KR102525317B1

KR102525317B1 - 보유 지지 장치, 리소그래피 장치 및 물품의 제조 방법

Info

Publication number: KR102525317B1
Application number: KR1020190092834A
Authority: KR
Inventors: 데페이 사가와; 가즈야 가토
Original assignee: 캐논 가부시끼가이샤
Priority date: 2018-08-08
Filing date: 2019-07-31
Publication date: 2023-04-25
Also published as: CN110824856B; JP7157587B2; CN110824856A; JP2020024334A; KR20200017342A

Abstract

플레이트를 보유 지지하는 보유 지지 장치이며, 상기 플레이트가 적재되는 적재대와, 상기 적재대에 마련되어, 상기 플레이트의 인접하는 제1 측면 및 제2 측면의 위치 결정의 기준이 되는 기준 부재와, 상기 적재대에 마련되고, 상기 플레이트의 상기 제1 측면 및 상기 제2 측면을 상기 기준 부재에 닿게 하도록, 상기 플레이트의 상기 제1 측면의 반대측의 제3 측면 및 상기 제2 측면의 반대측의 제4 측면의 각각을 누르는 압박 부재와, 상기 플레이트가 상기 압박 부재로부터 상기 기준 부재를 향하는 방향으로 경사져서 상기 적재대 위에서 슬라이드하도록, 상기 적재대로부터 상기 플레이트를 향하여 기체를 공급하는 공급부를 갖는 것을 특징으로 하는 보유 지지 장치를 제공한다.

Description

보유 지지 장치, 리소그래피 장치 및 물품의 제조 방법{HOLDING APPARATUS, LITHOGRAPHY APPARATUS, AND METHOD OF MANUFACTURING ARTICLE}

본 발명은 보유 지지 장치, 리소그래피 장치 및 물품의 제조 방법에 관한 것이다.

반도체 소자, 액정 표시 소자, 촬상 소자, 박막 자기 헤드, 그 밖의 디바이스의 제조 공정의 하나인 리소그래피 공정에서는, 노광 장치가 사용되고 있다. 노광 장치는, 마스크에 형성된 패턴의 상을 포토레지스트(감광제)가 도포된 웨이퍼나 유리 플레이트 등의 기판에 투영하여, 관련 기판을 노광한다.

노광 장치에서는, 마스크 스테이지에 마련된 기준 마크에 대해 마스크에 마련된 기준 마크를 맞춤으로써, 마스크 스테이지에 대해 마스크(의 패턴)을 고정밀도로 위치 결정하고 있다. 이와 같은 마스크 스테이지에 대한 마스크의 고정밀도의 위치 결정에는, 일반적으로, 얼라인먼트 스코프(얼라인먼트 광학계)가 사용되기 때문에, 기준 마크에 대한 시야 범위가 한정되어 있다. 마스크 스테이지에 마스크를 반송하는 마스크 반송 유닛에서는, 그의 반송 정밀도(간격 위치 정밀도)가 충분하지 않기 때문에, 얼라인먼트 스코프의 시야 범위에 마스크(의 기준 마크)를 반송할 수 없는 경우가 있다.

그래서, 노광 장치에서는, 마스크 반송 유닛이 마스크를 마스크 스테이지에 반송한 후, 얼라인먼트 스코프의 시야 범위에 마스크의 기준 마크를 배치하기 위한 위치 결정 처리를 행하고 있다. 이러한 위치 결정 처리에서는, 먼저, 마스크 스테이지의 마스크 보유 지지면에 마련된 구멍으로부터 에어를 분사하여 마스크의 하면측에 정압을 부여함으로써, 마스크 스테이지로부터 마스크를 부상시킨다. 그리고, 마스크가 부상한 상태에서, 에어실린더 등의 기계적인 압박 기구를 사용하여, 마스크(의 측면)를 위치 결정의 기준이 되는 기준 핀에 압박함으로써 얼라인먼트 스코프의 시야 범위에 마스크의 기준 마크를 배치하고 있다.

이와 같은 위치 결정 처리에 관련된 기술이 일본 특허 공개 평9-325309호 공보, 일본 특허 공개 제2000-183136호 공보 및 일본 특허 공개 평9-8106호 공보에 제안되어 있다. 일본 특허 공개 평9-325309호 공보에는, 기판(마스크)의 하부에 정압을 부여하고, 기판을 부상시킨 상태에서 기판을 적재하는 스테이지를 기울임으로써, 기판을 기준이 되는 위치에 닿게 하는 기술이 제안되어 있다. 일본 특허 공개 제2000-183136호 공보에는, 스테이지에 마련된 들어 올림 기구를 사용하여, 기판(마스크)을 들어 올려 기울인 상태에서, 기판의 측면을 위치 결정 핀에 닿게 하는 기술이 개시되어 있다. 일본 특허 공개 평9-8106호 공보에는, 스테이지에 마련된 패드에 공급되는 에어의 압력이나 유량을 변화시킴으로써, 기판을 기울여서 기준 핀에 닿게 하는 기술이 개시되어 있다.

그러나, 일본 특허 공개 평9-325309호 공보 및 일본 특허 공개 제2000-183136호 공보에 개시된 기술에 관해서는, 대형화가 진행되고 있는 FPD 노광 장치에 적용하면, 기판을 적재하는 스테이지나 기판 자체를 기울이는 기구도 대형화되고, 비용이 증가되어 버린다. 또한, 일본 특허 공개 평9-8106호 공보에 개시된 기술과 같이, 기판의 하면측에 공급하는 에어의 압력이나 유량을 변화시키는 것만으로는, 현재 사용되고 있는 대형의 기판에 대응하기가 곤란하다. 특히, 마스크의 경우에는, 패턴이 형성되어 있는 중심부를 지지할 수 없고, 마스크를 지지할 수 있는 것은 주변부만이 되기 때문에, 일본 특허 공개 평9-8106호 공보에 개시된 기술을 적용하는 것이 더욱 곤란해진다.

본 발명은 플레이트를 위치 결정하여 보유 지지하는 데 유리한 보유 지지 장치를 제공한다.

본 발명의 일측면으로서의 보유 지지 장치는, 플레이트를 보유 지지하는 보유 지지 장치이며, 상기 플레이트가 적재되는 적재대와, 상기 적재대에 마련되고, 상기 플레이트의 인접하는 제1 측면 및 제2 측면의 위치 결정의 기준이 되는 기준 부재와, 상기 적재대에 마련되고, 상기 플레이트의 상기 제1 측면 및 상기 제2 측면을 상기 기준 부재에 닿게 하도록, 상기 플레이트의 상기 제1 측면의 반대측의 제3 측면 및 상기 제2 측면의 반대측의 제4 측면의 각각을 누르는 압박 부재와, 상기 플레이트가 상기 압박 부재로부터 상기 기준 부재를 향하는 방향으로 경사져서 상기 적재대 위에서 슬라이드하도록, 상기 적재대로부터 상기 플레이트를 향하여 기체를 공급하는 공급부를 갖는 것을 특징으로 한다.

본 발명의 추가적인 목적 또는 그 밖의 측면은, 이하, 첨부 도면을 참조하여 설명되는 바람직한 실시 형태에 의해 밝혀질 것이다.

도 1은, 본 발명의 제1 실시 형태에서의 보유 지지 장치의 구성을 나타내는 개략도이다.
도 2는, 도 1에 도시되는 보유 지지 장치의 적재대에 형성된 홈 및 구멍의 단면을 도시하는 개략도이다.
도 3은, 본 발명의 제2 실시 형태에서의 보유 지지 장치의 구성을 나타내는 개략도이다.
도 4는, 도 1에 도시되는 보유 지지 장치의 동작을 설명하기 위한 흐름도이다.
도 5는, 본 발명의 일측면으로서의 노광 장치의 구성을 나타내는 개략도이다.

이하, 첨부 도면을 참조하여, 본 발명의 적합한 실시 형태에 대해 설명한다. 또한, 각 도면에 있어서, 동일한 부재에 대해서는 동일한 참조 번호를 부여하고, 중복되는 설명은 생략된다.

<제1 실시 형태>

도 1은, 본 발명의 제1 실시 형태에서의 보유 지지 장치(100)의 구성을 도시하는 개략도이다. 보유 지지 장치(100)는, 예를 들어 노광 장치에 사용되는 마스크나 마스크의 패턴이 전사되는 기판 등의 플레이트(1)를 위치 결정하여 보유 지지한다. 보유 지지 장치(100)는, 적재대(2)와, 압박 부재(3)와, 기준 부재(11)와, 기체 공급부(30)를 갖는다.

적재대(2)에는, 플레이트(1)가 적재된다. 또한, 적재대(2)에는, 플레이트(1)의 하면측의 주변 영역을 지지하는 제방부(4)가 마련되어 있다.

기준 부재(11)는, 적재대(2)에 마련되어, 플레이트(1)의 인접하는 제1 측면(1a) 및 제2 측면(1b)의 위치 결정의 기준이 되는 부재이다. 기준 부재(11)는, 본 실시 형태에서는, 플레이트(1)의 위치를 규정하기 위한 3개의 기준 핀으로 구성되어 있다. 기준 부재(11)는, 도 1에 도시된 바와 같이, 플레이트(1)의 제1 측면(1a)이 닿는 제1 기준 핀(제1 기준 부재)(11a) 및 제2 기준 핀(제2 기준 부재)(11b)과, 플레이트(1)의 제2 측면(1b)이 닿는 제3 기준 핀(제3 기준 부재)(11c)을 포함한다. 단, 기준 부재(11)의 구성은, 기준 핀으로 한정되는 것이 아니고, 예를 들어 X 방향 및 Y 방향의 각각을 따라 연장되는(플레이트(1)의 제1 측면(1a) 및 제2 측면(1b)의 각각이 닿는) 연장부를 포함하는 L자 형상의 기준 부재로 치환되어도 된다.

제1 기준 핀(11a) 및 제2 기준 핀(11b)에 플레이트(1)의 제1 측면(1a)이 닿고, 또한, 제3 기준 핀(11c)에 플레이트(1)의 제2 측면(1b)이 닿은 상태를, 본 실시 형태에서는, 플레이트(1)가 적재대 위에서 위치 결정된 상태로 한다. 이러한 상태에 있어서, 예를 들어 얼라인먼트 스코프의 시야 범위에 플레이트(1)의 기준 마크가 배치되도록, 제1 기준 핀(11a), 제2 기준 핀(11b) 및 제3 기준 핀(11c)이 마련되어 있다. 또한, 제1 기준 핀(11a) 및 제2 기준 핀(11b)은, 플레이트(1)가 적재대 위에서 위치 결정된 상태에 있어서, 플레이트(1)의 제2 측면(1b)을 따른 플레이트(1)의 중심축 CA1에 대해 대칭으로 마련되어 있다. 제3 기준 핀(11c)은, 플레이트(1)가 적재대 위에서 위치 결정된 상태에 있어서, 플레이트(1)의 제1 측면(1a)을 따른 플레이트(1)의 중심축 CA2 위(중심축 위)에 마련되어 있다.

압박 부재(3)는, 적재대(2)에 마련되고, 플레이트(1)의 제1 측면(1a) 및 제2 측면(1b)을 기준 부재(11)에 닿게 하도록, 플레이트(1)의 제1 측면(1a)의 반대측의 제3 측면(1c) 및 제2 측면(1b)의 반대측의 제4 측면(1d)의 각각을 누른다. 압박 부재(3)는, 본 실시 형태에서는, 기준 부재(11)에 플레이트(1)가 접하는 측의 반대측으로부터 플레이트(1)(의 측면)를 수평 방향으로 밀도록 구성되어 있다. 압박 부재(3)에는, 일반적인 에어실린더가 사용된다.

압박 부재(3)는, 도 1에 도시된 바와 같이, 제1 기준 핀(11a) 및 제2 기준 핀(11b)을 향하는 방향으로 플레이트(1)의 제3 측면(1c)을 누르는 제1 압박 부재(3a)와, 제3 기준 핀(11c)을 향하는 방향으로 플레이트(1)의 제4 측면(1d)을 누르는 제2 압박 부재(3b)를 포함한다. 제1 압박 부재(3a)는, 플레이트(1)가 적재대 위에서 위치 결정된 상태에 있어서, 플레이트(1)의 제2 측면(1b)을 따른 플레이트(1)의 중심축 CA1 위(중심축 위)에 마련되어 있다. 또한, 제2 압박 부재(3b)는, 플레이트(1)가 적재대 위에서 위치 결정된 상태에 있어서, 플레이트(1)의 제1 측면(1a)을 따른 플레이트(1)의 중심축 CA2 위(중심축 위)에 마련되어 있다.

기체 공급부(30)는, 플레이트(1)가 압박 부재(3)로부터 기준 부재(11)를 향하는 방향으로 경사져서 적재대 위에서 슬라이드하도록, 적재대(2)로부터 플레이트(1)를 향하여 정압의 기체를 공급한다. 또한, 기체 공급부(30)는, 적재대(2)에 있어서 플레이트(1)가 흡착되도록, 적재대(2)로부터 플레이트(1)를 향하여 부압의 기체를 공급한다. 단, 플레이트(1)를 흡착시킬 때는, 플레이트(1)와 적재대(2) 사이의 공간을 배기하게 해도 된다. 기체 공급부(30)는, 도 1에 도시된 바와 같이, 복수의 홈(5)과, 복수의 구멍(6)과, 조인트(7)와, 공급관(8)과, 제어부(9)와, 레귤레이터(12)를 포함한다.

복수의 홈(5)은, 적재대(2)의 제방부(4)에 마련되고, 플레이트(1)를 흡착(보유 지지)하거나, 플레이트(1)를 부상시키거나 하기 위한 홈이다. 홈(5)은, 본 실시 형태에서는, 도 1에 도시된 바와 같이, 일정 영역별로 구획되어 있다.

복수의 홈(5)의 각각의 내부에는, 적재대(2)의 외부, 구체적으로는, 기체 공급원(도시되지 않음)으로부터 공급되는 정압의 기체 또는 부압의 기체를 홈(5)의 내부(플레이트(1)와 적재대(2) 사이의 공간)에 공급하기 위한 구멍(6)이 마련되어 있다. 복수의 구멍(6)은, 적재대(2)의 제1 영역(2a), 제2 영역(2b), 제3 영역(2c) 및 제4 영역(2d)의 각각에 마련되어 있다. 적재대(2)의 제1 영역(2a)은, 플레이트(1)가 적재대 위에서 위치 결정된 상태에 있어서, 플레이트(1)의 제1 측면(1a)을 포함하는 플레이트(1)의 주변 영역에 대향하는 영역이다. 마찬가지로, 적재대(2)의 제2 영역(2b), 제3 영역(2c) 및 제4 영역(2d)은, 플레이트(1)가 적재대 위에서 위치 결정된 상태에 있어서, 플레이트(1)의 제2 측면(1b), 제3 측면(1c) 및 제4 측면(1d)의 각각을 포함하는 플레이트(1)의 각 주변 영역에 대향하는 영역이다. 구멍(6)은, 본 실시 형태에서는, 도 2에 도시된 바와 같이, 적재대(2)의 측면까지 관통하고 있지만, 이것에 한정되는 것은 아니고, 예를 들어 적재대(2)의 하면까지 관통하고 있어도 된다. 도 2는, 적재대(2)에 형성된 홈(5) 및 구멍(6)의 단면을 도시하는 개략도이다. 적재대(2), 구체적으로는, 적재대(2)의 측면 구멍(6)이 관통하고 있는 부분에는, 조인트(7)가 마련되어 있다. 조인트(7)에는, 기체 공급원과 복수의 구멍(6)을 접속하여 복수의 구멍(6)의 각각에 기체를 공급하기 위한 공급관(8)이 접속되어 있다.

제어부(9)는, 예를 들어 전자기 밸브를 포함하고, 기체 공급부(30)에 의한 기체의 공급을 제어한다. 제어부(9)는, 공급관(8) 및 구멍(6)을 통하여 플레이트(1)의 하면(10)(홈(5)의 내부)에 공급되는 기체의 정압과 부압을 전환한다. 또한, 제어부(9)는, 레귤레이터(12)나 스피드 컨트롤러를 사용하여, 홈(5)의 내부에 공급되는 기체의 압력 및 유량 중 적어도 한쪽을 제어(조정)한다.

본 실시 형태에서는, 상술한 바와 같이, 적재대(2)에 있어서, +X 방향측으로 제1 기준 핀(11a) 및 제2 기준 핀(11b)을 마련하고, -Y 방향측으로 제3 기준 핀(11c)을 마련하고 있다. 그리고, 제1 기준 핀(11a) 및 제2 기준 핀(11b)에 플레이트(1)의 제1 측면(1a)을 닿게 하고, 제3 기준 핀(11c)에 플레이트(1)의 제2 측면(1b)을 닿게 함으로써, 적재대 위에서 플레이트(1)를 위치 결정할 수 있다. 그 때문에, 압박 부재(3)는, 플레이트(1)의 제1 측면(1a)의 반대측의 제3 측면(1c) 및 제2 측면(1b)의 반대측의 제4 측면(1d)의 각각을 밀기 위하여, 제1 압박 부재(3a) 및 제2 압박 부재(3b)를 포함한다.

일반적으로, 반송 유닛(도시되지 않음)은, 플레이트(1)를 적재대(2)에 적재(반송)할 때에 플레이트(1)가 기준 부재(11)에 간섭하지 않도록, 플레이트(1)를 기준 부재(11)로부터 -X 방향측 및 +Y 방향측으로 몇㎜ 시프트시킨 상태에서 적재대(2)에 적재한다. 따라서, 플레이트(1)는, 압박 부재(3)에 눌리면, +X 방향 및 -Y 방향으로 수평 이동한다.

적재대(2)의 측면에 마련된 조인트(7)에는, 도 1에 도시된 바와 같이, 2계통으로 분기된 공급관(8), 구체적으로는, 제1 공급관(8a) 및 제2 공급관(8b)이 접속되어 있다. 또한, 제1 공급관(8a) 및 제2 공급관(8b)은, 용력측에서 1계통으로 합류되어 있다. 제1 공급관(8a) 및 제2 공급관(8b)은, -X 방향측 및 +Y 방향 측으로부터 순서대로 접속되어, 기체 공급원측으로부터 본 순번은, 각각 +X 방향 및 -Y 방향을 향하여 순서대로 접속된다. 구체적으로는, 제1 공급관(8a)은, 기체 공급원과 적재대(2)의 제1 영역(2a)에 마련된 복수의 구멍(6)의 각각을 접속시켜 관련 구멍(6)에 기체를 공급한다. 제2 공급관(8b)은, 기체 공급원과 적재대(2)의 제2 영역(2b)에 마련된 복수의 구멍(6)의 각각을 접속시켜 관련 구멍(6)에 기체를 공급한다.

이에 의해, 플레이트(1)가 적재대(2)에 적재되어, 플레이트(1)의 하면(10)에 정압의 기체를 공급할 때에 플레이트(1)는 -X 방향측 및 +Y 방향 측으로부터 순서대로 부상하기 시작하고, 기준 부재(11)가 배치되어 있는 +X 방향측 및 -Y 방향측을 향하여 흐르는 힘이 플레이트(1)에 가해진다. 바꾸어 말하면, 플레이트(1)는, 압박 부재(3)로부터 기준 부재(11)를 향하는 방향으로 경사져서 적재대 위에서 슬라이드한다.

또한, 정압의 압력 손실에 의해, 제1 공급관(8a) 및 제2 공급관(8b)의 말단측에서는, 원압측에 비하여, 압력이 저하된다. 본 실시 형태에서는, X 방향에서는, +측보다도 -측의 쪽이 압력이 높은 상태로 유지되며, Y 방향에서는, -측보다도 +측의 쪽이 압력이 높은 상태로 유지된다. 따라서, 플레이트(1)는, 압박 부재(3)가 플레이트(1)를 미는 방향을 향하여 경사져서 부상한 상태로 되기 때문에, 압박 부재(3)에 의해 플레이트(1)를 기준 부재(11)에 용이하게 닿게 할 수 있다.

이와 같이, 기체 공급부(30)가 기체를 공급하고 있는 상태, 즉, 플레이트(1)가 경사져서 부상하고 있는 상태에 있어서, 압박 부재(3)는, 플레이트(1)를 기준 부재(11)에 닿게 하도록, 플레이트(1)를 누른다. 이에 의해, 압박 부재(3)의 추력을 증가시키지 않고, 플레이트(1)를 안정적으로 위치 결정하는 것이 가능해진다. 이 때, 기준 부재(11)에 대한 플레이트(1)의 닿게 함의 순서는, 이하와 같이 하면 된다. 먼저, 플레이트(1)의 제1 측면(1a)을 제1 기준 부재(11a) 및 제2 기준 부재(11b)에 닿게 하는 제1 압박 부재(3a)에 의해 플레이트(1)의 제3 측면(1c)을 누른다. 이에 의해, 플레이트(1)의 회전 방향이 위치 결정된다. 그 후, 플레이트(1)의 제2 측면(1b)을 제3 기준 부재(11c)에 닿게 하는 제2 압박 부재(3b)에 의해 플레이트(1)의 제4 측면(1d)을 누른다.

플레이트(1)가 적재대 위에서 위치 결정되면, 기체 공급부(30)로부터 홈(5)의 내부에 부압이 공급되어, 플레이트(1)가 적재대(2)에 흡착된다(보유 지지된다).

또한, 기준 부재(11)의 배치나 수, 및 플레이트(1)를 미는 방향에 대해서는 임의이지만, 압박 부재(3)의 배치에 관해서는, 기준 부재(11)를 향하여 플레이트(1)를 밀 수 있도록 할 필요가 있다. 또한, 2계통으로 분기된 공급관(8)의 접속 순서에 관해서도, 압박 부재(3)로 플레이트(1)를 미는 방향을 향하여 순서대로 접속할 필요가 있다.

<제2 실시 형태>

도 3은, 본 발명의 제2 실시 형태에서의 보유 지지 장치(100B)의 구성을 도시하는 개략도이다. 보유 지지 장치(100B)에서는, 적재대(2)의 제방부(4)에 마련된 홈(5)이 복수의 에어리어로 나뉘며, 각각의 에어리어에는 구멍(6)이 마련되어 있다. 본 실시 형태에서는, 구멍(6)에 대해, 에어리어별로 개별로 조인트(7)가 마련되고, 조인트(7)에 접속되는 공급관(8)도 각각 개별로 마련되어 있다. 공급관(8)은, 도 3에 도시된 바와 같이, C1 내지 C8의 조합별로 집약되어, 각 조합이 개별의 레귤레이터(12)에 접속되고, 개별의 제어부(9)에 의해, C1 내지 C8의 조합(에어리어)별로, 기체 공급원으로부터 공급되는 기체의 온·오프가 제어된다.

본 실시 형태에서는, 플레이트(1)가 적재대(2)에 적재되어, 플레이트(1)의 하면(10)에 정압의 기체를 공급할 때에 C1 내지 C8의 조합에 일률적으로 기체를 공급하는 것이 아니고, 플레이트(1)를 미는 방향에 따라 순서대로 기체를 공급한다. 바꾸어 말하면, 플레이트(1)를 압박 부재(3)로부터 기준 부재(11)를 향하는 방향으로 경사시켜 플레이트(1)가 적재대 위에서 슬라이드하도록, 기체 공급원으로부터 복수의 공급관(8)의 각각(C1 내지 C8의 조합)에 기체를 공급하는 타이밍을 제어한다.

구체적으로는, 플레이트(1)를 +X 방향 및 -Y 방향으로 밀기 위하여, C1, C2, C3, C4, C5, C6, C7 및 C8의 순서대로 정압의 기체를 공급한다. 이에 의해, 플레이트(1)의 -X 방향측 및 +Y 방향측으로부터 순서대로 부상하기 시작해, 기준 부재(11)가 배치되어 있는 +X 방향측 및 -Y 방향측을 향하여 진행하는 힘이 플레이트(1)에 가해진다. 이와 같은 상태에 있어서, 압박 부재(3)는, 플레이트(1)를 기준 부재(11)에 닿게 하도록, 플레이트(1)를 누른다. 이에 의해, 압박 부재(3)의 추력을 증가시키지 않고, 플레이트(1)를 안정적으로 위치 결정하는 것이 가능해진다.

또한, 홈(5)의 에어리어 분리 방법이나 수, 및 기체 공급원으로부터의 기체를 각 공급관(8)에 공급하는 타이밍은, 본 실시 형태에 한정되는 것은 아니다. 단, 플레이트(1)를 미는 방향을 향하여 플레이트(1)가 진행하는 힘이 발생하도록, 기체 공급원으로부터의 기체를 각 공급관(8)에 공급하는 타이밍을 제어할 필요가 있다. 또한, 본 실시 형태에서는, 각 공급관(8)은, 기체 공급원과 2개의 구멍(6)의 각각을 접속하고 있지만, 이것에 한정되는 것은 아니고, 기체 공급원과 복수의 구멍(6) 중 적어도 하나의 구멍(6)을 접속하고 있으면 된다.

<제3 실시 형태>

본 실시 형태에서는, 도 3에 도시된 바와 같이, 구멍(6)에 대해, 에어리어별로 개별로 조인트(7)가 마련되고, 조인트(7)에 접속하는 공급관(8)도 각각 개별로 마련되어 있다. 또한, 제2 실시 형태와 마찬가지로, 공급관(8)은, C1 내지 C8의 조합별로 집약되어, 각 조합이 개별의 레귤레이터(12)에 접속되어 있다. 본 실시 형태에서는, 개별의 제어부(9)에 의해, C1 내지 C8의 조합(에어리어)별로, 기체 공급원으로부터 공급되는 기체의 압력 및 유량 중 적어도 한쪽이 제어된다.

예를 들어, 본 실시 형태에서는, 플레이트(1)가 적재대(2)에 적재되고, 플레이트(1)의 하면(10)에 정압의 기체를 공급할 때, 플레이트(1)를 미는 방향에 따라 순서대로 압력이 감소되도록, C1 내지 C8의 조합별로, 공급관(8)에 공급하는 기체의 압력을 제어한다. 구체적으로는, 플레이트(1)를 +X 방향 및 -Y 방향으로 밀기 위하여, C1, C2, C3, C4, C5, C6, C7 및 C8의 순서대로 압력이 낮아지도록(즉, 고압력으로부터 저압력이 되도록), 공급관(8)에 공급하는 기체의 압력을 제어한다. 이에 의해, 플레이트(1)의 -X 방향측 및 +Y 방향측으로부터 순서대로 플레이트(1)의 부상량이 작아지기 때문에, 기준 부재(11)가 배치되어 있는 +X 방향측 및 -Y 방향측을 향하여 진행하는 힘이 플레이트(1)에 가해진다. 이와 같은 상태에 있어서, 압박 부재(3)는, 플레이트(1)를 기준 부재(11)에 닿게 하도록, 플레이트(1)를 누른다. 이에 의해, 압박 부재(3)의 추력을 증가시키지 않고, 플레이트(1)를 안정적으로 위치 결정하는 것이 가능해진다.

또한, 홈(5)의 에어리어 분리 방법이나 수, 및 기체 공급원으로부터의 기체의 압력의 제어는, 본 실시 형태에 한정되는 것은 아니다. 단, 플레이트(1)를 미는 방향을 향하여 플레이트(1)가 진행하는 힘이 발생하도록, 기체 공급원으로부터 각 공급관(8)에 공급하는 기체의 압력(압력차)을 제어할 필요가 있다.

<제4 실시 형태>

도 4를 참조하여, 보유 지지 장치(100)의 동작에 대해 설명한다. 여기에서는, 보유 지지 장치(100)를 예로 들어 설명하지만, 보유 지지 장치(100B)도 마찬가지로 동작한다. 도 4는, 보유 지지 장치(100)의 동작을 설명하기 위한 흐름도이다. S102에서는, 반송 유닛에 의해, 플레이트(1)를 적재대(2)에 적재한다. 이 때, 상술한 바와 같이, 플레이트(1)는, 기준 부재(11)로부터 -X 방향측 및 +Y 방향측으로 시프트시킨 상태에서 적재대(2)에 적재된다.

S104에서는, 기체 공급부(30)에 의해, 플레이트(1)를 압박 부재(3)로부터 기준 부재(11)를 향하는 방향으로 경사시켜 플레이트(1)가 적재대 위에서 슬라이드하도록, 적재대(2)로부터 플레이트(1)를 향하여 정압의 기체를 공급한다. 이에 의해, 상술한 바와 같이, 플레이트(1)는 -X 방향측 및 +Y 방향측으로부터 순서대로 부상하기 시작해, 기준 부재(11)가 배치되어 있는 +X 방향측 및 -Y 방향측을 향하여 진행하는 힘이 플레이트(1)에 가해진다.

S106에서는, 기체 공급부(30)가 기체를 공급하고 있는 상태, 즉, 플레이트(1)가 경사져서 부상하고 있는 상태에 있어서, 압박 부재(3)는, 플레이트(1)를 기준 부재(11)에 닿게 하도록, 플레이트(1)를 누른다. 플레이트(1)가 경사져서 부상하고 있기 때문에, 상술한 바와 같이, 압박 부재(3)의 추력을 증가시키지 않고, 플레이트(1)를 안정적으로 위치 결정할 수 있다.

S108에서는, 기체 공급부(30)에 의해, 홈(5)의 내부에 부압을 공급하여, 적재대(2)에 있어서, 플레이트(1)를 흡착한다(보유 지지한다).

<제5 실시 형태>

도 5를 참조하여, 본 발명의 일측면으로서의 노광 장치(500)에 대해 설명한다. 노광 장치(500)는, 반도체 소자나 액정 표시 소자의 제조 공정인 리소그래피 공정에 채용되어, 기판에 패턴을 형성하는 리소그래피 장치이다. 노광 장치(500)는, 마스크(원판)를 통하여 기판을 노광하여, 마스크의 패턴을 기판에 전사한다.

노광 장치(500)는, 도 5에 도시된 바와 같이, 조명 광학계(510)와, 투영 광학계(520)와, 마스크(530)를 보유 지지하여 이동하는 마스크 스테이지(540)와, 기판(550)을 보유 지지하여 이동하는 기판 스테이지(560)를 갖는다. 또한, 노광 장치(500)는, CPU나 메모리 등을 포함하는 컴퓨터로 구성되고, 기억부에 기억된 프로그램에 따라 노광 장치(500)의 각 부를 통괄적으로 제어하여 노광 장치(500)를 동작시키는 제어부(570)를 갖는다.

조명 광학계(510)는, 예를 들어 복수의 렌즈나 미러 등을 포함하고, 광원으로부터의 광으로 마스크(530)를 조명하는 광학계이다.

마스크(530)는, 마스크 스테이지(540)에 보유 지지되어 있다. 마스크(530)에는, 기판(550)에 형성해야 할 패턴에 대응하는 패턴이 형성되어 있다. 기판(550)은, 기판 스테이지(560)에 보유 지지되어 있다. 마스크 스테이지(540)나 기판 스테이지(560)에는, 마스크(530)나 기판(550)을 보유 지지하는 보유 지지 장치로서, 상술한 보유 지지 장치(100, 100A 또는 100B)를 적용한다. 보유 지지 장치(100, 100A 또는 100B)는, 상술한 바와 같이, 마스크(530)나 기판(550)을 위치 결정하여 보유 지지하는 데 유리하다. 따라서, 마스크 스테이지(540)에 있어서의 마스크(530)의 얼라인먼트, 기판 스테이지(560)에 있어서의 기판(550)의 얼라인먼트, 및 마스크(530)와 기판(550)의 얼라인먼트를 고정밀도로 행할 수 있다.

마스크(530)와 기판(550)은, 투영 광학계(520)를 통하여, 광학적으로 거의 공액인 위치(투영 광학계(520)의 물체면 및 상면의 위치)에 배치되어 있다. 투영 광학계(520)는, 물체를 상 면에 투영하는 광학계이다. 투영 광학계(520)에는, 도 5에 도시되는 반사계뿐만 아니라, 굴절계나 반사 굴절계도 적용할 수 있다. 투영 광학계(520)는, 본 실시 형태에서는, 소정의 투영 배율을 갖고, 마스크(530)에 형성된 패턴을 기판(550)에 투영한다. 그리고, 마스크 스테이지(540) 및 기판 스테이지(560)를, 투영 광학계(520)의 물체면과 평행인 방향(예를 들어, X 방향)에, 투영 광학계(520)의 투영 배율에 따른 속도비로 주사한다. 이에 의해, 마스크(530)에 형성된 패턴을 기판(550)에 전사할 수 있다.

본 발명의 실시 형태에 있어서의 물품의 제조 방법은, 예를 들어 디바이스(반도체 소자, 자기 기억 매체, 액정 표시 소자 등) 등의 물품을 제조하기에 적합하다. 이러한 제조 방법은, 노광 장치(500)를 사용하여, 감광제가 도포된 기판을 노광하는(패턴을 기판에 형성하는) 공정과, 노광된 기판을 현상하는(기판을 처리하는) 공정을 포함한다. 또한, 이와 같은 제조 방법은, 다른 주지의 공정(산화, 성막, 증착, 도핑, 평탄화, 에칭, 레지스트 박리, 다이싱, 본딩, 패키징 등)을 포함할 수 있다. 본 실시 형태에 있어서의 물품의 제조 방법은, 종래에 비해서, 물품의 성능, 품질, 생산성 및 생산 비용 중 적어도 하나에 있어서 유리하다.

이상, 본 발명의 바람직한 실시 형태에 대해 설명했지만, 본 발명은 이들 실시 형태에 한정되지 않음은 물론, 그 요지의 범위 내에서 다양한 변형 및 변경이 가능하다. 예를 들어, 본 발명은 리소그래피 장치를 노광 장치에 한정하는 것은 아니고, 임프린트 장치나 묘화 장치 등의 리소그래피 장치에도 적용할 수 있다. 여기서, 임프린트 장치는, 기판 위에 공급된 임프린트재와 형을 접촉시켜서, 임프린트재에 경화용 에너지를 부여함으로써, 형의 패턴이 전사된 경화물의 패턴을 형성한다. 또한, 묘화 장치는, 하전 입자선(전자선)이나 레이저 빔에서 기판에 묘화를 행함으로써 기판 위에 패턴(잠상 패턴)을 형성한다. 상술한 물품의 제조 방법은, 이들 리소그래피 장치를 사용하여 행해도 된다.

Claims

플레이트를 보유 지지하는 보유 지지 장치이며,
상기 플레이트가 적재되는 적재대와,
상기 적재대에 마련되고, 상기 플레이트의 인접하는 제1 측면 및 제2 측면의 위치 결정의 기준이 되는 기준 부재와,
상기 적재대에 마련되고, 상기 플레이트의 상기 제1 측면 및 상기 제2 측면을 상기 기준 부재에 닿게 하도록, 상기 플레이트의 상기 제1 측면의 반대측의 제3 측면 및 상기 제2 측면의 반대측의 제4 측면의 각각을 누르는 압박 부재와,
상기 플레이트가 상기 압박 부재로부터 상기 기준 부재를 향하는 방향으로 상기 적재대 위에서 슬라이드하도록, 상기 적재대로부터 상기 플레이트를 향하여 기체를 공급하는 공급부를 포함하고,
상기 공급부는, 상기 제1 측면 및 상기 제4 측면 각각을 포함하는 상기 플레이트의 각 주변 영역에 상기 기체를 공급하기 위한 제1 공급관, 및 상기 제2 측면 및 상기 제3 측면 각각을 포함하는 상기 플레이트의 각 주변 영역에 상기 기체를 공급하기 위한 제2 공급관을 포함하는 것을 특징으로 하는, 보유 지지 장치.
제1항에 있어서,
상기 압박 부재는, 상기 공급부가 상기 기체를 공급하고 있는 상태에 있어서, 상기 플레이트의 상기 제3 측면 및 상기 제4 측면의 각각을 누르는 것을 특징으로 하는, 보유 지지 장치.
제1항에 있어서,
상기 기준 부재는, 상기 제1 측면이 닿는 제1 기준 부재 및 제2 기준 부재와, 상기 제2 측면이 닿는 제3 기준 부재를 포함하고,
상기 제1 기준 부재 및 상기 제2 기준 부재는, 상기 플레이트가 상기 적재대 위에서 위치 결정된 상태에 있어서, 상기 제2 측면을 따른 상기 플레이트의 중심축에 대해 대칭으로 마련되고,
상기 제3 기준 부재는, 상기 플레이트가 상기 적재대 위에서 위치 결정된 상태에 있어서, 상기 제1 측면을 따른 상기 플레이트의 중심축 위에 마련되어 있는 것을 특징으로 하는, 보유 지지 장치.
제3항에 있어서,
상기 압박 부재는, 상기 제1 기준 부재 및 상기 제2 기준 부재를 향하는 방향으로 상기 플레이트의 상기 제3 측면을 누르는 제1 압박 부재와, 상기 제3 기준 부재를 향하는 방향으로 상기 플레이트의 상기 제4 측면을 누르는 제2 압박 부재를 포함하고,
상기 제1 압박 부재는, 상기 플레이트가 상기 적재대 위에서 위치 결정된 상태에 있어서, 상기 제2 측면을 따른 상기 플레이트의 중심축 위에 마련되고,
상기 제2 압박 부재는, 상기 플레이트가 상기 적재대 위에서 위치 결정된 상태에 있어서, 상기 제1 측면을 따른 상기 플레이트의 중심축 위에 마련되어 있는 것을 특징으로 하는, 보유 지지 장치.
제4항에 있어서,
상기 압박 부재는, 상기 플레이트의 상기 제1 측면을 상기 제1 기준 부재 및 상기 제2 기준 부재에 닿게 하도록 상기 제1 압박 부재에 의해 상기 플레이트의 상기 제3 측면을 누른 후, 상기 플레이트의 상기 제2 측면을 상기 제3 기준 부재에 닿게 하도록 상기 제2 압박 부재에 의해 상기 플레이트의 상기 제4 측면을 누르는 것을 특징으로 하는, 보유 지지 장치.
플레이트를 보유 지지하는 보유 지지 장치이며,
상기 플레이트가 적재되는 적재대와,
상기 적재대에 마련되고, 상기 플레이트의 인접하는 제1 측면 및 제2 측면의 위치 결정의 기준이 되는 기준 부재와,
상기 적재대에 마련되고, 상기 플레이트의 상기 제1 측면 및 상기 제2 측면을 상기 기준 부재에 닿게 하도록, 상기 플레이트의 상기 제1 측면의 반대측의 제3 측면 및 상기 제2 측면의 반대측의 제4 측면의 각각을 누르는 압박 부재와,
상기 플레이트가 상기 압박 부재로부터 상기 기준 부재를 향하는 방향으로 상기 적재대 위에서 슬라이드하도록, 상기 적재대로부터 상기 플레이트를 향하여 기체를 공급하는 공급부를 포함하고,
상기 공급부는,
상기 플레이트가 상기 적재대 위에서 위치 결정된 상태에 있어서, 상기 제1 측면, 상기 제2 측면, 상기 제3 측면 및 상기 제4 측면의 각각을 포함하는 상기 플레이트의 각 주변 영역에 대향하는 상기 적재대의 제1 영역, 제2 영역, 제3 영역 및 제4 영역의 각각에 마련되고, 상기 플레이트를 향하여 상기 기체를 공급하기 위한 복수의 구멍과,
상기 기체의 공급원과 상기 제1 영역에 마련된 상기 복수의 구멍 및 상기 제4 영역에 마련된 상기 복수의 구멍을 접속하여 해당 구멍에 상기 기체를 공급하기 위한 제1 공급관과,
상기 공급원과 상기 제2 영역에 마련된 상기 복수의 구멍 및 상기 제3 영역에 마련된 상기 복수의 구멍을 접속하여 해당 구멍에 상기 기체를 공급하기 위한 제2 공급관을 포함하는 것을 특징으로 하는, 보유 지지 장치.
제1항에 있어서,
상기 공급부는,
상기 플레이트가 상기 적재대 위에서 위치 결정된 상태에 있어서, 상기 제1 측면, 상기 제2 측면, 상기 제3 측면 및 상기 제4 측면의 각각을 포함하는 상기 플레이트의 각 주변 영역에 대향하는 상기 적재대의 제1 영역, 제2 영역, 제3 영역 및 제4 영역의 각각에 마련되고, 상기 플레이트를 향하여 상기 기체를 공급하기 위한 복수의 구멍과,
상기 플레이트가 상기 압박 부재로부터 상기 기준 부재를 향하는 방향으로 상기 적재대 위에서 슬라이드하도록, 상기 기체의 공급원으로부터 상기 제1 공급관 및 상기 제2 공급관의 각각에 상기 기체를 공급하는 타이밍을 제어하는 제어부를 포함하고,
상기 제1 공급관 및 상기 제2 공급관은, 상기 기체의 공급원과 상기 복수의 구멍 중 적어도 하나의 구멍을 접속하여 해당 구멍에 상기 기체를 공급하는 것을 특징으로 하는, 보유 지지 장치.
제1항에 있어서,
상기 공급부는,
상기 플레이트가 상기 적재대 위에서 위치 결정된 상태에 있어서, 상기 제1 측면, 상기 제2 측면, 상기 제3 측면 및 상기 제4 측면의 각각을 포함하는 상기 플레이트의 각 주변 영역에 대향하는 상기 적재대의 제1 영역, 제2 영역, 제3 영역 및 제4 영역의 각각에 마련되고, 상기 플레이트를 향하여 상기 기체를 공급하기 위한 복수의 구멍과,
상기 플레이트가 상기 압박 부재로부터 상기 기준 부재를 향하는 방향으로 상기 적재대 위에서 슬라이드하도록, 상기 기체의 공급원으로부터 상기 복수의 공급관의 각각에 공급되는 상기 기체의 압력과 유량 중 적어도 한쪽을 제어하는 제어부를 포함하고,
상기 제1 공급관 및 상기 제2 공급관은, 상기 기체의 공급원과 상기 복수의 구멍 중 적어도 하나의 구멍을 접속하여 해당 구멍에 상기 기체를 공급하는 것을 특징으로 하는, 보유 지지 장치.
기판에 패턴을 형성하는 리소그래피 장치이며,
상기 기판을 보유 지지하는 기판 스테이지를 갖고,
상기 기판 스테이지는, 상기 기판을 플레이트로서 보유 지지하는 보유 지지 장치를 포함하고,
상기 보유 지지 장치는,
상기 플레이트가 적재되는 적재대와,
상기 적재대에 마련되고, 상기 플레이트의 인접하는 제1 측면 및 제2 측면의 위치 결정의 기준이 되는 기준 부재와,
상기 적재대에 마련되고, 상기 플레이트의 상기 제1 측면 및 상기 제2 측면을 상기 기준 부재에 닿게 하도록, 상기 플레이트의 상기 제1 측면의 반대측의 제3 측면 및 상기 제2 측면의 반대측의 제4 측면의 각각을 누르는 압박 부재와,
상기 플레이트가 상기 압박 부재로부터 상기 기준 부재를 향하는 방향으로 상기 적재대 위에서 슬라이드하도록, 상기 적재대로부터 상기 플레이트를 향하여 기체를 공급하는 공급부를 포함하고,
상기 공급부는, 상기 제1 측면 및 상기 제4 측면 각각을 포함하는 상기 플레이트의 각 주변 영역에 상기 기체를 공급하기 위한 제1 공급관, 및 상기 제2 측면 및 상기 제3 측면 각각을 포함하는 상기 플레이트의 각 주변 영역에 상기 기체를 공급하기 위한 제2 공급관을 포함하는 것을 특징으로 하는, 리소그래피 장치.
제9항에 있어서,
상기 기판에 전사해야 할 패턴을 갖는 마스크를 보유 지지하는 마스크 스테이지를 더 갖고,
상기 마스크 스테이지는, 상기 마스크를 플레이트로서 보유 지지하는 제1항 내지 제8항 중 어느 하나에 기재된 보유 지지 장치를 포함하는 것을 특징으로 하는, 리소그래피 장치.
기판에 패턴을 형성하는 리소그래피 장치이며,
상기 기판에 전사해야 할 패턴을 갖는 마스크를 보유 지지하는 마스크 스테이지를 갖고,
상기 마스크 스테이지는, 상기 마스크를 플레이트로서 보유 지지하는 보유 지지 장치를 포함하고,
상기 보유 지지 장치는,
상기 플레이트가 적재되는 적재대와,
상기 적재대에 마련되고, 상기 플레이트의 인접하는 제1 측면 및 제2 측면의 위치 결정의 기준이 되는 기준 부재와,
상기 적재대에 마련되고, 상기 플레이트의 상기 제1 측면 및 상기 제2 측면을 상기 기준 부재에 닿게 하도록, 상기 플레이트의 상기 제1 측면의 반대측의 제3 측면 및 상기 제2 측면의 반대측의 제4 측면의 각각을 누르는 압박 부재와,
상기 플레이트가 상기 압박 부재로부터 상기 기준 부재를 향하는 방향으로 상기 적재대 위에서 슬라이드하도록, 상기 적재대로부터 상기 플레이트를 향하여 기체를 공급하는 공급부를 포함하고,
상기 공급부는, 상기 제1 측면 및 상기 제4 측면 각각을 포함하는 상기 플레이트의 각 주변 영역에 상기 기체를 공급하기 위한 제1 공급관, 및 상기 제2 측면 및 상기 제3 측면 각각을 포함하는 상기 플레이트의 각 주변 영역에 상기 기체를 공급하기 위한 제2 공급관을 포함하는 것을 특징으로 하는, 리소그래피 장치.
물품의 제조 방법이며,
리소그래피 장치를 사용하여 패턴을 기판에 형성하는 공정과,
상기 공정에서 상기 패턴이 형성된 상기 기판을 처리하는 공정과,
처리된 상기 기판으로부터 물품을 제조하는 공정을 갖고,
상기 리소그래피 장치는,
상기 기판을 보유 지지하는 기판 스테이지를 갖고,
상기 기판 스테이지는, 상기 기판을 플레이트로서 보유 지지하는 보유 지지 장치를 포함하고,
상기 보유 지지 장치는,
상기 플레이트가 적재되는 적재대와,
상기 적재대에 마련되고, 상기 플레이트의 인접하는 제1 측면 및 제2 측면의 위치 결정의 기준이 되는 기준 부재와,
상기 적재대에 마련되고, 상기 플레이트의 상기 제1 측면 및 상기 제2 측면을 상기 기준 부재에 닿게 하도록, 상기 플레이트의 상기 제1 측면의 반대측의 제3 측면 및 상기 제2 측면의 반대측의 제4 측면의 각각을 누르는 압박 부재와,
상기 플레이트가 상기 압박 부재로부터 상기 기준 부재를 향하는 방향으로 상기 적재대 위에서 슬라이드하도록, 상기 적재대로부터 상기 플레이트를 향하여 기체를 공급하는 공급부를 포함하고,
상기 공급부는, 상기 제1 측면 및 상기 제4 측면 각각을 포함하는 상기 플레이트의 각 주변 영역에 상기 기체를 공급하기 위한 제1 공급관, 및 상기 제2 측면 및 상기 제3 측면 각각을 포함하는 상기 플레이트의 각 주변 영역에 상기 기체를 공급하기 위한 제2 공급관을 포함하는 것을 특징으로 하는, 물품의 제조 방법.
물품의 제조 방법이며,
리소그래피 장치를 사용하여 패턴을 기판에 형성하는 공정과,
상기 공정에서 상기 패턴이 형성된 상기 기판을 처리하는 공정과,
처리된 상기 기판으로부터 물품을 제조하는 공정을 갖고,
상기 리소그래피 장치는,
상기 기판에 전사해야 할 패턴을 갖는 마스크를 보유 지지하는 마스크 스테이지를 갖고,
상기 마스크 스테이지는, 상기 마스크를 플레이트로서 보유 지지하는 보유 지지 장치를 포함하고,
상기 보유 지지 장치는,
상기 플레이트가 적재되는 적재대와,
상기 적재대에 마련되고, 상기 플레이트의 인접하는 제1 측면 및 제2 측면의 위치 결정의 기준이 되는 기준 부재와,
상기 적재대에 마련되고, 상기 플레이트의 상기 제1 측면 및 상기 제2 측면을 상기 기준 부재에 닿게 하도록, 상기 플레이트의 상기 제1 측면의 반대측의 제3 측면 및 상기 제2 측면의 반대측의 제4 측면의 각각을 누르는 압박 부재와,
상기 플레이트가 상기 압박 부재로부터 상기 기준 부재를 향하는 방향으로 상기 적재대 위에서 슬라이드하도록, 상기 적재대로부터 상기 플레이트를 향하여 기체를 공급하는 공급부를 포함하고,
상기 공급부는, 상기 제1 측면 및 상기 제4 측면 각각을 포함하는 상기 플레이트의 각 주변 영역에 상기 기체를 공급하기 위한 제1 공급관, 및 상기 제2 측면 및 상기 제3 측면 각각을 포함하는 상기 플레이트의 각 주변 영역에 상기 기체를 공급하기 위한 제2 공급관을 포함하는 것을 특징으로 하는, 물품의 제조 방법.