JPH01192117A - レジスト処理装置及びレジスト処理方法 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 〔発明の目的〕 （産業上の利用分野） 本発明は、半導体ウェハの露光装置に関する。

（従来の技術） 半導体製造において、半導体ウェハの表面にフォトレジ
スト膜を形成して配線等のパタ″−ニングが行われてい
る。そして、上記フォトレジスト膜は一般に半導体ウェ
ハを回転させながらレジスト液を滴下して塗布するスピ
ンナー法にて、塗布形成される。

ところで、上記半導体ウェハの外周部分に存在するレジ
スト膜は、例えば、半導体ウェハの搬送中に機械的に破
壊されたりしてゴミとして飛散する可能性があるので、
半導体チップの収率に影響を与えない部分をレジストの
塗布現像工程で予め除去しておくのが望ましい。

上記レジストの除去について、例えば特開昭５８−１５
９５３５、　特開昭５９−１３８３３５、特開昭６１−
７３３３０号公報等にて開示された装置がある。

（発明が解決しようとする課題） しかしながら、上記開示された装置は、レジスト膜の露
光用光源を半導体ウェハの外周部に固定配置し、上記半
導体ウェハを回転して外周部を露光する構成であるため
、半導体ウェハのオリエンテーションフラットと呼称さ
れる切り欠は部分を露光することができず。したがって
この部分のレジスト膜を除去す、ることはできない。

本発明は上記従来事情に対処してなされたもので、半導
体ウェハの外周部全域に渡り露光可能な半導体ウェハの
露光装置を提供しようとするものである。

〔発明の構成〕

（課題を解決するための手段） すなわち本発明は、半導体ウェハを保持回転する回転機
構と、上記半導体ウェハに形成されたレジスト膜の周辺
に沿って露光用光源を移動する移動機構を備えたことを
特徴とする。

（作　用） 本発明半導体ウェハの露光装置では、半導体ウェハを回
転し、また露光用光源を移動することができるので、半
導体ウェハのオリエンテーションフラット部分をも露光
できる。

（実施例） 以下１本発明半導体ウェハの露光装置の一実施例を図面
を参照して説明する。

基台のには、半導体ウェハ■を吸着保持するチャック■
を備え、このチャック■をモータ等により回転すること
により上記半導体ウェハ■を回転する回転機構に）が取
着されている。

また、この回転機構に）の近傍には、半導体ウェハ■に
形成されたレジスト膜■を露光するための露光用光源例
えば光ファイバー０を横（Ｘ）方向および縦（Ｙ）方向
に移動する移動機構ユが基台■に取着されている。

この移動機構ユは、基台■に取着されたモータ■等の回
転装置によって回転されるボールスクリュー■に嵌合し
、かつ摺動可能に貫通したガイドシャフト（１０）等に
より支持され、上記ボールスクリュー■を回転すること
により縦（Ｙ）方向に移動可能に構成された移動台（１
１）と、この移動台（１１）に取着されたモータ（１２
）等の回転装置によって回転されるボールスクリュー（
１３）に嵌合し、このボールスクリュー（１３）を回転
することにより横（Ｘ）方向に移動可能であり、かつ露
光用の光ファイバー０を保持する保持部材（１４）等か
ら構成され、光ファイバー■をＸＹ力方向移動可能に構
成されている。なお、上記モータ■（１２）は、移動制
御機構（図示せず）により所定通りに回転駆動される。

次に、動作を説明する。

先ず、露光すべき半導体ウェハ■を搬送装置（図示せず
）により搬入し、上記半導体ウェハ■を所定の状態例え
ばこの半導体ウェハ■の中心（図示せず）とチャック■
の中心（図示せず）とを一致させ、かつ半導体ウェハ■
のオリエンテーラ１ンフラツト（１５）とＸ方向が平行
となるような状態でチャック■上に載置して保持する。

そして、移動機構Ｑ−のモータ（へ）を回転させて光フ
ァイバー〇を半導体ウェハ■に向ってＹ方向移動させ、
この半導体ウェハ■の外周部分の露光部分（１６）に対
応した所定の位置例えば、オリエンテーションフラット
（１５）の一端部Ｘ方向位置Ａ　（１７）、かつＹ方向
位［Ｂ　（１８）に移動させる。

次に、光ファイバー■を露光可能な状態に点灯し１回転
機構に）を動作させて半導体ウェハ■を上記位置から１
回転させて外周部分の露光部分（１６）のうちオリエン
テーションフラット（１５）以外の部分を先ず露光する
。この後、移動機構ユのモータ（１２）を回転させて光
ファイバー〇をＸ方向に向って例えばオリエンテーショ
ンフラット（１５）の他端部の位ｆｆ１ｉ　Ｃ（１９）
まで移動させて、オリエンテーションフラット（１５）
部分を露光して、露光部分（１６）をすべて露光する。

なお、上記露光の順序は、先にオリエンテーションフラ
ット（１５）部分を露光し、次に外周部分の露光部分（
１６）を露光してもよい。

また、光ファイバー〇の位置は、半導体ウェハ■の搬送
に支障が無ければ当初から位置Ａ　（１７）位ｆ２　Ｂ
　（１８）に位置させておいてもよい。

また、光ファイバー■は、ある半導体ウェハ■の露光が
オリエンテーションフラット（１５）の位置Ｃ（１９）
の位置にて終了した場合、上記光ファイバー〇を位ｆｉ
！　Ａ　（１７）に戻す必要はなく、次の半導体ウェハ
■の露光は上記位置Ｃ（１９）から始めて位置Ａ（１７
）にて終るようにしてもよい。

上記位ＩＩ　Ａ　（１７）　Ｂ　（１８）　Ｃ（１９）
は半導体ウェハ■の大きさに対応して設定するのは言う
までもない。

なお、本発明半導体ウェハの露光装置は、例えば露光用
光源部分をライン型の発光・受光素子等で構成し、露光
幅を一定、つまり遮光量を一定となるように移動機構を
制御駆動することにより。

上記半導体ウェハのみならず、例えば、角状型、楕円型
のものの外周部をも露光することが可能となる。

〔発明の効果〕

上述したように、本発明半導体ウェハの露光装置によれ
ば、半導体ウェハのオリエンテーションフラットの部分
も容易に露光することができる。

【図面の簡単な説明】

第１図は、本発明半導体ウェハの露光装置の一実施例を
示す構成図である。 ２・・・半導体ウェハ、　４・・・回転機構、６・・・
光ファイバー、−７−・・・移動機構、１５・・・オリ
エンテーションフラット、１６・・・露光部分。 第１図 秒□

Claims (1)

【特許請求の範囲】
1. 　半導体ウェハを保持回転する回転機構と、上記半導体
   ウェハに形成されたレジスト膜の周辺に沿って露光用光
   源を移動する移動機構を備えたことを特徴とする半導体
   ウェハの露光装置。