及び
９Ｃの配置位置を自由に設定することができる。これに
より、プレート２をどのような方向からプリアライメン
ト装置１０内に搬送して載置する場合でも対応すること
ができ、製造ライン上にプリアライメント装置１０を配
置する際の自由度を向上させることができる。

【００２９】以上の構成によれば、チルト駆動部１３及
び１４の上下動によつてプレートホルダ１１を所定の方
向に傾斜させ、この傾斜によつてプレート２を傾斜方向
に自重で滑らせてプリアライメント基準ピン９Ａ、９Ｂ
及び９Ｃに当接させて位置合わせするようにしたことに
より、簡易な構成でプレート２のプリアライメントを行
うことができ、プレート２がプリアライメント基準ピン
９Ａ、９Ｂ及び９Ｃに当接する際の衝撃を極力低下させ
て傷及びクラツクの発生を防止し得、さらに製造ライン
上に配する際の自由度を向上させ得るプリアライメント
装置１０を実現することができる。

【００３０】なお上述の実施例においては、液晶基板を
製造する際に用いられる露光装置内に設けられるプリア
ライメント装置１０に適用した場合について述べたが、
本発明はこれに限らず、例えば同様にプリアライメント
を行う検査装置に適用してもよく、プリアライメントす
る必要のある装置であればどのようなものに適用した場
合でも実施例と同様の効果を得ることができる。

【００３１】また上述の実施例においては、矩形形状で
なるプレート２をプリアライメントする場合について述
べたが、本発明はこれに限らず、例えば円形状でなるウ
エハをプリアライメントする場合に用いても良い。但
し、この場合、ウエハにはオリエンテーシヨン・フラツ
ト（Orientation Flat）が形成されている必要があり、
まずこれをプリアライメント基準ピン９Ａ及び９Ｂに当
接させて位置合わせを行う。この後、プリアライメント
基準ピン９Ａ及び９Ｂをガイドにしてウエハを滑らせ
て、ウエハの円周部をプリアライメント基準ピン９Ｃに
当接させる。このように、プリアライメント基準ピン９
Ａ及び９Ｂによつて少なくとも一辺の位置合わせができ
れば、結果として３点で位置合わせをすることができ、
ウエハをプリアライメントすることができる。

【００３２】また上述の実施例においては、プレートホ
ルダ１１の所定の一辺に設けられた突出部１１Ａとピボ
ツト部１２との係合部を支点とし、この所定の一辺に対
向する他方の一辺の両端位置に設けられた突出部１１Ｂ
及び１１Ｃとチルト駆動部１３及び１４との係合部を力
点として、プレートホルダ１１を傾斜させる場合につい
て述べたが、本発明はこれに限らず、例えば下面からス
テージを軸支すると共にステージを上下方向に駆動し又
全方向に自在に傾斜させるチルト機構を設けるようにし
てもよく、この場合も実施例と同様の効果を得ることが
できる。この場合、プレートホルダの周辺に配していた
構成が占めていた部分にレーザ干渉計等の他の構成を配
置することができ、配置上での自由度を向上させること
ができる。

【００３３】さらに上述の実施例においては、プリアラ
イメント基準ピン９Ａ、９Ｂ及び９Ｃを用いて３点でプ
レート２の位置合わせを行う場合について述べたが、本
発明はこれに限らず、例えば図１との対応部分に同一符
号を付して示す図４に示すように、プリアライメント基
準ピンを５か所に設けるようにしてもよい。すなわち、
Ｘ方向にプレート２の長辺が平行となるように載置する
場合にプレート２を当接させるものとして、プリアライ
メント基準ピン９Ａを共用ピンとすると共に、プリアラ
イメント基準ピン９Ｄ及び９Ｅを設ける。Ｙ方向にプレ
ート２の長辺が平行となるように載置する場合は、上述
の実施例のようにプリアライメント基準ピン９Ａ〜９Ｃ
を用いて位置合わせを行い、Ｘ方向にプレート２の長辺
が平行となるように載置する場合は、プリアライメント
基準ピン９Ａとプリアライメント基準ピン９Ｄ及び９Ｅ
を用いて位置合わせを行うようにする。これにより、プ
レート２がどのような方向でプレートホルダ１１に載置
された場合においても対応して位置合わせを行うことが
できる。

【００３４】

【発明の効果】上述のように本発明によれば、感光基板
が載置されるプレートステージと、プレートステージを
所望の方向に傾斜させるプレートステージ傾斜手段とを
設け、またプレートステージの載置面上にプリアライメ
ント基準位置として基準ピンを設け、さらにプレートス
テージの傾斜方向を制御して感光基板を基準ピンの方向
に滑らせて当接させることで位置合わせを行う制御手段
を設けるようにし、プレートステージを傾斜させて感光
基板を滑らせることで基準ピンに当接させて位置合わせ
するようにしたことにより、感光基板の自重を用いて位
置合わせすることができ、これによつて複雑な構成を設
けること無く感光基板を位置合わせし得ると共に感光基
板に過剰な力が加わることを防止でき、かくするにつき
簡易な構成で、感光基板に損傷が生じることを防止し得
るプリアライメント装置及びプリアライメント方法を実
現し得る。

【図面の簡単な説明】

【図１】実施例によるプリアライメント装置の構成を示
す斜視図である。

【図２】プレートホルダの突出部とピボツト部及びチル
ト駆動部との係合部の構造を説明するために供する側面
図である。

【図３】実施例によるプリアライメントの手順を示すた
めに供する平面図である。

【図４】プレートの載置方向に係わらないプリアライメ
ント基準ピンの配置を示す平面図である。

【図５】従来のプリアライメント装置の構成を示す斜視
図である。

【符号の説明】

１、１０……プリアライメント装置、２……プレート、
３……ステージ、４、１１……プレートホルダ、５……
空圧制御装置、６、１５……ステージ制御装置、７Ａ、
７Ｂ……駆動部、８Ａ、８Ｂ……押し付けピン、９Ａ、
９Ｂ、９Ｃ、９Ｄ、９Ｅ……アライメント基準ピン、１
１Ａ、１１Ｂ、１１Ｃ……突出部、１２……ピボツト
部、１３、１４……チルト駆動部。

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.⁶ 識別記号 庁内整理番号 ＦＩ 技術表示箇所 Ｈ０５Ｋ 3/00 Ｈ０１Ｌ 21/68 Ｇ // Ｈ０１Ｌ 21/68 21/30 ５２０Ａ

Claims (6)

【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】矩形形状の感光基板に露光処理を施す前
   に、該感光基板を所定の露光位置にプリアライメントす
   るプリアライメント装置において、 前記感光基板が載置されるプレートステージと、 前記プレートステージの載置面上にプリアライメント基
   準位置として設けられた基準ピンと、 前記プレートステージを所望の方向に傾斜させるプレー
   トステージ傾斜手段と、 前記プレートステージ傾斜手段を制御して前記プレート
   ステージを前記基準ピンの方向に傾斜させて前記感光基
   板を滑らせることにより、該感光基板を前記基準ピンに
   当接させて位置合わせを行う制御手段とを具えることを
   特徴とするプリアライメント装置。
2. 【請求項２】前記プレートステージは、 空圧を用いて前記プレートと前記載置面との間の摩擦力
   を低下させることを特徴とする請求項１に記載のプリア
   ライメント装置。
3. 【請求項３】前記基準ピンは、 前記プリアライメント基準位置として設けられた、少な
   くとも３つの凸部でなり、 前記３つの凸部によつて前記感光基板の位置合わせをす
   る場合、第１及び第２の前記凸部に前記感光基板の第１
   の辺を当接させると共に、第３の前記凸部に前記第１の
   辺に隣接する第２の辺を当接させることを特徴とする請
   求項１に記載のプリアライメント装置。
4. 【請求項４】前記プレートステージ傾斜手段は、 前記プレートステージを支持すると共に前記プレートス
   テージを傾斜させる際の支点となる支持部と、 前記プレートステージを支持すると共に前記プレートス
   テージを上下方向に駆動する第１及び第２の駆動手段と
   を具え、 前記第１及び第２の駆動手段をそれぞれ上下動すること
   により、前記支持部を支点として前記プレートステージ
   を所望の方向に傾斜させることを特徴とする請求項１に
   記載のプリアライメント装置。
5. 【請求項５】矩形形状の感光基板に露光処理を施す前
   に、該感光基板を所定の露光位置にプリアライメントす
   るプリアライメント方法において、 プレートステージの載置面上に載置された前記感光基板
   に空圧を与えて、該感光基板と前記載置面との間の摩擦
   力を低下させ、 前記プレートステージを所定の方向に傾斜させて前記感
   光基板を傾斜方向に滑らせ、 プリアライメント基準位置として設けられている基準ピ
   ンに前記感光基板を当接させて位置合わせし、 前記位置合わせが完了した前記感光基板を吸引して前記
   載置面上で吸着保持することを特徴とするプリアライメ
   ント方法。
6. 【請求項６】前記基準ピンは、 少なくとも３つの凸部でなり、 まず前記プレートステージを第１及び第２の前記凸部の
   方向に傾斜させることにより前記感光基板を滑らせて該
   感光基板の第１の辺を前記第１及び第２の凸部に当接さ
   せ、 次に前記プレートステージを第３の前記凸部の方向に傾
   斜させることにより前記感光基板を滑らせて該感光基板
   の第１の辺に隣接する第２の辺を前記第３の凸部に当接
   させ前記感光基板を位置合わせすることを特徴とする請
   求項５に記載のプリアライメント方法。