TW477005B - Contact exposure device provided with a mask and workpiece interval setting means - Google Patents

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經濟部智慧財產局員工消費合作社印製 477005 A7 ---- B7 五、發明說明（1 ) 【發明所屬之技術領域】 於半導體裝置、液晶基板、微機械等需要微細尺寸力口 工之種種電子零件等之製造時，因在工件上形成各種電子 元件等，將透過光罩之光線照射於工件上，進行在工件上 曝光光罩圖案之製程。於上述曝光方式之中，具有使光罩 與工件密貼將光罩圖案轉印於工件上之接觸曝光。 本發明係關於在此種接觸曝光製程所使用之接觸曝光 裝置，尤其，如將聚亞胺等作爲材質之印刷基板（F P C )，在厚度薄容易破裂之工件上，曝光光罩圖案所用之接 觸曝光，更詳細爲，關於減壓光罩與工件之空間時，具備 不使光罩與工件接觸，而隔離對面成預先所設定之間隔所 需之間隔設定手段之接觸曝光裝置。 【習知技術】 第7圖係表示接觸曝光裝置構成之圖，該圖係表示藉 減壓，在光電光罩（以下稱爲光罩Μ )與工件W間施加互 相推壓之力量使光罩與工件密貼進行曝光之接觸曝光裝置 之構成，該圖（a )係從上面所視之圖，圖（b )係圖（ a)之A—A剖面圖。 於該圖，在光罩平台M S設有光罩Μ之定位構件1， 又，於光罩平台M S，來自未圖示之光照射部之曝光光線 爲能夠經由光罩Μ照射於工件W設有開口部2。 形成光罩圖案之光罩Μ，係抵接於上述定位構件1而 載置於設在光罩平台MS之開口部2上。光罩平台MS之 本紙張尺度適用中國國家標準（CNS)A4規格（210 X 297公釐） (請先閱讀背面之注意事項再填寫本頁)

-4- 477005 經濟部智慧財產局員工消費合作社印製 Α7 Β7 五、發明說明（2 ) 圓形開口部2周圍設有真空吸附溝3，光罩Μ係藉未圖示 之真空源供給於真空吸附溝3之真空，固定·保持於光罩 平台MS上。又，在光罩平台MS，減壓設有光電光罩Μ 與光罩平台M S與工件W與工件平台W S與真空密封部6 所形成之空間所用之管路4。 於工件平台WS，設有固定工件W所需之工件真空吸 附用之溝5，載置於工件平台WS上之工件W係來自未圖 示之真空源供給於真空吸附用之溝5之真空，固定·保持 於工件平台W S上。 於工件平台W S周圍，設有例如以橡膠等所形成之密 封構件所成之真空密封部6，利用爲形成光罩Μ與工件W 密貼所用之真空狀態。 又，工件平台W係經由間隙設定機構7安裝於工件平 台驅動機構8，工件平台驅動機構8係不僅將工件平台 WS向X方向（例如該圖之左右方向）、Υ方向（例如於 該圖對於紙面垂直方向）、Ζ方向（該圖之上下方向）移 動，並且，使工件平台W S將對於工件W垂直方向之軸作 爲中心迴轉（稱此迴轉爲0方向移動）。按，工件平台 W S之形狀爲配合通常工件W之形狀製作，工件爲圓形時 就成爲圓形，工件爲角形時開口部2也變成角形。 茲就第7圖所示接觸曝光裝置之工件W之曝光說明如 下。 (1 )將光罩Μ抵接於定位構件1，載置於光罩平台 M S。接著，對於真空吸附溝3供給真空，將光罩Μ固定 本紙張尺度適用中國國家標準（CNS)A4規格（210 X 297公釐） -------..--------r---訂---------線 (請先M·讀背面之注意事項再填寫本頁) -5- 經濟部智慧財產局員工消費合作社印製 477005 Α7 __ Β7 五、發明說明（3 ) •保持於光罩平台M S。 (2 )將工件W載置於工件平台W S上，從真空源對 於溝5供給真空，將工件W固定.保持於工件平台W S上 〇 (3 )藉工件平台驅動機構8使工件平台w S上升， 將工件W接觸於光罩Μ，藉間隙設定機構7求出光罩Μ與 工件W之平行（關於光罩Μ與工件W之求取平行係例如參 考日本專利特開平7 - 7 4 0 9 6號公報）。 (4 )求出光罩Μ與工件W之平行之後，稍爲下降工 件平台W S，將光罩Μ與工件W之間隙設定爲定位間隙， 由未圖示之定位顯微鏡檢出標示在光罩Μ與工件W之對準 記號，使兩者之對準記號相符由工件平台驅動機構8將工 件平台WS向ΧΥ 0方向移動，對準光罩Μ與工件W之定 位(alignment ) ° (5 )定位結束後，上升工件平台W S使光罩Μ與工 件W接觸。 於此，若只將光罩Μ與工件W接觸時，假如光罩Μ或 工件W有翹反或微小凹凸等時，就不能將光罩Μ或工件W 全面地成爲密貼。因此，如第8圖所示，依場所光罩Μ或 工件W之間將會發生間隙之不同（於第8圖係誇張表示） 〇 於此狀態下進行曝光時，曝光處理後之曝光精度（顯 像後之圖案形狀），將依曝光領域之場所而異。於是，爲 了使光罩Μ或工件W之全面密貼，如以下所說明在光罩Μ 本紙張尺度適用中國國家標準（CNS)A4規格（210 X 297公釐） 一—^-----^----^--------- (請先閱讀背面之注意事項再填寫本頁) -6 - 477005 Α7 --- Β7 五、發明說明（4 ) 或工件W之間施加互相推壓之力量。 (請先閱讀背面之注意事項再填寫本頁) (6 )使工件平台WS上升，使光罩Μ或工件W接觸 時，設在工件平台WS周圍之真空密封部6就與光罩平台 MS下面接觸，由光罩Μ、光罩平台MS、工件W、工件 平台W S、真空密封部6發生密封空間。於此狀態下，對 於設在光罩平台M S之管路4供給真空以減壓上述密封空 間。 (7 )當密封空間被減壓時，光罩Μ就被推壓於工件 W，如第9圖所示，光罩Μ與工件W就全面地被密封。 (8 )如上述光罩Μ與工件W成密封之狀態下，從未 圖示之光照射部將包含曝光光線之光經由光罩Μ對於工件 W進行照射、曝光。 【發明所欲解決之問題】 經濟部智慧財產局員工消費合作社印製 如上述以往之接觸曝光，係減壓光罩Μ與工件W間之 空間對於光罩Μ施加力量使光罩Μ之形狀變形爲如沿著工 件W形狀變形，將工件W挾住密貼於光罩Μ與工件平台 M S之間。 然而，於上述習知例，在工件平台W S上，例如具有 微小灰塵時，工件W將如第1 〇圖發生變形。因此，當光 罩Μ與工件W密貼時，在光罩Μ之工件W之變形部分所接 觸之部分將集中性地施加力量，有時會傷及昂貴之光罩Μ 。若使用受損之光罩進行曝光時，因其傷痕將仍舊轉印於 工件W，而變成不良之原因。 本紙張尺度適用中國國家標準（CNS)A4規格（210 X 297公釐） 477005 經濟部智慧財產局員工消費合作社印製 A7 B7 五、發明說明（5 ) 又，在工件W之變形部分也會施加集中性力量，所以 工件W有時有破損之虞。尤其，近年，如將聚亞胺等爲材 質之印刷基板（FPC)，已在使用厚度爲1〇〇〜50 //m左右之薄工件W，另者，隨著要求更高解析度，有使 光罩Μ與工件W之接觸力增大之傾向，工件W破損之危險 性有所增大。 於是，本申請人，係於先前，提案有將光罩與工件間 之空間減壓到可得所需接觸力之壓力時，使光罩與工件不 接觸之間隔將兩者隔離對面，將光罩與工件間之空間減壓 ，使兩者靠近，其後，將工件使用空氣從工件平台使其浮 起，進行光罩與工件密貼進行曝光之接觸曝光方法（參照 曰本專利特願平1 〇 - 1 1 9 0 3 2號， ΕΡ0953878Α9)。 第11圖係表示進行上述接觸曝光之接觸曝光裝置之 構成之圖，與上述第7圖所示同一者標示同一符號。 於第1 1圖，在光罩平台M S之開口部周圍設有真空 吸附溝3，光罩Μ係藉供給真空於設在光罩平台M S面之 真空吸附溝3，固定·保持於光罩平台MS上。又，光罩 平台M S設有減壓由光罩Μ光罩平台M S與工件W和工件 平台W S與真空密封部6所形成空間之管路4。 於工件平台W S，設有將工件W吸附固定於工件平台 WS，並且，對於工件W噴氣空氣等氣體使工件W浮起之 溝5。 上述溝5係經由閥V 1、V 2連接於真空泵1 1、空 本紙張尺度適用中國國家標準（CNS)A4規格（210 X 297公釐） ------------5-------：----訂---------線 (請先閱讀背面之注意事項再填寫本頁) -8- 經濟部智慧財產局員工消費合作社印製 477005 A7 ___________________ B7 五、發明說明（6 ) 氣壓縮機1 2，關閉閥V 2打開閥V 1 ，藉從真空泵1 1 對於上述溝5供給真空，工件w將被固定·保持於工件平 台W S。又，關閉閥V 1打開閥v 2，藉從空氣壓縮機 1 2對於上述溝5供給空氣，工件w就浮起，工件W將被 推壓於光罩Μ側（對於工件平台w S供給空氣，將工件W 將從工件平台W S浮起之事，稱爲將工件w背噴（back blow )。於工件平台W S周圍，設有由例如橡膠等所形成 以密封構件所成之真空密封部6，爲了使光罩Μ與工件W 密貼利用形成真空狀態。 又’工件平台W S，係與上述第5圖同樣，經由間隙 設定機構（未圖示）安裝於工件平台驅動機構（未圖示） ，工件平台驅動機構不僅將工件平台W S向X方向（例如 該圖之左右方向）、Υ方向（例如於該圖對於紙面成垂直 方向）、Ζ.方向（該圖之上下方向）移動，並且，使工件 平台W S對於工件W垂直之軸作爲中心迴轉（將此迴轉稱 爲Θ方向移動）。 又，在工件平台WS周圍，設有設定將光罩Μ與工件 W間之間隔之間隔設定手段1 〇 (以下，於此稱爲支援環 10)。支援環1 0上面係以良好精度加工，當工件平台 WS上升時，支援環1 〇上面將抵接於工件平台MS下面 〇 支援環1 0具有下列功能。 (a )藉支援環1 〇與光罩平台下面抵接，將光罩M 下面與工件W上面，使其以既定間隔，離開而對面。 本紙張尺度適用中國國家標準（CNS)A4規格（210 X 297公釐） -------*----Ί -----r---訂---------線 (請先閱讀背面之注意事項再填寫本頁) -9 - 經濟部智慧財產局員工消費合作社印製 477005 Α7 ___ Β7 五、發明說明（7 ) (b )減壓密封空間A時，藉由大氣壓所推壓，防止 工件平台W S向光罩平台Μ方向移動。藉此，密封空間A 減壓時之光罩Μ與工件W之間隙量D，係較使其上述隔離 對面時之距離爲短，並且，保持爲光罩與工件不接觸之距 離。 (c )保持工件平台WS與光罩平台MS之平行。 於第1 1圖，接觸曝光將如下地進行。 藉抵接光罩平台MS下面與支援環1 〇上面，求出光 罩Μ與工件W之平行後，將光罩Μ與工件W對準定位間隙 進行光罩與工件之定位（對準）。 其次，上升工件平台WS將支援環1 〇抵接於光罩平 台M S下面。於此狀態下將光罩Μ與工件W間之空間，減 壓到可得到所需接觸力之壓力。當減壓光罩Μ與工件W間 之空間時，光罩Μ將向工件W方向撓變，但是因在光罩平 台M S與工件平台W S間具有支援環1 〇，所以，光罩Μ 輿工件W將不會接觸，而保持既定間隔。 其後，將工件W使用空氣使其從工件平台W S浮起（ 將工件W背噴）使光罩Μ與工件W密貼加以曝光。 若成爲上述時，不至於傷及光罩之虞，又，不至於破 損工件，可將光罩與工件密貼加以曝光。 然而，若工件W厚度改變時光罩Μ與工件W之間隙量 D就會改變。因此，於第1 1圖所示者欲處理厚度不同之 工件W時，因應工件W厚度，必須將支援環1 〇更換爲間 隙量D變成既定値之高度者。 本紙張尺度適用中國國家標準（CNS)A4規格（210 X 297公釐） -----；—-----：----訂---------線· (請先閱讀背面之注意事項再填寫本頁) -10- B7 五、發明說明（8 ) (請先閱讀背面之注意事項再填寫本頁) 然而，支援環1 0，通常對於工件平台W s使用螺絲 等固定，欲更換支援環1 〇時就拆下螺絲固定取下支援環 1 0之後，必須設定新的支援環以螺絲固定，具有更換作 業花費時間之問題。又，因此，需要準備複數支援環，所 以花費費用，並且，也具有確保其保管場所等的問題。 本發明係鑑於上述情形所爲者，其係提供一種接觸曝 光裝置，其係即使欲處理厚度不同之工件時也不必更換支 援環。 【解決問題之手段】 爲了解決上述問題，於本發明，將相當於上述支援環 之間隔設定手段固定於工件平台或光罩平台之第1構件， 與對於第1構件可向高度方向移動之第2構件所構成。 因此，欲處理厚度不同之工件時，不必更換間隔設定 手段，就可調整光罩與工件之間隔於既定値。 經濟部智慧財產局員工消費合作社印製 因此，如習知例，欲處理厚度不同之工件時，不必更 換支援環，而可改善工作效率。又，也不必準備更換用之 支援環，也可減低成本。 【發明之實施形態】 第1圖係表示本發明之第1實施例之光罩與工件之間 隔設定手段（以下，於本實施例係稱爲支援環）與工件平 台之圖。圖示部分以外之構成，係與上述第1 1圖相同， 於工件平台W S，係如第1 1圖所示，不僅將工件吸附固 本紙張尺度適用中國國家標準（CNS)A4規格（210 X 297公釐） -11 - 477005 A7 五、發明說明（9 ) (請先閱讀背面之注意事項再填寫本頁) 疋’並且設有由空氣等氣體使工件浮起之溝（未圖示）。 此溝，係經由未圖示之閥連接於真空泵、空氣壓縮機。又 ’如第1 1圖所示，於工件平台w S周圍，設有例如以橡 膠等所形成之密封構件所成之真空密封部（未圖示）。 並且’工件平台W S，係與於第7圖所示者相同，經 由間隙設定機構安裝於工件平台驅動機構，工件平台驅動 機構不僅將工件平台WS向X方向（例如該圖之左右方向 )、Y方向（例如於該圖對於紙面成垂直方向）、z方向 (該圖之上下方向）移動，並且，將工件平台WS向工件 W面垂直之軸作爲中心使其迴轉（將此迴轉稱爲Θ方向移 動）。 1 〇係支援環，支援環1 〇係對於工件平台w s使用 螺絲寺所固疋之固疋構件1 0 a ( % 1構件）、與可動構 件1 0 b (第2構件）所構成。於可動構件1 0 b安裝有 臂部1 0 c，在臂部1 〇 c設有兼用移動用與固定用之抓 把 1 0 d 〇 經濟部智慧財產局員工消費合作社印製 又，於第1圖，雖然未圖不光罩平台，但是如第1 1 圖所示，載置有光罩之光罩平台設於工件平台WS上。按 ，支援環1 0之固定構件1 0 a也可構成爲固定於光罩平 台M S。 第2圖係第1圖之A — Α剖面圖，於該圖除了第1圖 ，並表示有上述光罩平台MS、光罩Μ、及工件W、真空 密封部6。 如該圖所示，支援環1 0之固定構件1 〇 a與可動構 本紙張尺度適用中國國家標準（CNS)A4規格（210 X 297公釐） • 12- 經濟部智慧財產局員工消費合作社印製 477005 A7 __ B7 五、發明說明（10 ) 件1 0 b，係使用精密螺絲螺合，持上述抓把1 0 d藉迴 轉移動可動構件1 0 b，可動構件1 〇 b就向高度方向移 動。又，抓把1 0 d係使用螺絲與上述臂部1 〇 c螺合， 將可動構件1 〇 b設定爲既定高度之後，迴轉抓把1 0 d .將螺絲先端抵接於工件平台W S之側面，就可固定爲將可 動構件1 0 b不會發生位置偏移。按，也可以藉將可動構 件1 〇 b與馬達之迴轉軸連動等，自動地調整高度。 茲依上述第11圖、上述第1圖、第2圖就使用本實 施例之接觸曝光裝置之曝光工程說明如下。 (1 )迴轉移動第1圖所示抓把1 0 d，因應工件W 厚度調整可動構件1 Ob高度。並且，由抓把1 0 d固定 可動構件1 0 b之位置。 (2 )將光罩Μ載置於光罩平台MS。在光罩平台 M S之真空吸附溝3供給真空，將光罩Μ固定保持於光罩 平台M S。 (3 )在工件平台W S上載置工件W，打開閥V 1， 關閉閥V 2，從真空泵1 1對於工件平台W S之溝5供給 真空，將工件W固定保持於工件平台W S。 (4 )由未圖示之工件平台驅動機構使工件平台W S 上升。由此，支援環1 0上面就抵接於光罩平台MS下面 。接著，由未圖示之間隙設定機構，求出工件平台W S與 光罩平台MS之平行。 按，於光罩平台MS與工件平台WS之間設有支援環 10，因不直接接觸光罩Μ與工件W，所以，於上述求出 本紙張尺度適用中國國家標準（CNS)A4規格（210 X 297公釐） -----!-7- -----r---訂·--- (請先閱讀背面之注意事項再填寫本頁) 線#- -13 - 經濟部智慧財產局員工消費合作社印製 477005 A7 __ B7 五、發明說明（11 ) 平行時，使工件平台W S上升，使支援環1 〇上側之全面 與光罩平台M S下面接觸，由間隙設定機構調整工件平台 W S之傾斜，進行求出平行。 (5 )使工件平台W S下降，將光罩Μ與工件W之間 隙設定爲定位間隙，由未圖示之對準顯微鏡，檢出標示於 光罩Μ與工件W之對準符號，使兩者之對準符號相符，由 工件平台驅動機構將工件平台WS向ΧΥ β方向移動，進 行光罩Μ與工件W之定位（對準）。 (6 )結束定位後，使工件平台W S上升，將支援環 1 0上面抵接於光罩平台MS下面。藉此，光罩Μ下面與 工件W上面將保持爲既定間隔。按，如上述藉改變支援環 1 0之高度，就可改變上述既定間隔之大小。 於本實施例，將光罩Μ與工件W之間隔設定爲如第3 (a )圖。亦即，工件W之厚度爲約5 0 // m時，設定光 罩Μ與工件W之間隔，使光罩Μ下面與工件W上面之間隙 變成4 0 # m。 (7)若將支援環1〇上面抵接於光罩平台MS下面 時·，設於工件平台W S周圍之真空密封部6也接觸於光 罩平台MS下面，由光罩Μ、光罩平台MS、工件W、工 件平台W S、真空密封部6形成密封空間A。於此狀態下 ，對於設在光罩平台M S之管路4供給真空，減壓上述密 封真空Α。光罩Μ係被推壓成大氣壓向工件平台WS方向 撓變。 亦即，藉減壓密封空間A，如第3 ( b )圖所示，光 本紙張尺度適用中國國家標準（CNS)A4規格（210 X 297公釐） -------I 1 I--!--. I I--r I I I ^ · I I (請先閱讀背面之注意事項再填寫本頁) 線t- -14- 477005 A7 __ B7 ---- 五、發明說明（12 ) 罩Μ係被推壓成大氣壓向工件w方向撓變。 工件平台WS也與光罩Μ同樣被大氣壓所壓，雖然施 加該圖上方之光罩平台MS方向之力量，但是因具有支援 環1 〇，所以，工件平台WS不會移動。因此，光罩Μ與 工件W不至於接觸，如第3 ( b )圖所示，兩者之間隔， 於光罩中心部保持爲約1 〇 // m。 (8 )關閉V 1打開V 2，對於工件平台W S之溝5 供給空氣，將工件W從工件平台w S浮起，推壓於光罩Μ (將工件W背噴）。藉此，如第4圖所示，光罩Μ與工件 W密貼。按，不減壓光罩Μ與工件W間之密封空間Α只進 行背噴，就不能將工件W密貼於光罩Μ。此係若欲將工件 W推壓於光罩Μ時，有時在工件W與光罩Μ之間會發生空 氣貯池所致。與此相對，如上述藉減壓密封空間A，當工 件W與光罩.Μ密貼時，排氣其間之空氣，而可防止空氣貯 池之發生。 茲依背噴工件W接觸於光罩Μ之狀態說明如下。 藉進行背噴，就如第5圖所示，形成由工件平台W S 與工件W約略圍住之空間Β，其空間Β之壓力，將變成較 密封空間Α之壓力爲高。 壓力關係，將變成如第5圖下側所示。亦即，背噴之 空氣，係從工件W端與工件平台W S之間隙，雖然向密封 空間A流動（洩漏），但是其間隙之間隔，因光罩Μ爲向 工件W方向撓變，所以變成較4 0 # m爲小。 因此，工件W端與工件平台W S間隙之電容就變高， 本紙張尺度適用中國國家標準（CNS)A4規格（210 X 297公釐） (請先閱讀背面之注咅？事項再填寫本頁) J—-----r---訂---------線* 經濟部智慧財產局員工消費合作社印製 •15- 經濟部智慧財產局員工消費合作社印製 477005 A7 _ B7 五、發明說明（13 ) 背噴之空氣不至於一下子向密封空間A洩漏。因此.工件 W下側之壓力分布就如第5圖所示變成平坦，在上述工件 平台W S與工件W所圍住空間B所發生因背噴之壓力將及 至工件W約略全面加以保持，工件W將被推壓於光罩Μ側 。又，由於上述背噴光罩Μ之撓變就變小，光罩Μ與工件 W將稍爲向上方移動。 洩漏空氣之工件W周邊部，因壓力近於密封空間Α之 壓力，所以，將工件W推壓於光罩Μ之力量就變弱。因此 ’依據第4圖之壓力曲線，雖然與光罩Μ之密貼性會變壞 ’但是工件W周邊部不形成通常電路等之圖案，所以即使 工件W與光罩Μ不密貼也不會發生問題。 (9 )於此狀態將來自未圖示之光照射部將不包含曝 光光線之光，經由光罩Μ照射於工件W，進行曝光。 按，於上述實施例，曾就將光罩Μ與工件W之間隔設 定成4 0 // m時之情形做了說明，但是，光罩Μ與工件W 之間隔，太寬時，當背噴工件W時，有時工件W將向橫（ X Υ )方向移動，又，光罩Μ與工件W之間隔，太窄時， 減壓真空密封部6時，光罩Μ就與工件W接觸，可能發生 傷及光罩Μ或破損工件W之危險。 因此，必須考慮工件W大小、厚度、光罩Μ厚度等， 求取密封空間Α之壓力、背噴壓力等條件之最佳値，來設 定光罩Μ與工件W之間隔。 一般，光罩Μ與工件W之接觸力，係依存上述密封空 間Α之壓力（真空度），所以，依據所要求之接觸力決定 本紙張尺度適用中國國家標準（CNS)A4規格（210 X 297公釐） -------,——T—亀----II --訂---------線 (請先閱讀背面之注意事項再填寫本頁) -16- 經濟部智慧財產局員工消費合作社印製 477005 A7 ______ B7 五、發明說明（14 ) 岔封空間A之壓力與工件W之大小、厚度、從光罩μ之厚 度求取光罩Μ之撓變量，藉減壓密封空間Α當光罩Μ撓變 時，決定光罩Μ與工件W之間隔，使光罩Μ與工件W不接 觸即可。 於本貫施例，使用材質爲銅薄范之ρ 1 5 Omm之工 件’光罩厚度爲3·8mm時，將真空密封部壓力成爲 2〇kPa (1 氣壓=76mmHg = l〇l · 3kPa ’2〇kPa爲約150mmHg)，成爲背噴壓力2 k P a、光罩中心部下面與工件上面之間隙爲4 〇 // m。 此時’減壓時之光罩Μ與工件W之間隙將變成約1 〇 // m ’可用良好精度進行曝光處理。 第6圖係表示本發明之第2實施形態之間隔設定手段 之構成圖，與上述第2圖同樣，表示工件平台與間隔設定 手段之剖面構成，圖示部分以外之構成，係與上述第1實 施例相同。 本實施例之間隔設定手段2 0，係如該圖所示由；固 定於工件平台WS之固定構件20a (第1構件）、與可 動構件2 0 b (第2構件）、與分厘卡2 0 c所構成，從 這些構件所構成之間隔設定手段2 0爲在工件平台之周圍 至少裝設3組。 可動構件2 0 b係將軸2 0 d作爲中心可迴轉地安裝 於固定構件2 0 a，如第6 ( a ) ( b )所示，藉迴轉可 動構件2 0 b，就可調整高度方向。高度方向之調整，係 使用分厘卡2 0 c，調整設於工件平台W S周圍之3組間 本紙張尺度適用中國國家標準（CNS)A4規格（210 X 297公釐） -----------:-------^---—訂- - -----1線 (請先閱讀背面之注意事項再填寫本頁) -17- 477005 Α7 ___ Β7 五、發明說明（15 ) 隔設定手段之可動構件2 0 b之傾斜，調整成光罩Μ與工 件W爲平行’並且，其間隔成爲預先所設定之値。 (請先閱讀背面之注意事項再填寫本頁) 使用間隔設定手段2 0之光罩Μ與工件W之間隔設定 後之曝光工程’係與上述第1實施例相同，由如上述之（ 2 )〜（9 )之工程進行工件W之曝光。 如以上，間隔設定手段之形狀，係如第1實施形態所 示不一定構成爲環狀，於減壓時，將對於施加於各間隔設 定手段之負荷具有充分強度之第1構件與第2構件所構成 之手段，在工件平台周圍均勻地配置3處所以上即可。 除此之外，作爲間隔設定手段，例如，因應電壓而使 用長度發生變化之壓電元件等調整使電壓發生變化之高度 等，可使用種種手段。 【發明之效果】 經濟部智慧財產局員工消費合作社印製 如以上所說明，於本發明在接觸曝光裝置，將設定光 罩與工件手段，由固定於工件平台或光罩平台之第1構件 、與可調整高度方向之位置之第2構件所構成，所以欲處 理厚度不同之工件時，不必更換間隔設定手段，就可將光 罩與工件之間隔調整爲既定之値。因此，可改善工作效率 ，又，也不必如習知例準備更換用之支援環，所以也可減 低成本。 圖式之簡單說明 第1圖係表示本發明之第1實施例之間隔設定# ^ t 本紙張尺度適用中國國家標準（CNS)A4規格（210 X 297公釐） -18- 477005 A7 ___________ B7 五、發明說明（16 ) 構成之圖。 第2圖係表示第1實施例之間隔設定手段之剖面構成 (請先閱讀背面之注意事項再填寫本頁) 之圖。 第3圖係用來說明於本發明實施例之光罩與工件之位 置關係之圖。 第4圖係表示於本發明之實施例由背噴使光罩與工件 密貼狀態之圖。 第5圖係表示於本發明之實施例背噴時之工件狀態及 壓力曲線之圖。 .第6圖係表示本發明第2實施例之間隔設定手段之剖 面構成之圖。 第7圖係表示接觸曝光裝置之構成之圖。 第8圖係表示光罩與工件未密貼狀態之圖。 第9圖係表示減壓由真空密封部所形成之空間使光罩 與工件密貼狀態之圖。 第1 0圖係用來說明在工件平台上有灰塵等時，密貼 光罩與工件時之工件變形之圖。 經濟部智慧財產局員工消費合作社印製 第11圖係表示使用支援環之接觸曝光裝置之構成之 圖。 【符號之說明】 1 定位構件， 2 開口部， 3 光罩真空吸附溝， 本紙張尺度適用中國國家標準（CNS)A4規格（210 X 297公釐） -19 - 477005 經濟部智慧財產局員工消費合作社印製 A7 _B7 五、發明說明（17 ) 4 管路， 5 溝， 6 真空密封部， 7 間隙設定機構， 8 工件平台驅動機構 ， 1 〇 間隔設定手段（支援環） 1 〇 a 固定構件（第 1構件） 1 〇 b 可動構件（第 2構件） 1 0 c 臂部， 1 〇 d 抓把部， 1 1 真空泵， 1 2 壓縮機， 2 〇 間隙設定手段， 2 〇 a 固定構件（第 1構件） 2 0 b 可動構件（第2構件） 2 〇 c 分厘卡， Μ 光罩， Μ S 光罩平台， W 工件， W S 工件平台， V 1 > V 2 閥。 -------------------r---訂--------- (請先έ讀背面之注意事項再填寫本頁) 本紙張尺度適用中國國家標準（CNS)A4規格（210 X 297公釐） -20-

Claims (1)

1. W7005 經濟部智慧財產局員工消費合作社印製 A8 B8 C8 __ D8 六、申請專利範圍 1·一種具備光罩和工件之間隔設定手段的接觸曝光 裝置，其係載置於工件平台，在表面被覆感光膜之工件， 與密貼形成有光罩圖案之光罩，包含曝光光線之光透過光 罩照射於工件上，在工件上曝光光罩圖案者，其特徵爲； 上述接觸曝光裝置，係具有間隔設定手段，其係將光 罩與工件間之空間減壓到可得到接觸力之壓力時，將光罩 與工件，變成不接觸之預先所設定之間隔，使兩者隔離面 對， 上述間隔設定手段，係由：安裝於工件平台或光罩平 台之第1構件、與對於第1構件可向高度方向移動之第2 構件所構成。 本紙張尺度適用中國國家標準（CNS ) A4規格（210Χ297公釐） -21 -