JP2534567B2 - ウエハ周辺露光方法及びウエハ周辺露光装置 - Google Patents
ウエハ周辺露光方法及びウエハ周辺露光装置Info
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- JP2534567B2 JP2534567B2 JP2038386A JP3838690A JP2534567B2 JP 2534567 B2 JP2534567 B2 JP 2534567B2 JP 2038386 A JP2038386 A JP 2038386A JP 3838690 A JP3838690 A JP 3838690A JP 2534567 B2 JP2534567 B2 JP 2534567B2
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Description
【発明の詳細な説明】 ［産業上の利用分野］ この発明は、半導体製造工程で塵の発生原因となるウ
エハ周辺部の不要レジストを現像工程で除去するための
ウエハ周辺露光方法及びウエハ周辺露光装置に関するも
のである。
エハ周辺部の不要レジストを現像工程で除去するための
ウエハ周辺露光方法及びウエハ周辺露光装置に関するも
のである。
［従来の技術］ ICやLSIなどの半導体装置の製造に際しては、微細パ
ターンを形成するにあたって、シリコンウエハなどの表
面にレジストを塗布し、さらに露光、現像を行ってレジ
ストパターンを形成し、このレジストパターンをマスク
にして、イオン注入，エッチング，リフトオフなどの加
工が施される。通常、レジスト膜の塗布はスピンコート
法を用いてウエハの表面全域に塗布される。この塗布に
際しては、膜厚を均一にするためにウエハを回転させな
がら処理を行っている。
ターンを形成するにあたって、シリコンウエハなどの表
面にレジストを塗布し、さらに露光、現像を行ってレジ
ストパターンを形成し、このレジストパターンをマスク
にして、イオン注入，エッチング，リフトオフなどの加
工が施される。通常、レジスト膜の塗布はスピンコート
法を用いてウエハの表面全域に塗布される。この塗布に
際しては、膜厚を均一にするためにウエハを回転させな
がら処理を行っている。
レジスト膜の塗布が終了したウエハは、ウエハの周辺
部を把持しながら搬出される。このとき、把持部分のレ
ジストが剥がれることがある。この剥がれは、ウエハカ
セットなどの収納器の壁に擦れることによっても生じ
る。このような事故が生じた場合には、正しいパターン
を形成できなくなり、歩留りを低下させる。
部を把持しながら搬出される。このとき、把持部分のレ
ジストが剥がれることがある。この剥がれは、ウエハカ
セットなどの収納器の壁に擦れることによっても生じ
る。このような事故が生じた場合には、正しいパターン
を形成できなくなり、歩留りを低下させる。
ウエハ周辺部の不要レジストが塵となって歩留りを低
下させることは、特に、集積回路の高機能化及び微細化
が進みつつある現在、深刻な問題になっている。
下させることは、特に、集積回路の高機能化及び微細化
が進みつつある現在、深刻な問題になっている。
そこで、最近では、パターン形成のための露光工程と
は別に、ウエハ周辺部の不要レジストを現像工程で除去
するために、別途露光を行うウエハ周辺露光法が行われ
ている。このウエハ周辺露光法は、レジストが塗布され
たウエハを回転させながら、ライトガイドファイバで導
かれた光をウエハ周辺部に照射し、環状に露光するもの
である。
は別に、ウエハ周辺部の不要レジストを現像工程で除去
するために、別途露光を行うウエハ周辺露光法が行われ
ている。このウエハ周辺露光法は、レジストが塗布され
たウエハを回転させながら、ライトガイドファイバで導
かれた光をウエハ周辺部に照射し、環状に露光するもの
である。
なお、周辺露光に関する技術は、例えば、特願昭63−
224531号及び特願昭63−277455号に記載がある。
224531号及び特願昭63−277455号に記載がある。
［発明が解決しようとする課題］ しかし、現像工程で除去する必要のあるレジストが形
成されている部分の形状は一様ではない。
成されている部分の形状は一様ではない。
例えば、後の工程で保持部分となる部分の形状や位置
はウエハや保持機構の種類などによって変る。また、ウ
エハは逐次移動型縮小投影露光装置（以下、ステッパと
いう）によって、碁盤の目状に露光されるが、正しく１
チップ分のパターンを描ききれない部分の形状は、１チ
ップの大きさなどのウエハの利用設計などによって様々
に変る。
はウエハや保持機構の種類などによって変る。また、ウ
エハは逐次移動型縮小投影露光装置（以下、ステッパと
いう）によって、碁盤の目状に露光されるが、正しく１
チップ分のパターンを描ききれない部分の形状は、１チ
ップの大きさなどのウエハの利用設計などによって様々
に変る。
すなわち、第３図に示すように、ウエハ１の不要レジ
スト部分1Aが階段状であるにもかかわらず、従来の露光
装置はウエハ周辺部を環状に一定幅に露光しており、第
３図の如く階段状の形状には対処することができない。
無理に行おうとすれば、ウエハのエッジからの幅の大き
い周状の露光をせざるを得ず、必要なレジスト部分まで
露光する結果になる。
スト部分1Aが階段状であるにもかかわらず、従来の露光
装置はウエハ周辺部を環状に一定幅に露光しており、第
３図の如く階段状の形状には対処することができない。
無理に行おうとすれば、ウエハのエッジからの幅の大き
い周状の露光をせざるを得ず、必要なレジスト部分まで
露光する結果になる。
この発明の目的は、ウエハの周縁部の不要レジストを
任意の階段状に露光できるようにしたウエハ周辺露光方
法及びウエハ周辺露光装置を提供することにある。
任意の階段状に露光できるようにしたウエハ周辺露光方
法及びウエハ周辺露光装置を提供することにある。
［課題を解決するための手段］ 上記目的を達成するために、この発明のウエハ周辺露
光方法は、光源からの光を導く光ファイバの出射端をウ
エハ周辺部に対向させて配置し、上記ウエハを静止させ
た状態で、前記出射端をウエハに平行な平面内で互いに
直交する２つの方向へ移動させながらウエハ周辺部を階
段状に露光し、ついで、ウエハを90゜回転させた後に停
止し、前記露光工程を実施し、以後同様の工程を繰り返
してウエハ周辺部の全周を階段状に露光するものであ
る。
光方法は、光源からの光を導く光ファイバの出射端をウ
エハ周辺部に対向させて配置し、上記ウエハを静止させ
た状態で、前記出射端をウエハに平行な平面内で互いに
直交する２つの方向へ移動させながらウエハ周辺部を階
段状に露光し、ついで、ウエハを90゜回転させた後に停
止し、前記露光工程を実施し、以後同様の工程を繰り返
してウエハ周辺部の全周を階段状に露光するものであ
る。
また、この発明のウエハ周辺露光装置は、光源と、出
射端がウエハの周辺部の表面に向かい合わされて設けら
れた光ファイバと、該光ファイバの出射端を前記ウエハ
の表面に平行な平面内で少なくとも互いに直角な２つの
方向に移動させる移動機構と、上記ウエハを回転させる
回転機構と、上記移動機構と上記回転機構を制御する制
御機構を具備し、上記制御機構が、上記ウエハを静止さ
せた状態で、上記制御機構を駆動して前記出射端をウエ
ハに平行な平面内で互いに直交する２つの方向へ移動さ
せながらウエハ周辺部を階段状に露光し、ついで、上記
移動機構を駆動してウエハを90゜回転させた後に停止さ
せ、前記露光工程を実施し、以後同様の工程を繰り返し
てウエハ周辺部の全周を階段状に露光するものである。
射端がウエハの周辺部の表面に向かい合わされて設けら
れた光ファイバと、該光ファイバの出射端を前記ウエハ
の表面に平行な平面内で少なくとも互いに直角な２つの
方向に移動させる移動機構と、上記ウエハを回転させる
回転機構と、上記移動機構と上記回転機構を制御する制
御機構を具備し、上記制御機構が、上記ウエハを静止さ
せた状態で、上記制御機構を駆動して前記出射端をウエ
ハに平行な平面内で互いに直交する２つの方向へ移動さ
せながらウエハ周辺部を階段状に露光し、ついで、上記
移動機構を駆動してウエハを90゜回転させた後に停止さ
せ、前記露光工程を実施し、以後同様の工程を繰り返し
てウエハ周辺部の全周を階段状に露光するものである。
［作用］ 上記した手段によれば、ウエハを静止させた状態で、
光を照射する光ファイバの出射端を、ウエハに平行な平
面内で互いに直交する２つの方向へ移動させることがで
きる。したがってウエハ周縁部のレジストの不要部分が
階段状であっても、必要なレジストを露光させることな
く周辺露光を階段状に行うことが可能になる。
光を照射する光ファイバの出射端を、ウエハに平行な平
面内で互いに直交する２つの方向へ移動させることがで
きる。したがってウエハ周縁部のレジストの不要部分が
階段状であっても、必要なレジストを露光させることな
く周辺露光を階段状に行うことが可能になる。
また、光ファイバの出射端を円形なウエハの周辺のほ
ぼ1/4の範囲に移動させながら露光し、この露光の終了
後、ウエハを90゜回転させた後に停止し、前記露光工程
を実施し、以後同様の工程を繰り返してウエハ周辺部の
全周を階段状に露光しているので、ウエハを静止させた
状態で該ウエハ周縁部のレジストの不要部分をウエハの
全周に渡って階段状に露光する場合に比べて、光ファイ
バの出射端を移動させるための移動機構の移動距離を短
くすることが可能となり、移動機構の構成が簡略化され
装置全体を小型化することができ、また制御の負担を軽
減することができる。
ぼ1/4の範囲に移動させながら露光し、この露光の終了
後、ウエハを90゜回転させた後に停止し、前記露光工程
を実施し、以後同様の工程を繰り返してウエハ周辺部の
全周を階段状に露光しているので、ウエハを静止させた
状態で該ウエハ周縁部のレジストの不要部分をウエハの
全周に渡って階段状に露光する場合に比べて、光ファイ
バの出射端を移動させるための移動機構の移動距離を短
くすることが可能となり、移動機構の構成が簡略化され
装置全体を小型化することができ、また制御の負担を軽
減することができる。
［実施例］ 第１図はこの発明の一実施例であるウエハ周辺露光装
置を示す斜視図である。
置を示す斜視図である。
処理対象のウエハ１は、回転ステージ２に真空吸着さ
れ、この回転ステージ２はモータを備えた駆動機構３に
よって回転駆動される。なお駆動機構３は、制御装置４
によって制御される。
れ、この回転ステージ２はモータを備えた駆動機構３に
よって回転駆動される。なお駆動機構３は、制御装置４
によって制御される。
露光部は、光学系，光ファイバ，及び移動機構から構
成される。光学系は、光源としてのランプ5,このランプ
５の光を集光させて反射する楕円集光鏡6,この楕円集光
鏡６からの光を水平方向へ反射させる反射鏡7,及び反射
鏡７の出射光路に出入可能に配設されるシャッタ８から
成る。
成される。光学系は、光源としてのランプ5,このランプ
５の光を集光させて反射する楕円集光鏡6,この楕円集光
鏡６からの光を水平方向へ反射させる反射鏡7,及び反射
鏡７の出射光路に出入可能に配設されるシャッタ８から
成る。
反射鏡７の集光位置には、照射用光ファイバ９の入射
端9aが配設され、その出射端9bはウエハ１の周辺上に移
動可能に配置される。また、照射用光ファイバ９による
照射光は、照射面に方形に投影されるようにされてい
る。尚、アーム11には、出射端9aと一体に移動可能に設
けられたエッジ検出用のフォトセンサ（不図示）があ
り、このエッジ検出用のフォトセンサからの信号に従っ
て、出射端9bの位置を制御する。
端9aが配設され、その出射端9bはウエハ１の周辺上に移
動可能に配置される。また、照射用光ファイバ９による
照射光は、照射面に方形に投影されるようにされてい
る。尚、アーム11には、出射端9aと一体に移動可能に設
けられたエッジ検出用のフォトセンサ（不図示）があ
り、このエッジ検出用のフォトセンサからの信号に従っ
て、出射端9bの位置を制御する。
照射用光ファイバ９の出射端9bは、移動機構10のアー
ム11に保持されている。アーム11は、移動機構10に設け
られた複数のモータによりＸ−Ｙ方向へ自在に移動可能
に構成されている。
ム11に保持されている。アーム11は、移動機構10に設け
られた複数のモータによりＸ−Ｙ方向へ自在に移動可能
に構成されている。
次に、第１図及び第２図に従って、上記構成の実施例
の動作について説明する。
の動作について説明する。
まず、第１図及び第２図を用いて、ウエハの周辺露光
方法について説明する。
方法について説明する。
制御装置４には、予め被処理物のレジスト不要部分の
幅や長さがデータとしてメモリされている。そして、こ
のメモリから読出したデータにしたがって、制御装置４
は移動機構10のアーム11の移動を制御する。
幅や長さがデータとしてメモリされている。そして、こ
のメモリから読出したデータにしたがって、制御装置４
は移動機構10のアーム11の移動を制御する。
まず、ウエハ１を回転ステージ２上に載置し、真空吸
着する。ついで、前述のフォトセンサによるエッジ検出
を開始しながら、出射端9bを第１図のＹ方向に移動さ
せ、該フォトセンサのON→OFFによってウエハ１のエッ
ジを検出し、出射端9bをエッジから所定距離の周辺部を
露光する位置に配置する。この位置が第２図のａ点を露
光する位置であり、この状態で、シャッタ８を開け（光
路から引き出す）る。これにより、ランプ５の光は照射
用光ファイバ９を介して出射端9bに到達し、ウエハ１上
のａ点からエッジにかけて方形状に照射する。
着する。ついで、前述のフォトセンサによるエッジ検出
を開始しながら、出射端9bを第１図のＹ方向に移動さ
せ、該フォトセンサのON→OFFによってウエハ１のエッ
ジを検出し、出射端9bをエッジから所定距離の周辺部を
露光する位置に配置する。この位置が第２図のａ点を露
光する位置であり、この状態で、シャッタ８を開け（光
路から引き出す）る。これにより、ランプ５の光は照射
用光ファイバ９を介して出射端9bに到達し、ウエハ１上
のａ点からエッジにかけて方形状に照射する。
ついで、ｂ位置に向けて出射端9bから光を照射しなが
らＸ方向へ移動させる。
らＸ方向へ移動させる。
次に、ｂ位置からｃ位置まで、出射端9bから光を照射
しながらＹ方向へ移動させる。
しながらＹ方向へ移動させる。
次に、ｃ位置からｄ位置へ、出射端9bから光を照射し
ながらＸ方向へ移動させる。
ながらＸ方向へ移動させる。
ここで、回転ステージ２を90゜回転させ、ウエハ１を
横向きにさせる。
横向きにさせる。
ついで、前記〜までの作業を繰返し、２度の露光
が終了した時点で、回転ステージ２を90゜回転させる。
が終了した時点で、回転ステージ２を90゜回転させる。
さらに、前記〜を２回繰返して行うことにより、
ウエハ１の周辺部の全周の露光が終了する。
ウエハ１の周辺部の全周の露光が終了する。
なお、シャッタ８は、上記の90゜の回転の際には、パ
ターン形成部100が露光されるのを防止するために、シ
ャッタ８を閉じている。
ターン形成部100が露光されるのを防止するために、シ
ャッタ８を閉じている。
以上のように、露光に際し、回転ステージ２を90゜単
位で回転させる操作を加えることにより、アーム11のＸ
方向及びＹ方向の移動距離を少くすることができ、移動
機構10の構造を簡略化することができる。
位で回転させる操作を加えることにより、アーム11のＸ
方向及びＹ方向の移動距離を少くすることができ、移動
機構10の構造を簡略化することができる。
［発明の効果］ この発明は上記の通り構成されているので、次に記載
する効果を奏する。
する効果を奏する。
すなわち、ウエハを静止させた状態で、光を照射する
光ファイバの出射端を、ウエハに平行な平面内で互いに
直交する２つの方向へ移動させることができ、ウエハ周
縁部のレジストの不要部分が階段状であっても、必要な
レジストを露光させることなく周辺露光を階段状に行う
ことが可能になる。
光ファイバの出射端を、ウエハに平行な平面内で互いに
直交する２つの方向へ移動させることができ、ウエハ周
縁部のレジストの不要部分が階段状であっても、必要な
レジストを露光させることなく周辺露光を階段状に行う
ことが可能になる。
また、光ファイバの出射端を円形なウエハの周辺のほ
ぼ1/4の範囲に移動させながら露光し、この露光の終了
後、ウエハを90゜回転させた後に停止し、前記露光工程
を実施し、以後同様の工程を繰り返してウエハ周辺部の
全周を階段状に露光しているので、ウエハを静止させた
状態で該ウエハ周縁部のレジストの不要部分をウエハの
全周にわたって階段状に露光する場合に比べて、光ファ
イバの出射端を移動させるための移動機構の移動距離を
短くすることが可能となり、移動機構の構成が簡略化さ
れ装置全体を小型化することができ、また制御の負担を
軽減することができる。
ぼ1/4の範囲に移動させながら露光し、この露光の終了
後、ウエハを90゜回転させた後に停止し、前記露光工程
を実施し、以後同様の工程を繰り返してウエハ周辺部の
全周を階段状に露光しているので、ウエハを静止させた
状態で該ウエハ周縁部のレジストの不要部分をウエハの
全周にわたって階段状に露光する場合に比べて、光ファ
イバの出射端を移動させるための移動機構の移動距離を
短くすることが可能となり、移動機構の構成が簡略化さ
れ装置全体を小型化することができ、また制御の負担を
軽減することができる。
第１図はこの発明の一実施例であるウエハ周辺露光装置
を示す斜視図、第２図は、ウエハ周辺露光方法を説明す
るための図、第３図は不要部分が階段状に形成されたウ
エハの平面図である。 図中、 1:ウエハ 2:回転ステージ 3:駆動機構 4:制御装置 5:ランプ 9:照射用光ファイバ 9a:入射端 9b:出射端 10:移動機構 11:アーム
を示す斜視図、第２図は、ウエハ周辺露光方法を説明す
るための図、第３図は不要部分が階段状に形成されたウ
エハの平面図である。 図中、 1:ウエハ 2:回転ステージ 3:駆動機構 4:制御装置 5:ランプ 9:照射用光ファイバ 9a:入射端 9b:出射端 10:移動機構 11:アーム
Claims (2)
- 【請求項１】光源からの光を導く光ファイバの出射端を
ウエハ周辺部に対向させて配置し、 上記ウエハを静止させた状態で、前記出射端をウエハに
平行な平面内で互いに直交する２つの方向へ移動させな
がらウエハ周辺部を階段状に露光し、 ついで、ウエハを90゜回転させた後に停止し、前記露光
工程を実施し、 以後同様の工程を繰り返してウエハ周辺部の全周を階段
状に露光する ことを特徴とするウエハ周辺露光方法。 - 【請求項２】光源と、 出射端がウエハの周辺部の表面に向かい合わされて設け
られた光ファイバと、 該光ファイバの出射端を前記ウエハの表面に平行な平面
内で少なくとも互いに直角な２つの方向に移動させる移
動機構と、 上記ウエハを回転させる回転機構と、 上記移動機構と上記回転機構を制御する制御機構を具備
し、 上記制御機構が、 上記ウエハを静止させた状態で、上記制御機構を駆動し
て前記出射端をウエハに平行な平面内で互いに直交する
２つの方向へ移動させながらウエハ周辺部を階段状に露
光し、 ついで、上記移動機構を駆動してウエハを90゜回転させ
た後に停止させ、前記露光工程を実施し、 以後同様の工程を繰り返してウエハ周辺部の全周を階段
状に露光する ことを特徴とするウエハ周辺露光装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2038386A JP2534567B2 (ja) | 1990-02-21 | 1990-02-21 | ウエハ周辺露光方法及びウエハ周辺露光装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2038386A JP2534567B2 (ja) | 1990-02-21 | 1990-02-21 | ウエハ周辺露光方法及びウエハ周辺露光装置 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH03242922A JPH03242922A (ja) | 1991-10-29 |
| JP2534567B2 true JP2534567B2 (ja) | 1996-09-18 |
Family
ID=12523842
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP2038386A Expired - Fee Related JP2534567B2 (ja) | 1990-02-21 | 1990-02-21 | ウエハ周辺露光方法及びウエハ周辺露光装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP2534567B2 (ja) |
Families Citing this family (5)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| TW316322B (ja) * | 1995-10-02 | 1997-09-21 | Ushio Electric Inc | |
| JP3439932B2 (ja) * | 1996-10-28 | 2003-08-25 | 大日本スクリーン製造株式会社 | 周辺露光装置 |
| KR100257279B1 (ko) * | 1996-06-06 | 2000-06-01 | 이시다 아키라 | 주변노광장치 및 방법 |
| JP3383166B2 (ja) * | 1996-09-10 | 2003-03-04 | 大日本スクリーン製造株式会社 | 周辺露光装置 |
| JP3383169B2 (ja) * | 1996-10-28 | 2003-03-04 | 大日本スクリーン製造株式会社 | 周辺露光装置 |
Family Cites Families (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS6338231A (ja) * | 1986-08-01 | 1988-02-18 | Fujitsu Ltd | レジストマスクの形成方法 |
| JP2668537B2 (ja) * | 1988-01-27 | 1997-10-27 | 東京エレクトロン株式会社 | レジスト処理装置及びレジスト処理方法 |
-
1990
- 1990-02-21 JP JP2038386A patent/JP2534567B2/ja not_active Expired - Fee Related
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPH03242922A (ja) | 1991-10-29 |
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Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20080627 Year of fee payment: 12 |
|
| FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20090627 Year of fee payment: 13 |
|
| LAPS | Cancellation because of no payment of annual fees |