CN110824856B - 保持装置、光刻装置以及物品的制造方法 - Google Patents

保持装置、光刻装置以及物品的制造方法 Download PDF

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Abstract

提供一种保持装置、光刻装置以及物品的制造方法，所述保持装置保持板件，其特征在于，具有：载置台，载置所述板件；基准部件，设置于所述载置台，作为所述板件的相邻的第一侧面以及第二侧面的定位的基准；按压部件，设置于所述载置台，以使所述板件的所述第一侧面以及所述第二侧面抵接于所述基准部件的方式分别按压所述板件的所述第一侧面的相反侧的第三侧面以及所述第二侧面的相反侧的第四侧面；以及供给部，以使所述板件向从所述按压部件朝向所述基准部件的方向倾斜而在所述载置台上滑动的方式从所述载置台朝向所述板件供给气体。

Description

保持装置、光刻装置以及物品的制造方法
技术领域
本发明涉及保持装置、光刻装置以及物品的制造方法。
背景技术
在作为半导体元件、液晶显示元件、摄像元件、薄膜磁头以及其他器件的制造工序之一的光刻工序中，使用曝光装置。曝光装置将形成于掩模的图案的像投影到涂敷有光致抗蚀剂(光敏剂)的晶圆、玻璃板等基板，并将该基板曝光。
在曝光装置中，通过使设置于掩模的基准标记与设置于掩模载台的基准标记对准，从而使掩模(的图案)相对于掩模载台高精度地定位。由于在这样的掩模相对于掩模载台的高精度的定位中一般使用对准观察仪(对准光学系统)，因此对基准标记的视野范围受限。在向掩模载台搬运掩模的掩模搬运单元中，由于其搬运精度(放置位置精度)不足，因此有时无法将掩模(的基准标记)搬运到对准观察仪的视野范围。
于是，在曝光装置中，在掩模搬运单元将掩模搬运到掩模载台之后，进行用于将掩模的基准标记配置在对准观察仪的视野范围的定位处理。在该定位处理中，首先从设置于掩模载台的掩模保持面的孔喷出空气而对掩模的下表面侧赋予正压，从而使掩模从掩模载台上浮。然后，在掩模上浮的状态下，使用气缸等机械性按压部件将掩模(的侧面)按压到作为定位的基准的基准销，从而将掩模的基准标记配置在对准观察仪的视野范围。
在日本特开平9-325309号公报、日本特开2000-183136号公报以及日本特开平9-8106号公报中，提出了与这样的定位处理相关的技术。在日本特开平9-325309号公报中，提出了在对基板(掩模)的下部赋予正压而使基板上浮的状态下使载置基板的载台倾斜，从而使基板抵接于作为基准的位置的技术。在日本特开2000-183136号公报中，公开了在使用设置于载台的提起机构提起基板(掩模)并倾斜的状态下，使基板的侧面抵接于定位销的技术。在日本特开平9-8106号公报中，公开了通过使供给到设置于载台的衬垫的空气的压力、流量变化而使基板倾斜并抵接于基准销的技术。
然而，关于日本特开平9-325309号公报以及日本特开2000-183136号公报中所公开的技术，当应用到不断大型化的FPD曝光装置时，载置基板的载台、使基板自身倾斜的机构也大型化，从而成本增加。此外，如在日本特开平9-8106号公报中所公开的技术那样，如果只是使向基板的下表面侧供给的空气的压力、流量变化，则难以应对当前使用的那样的大型的基板。特别是在为掩模的情况下，由于无法支承形成了图案的中心部，而仅能够在周边部支承掩模，因此更加难以应用日本特开平9-8106号公报中所公开的技术。
发明内容
本发明提供一种有利于对板件进行定位并保持的保持装置。
作为本发明的一个方面的保持装置是保持板件的保持装置，其特征在于，具有：载置台，载置所述板件；基准部件，设置于所述载置台，作为所述板件的相邻的第一侧面以及第二侧面的定位的基准；按压部件，设置于所述载置台，以使所述板件的所述第一侧面以及所述第二侧面抵接于所述基准部件的方式分别按压所述板件的所述第一侧面的相反侧的第三侧面以及所述第二侧面的相反侧的第四侧面；以及供给部，以使所述板件向从所述按压部件朝向所述基准部件的方向倾斜而在所述载置台上滑动的方式从所述载置台朝向所述板件供给气体。
作为本发明的另一方面的光刻装置是对基板形成图案的光刻装置，其特征在于，具有保持所述基板的基板载台，所述基板载台包含将所述基板作为板件进行保持的保持装置，所述保持装置具有：载置台，载置所述板件；基准部件，设置于所述载置台，作为所述板件的相邻的第一侧面以及第二侧面的定位的基准；按压部件，设置于所述载置台，以使所述板件的所述第一侧面以及所述第二侧面抵接于所述基准部件的方式分别按压所述板件的所述第一侧面的相反侧的第三侧面以及所述第二侧面的相反侧的第四侧面；以及供给部，以使所述板件向从所述按压部件朝向所述基准部件的方向倾斜而在所述载置台上滑动的方式从所述载置台朝向所述板件供给气体。
作为本发明的再一方面的光刻装置是对基板形成图案的光刻装置，其特征在于，具有掩模载台，所述掩模载台对具有要转印到所述基板的图案的掩模进行保持，所述掩模载台包含将所述掩模作为板件进行保持的保持装置，所述保持装置具有：载置台，载置所述板件；基准部件，设置于所述载置台，作为所述板件的相邻的第一侧面以及第二侧面的定位的基准；按压部件，设置于所述载置台，以使所述板件的所述第一侧面以及所述第二侧面抵接于所述基准部件的方式分别按压所述板件的所述第一侧面的相反侧的第三侧面以及所述第二侧面的相反侧的第四侧面；以及供给部，以使所述板件向从所述按压部件朝向所述基准部件的方向倾斜而在所述载置台上滑动的方式从所述载置台朝向所述板件供给气体。
作为本发明的再一方面的物品的制造方法，其特征在于，具有：使用光刻装置对基板形成图案的工序；处理在所述工序中形成了所述图案的所述基板的工序；以及从所处理过的所述基板制造物品的工序，所述光刻装置具有保持所述基板的基板载台，所述基板载台包含将所述基板作为板件进行保持的保持装置，所述保持装置具有：载置台，载置所述板件；基准部件，设置于所述载置台，作为所述板件的相邻的第一侧面以及第二侧面的定位的基准；按压部件，设置于所述载置台，以使所述板件的所述第一侧面以及所述第二侧面抵接于所述基准部件的方式分别按压所述板件的所述第一侧面的相反侧的第三侧面以及所述第二侧面的相反侧的第四侧面；以及供给部，以使所述板件向从所述按压部件朝向所述基准部件的方向倾斜而在所述载置台上滑动的方式从所述载置台朝向所述板件供给气体。
作为本发明的再一方面的物品的制造方法，其特征在于，具有：使用光刻装置对基板形成图案的工序；处理在所述工序中形成了所述图案的所述基板的工序；以及从所处理过的所述基板制造物品的工序，所述光刻装置具有掩模载台，所述掩模载台对具有要转印到所述基板的图案的掩模进行保持，所述掩模载台包含将所述掩模作为板件进行保持的保持装置，所述保持装置具有：载置台，载置所述板件；基准部件，设置于所述载置台，作为所述板件的相邻的第一侧面以及第二侧面的定位的基准；按压部件，设置于所述载置台，以使所述板件的所述第一侧面以及所述第二侧面抵接于所述基准部件的方式分别按压所述板件的所述第一侧面的相反侧的第三侧面以及所述第二侧面的相反侧的第四侧面；以及供给部，以使所述板件向从所述按压部件朝向所述基准部件的方向倾斜而在所述载置台上滑动的方式从所述载置台朝向所述板件供给气体。
以下，通过参照附图所说明的优选实施方式而使本发明的进一步的目的或其他方面变得清楚。
附图说明
图1是示出本发明的第一实施方式中的保持装置的结构的概略图。
图2是示出设置于图1所示的保持装置的载置台的槽以及孔的截面的概略图。
图3是示出本发明的第二实施方式中的保持装置的结构的概略图。
图4是用于说明图1所示的保持装置的动作的流程图。
图5是示出作为本发明的一个方面的曝光装置的结构的概略图。
具体实施方式
以下，参照附图对本发明的优选的实施方式进行说明。另外，在各图中，对同一部件标注同一参照标号，并省略重复的说明。
<第一实施方式>
图1是示出本发明的第一实施方式中的保持装置100的结构的概略图。保持装置100例如对曝光装置所使用的掩模、掩模的图案被转印到的基板等板件1进行定位并保持。保持装置100具有载置台2、按压部件3、基准部件11和气体供给部30。
板件1载置于载置台2。此外，在载置台2设置有支承板件1的下表面侧的周边区域的堤部4。
基准部件11设置于载置台2，是作为板件1的相邻的第一侧面1a以及第二侧面1b的定位的基准的部件。在本实施方式中，基准部件11包括用于规定板件1的位置的三个基准销。如图1所示，基准部件11包含板件1的第一侧面1a抵接的第一基准销(第一基准部件)11a以及第二基准销(第二基准部件)11b和板件1的第二侧面1b抵接的第三基准销(第三基准部件)11c。但是基准部件11的结构不限于基准销，也可以置换为例如包含沿X方向以及Y方向的各个方向延伸(板件1的第一侧面1a以及第二侧面1b的各个侧面抵接)的延伸部的L字形状的基准部件。
在本实施方式中，将板件1的第一侧面1a抵接于第一基准销11a以及第二基准销11b且板件1的第二侧面1b抵接于第三基准销11c的状态作为板件1被定位在载置台上的状态。在该状态下，例如以使板件1的基准标记配置于对准观察仪的视野范围的方式，设置有第一基准销11a、第二基准销11b以及第三基准销11c。此外，在板件1被定位在载置台上的状态下，第一基准销11a以及第二基准销11b相对于沿板件1的第二侧面1b的板件1的中心轴CA1对称地设置。在板件1被定位在载置台上的状态下，第三基准销11c设置于沿板件1的第一侧面1a的板件1的中心轴CA2之上(中心轴上)。
按压部件3设置于载置台2，以使板件1的第一侧面1a以及第二侧面1b抵接于基准部件11的方式分别按压板件1的第一侧面1a的相反侧的第三侧面1c以及第二侧面1b的相反侧的第四侧面1d。在本实施方式中，按压部件3构成为从板件1与基准部件11相接触的一侧的相反侧在水平方向上按压板件1(的侧面)。按压部件3使用普通的气缸。
如图1所示，按压部件3包含第一按压部件3a和第二按压部件3b，该第一按压部件3a在朝向第一基准销11a以及第二基准销11b的方向上按压板件1的第三侧面1c，该第二按压部件3b在朝向第三基准销11c的方向上按压板件1的第四侧面1d。在板件1被定位在载置台上的状态下，第一按压部件3a设置于沿板件1的第二侧面1b的板件1的中心轴CA1之上(中心轴上)。此外，在板件1被定位在载置台上的状态下，第二按压部件3b设置于沿板件1的第一侧面1a的板件1的中心轴CA2之上(中心轴上)。
气体供给部30以使板件1向从按压部件3朝向基准部件11的方向倾斜而在载置台上滑动的方式从载置台2朝向板件1供给正压的气体。此外，气体供给部30以使在载置台2中吸附板件1的方式从载置台2朝向板件1供给负压的气体。但是，在吸附板件1时，也可以对板件1与载置台2之间的空间进行排气。如图1所示，气体供给部30包含多个槽5、多个孔6、接头7、供给管8、控制部9和调节器12。
多个槽5设置于载置台2的堤部4，是用于吸附(保持)板件1或者用于使板件1上浮的槽。在本实施方式中，如图1所示，槽5被按每固定的区域分割。
在多个槽5的各个槽的内部设置有用于将从载置台2的外部、具体而言是从气体供给源(未图示)供给的正压的气体或负压的气体向槽5的内部(板件1与载置台2之间的空间)供给的孔6。多个孔6设置于载置台2的第一区域2a、第二区域2b、第三区域2c以及第四区域2d的各个区域。载置台2的第一区域2a是在板件1被定位在载置台上的状态下与包含板件1的第一侧面1a的板件1的周边区域对置的区域。同样地，载置台2的第二区域2b、第三区域2c以及第四区域2d是在板件1被定位在载置台上的状态下与包含板件1的第二侧面1b、第三侧面1c以及第四侧面1d的各个侧面的板件1的各周边区域对置的区域。在本实施方式中，如图2所示，孔6贯通至载置台2的侧面，但不限于此，例如也可以贯通至载置台2的下表面。图2是示出设置于载置台2的槽5以及孔6的截面的概略图。在载置台2、具体而言是在载置台2的侧面的孔6所贯通的部分设置有接头7。接头7连接有用于连接气体供给源和多个孔6并向多个孔6的各个孔供给气体的供给管8。
控制部9例如包含电磁阀，控制气体供给部30进行的气体的供给。控制部9经由供给管8以及孔6来切换向板件1的下表面10(槽5的内部)供给的气体的正压和负压。此外，控制部9使用调节器12、速度控制器来控制(调整)向槽5的内部供给的气体的压力以及流量中的至少一方。
在本实施方式中，如上述那样，在载置台2中，在+X方向侧设置有第一基准销11a以及第二基准销11b，在-Y方向侧设置有第三基准销11c。并且，使板件1的第一侧面1a抵接于第一基准销11a以及第二基准销11b并使板件1的第二侧面1b抵接于第三基准销11c，从而能够在载置台上定位板件1。因此，按压板件3为了按压板件1的第一侧面1a的相反侧的第三侧面1c以及第二侧面1b的相反侧的第四侧面1d的各个侧面而包含第一按压部件3a以及第二按压部件3b。
一般地，搬运单元(未图示)在将板件1载置(搬运)于载置台2时，以板件1不与基准部件11干扰的方式，使板件1在从基准部件11向-X方向侧以及+Y方向侧移位数mm的状态下载置于载置台2。因此，当板件1被按压部件3按压时，在+X方向以及-Y方向上水平移动。
如图1所示，设置于载置台2的侧面的接头7连接有分支为两个系统的供给管8，具体而言连接有第一供给管8a以及第二供给管8b。此外，第一供给管8a以及第二供给管8b在施力侧合流为一个系统。第一供给管8a以及第二供给管8b从-X方向侧以及+Y方向侧被依次连接，从气体供给源侧观察到的顺序是分别朝向+X方向以及-Y方向被依次连接。具体而言，第一供给管8a连接气体供给源和设置于载置台2的第一区域2a的多个孔6的各个孔，并向该孔6供给气体。第二供给管8b连接气体供给源和设置于载置台2的第二区域2b的多个孔6的各个孔，并向该孔6供给气体。
由此，在使板件1载置于载置台2并向板件1的下表面10供给正压的气体时，板件1从-X方向侧以及+Y方向侧依次开始上浮，朝向配置有基准部件11的+X方向侧以及-Y方向侧流动的力施加于板件1。换言之，板件1向从按压部件3朝向基准部件11的方向倾斜而在载置台上滑动。
此外，由于正压的压损而在第一供给管8a以及第二供给管8b的末端侧，与原压侧相比，压力下降。在本实施方式中，在X方向上，维持-侧的压力比+侧的压力高的状态，在Y方向上，维持+侧的压力比-侧的压力高的状态。因此，由于板件1成为朝向按压部件3按压板件1的方向倾斜而上浮的状态，因此通过按压部件3能够使板件1容易地抵接于基准部件11。
这样，在气体供给部30正在供给气体的状态下，即在板件1倾斜而上浮的状态下，按压部件3以使板件1抵接于基准部件11的方式按压板件1。由此，不会增加按压部件3的推力，而能够稳定地定位板件1。此时，可以使板件1相对于基准部件11的抵接顺序为如下那样。首先，以使板件1的第一侧面1a抵接于第一基准部件11a以及第二基准部件11b的方式，通过第一按压部件3a按压板件1的第三侧面1c。由此，板件1的旋转方向被定位。这之后，以使板件1的第二侧面1b抵接于第三基准部件11c的方式，通过第二按压部件3b按压板件1的第四侧面1d。
在板件1被定位在载置台上之后，从气体供给部30向槽5的内部供给负压，板件1被吸附(保持)于载置台2。
另外，基准部件11的配置、数量以及按压板件1的方向是任意的，但关于按压部件3的配置，需要设为能够朝向基准部件11按压板件11。此外，关于分支为两个系统的供给管8的连接顺序，也需要朝向通过按压部件3按压板件1的方向而依次连接。
<第二实施方式>
图3是示出本发明的第二实施方式中的保持装置100B的结构的概略图。在保持装置100B中，在载置台2的堤部4设置的槽5被分为多个区，在各个区设置有孔6。在本实施方式中，相对于孔6，在每个区都单独地设置有接头7，与接头7连接的供给管8也分别被单独地设置。如图3所示，针对C1至C8的每个组合汇集供给管8，各组合与单独的调节器12连接，通过单独的控制部9对C1至C8的每个组合(区)控制从气体供给源供给的气体的供给、停止。
在本实施方式中，在使板件1载置于载置台2并向板件1的下表面10供给正压的气体时，不是一概地向C1至C8的组合供给气体，而是根据按压板件1的方向依次供给气体。换言之，以使板件1向从按压部件3朝向基准部件11的方向倾斜而板件1在载置台上滑动的方式，控制从气体供给源向多个供给管8的各个供给管(C1至C8的组合)供给气体的定时。
具体而言，为了在+X方向以及-Y方向上按压板件1，而按C1、C2、C3、C4、C5、C6、C7以及C8的顺序供给正压的气体。由此，从板件1的-X方向侧以及+Y方向侧依次开始上浮，朝向配置有基准部件11的+X方向侧以及-Y方向侧流动的力施加于板件1。在该状态下，按压部件3以使板件1抵接于基准部件11的方式按压板件1。由此，不会增加按压部件3的推力，而能够稳定地定位板件1。
另外，槽5的区的划分方式、数量以及将来自气体供给源的气体供给到各供给管8的定时不限于本实施方式。但是需要以产生板件1朝向按压板件1的方向流动的力的方式，控制将来自气体供给源的气体供给到各供给管8的定时。此外，在本实施方式中，各供给管8连接气体供给源和两个孔6的各个孔，但不限于此，只要连接气体供给源和多个孔6中的至少一个孔6即可。
<第三实施方式>
在本实施方式中，如图3所示，相对于孔6，在每个区单独地设置有接头7，与接头7连接的供给管8也分别被单独地设置。此外，与第二实施方式同样地，针对C1至C8的每个组合汇集供给管8，各组合与单独的调节器12连接。在本实施方式中，通过单独的控制部9对C1至C8的每个组合(区)控制从气体供给源供给的气体的压力以及流量中的至少一方。
例如，在本实施方式中，在使板件1载置于载置台2并向板件1的下表面10供给正压的气体时，以根据按压板件1的方向而压力依次减少的方式，针对C1至C8的每个组合，控制向供给管8供给的气体的压力。具体而言，为了在+X方向以及-Y方向上按压板件1，而以使压力按C1、C2、C3、C4、C5、C6、C7以及C8的顺序变低的方式(即，以从高压力变成低压力的方式)控制向供给管8供给的气体的压力。由此，由于板件1的上浮量从板件1的-X方向侧以及+Y方向侧依次变小，因此朝向配置有基准部件11的+X方向侧以及-Y方向侧流动的力施加于板件1。在该状态下，按压部件3以使板件1抵接于基准部件11的方式按压板件1。由此，不会增加按压部件3的推力，而能够稳定地定位板件1。
另外，槽5的区的划分方式、数量以及来自气体供给源的气体的压力的控制不限于本实施方式。但是需要以产生使板件1朝向按压板件1的方向流动的力的方式，控制从气体供给源向各供给管8供给的气体的压力(压力差)。
<第四实施方式>
参照图4对保持装置100的动作进行说明。在此，以保持装置100为例进行说明，但保持装置100B也同样地动作。图4是用于说明保持装置100的动作的流程图。在S102中，通过搬运单元将板件1载置于载置台2。此时，如上述那样，使板件1在从基准部件11向-X方向侧以及+Y方向侧移位的状态下载置于载置台2。
在S104中，通过气体供给部30以使板件1向从按压部件3朝向基准部件11的方向倾斜而板件1在载置台上滑动的方式，从载置台2朝向板件1供给正压的气体。由此，如上述那样，板件1从-X方向侧以及+Y方向侧依次开始上浮，朝向配置有基准部件11的+X方向侧以及-Y方向侧流动的力施加于板件1。
在S106中，在气体供给部30正在供给气体的状态下，即在板件1倾斜而上浮的状态下，按压部件3以使板件1抵接于基准部件11的方式按压板件1。由于板件1倾斜而上浮，因此如上述那样不会增加按压部件3的推力，而能够稳定地定位板件1。
在S108中，通过气体供给部30向槽5的内部供给负压，在载置台2中吸附(保持)板件1。
<第五实施方式>
参照图5对作为本发明的一个方面的曝光装置500进行说明。曝光装置500是在作为半导体元件、液晶显示元件的制造工序的光刻工序中被采用并对基板形成图案的光刻装置。曝光装置500经由掩模(原版)对基板进行曝光，并将掩模的图案转印到基板。
如图5所示，曝光装置500具有照明光学系统510、投影光学系统520、保持并移动掩模530的掩模载台540和保持并移动基板550的基板载台560。进一步地，曝光装置500具有控制部570，该控制部570由包含CPU、存储器等的计算机构成，按照存储于存储部的程序统一控制曝光装置500的各部分，而使曝光装置500动作。
照明光学系统510例如包含多个透镜、镜等，是以来自光源的光对掩模530照明的光学系统。
掩模530保持于掩模载台540。在掩模530形成了与要被形成在基板550的图案对应的图案。基板550保持于基板载台560。在掩模载台540、基板载台560，作为保持掩模530、基板550的保持装置，应用上述的保持装置100、100A或100B。如上述那样，保持装置100、100A或100B有利于定位并保持掩模530、基板550。因此，能够高精度地进行掩模载台540中的掩模530的对准、基板载台560中的基板550的对准以及掩模530与基板550的对准。
掩模530与基板550经由投影光学系统520而配置于光学上大致共轭的位置(投影光学系统520的物面以及像面的位置)。投影光学系统520是将物体投影到像面的光学系统。对投影光学系统520不仅能够应用图5所示的反射系统，还能够应用折射系统、折反射系统。在本实施方式中，投影光学系统520具有规定的投影倍率，将形成于掩模530的图案投影到基板550。并且，在与投影光学系统520的物面平行的方向(例如X方向)上，以与投影光学系统520的投影倍率相应的速度比来扫描掩模载台540以及基板载台560。由此，能够将形成于掩模530的图案投影到基板550。
本发明的实施方式中的物品的制造方法例如适合于制造器件(半导体元件、磁存储介质、液晶显示元件等)等物品。该制造方法包含如下工序：使用曝光装置500对涂敷有光敏剂的基板进行曝光(对基板形成图案)的工序；以及对被曝光的基板进行显影(处理基板)的工序。此外，该制造方法还可以包含其他公知的工序(氧化、成膜、蒸镀、掺杂、平坦化、蚀刻、抗蚀剂剥离、切割、粘接、封装等)。与以往相比，本实施方式中的物品的制造方法在物品的性能、品质、生产率以及生产成本中的至少一方是有利的。
以上，对本发明的优选实施方式进行了说明，但本发明不限于这些实施方式，这是不言而喻的，在其主旨的范围内能够进行各种变形以及变更。例如，本发明不将光刻装置限定于曝光装置，也能够应用于压印装置、描绘装置等光刻装置。在此，压印装置通过使供给到基板上的压印材料与模具接触并向压印材料提供固化用的能量，从而形成转印有模具的图案的固化物的图案。此外，描绘装置通过带电粒子束(电子束)、激光束对基板进行描绘，从而在基板上形成图案(潜像图案)。上述的物品的制造方法也可以使用这些光刻装置而进行。

Claims (10)

1.一种保持装置，保持板件，其特征在于，具有：
载置台，载置所述板件；
基准部件，设置于所述载置台，作为所述板件的相邻的第一侧面以及第二侧面的定位的基准；
按压部件，设置于所述载置台，以使所述板件的所述第一侧面以及所述第二侧面抵接于所述基准部件的方式分别按压所述板件的所述第一侧面的相反侧的第三侧面以及所述第二侧面的相反侧的第四侧面；
供给部，以使所述板件向从所述按压部件朝向所述基准部件的方向在所述载置台上滑动的方式从所述载置台朝向所述板件供给气体；以及
控制部，控制所述供给部进行的气体的供给，
所述供给部包含：第一供给管，用于向分别包含所述第一侧面和所述第四侧面的所述板件的各周边区域供给所述气体；以及第二供给管，用于向分别包含所述第二侧面和所述第三侧面的所述板件的各周边区域供给所述气体，
所述控制部以在向包含所述第一侧面的所述板件的周边区域供给所述气体之后、向包含所述第四侧面的所述板件的周边区域供给所述气体的方式，向第一供给管供给所述气体，
所述控制部以在向包含所述第二侧面的所述板件的周边区域供给所述气体之后、向包含所述第三侧面的所述板件的周边区域供给所述气体的方式，向第二供给管供给所述气体。
2.根据权利要求1所述的保持装置，其特征在于，
在所述供给部正在供给所述气体的状态下，所述按压部件分别按压所述板件的所述第三侧面以及所述第四侧面。
3.根据权利要求1所述的保持装置，其特征在于，
所述基准部件包含第一基准部件以及第二基准部件和第三基准部件，所述第一基准部件以及所述第二基准部件抵接有所述第一侧面，所述第三基准部件抵接有所述第二侧面，
在所述板件被定位在所述载置台上的状态下，所述第一基准部件以及所述第二基准部件相对于沿所述第二侧面的所述板件的中心轴对称地设置，
在所述板件被定位在所述载置台上的状态下，所述第三基准部件设置于沿所述第一侧面的所述板件的中心轴上。
4.根据权利要求3所述的保持装置，其特征在于，
所述按压部件包含第一按压部件以及第二按压部件，所述第一按压部件向朝向所述第一基准部件以及所述第二基准部件的方向按压所述板件的所述第三侧面，所述第二按压部件向朝向所述第三基准部件的方向按压所述板件的所述第四侧面，
在所述板件被定位在所述载置台上的状态下，所述第一按压部件设置于沿所述第二侧面的所述板件的中心轴上，
在所述板件被定位在所述载置台上的状态下，所述第二按压部件设置于沿所述第一侧面的所述板件的中心轴上。
5.根据权利要求4所述的保持装置，其特征在于，
所述按压部件在以使所述板件的所述第一侧面抵接于所述第一基准部件以及所述第二基准部件的方式通过所述第一按压部件按压所述板件的所述第三侧面之后，以使所述板件的所述第二侧面抵接于所述第三基准部件的方式通过所述第二按压部件按压所述板件的所述第四侧面。
6.一种光刻装置，对基板形成图案，其特征在于，
所述光刻装置具有保持所述基板的基板载台，
所述基板载台包含将所述基板作为板件进行保持的保持装置，
所述保持装置具有：
载置台，载置所述板件；
基准部件，设置于所述载置台，作为所述板件的相邻的第一侧面以及第二侧面的定位的基准；
按压部件，设置于所述载置台，以使所述板件的所述第一侧面以及所述第二侧面抵接于所述基准部件的方式分别按压所述板件的所述第一侧面的相反侧的第三侧面以及所述第二侧面的相反侧的第四侧面；
供给部，以使所述板件向从所述按压部件朝向所述基准部件的方向在所述载置台上滑动的方式从所述载置台朝向所述板件供给气体；以及
控制部，控制所述供给部进行的气体的供给，
所述供给部包含：第一供给管，用于向分别包含所述第一侧面和所述第四侧面的所述板件的各周边区域供给所述气体；以及第二供给管，用于向分别包含所述第二侧面和所述第三侧面的所述板件的各周边区域供给所述气体，
所述控制部以在向包含所述第一侧面的所述板件的周边区域供给所述气体之后、向包含所述第四侧面的所述板件的周边区域供给所述气体的方式，向第一供给管供给所述气体，
所述控制部以在向包含所述第二侧面的所述板件的周边区域供给所述气体之后、向包含所述第三侧面的所述板件的周边区域供给所述气体的方式，向第二供给管供给所述气体。
7.根据权利要求6所述的光刻装置，其特征在于，
所述光刻装置还具有掩模载台，所述掩模载台对具有要转印到所述基板的图案的掩模进行保持，
所述掩模载台包含权利要求1至5中的任意一项所述的保持装置，所述保持装置将所述掩模作为板件进行保持。
8.一种光刻装置，对基板形成图案，其特征在于，
所述光刻装置具有掩模载台，所述掩模载台对具有要转印到所述基板的图案的掩模进行保持，
所述掩模载台包含将所述掩模作为板件进行保持的保持装置，
所述保持装置具有：
载置台，载置所述板件；
基准部件，设置于所述载置台，作为所述板件的相邻的第一侧面以及第二侧面的定位的基准；
按压部件，设置于所述载置台，以使所述板件的所述第一侧面以及所述第二侧面抵接于所述基准部件的方式分别按压所述板件的所述第一侧面的相反侧的第三侧面以及所述第二侧面的相反侧的第四侧面；
供给部，以使所述板件向从所述按压部件朝向所述基准部件的方向在所述载置台上滑动的方式从所述载置台朝向所述板件供给气体；以及
控制部，控制所述供给部进行的气体的供给，
所述供给部包含：第一供给管，用于向分别包含所述第一侧面和所述第四侧面的所述板件的各周边区域供给所述气体；以及第二供给管，用于向分别包含所述第二侧面和所述第三侧面的所述板件的各周边区域供给所述气体，
所述控制部以在向包含所述第一侧面的所述板件的周边区域供给所述气体之后、向包含所述第四侧面的所述板件的周边区域供给所述气体的方式，向第一供给管供给所述气体，
所述控制部以在向包含所述第二侧面的所述板件的周边区域供给所述气体之后、向包含所述第三侧面的所述板件的周边区域供给所述气体的方式，向第二供给管供给所述气体。
9.一种物品的制造方法，其特征在于，具有：
使用光刻装置对基板形成图案的工序；
处理在所述工序中形成了所述图案的所述基板的工序；以及
从所处理过的所述基板制造物品的工序，
所述光刻装置具有保持所述基板的基板载台，
所述基板载台包含将所述基板作为板件进行保持的保持装置，
所述保持装置具有：
载置台，载置所述板件；
基准部件，设置于所述载置台，作为所述板件的相邻的第一侧面以及第二侧面的定位的基准；
按压部件，设置于所述载置台，以使所述板件的所述第一侧面以及所述第二侧面抵接于所述基准部件的方式分别按压所述板件的所述第一侧面的相反侧的第三侧面以及所述第二侧面的相反侧的第四侧面；
供给部，以使所述板件向从所述按压部件朝向所述基准部件的方向在所述载置台上滑动的方式从所述载置台朝向所述板件供给气体；以及
控制部，控制所述供给部进行的气体的供给，
所述供给部包含：第一供给管，用于向分别包含所述第一侧面和所述第四侧面的所述板件的各周边区域供给所述气体；以及第二供给管，用于向分别包含所述第二侧面和所述第三侧面的所述板件的各周边区域供给所述气体，
所述控制部以在向包含所述第一侧面的所述板件的周边区域供给所述气体之后、向包含所述第四侧面的所述板件的周边区域供给所述气体的方式，向第一供给管供给所述气体，
所述控制部以在向包含所述第二侧面的所述板件的周边区域供给所述气体之后、向包含所述第三侧面的所述板件的周边区域供给所述气体的方式，向第二供给管供给所述气体。
10.一种物品的制造方法，其特征在于，具有：
使用光刻装置对基板形成图案的工序；
处理在所述工序中形成了所述图案的所述基板的工序；以及
从所处理过的所述基板制造物品的工序，
所述光刻装置具有掩模载台，所述掩模载台对具有要转印到所述基板的图案的掩模进行保持，
所述掩模载台包含将所述掩模作为板件进行保持的保持装置，
所述保持装置具有：
载置台，载置所述板件；
基准部件，设置于所述载置台，作为所述板件的相邻的第一侧面以及第二侧面的定位的基准；
按压部件，设置于所述载置台，以使所述板件的所述第一侧面以及所述第二侧面抵接于所述基准部件的方式分别按压所述板件的所述第一侧面的相反侧的第三侧面以及所述第二侧面的相反侧的第四侧面；
供给部，以使所述板件向从所述按压部件朝向所述基准部件的方向在所述载置台上滑动的方式从所述载置台朝向所述板件供给气体；以及
控制部，控制所述供给部进行的气体的供给，
所述供给部包含：第一供给管，用于向分别包含所述第一侧面和所述第四侧面的所述板件的各周边区域供给所述气体；以及第二供给管，用于向分别包含所述第二侧面和所述第三侧面的所述板件的各周边区域供给所述气体，
所述控制部以在向包含所述第一侧面的所述板件的周边区域供给所述气体之后、向包含所述第四侧面的所述板件的周边区域供给所述气体的方式，向第一供给管供给所述气体，
所述控制部以在向包含所述第二侧面的所述板件的周边区域供给所述气体之后、向包含所述第三侧面的所述板件的周边区域供给所述气体的方式，向第二供给管供给所述气体。
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