JP3127795B2 - ウエハ周辺露光方法および装置 - Google Patents

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【発明の属する技術分野】本発明は、ＬＳＩ等の各種エ
レクトロニクス素子に用いられる半導体ウエハの周辺部
の所定箇所を選択的に露光するためのウエハ周辺露光方
法および装置に関する。

【０００２】

【従来の技術】ＬＳＩ等の各種エレクトロニクス素子の
製造工程においては、半導体ウエハの表面にレジストを
塗布し、露光、現像を行いレジストパターンを形成する
ことが行われている。上記レジストの塗布は、通常、ス
ピンコート法によって行われる。スピンコート法はウエ
ハ表面の中心位置にレジストを注ぎながらウエハを回転
させ、遠心力によってウエハの全表面にレジストを塗布
するものである。

【０００３】しかし、加工に利用されるのはウエハ表面
全域ではなく、搬送や処理台への固定のため周辺部の全
周あるいは一部は保持に利用される。通常、エッチング
等の処理における搬送、固定方法としては、ウエハ周辺
部をクランプするメカニカル方式が採用されている。と
ころで、レジストがポジ型レジストの場合、パターン形
成のための露光工程を経ても、パターン形成に利用され
ない周辺部のレジストは残留する。

【０００４】このため、ウエハ周辺部をメカニカルにつ
かんだり保持する際、あるいはウエハをウエハカセット
等の収納器に収納する際、ウエハ周辺部がこすれたりす
ることにより、レジストの一部に剥がれが起きて異物が
発生する。上記のようにウエハ周辺部に残留した不要レ
ジストが異物となり、歩留りを低下させる。

【０００５】そこで、従来から、パターン形成の露光工
程とは別にウエハ周辺部を露光し、不要レジストを除去
することが行われている。すなわち、ウエハ周辺部の全
周を一定幅で周状に露光したり（全周露光）、あるい
は、ウエハ保持用の爪が接触する箇所のみを選択的に露
光し（部分露光）、現像工程を経て異物発生の原因とな
る不要レジストを除去するものである。

【０００６】近年においては、ウエハの利用効率の向上
を図るため、できるだけウエハ周辺部ぎりぎりまで利用
したいという要請がある。このため、保持用の爪が接触
する箇所のみを選択的に露光する部分露光が採用される
ようになってきている。図４、図５は従来の周辺露光方
法の概略説明図であり、同図は部分露光を行う場合を示
している。

【０００７】図４において、１はウエハでありウエハ１
は回転ステージ２上に載置、固定されており、回転ステ
ージ駆動機構３により回転ステージ２が回転駆動される
ことにより、ウエハ１は回転する。４は露光光をウエハ
１の周辺部に照射するための出射端であり、出射端４の
内部にはレンズ５が設けられ、また、出射端４の光出口
側には矩形の光透過部を持つ開口部（図示せず）が形成
されている。このため、出射端４より照射される光は矩
形の開口部を介してレンズ５によりウエハ１の表面で結
像し、照射領域の境界がクリアな矩形の光がウエハ１上
に照射される。

【０００８】７は導光ファイバであり、光源９から放射
される露光光がシャッタ８、導光ファイバ７を介して出
射端４に導かれ、出射端４に設けられたレンズ５により
集光されてウエハ１の周辺部に照射される。また、出射
端４は出射端駆動機構６により駆動されて同図の矢印方
向に移動する。

【０００９】また、図５はウエハ周辺部の露光区域を示
す図であり、同図は図４に示したウエハ１を上側から見
た図を示しており、１ａはウエハ１のオリエンテーショ
ンフラット部（以下、オリフラ部という）、θ１、θ
２、θ３はオリフラ部１ａの中心から各露光区域の露光
開始位置までの角度、αは各露光区域の露光長さに相当
した角度、Ｗ１は露光幅である。

【００１０】図４、図５により従来の周辺部露光方法に
ついて説明する。 (1) ウエハ１を回転ステージ２上に載置・固定し、回転
ステージ駆動機構３によりウエハ１を回転させ、図示し
ないセンサによりウエハ１のオリフラ部１ａを検出す
る。そして、検出したオリフラ位置に基づき、ウエハ１
のオリフラ部１ａの中心位置が原点位置にくるように回
転ステージ２を回転させる。 (2) ついで、回転ステージ駆動機構３により上記原点位
置からウエハ１を図５に示すように角度θ１だけ回転さ
せ停止させる。 (3) 図４に示した出射端駆動機構６により出射端４を予
め定められた露光幅Ｗ１だけ露光する位置に移動させ、
シャッタ８を開く。これにより、光源９が放射する露光
光が導光ファイバ７を介して出射端４に導かれ、図５に
示すように出射光がウエハ１のＰ１の位置に照射され
る。 (4) 予め定められた露光区域の円周方向の長さに対応す
る角度αだけ、回転ステージ２を回転させ、ウエハ１の
周辺部を露光する。その際、出射端４は常に予め定めら
れた露光幅Ｗ１だけ露光するような位置に維持される。 (5) 露光区域の終点まで回転ステージ２が回転したら、
ウエハ１の回転を停止させる。このとき、出射光は図５
のＰ２の位置となる。 (6) シャッタ８を閉じ、ウエハ１上への露光光の照射を
停止する。 (7) 図５に示すように、回転ステージ２を原点位置から
角度θ２まで回転させ、ウエハ１上の次の露光区域を出
射端４の光照射位置まで移動させる。 (8) シャッタ８を開き、上記(3）〜(6) と同様、回転ス
テージ２を回転させ、ウエハ１上の次の露光区域を露光
する。 (9) 上記と同様に、回転ステージ２を原点位置から角度
θ３まで回転させ、ウエハ１上の次の露光区域を露光す
る。 (10)所定の露光区域の露光が終了したら、出射端移動機
構６により出射端４を退避させる。

【００１１】

【発明が解決しようとする課題】図６は上記した従来の
方法によりウエハ周辺部を露光した際のウエハ周辺部の
露光量を示す図である。同図はウエハ１の周辺部の露光
領域を直線に展開して示したものであり、同図（ａ）は
ウエハ１の周辺部の露光量を示し、（ｂ）はウエハ１と
出射光の位置関係を示し、また、（ｃ）は回転ステージ
２の速度を示しており、１ｂはウエハ１のエッジ、１ｃ
は露光区域、Ｗ１は露光幅、Ｗ２は出射光のウエハ周方
向の照射幅である。

【００１２】前記したように、ウエハ１が回転し露光開
始位置に出射端４が達すると〔図６（ｂ）の位置Ｐ
１〕、出射端４を露光位置に移動させシャッタ８を開き
露光を開始するとともに、ウエハ１を回転させる。この
ときのウエハ１上の露光量は図６（ａ）に示すようにな
る。すなわち、シャッタ８が開くとともに回転ステージ
が回転するので、同図（ｂ）の位置Ｐ１ａにおける照射
時間は短く、露光量は極めて少ない。これに対し、位置
Ｐ１ｂは出射端が通過する期間、露光されるので露光量
は多くなる。また、回転ステージ２の速度は、同図
（ｃ）に示すように上昇する。このため、速度が上昇す
るにしたがって単位面積当たりの露光量は減少し、露光
区域の端部の露光量は同図（ａ）に示すように上側に凸
の曲線となる。

【００１３】同様に、出射光の位置が露光終了位置Ｐ２
に達したとき、シャッタ８が閉じるので、露光時間の短
い位置Ｐ２ｂの露光量は極めて少なく、露光時間の長い
位置Ｐ２ａの露光量は多くなる。また、回転ステージ２
の速度は、同図（ｃ）に示すように下降するので、露光
区域の端部の露光量は同図（ａ）に示すように上側に凸
の曲線となる。

【００１４】ところで、フォトレジストには、それぞれ
適切な露光量範囲が存在する。露光量の下限は、現像後
のレジスト残留がない露光量であり、露光量の上限は、
レジストと紫外線の反応による発泡が発生しない露光量
である。従来の周辺露光方法においては、図６（ａ）に
示すように、露光開始位置と露光終了位置の露光量が極
めて少なくなり、必要最小露光量を下まわる部分が生じ
る〔図６（ａ）のＡ部分〕。

【００１５】このため、図７に示すように、露光開始位
置と露光終了位置にテーパ状のレジストが残留する。こ
のようなレジスト残留が発生すると、レジスト剥がれが
起き易く、異物が発生し易い。本発明は上記した従来技
術の問題点を考慮してなされたものであり、本発明の目
的は、レジスト残留による異物の発生を防止することが
できるウエハ周辺露光方法および装置を提供することで
ある。

【００１６】

【課題を解決するための手段】本発明は次のようにして
上記課題を解決する。 （１）ウエハを載置したステージを回転させ、オリエン
テーションフラットを基準として上記ステージの回転角
度を検出し、検出した角度が露光区域の露光開始位置に
当たる角度になったとき、上記ステージの回転を停止さ
せる。 （２）露光光を出射する出射端を、退避位置からステー
ジの回転中心方向に向けて、予め定められた露光幅に基
づく所定位置まで移動させる。 （３）ステージの回転を停止させたまま、露光光をウエ
ハ上に所定時間照射する。所定時間経過後、予め設定さ
れた露光幅に基づき上記出射端のウエハ径方向の位置を
制御しながら、上記ステージを回転させる。 （４）上記ステージの回転角度が露光区域の露光終了位
置にあたる角度になったとき、ステージの回転を停止さ
せ、ステージの回転を停止させたまま、露光光をウエハ
上に所定時間照射する。所定時間経過後、露光光の出射
を停止するとともに、上記ステージをその回転角度が次
の露光区域の露光開始位置に当たる角度まで回転させて
停止させる。 （５）ウエハ上の全ての露光区域の露光が終了するま
で、上記の処理を繰り返し、全ての露光区域の露光が終
了したとき、出射端を退避させる。

【００１７】本発明の請求項１および請求項２の発明に
おいては、上記（３）（４）のように、ステージの角度
が露光開始位置に当たる角度のときおよび露光終了位置
に当たる角度のとき、ステージを停止させてウエハ上に
所定時間露光光を照射しているので、上記ステージを停
止させてウエハ上に露光光を照射する時間を適切に制御
することにより、露光開始位置と露光終了位置の露光量
を必要最小露光量以上とすることができる。

【００１８】このため、前記図７に示したように露光開
始位置と露光終了位置にテーパ状のレジストが残留する
ことがなく、異物の発生による歩留りの低下を防止する
ことができる。

【００１９】

【発明の実施形態】図１は本発明の実施例のウエハ周辺
露光装置の構成を示す図である。同図において、１はウ
エハ、２は回転ステージ、３は回転ステージを駆動する
回転ステージ駆動機構、１４は回転ステージの回転角度
を読み取る回転角度読取機構である。

【００２０】４は露光光をウエハ１の周辺部に照射する
ための出射端であり、前記したように、出射端４の内部
にはレンズ５が設けられ、また、出射端４の光出口側に
は矩形の光透過部を持つ開口部（図示せず）が形成され
ており、ウエハ１上には照射領域の境界がクリアな矩形
の光が照射される。７は導光ファイバであり、光源９か
ら放射される露光光がシャッタ８、導光ファイバ７を介
して出射端４に導かれ、出射端４に設けられたレンズ５
により集光されてウエハ１の周辺部に照射される。ま
た、シャッタ８はシャッタ駆動機構１１により駆動され
る。

【００２１】１０は露光ユニットであり、露光ユニット
１０はウエハ１に対して、その法線方向に移動可能に構
成されており、出射端４は露光ユニット１０上に露光ユ
ニットに対してウエハ１のエッジの法線方向に相対的に
移動可能に取り付けられている。そして、出射端４は出
射端駆動機構６により駆動され、露光ユニット１０は露
光ユニット駆動機構１２により駆動され、また、露光ユ
ニット１０の位置が露光ユニット位置検出機構１３によ
り検出される。

【００２２】また、露光ユニット１０には発光素子１０
ａと、発光素子１０ａが放射する光を受光する受光素子
１０ｂが取り付けられており、発光素子１０ａと受光素
子１０ｂによりウエハエッジを検出し、後述するように
露光ユニット１０をウエハエッジをトレースするように
移動させる。１５はシステムコントローラであり、シス
テムコントローラ１５は露光ユニット制御手段１５ａ、
回転ステージ制御手段１５ｂ、出射端制御手段１５ｃ、
シャッタ制御手段１５ｄ、タイマ手段１５ｅを含み、回
転ステージ２、出射端４、シャッタ８、露光ユニット１
０を制御する。

【００２３】図１において、露光ユニット１０と出射端
４は次のように制御される（なお、露光ユニット１０と
出射端４の移動制御については、本出願人が先に提案し
た特開平３−１０８３１６号公報等に開示されているの
で、参照されたい）。発光素子１０ａが放射する光は受
光素子１０ｂにより受光されシステムコントローラ１５
の露光ユニット制御手段１５ａに送られる。露光ユニッ
ト制御手段１５ａは受光素子１０ｂが光を受光している
ときには、露光ユニット駆動手段１２により露光ユニッ
ト１０をウエハ１の中心方向に前進させる。また、発光
素子１０ａから放射される光がウエハ１のエッジで遮ら
れると、露光ユニット１０を後退させる。

【００２４】このため、露光ユニット１０はウエハの固
定位置、形状に係わらず、ウエハ１のエッジをトレース
するように移動し、ウエハエッジに対して所定の位置関
係を保持する。ここで、出射端４は前記したように露光
ユニット１０に対してウエハ１の法線方向に相対的に移
動可能に取り付けられているので、露光ユニット１０に
対する出射端４の位置を制御することにより出射端４の
位置をウエハ１のエッジに対して所定の位置関係に制御
することができる。

【００２５】システムコントローラ１５の出射端制御手
段１５ｃは、上記のように露光ユニット１０に対する出
射端４の相対位置を制御し、ウエハ周辺露光時、ウエハ
１の周辺部を所定の露光幅で露光させる。図２は本発明
の実施例の動作を示す処理フローであり、同図および前
記した図５を参照しながら本実施例におけるウエハ周辺
露光について説明する。 (1) システムコントローラ１５にウエハ１のオリフラ部
１ａを基準にした各露光区域までの回転角θ１，θ２，
θ３，…、露光区域の円周方向の長さに相当する角度
α、露光幅Ｗ１を記憶させる（図２のステップＳ１）。 (2) システムコントローラ１５の回転ステージ制御手段
１５ｂは、回転ステージ駆動機構３により回転ステージ
２を回転させる。 (3) 露光ユニット制御手段１５ａは、受光素子１０ｂが
出力するセンサ信号を受信し、露光ユニット駆動機構１
２により、ウエハ１のエッジをトレースするように露光
ユニット１０を動かす。

【００２６】また、このとき、回転角度読取機構１４に
より回転ステージ２の回転角度を読み取るとともに、露
光ユニット位置検出機構１３により露光ユニット１０の
位置を検出し、システムコントローラ１５に送る。 (4) システムコントローラ１５は露光ユニット位置検出
機構１３と回転角度読取機構１４の出力を演算処理して
オリフラ部１ａの位置（角度）を検出する（図２のステ
ップＳ２）。 (5) 回転ステージ制御手段１５ｂは、検出したオリフラ
部１ａの中心位置が原点位置にくるように回転ステージ
駆動機構３により回転ステージ２を回転させる（図２の
ステップＳ３）。 (6) 回転ステージ制御手段１５ｂは、回転角度読取機構
１４により検出される回転ステージ２の回転角度に基づ
き、回転ステージ駆動機構３により回転ステージ２を上
記原点位置から予め記憶しておいた角度θ１だけ回転さ
せ、停止させる（図２のステップＳ４）。 (7) 出射端制御手段１５ｃは出射端駆動機構６により出
射端４をウエハ１のエッジの法線方向に駆動して、予め
記憶しておいた露光幅Ｗ１だけ露光する位置に移動させ
る（図２のステップＳ５）。 (8) シャッタ制御手段１５ｄはシャッタ駆動機構１１に
よりシャッタ８を駆動して、シャッタ８を開く（図２の
ステップＳ６）。

【００２７】これにより、光源９が放射する露光光は導
光ファイバ７を介して出射端４に導かれ、ウエハ１の最
初の露光区域の露光開始位置が露光される。 (9) タイマ手段１５ｅにより設定される時間だけ、回転
ステージ制御手段１５ｂは、回転ステージ２の回転を停
止させる（図２のステップＳ７）。 (10)回転ステージ制御手段１５ｂは予め記憶された露光
区域の円周方向の長さに相当する角度αだけ、回転ステ
ージ駆動機構３により回転ステージ２を回転させる（図
２のステップＳ８）。

【００２８】このとき、露光ユニット１０はウエハ１の
エッジをトレースしているので、出射端４は常に露光幅
Ｗ１だけ露光するような位置に保持され、ウエハ１の最
初の露光区域が露光される。なお、回転ステージ２が回
転しているとき出射端４の位置を変化させたり、あるい
は、露光区域毎に出射端の位置を変えることにより、露
光幅を部分的に変えることもできる。 (11)露光区域の終点位置まで回転ステージ２が回転した
ら、回転ステージ制御手段１５ｂは回転ステージ２を停
止させ、タイマ手段１５ｅにより設定される時間だけ、
回転ステージ２の停止状態を保持する（図２のステップ
Ｓ９）。 (12)シャッタ制御手段１５ｄはシャッタ駆動機構１１に
よりシャッタ８を駆動してシャッタ８を閉じる（図２の
ステップＳ１０）。 (13)全ての露光区域の露光が終了したかを判別し（図２
のステップＳ１１）、終了していない場合には、ステッ
プＳ１２に行き、回転ステージ制御手段１５ｂは、回転
ステージ駆動機構３により回転ステージ２を駆動し、回
転ステージ２の原点位置からの角度が予め記憶しておい
た角度θ２になるように回転させ、停止させる。 (14)ステップＳ６からステップＳ１２の処理を全ての露
光区域の露光が終了するまで繰り返す。 (15)全ての露光区域の露光が終了したら、出射端制御手
段１５ｃは出射端４を退避させ（図２のステップＳ１
３）、終了する。

【００２９】図３は本実施例によるウエハ周辺部の露光
量を示す図である。図６と同様、同図はウエハ１の周辺
部の露光領域を直線に展開して示したものであり、同図
（ａ）はウエハ１の周辺部の露光量を示し、（ｂ）はウ
エハ１と出射光の位置関係を示し、また、（ｃ）は回転
ステージ２の速度を示しており、１ｂはウエハ１のエッ
ジ、１ｃは露光区域、Ｗ１は露光幅、Ｗ２は出射光のウ
エハ周方向の照射幅である。

【００３０】本実施例においては、上記のように、ウエ
ハ１が回転し露光開始位置に出射端４が達すると〔図３
（ｂ）の位置Ｐ１〕、出射端４を露光位置に移動させシ
ャッタ８を開き露光を開始するとともに、その位置に所
定時間待機させている。このため、ウエハ１上の露光量
は図３（ａ）に示すようになる。すなわち、シャッタ８
を開いたのち回転ステージ２を待機させているので、所
定時間、同図（ｂ）の位置Ｐ１ａに露光光を照射するこ
とができ、同図（ａ）に示すように、位置Ｐ１における
露光量を必要最小露光量以上とすることができる。

【００３１】同様に、出射光の位置が露光終了位置に達
したとき、回転ステージ２を所定時間待機させたのち、
シャッタ８を閉じているので、所定時間、同図（ｂ）の
位置Ｐ２ｂに露光光を照射することができ、同図（ａ）
に示すように、位置Ｐ２における露光量を必要最小露光
量以上とすることができる。ところで、本実施例におい
ては、露光区域の露光開始位置Ｐ１と露光終了位置Ｐ２
で回転ステージ２を所定時間待機させているので、図３
（ａ）に示すように、位置Ｐ１とＰ２における露光量が
露光区域の他の部分より大きくなる。前記したように、
露光量が上限値より大きくなると、レジストと紫外線の
反応による発泡が発生する等の問題が生ずる。このた
め、露光量の最大値は、出来るだけ低く抑えるのが望ま
しい。

【００３２】上記露光量の最大値は、回転ステージ２の
速度の立ち上がり／立ち下がり時間に依存する。例え
ば、回転ステージ２の速度の立ち上がり時間を図３
（ｃ）の点線で示すように短くすると、露光量は同図
（ａ）の点線に示すようになり、露光量の最大値を低く
抑えることができる。これは、回転ステージ２の速度が
遅いと、長時間、露光光がウエハに照射されることとな
るからであり、回転ステージ２の速度が遅い期間をでき
るだけ短くすることにより、露光量の最大値を低く抑え
ることができる。

【００３３】そこで、本実施例においては、回転ステー
ジ駆動機構３の出力をできるだけ大きくして、回転ステ
ージ２の速度の立ち上がり時間を短くし、露光量の最大
値をその上限値以内に抑えている。以上のように、本実
施例においては、露光開始位置と露光終了位置で所定時
間回転ステージを待機させているので、露光区域の両端
部の露光量を必要最小露光量以上とすることができ、レ
ジストの残留による異物の発生を防止することができ
る。

【００３４】なお、上記実施例では、部分露光について
説明したが、本発明をウエハ周辺部の全周を一定幅で周
状に露光する全周露光（露光開始位置と露光終了位置が
重ならない場合）に適用し、全周露光における露光開始
位置と露光終了位置で回転ステージを所定時間待機さ
せ、必要な露光量を確保するようにしてもよい。また、
上記実施例においては、出射端４が最初の露光区域に達
したとき、出射端４を露光開始位置まで移動させたのち
シャッタ８を開き、また、出射端４が最後の露光終了位
置に達したとき、シャッタ８を閉じたのち、出射端４を
退避させるようにしているが、まずシャッタ８を開き、
ついで、出射端４を露光開始位置まで移動させ、また、
出射端４を退避させたのち、シャッタ８を閉じるように
してもよい。この場合には、出射端４がウエハに対して
法線方向に移動しているとき、シャッタ８が開いている
ので、ウエハエッジに近い部分程、露光量が多くなる
が、露光開始位置あるいは露光終了位置の両端部のウエ
ハエッジから離れた部分の露光量は、ウエハエッジに近
い部分より小さくなり、この部分の露光量を必要最小露
光量以上とすることができる。

【００３５】

【発明の効果】以上説明したように、本発明において
は、ステージの角度が露光開始位置に当たる角度のとき
および露光終了位置に当たる角度のとき、ステージを停
止させてウエハ上に所定時間露光光を照射しているの
で、上記ステージを停止させてウエハ上に露光光を照射
する時間を適切に制御することにより、露光開始位置と
露光終了位置の露光量を必要最小露光量以上とすること
ができる。

【００３６】このため、露光開始位置と露光終了位置に
テーパ状のレジストが残留することがなく、異物の発生
による歩留りの低下を防止することができる。

【図面の簡単な説明】

【図１】本発明の実施例のウエハ周辺露光装置の構成を
示す図である。

【図２】本発明の実施例の動作を示す処理フローであ
る。

【図３】本発明の実施例によるウエハ周辺部の露光量を
示す図である。

【図４】従来の周辺露光方法の概略説明図である。

【図５】従来の周辺露光方法の概略説明図である。

【図６】従来の方法によるウエハ周辺部の露光量を示す
図である。

【図７】従来の方法により露光した場合の残留レジスト
の状態を示す図である。

【符号の説明】

１ ウエハ １ａ オリエンテーションフラット部 １ｂ ウエハエッジ １ｃ 露光区域 ２ 回転ステージ ３ 回転ステージ駆動機構 ４ 出射端 ５ レンズ ６ 出射端駆動機構 ７ 導光ファイバ ８ シャッタ ９ 光源 １０ 露光ユニット １０ａ 発光素子 １０ｂ 受光素子 １１ シャッタ駆動機構 １２ 露光ユニット駆動機構 １３ 露光ユニット位置検出機構 １４ 回転角度読取機構 １５ システムコントローラ １５ａ 露光ユニット制御手段 １５ｂ 回転ステージ制御手段 １５ｃ 出射端制御手段 １５ｄ シャッタ制御手段 １５ｅ タイマ手段 Ｗ１ 露光幅 Ｗ２ 出射光のウエハ周方向の照射幅

Claims (2)

(57)【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】 周縁にオリエンテーションフラット等の
   特異点を有し、ポジ型レジストが塗布されたウエハの周
   辺部を露光するウエハ周辺露光方法において、(1) ウエ
   ハを載置したステージを回転させ、(2) 検出された上記
   特異点を基準として上記ステージの回転角度を検出し、
   検出した角度が露光区域の露光開始位置に当たる角度に
   なったとき、上記ステージの回転を停止させ、(3) 露光
   光を出射する出射端を、退避位置からステージの回転中
   心方向に向けて、予め定められた露光幅に基づく所定位
   置まで移動させ、(4) ステージの回転を停止させたま
   ま、露光光をウエハ上に所定時間照射し、所定時間経過
   後、予め設定された露光幅に基づき上記出射端のウエハ
   径方向の位置を制御しながら、上記ステージを回転さ
   せ、(5) 上記ステージの回転角度が露光区域の露光終了
   位置にあたる角度になったとき、ステージの回転を停止
   させ、(6) ステージの回転を停止させたまま、露光光を
   ウエハ上に所定時間照射し、所定時間経過後、露光光の
   出射を停止するとともに、上記ステージをその回転角度
   が次の露光区域の露光開始位置に当たる角度まで回転さ
   せて停止させ、(7) ウエハ上の全ての露光区域の露光が
   終了するまで、上記(4),(5),(6) の処理を繰り返し、
   (7) 全ての露光区域の露光が終了したとき、出射端を退
   避させることを特徴とするウエハ周辺露光方法。
2. 【請求項２】 ウエハを載置し回転するステージと、 上記ステージを回転駆動するステージ駆動機構と、 ステージの回転角度を検出するステージ回転角度検出手
   段と、 露光光を出射する出射端と、該出射端から出射される露
   光光の出射／非出射を制御する露光光制御手段と、 上記出射端を、退避位置からステージの回転中心方向に
   向けて移動させる出射端駆動機構と、 上記ステージ回転角度検出手段により検出されたステー
   ジの回転角度に基づき、ステージ駆動機構と出射端駆動
   機構により上記回転ステージの回転角および出射端の移
   動を制御するとともに、露光光制御手段により露光光の
   出射／非出射を制御して、ステージ上に載置されたウエ
   ハ周辺部の所定の区域の露光を制御する制御手段とを備
   えたウエハ周辺露光装置において、 上記制御手段に、ステージの回転角度が露光区域の露光
   開始位置に当たる角度のとき、および、露光区域の露光
   終了位置に当たる角度のとき、回転ステージを所定時間
   停止させるタイマ手段を設け、 上記制御手段は、ステージを回転させ、ステージの角度
   が露光区域の露光開始位置に当たる角度になったとき、
   出射端を予め定められた露光幅に基づく所定位置まで移
   動させ、上記タイマ手段により上記ステージの回転を所
   定時間停止させ、露光光をウエハ上に所定時間照射し、
   所定時間後、露光光をウエハ上に照射したまま、上記ス
   テージを回転させるとともに、上記露光幅に基づき上記
   出射端のウエハ径方向の位置を制御し、 上記ステージの回転角度が露光区域の露光終了位置にあ
   たる角度になったとき、上記タイマ手段により上記ステ
   ージの回転を所定時間停止させ、露光光をウエハ上に所
   定時間照射し、所定時間後、露光光の出射を停止するこ
   とを特徴とするウエハ周辺露光装置。