JP7157587B2 - 保持装置、リソグラフィ装置及び物品の製造方法 - Google Patents

Description

本発明は、保持装置、リソグラフィ装置及び物品の製造方法に関する。

半導体素子、液晶表示素子、撮像素子、薄膜磁気ヘッド、その他のデバイスの製造工程の１つであるリソグラフィ工程では、露光装置が用いられている。露光装置は、マスクに形成されたパターンの像をフォトレジスト（感光剤）が塗布されたウエハやガラスプレートなどの基板に投影して、かかる基板を露光する。

露光装置では、マスクステージに設けられた基準マークに対してマスクに設けられた基準マークを合わせることで、マスクステージに対してマスク（のパターン）を高精度に位置決めしている。このようなマスクステージに対するマスクの高精度な位置決めには、一般的に、アライメントスコープ（アライメント光学系）が用いられるため、基準マークに対する視野範囲が限られている。マスクステージにマスクを搬送するマスク搬送ユニットでは、その搬送精度（置き位置精度）が十分ではないため、アライメントスコープの視野範囲にマスク（の基準マーク）を搬送できない場合がある。

そこで、露光装置では、マスク搬送ユニットがマスクをマスクステージに搬送した後、アライメントスコープの視野範囲にマスクの基準マークを配置するための位置決め処理を行っている。かかる位置決め処理では、まず、マスクステージのマスク保持面に設けられた孔からエアを吹き付けてマスクの下面側に正圧を付与することで、マスクステージからマスクを浮上させる。そして、マスクが浮上した状態で、エアシリンダなどの機械的な押付機構を用いて、マスク（の側面）を位置決めの基準となる基準ピンに押し付けることでアライメントスコープの視野範囲にマスクの基準マークを配置している。

このような位置決め処理に関連する技術が従来から提案されている（特許文献１乃至３参照）。特許文献１には、基板（マスク）の下部に正圧を付与し、基板を浮上させた状態で基板を載置するステージを傾けることで、基板を基準となる位置に突き当てる技術が提案されている。特許文献２には、ステージに設けられた持上機構を用いて、基板（マスク）を持ち上げて傾けた状態で、基板の側面を位置決めピンに突き当てる技術が開示されている。特許文献３には、ステージに設けられたパッドに供給されるエアの圧力や流量を変化させることで、基板を傾けて基準ピンに突き当てる技術が開示されている。

特開平９－３２５３０９号公報 特開２０００－１８３１３６号公報 特開平９－８１０６号公報

しかしながら、特許文献１及び２に開示された技術に関しては、大型化が進んでいるＦＰＤ露光装置に適用すると、基板を載置するステージや基板自体を傾ける機構も大型化して、コストが増加してしまう。また、特許文献３に開示された技術のように、基板の下面側に供給するエアの圧力や流量を変化させるだけでは、現在用いられているような大型の基板に対応することは困難である。特に、マスクの場合には、パターンが形成されている中心部を支持することができず、マスクを支持することができるのは周辺部のみとなるため、特許文献３に開示された技術を適用することが更に困難となる。

本発明は、このような従来技術の課題に鑑みてなされ、プレートを位置決めして保持するのに有利な保持装置を提供することを例示的目的とする。

上記目的を達成するために、本発明の一側面としての保持装置は、プレートを保持する保持装置であって、前記プレートが載置される載置台と、前記載置台に設けられ、前記プレートの隣り合う第１側面及び第２側面の位置決めの基準となる基準部材と、前記載置台に設けられ、前記プレートの前記第１側面及び前記第２側面を前記基準部材に突き当てるように、前記プレートの前記第１側面の反対側の第３側面及び前記第２側面の反対側の第４側面のそれぞれを押す押付部材と、前記プレートが前記押付部材から前記基準部材に向かう方向に前記載置台上でスライドするように、前記載置台から前記プレートに向けて気体を供給する供給部と、を有し、前記供給部は、前記第１側面及び前記第４側面のそれぞれを含む前記プレートの各周辺領域に前記気体を供給するための第１供給管と、前記第２側面及び前記第３側面のそれぞれを含む前記プレートの各周辺領域に前記気体を供給するための第２供給管と、を含むことを特徴とする。

本発明の更なる目的又はその他の側面は、以下、添付図面を参照して説明される好ましい実施形態によって明らかにされるであろう。

本発明によれば、例えば、プレートを位置決めして保持するのに有利な保持装置を提供することができる。

本発明の第１実施形態における保持装置の構成を示す概略図である。 図１に示す保持装置の載置台に設けられた溝及び孔の断面を示す概略図である。 本発明の第２実施形態における保持装置の構成を示す概略図である。 図１に示す保持装置の動作を説明するためのフローチャートである。 本発明の一側面としての露光装置の構成を示す概略図である。

以下、添付図面を参照して、本発明の好適な実施の形態について説明する。なお、各図において、同一の部材については同一の参照番号を付し、重複する説明は省略する。

＜第１実施形態＞
図１は、本発明の第１実施形態における保持装置１００の構成を示す概略図である。保持装置１００は、例えば、露光装置に用いられるマスクやマスクのパターンが転写される基板などのプレート１を位置決めして保持する。保持装置１００は、載置台２と、押付部材３と、基準部材１１と、気体供給部３０と、を有する。

載置台２には、プレート１が載置される。また、載置台２には、プレート１の下面側の周辺領域を支持する土手部４が設けられている。

基準部材１１は、載置台２に設けられ、プレート１の隣り合う第１側面１ａ及び第２側面１ｂの位置決めの基準となる部材である。基準部材１１は、本実施形態では、プレート１の位置を規定するための３つの基準ピンで構成されている。基準部材１１は、図１に示すように、プレート１の第１側面１ａが突き当てられる第１基準ピン（第１基準部材）１１ａ及び第２基準ピン（第２基準部材）１１ｂと、プレート１の第２側面１ｂが突き当てられる第３基準ピン（第３基準部材）１１ｃと、を含む。但し、基準部材１１の構成は、基準ピンに限定されるものではなく、例えば、Ｘ方向及びＹ方向のそれぞれに沿って延在する（プレート１の第１側面１ａ及び第２側面１ｂのそれぞれが突き当てられる）延在部を含むＬ字形状の基準部材に置換されてもよい。

第１基準ピン１１ａ及び第２基準ピン１１ｂにプレート１の第１側面１ａが突き当てられ、且つ、第３基準ピン１１ｃにプレート１の第２側面１ｂが突き当てられた状態を、本実施形態では、プレート１が載置台上で位置決めされた状態とする。かかる状態において、例えば、アライメントスコープの視野範囲にプレート１の基準マークが配置されるように、第１基準ピン１１ａ、第２基準ピン１１ｂ及び第３基準ピン１１ｃが設けられている。また、第１基準ピン１１ａ及び第２基準ピン１１ｂは、プレート１が載置台上で位置決めされた状態において、プレート１の第２側面１ｂに沿ったプレート１の中心軸ＣＡ１に対して対称に設けられている。第３基準ピン１１ｃは、プレート１が載置台上で位置決めされた状態において、プレート１の第１側面１ａに沿ったプレート１の中心軸ＣＡ２の上（中心軸上）に設けられている。

押付部材３は、載置台２に設けられ、プレート１の第１側面１ａ及び第２側面１ｂを基準部材１１に突き当てるように、プレート１の第１側面１ａの反対側の第３側面１ｃ及び第２側面１ｂの反対側の第４側面１ｄのそれぞれを押す。押付部材３は、本実施形態では、基準部材１１にプレート１が接する側の反対側からプレート１（の側面）を水平方向に押すように構成されている。押付部材３には、一般的なエアシリンダが用いられる。

押付部材３は、図１に示すように、第１基準ピン１１ａ及び第２基準ピン１１ｂに向かう方向にプレート１の第３側面１ｃを押す第１押付部材３ａと、第３基準ピン１１ｃに向かう方向にプレート１の第４側面１ｄを押す第２押付部材３ｂと、を含む。第１押付部材３ａは、プレート１が載置台上で位置決めされた状態において、プレート１の第２側面１ｂに沿ったプレート１の中心軸ＣＡ１の上（中心軸上）に設けられている。また、第２押付部材３ｂは、プレート１が載置台上で位置決めされた状態において、プレート１の第１側面１ａに沿ったプレート１の中心軸ＣＡ２の上（中心軸上）に設けられている。

気体供給部３０は、プレート１が押付部材３から基準部材１１に向かう方向に傾いて載置台上でスライドするように、載置台２からプレート１に向けて正圧の気体を供給する。また、気体供給部３０は、載置台２においてプレート１が吸着されるように、載置台２からプレート１に向けて負圧の気体を供給する。但し、プレート１を吸着させる際には、プレート１と載置台２との間の空間を排気するようにしてもよい。気体供給部３０は、図１に示すように、複数の溝５と、複数の孔６と、継手７と、供給管８と、制御部９と、レギュレータ１２と、を含む。

複数の溝５は、載置台２の土手部４に設けられ、プレート１を吸着（保持）したり、プレート１を浮上させたりするための溝である。溝５は、本実施形態では、図１に示すように、一定の領域ごとに区切られている。

複数の溝５のそれぞれの内部には、載置台２の外部、具体的には、気体供給源（不図示）から供給される正圧の気体又は負圧の気体を溝５の内部（プレート１と載置台２との間の空間）に供給するための孔６が設けられている。複数の孔６は、載置台２の第１領域２ａ、第２領域２ｂ、第３領域２ｃ及び第４領域２ｄのそれぞれに設けられている。載置台２の第１領域２ａは、プレート１が載置台上で位置決めされた状態において、プレート１の第１側面１ａを含むプレート１の周辺領域に対向する領域である。同様に、載置台２の第２領域２ｂ、第３領域２ｃ及び第４領域２ｄは、プレート１が載置台上で位置決めされた状態において、プレート１の第２側面１ｂ、第３側面１ｃ及び第４側面１ｄのそれぞれを含むプレート１の各周辺領域に対向する領域である。孔６は、本実施形態では、図２に示すように、載置台２の側面まで貫通しているが、これに限定されるものではなく、例えば、載置台２の下面まで貫通していてもよい。図２は、載置台２に設けられた溝５及び孔６の断面を示す概略図である。載置台２、具体的には、載置台２の側面の孔６が貫通している部分には、継手７が設けられている。継手７には、気体供給源と複数の孔６とを接続して複数の孔６のそれぞれに気体を供給するための供給管８が接続されている。

制御部９は、例えば、電磁弁を含み、気体供給部３０による気体の供給を制御する。制御部９は、供給管８及び孔６を介してプレート１の下面１０（溝５の内部）に供給される気体の正圧と負圧とを切り替える。また、制御部９は、レギュレータ１２やスピードコントローラを用いて、溝５の内部に供給される気体の圧力及び流量の少なくとも一方を制御（調整）する。

本実施形態では、上述したように、載置台２において、＋Ｘ方向側に第１基準ピン１１ａ及び第２基準ピン１１ｂを設け、－Ｙ方向側に第３基準ピン１１ｃを設けている。そして、第１基準ピン１１ａ及び第２基準ピン１１ｂにプレート１の第１側面１ａを突き当て、第３基準ピン１１ｃにプレート１の第２側面１ｂを突き当てることで、載置台上でプレート１を位置決めすることができる。そのため、押付部材３は、プレート１の第１側面１ａの反対側の第３側面１ｃ及び第２側面１ｂの反対側の第４側面１ｄのそれぞれを押すために、第１押付部材３ａ及び第２押付部材３ｂを含む。

一般的に、搬送ユニット（不図示）は、プレート１を載置台２に載置（搬送）する際にプレート１が基準部材１１に干渉しないように、プレート１を基準部材１１から－Ｘ方向側及び＋Ｙ方向側に数ｍｍシフトさせた状態で載置台２に載置する。従って、プレート１は、押付部材３に押されると、＋Ｘ方向及び－Ｙ方向に水平移動する。

載置台２の側面に設けられた継手７には、図１に示すように、２系統に分岐した供給管８、具体的には、第１供給管８ａ及び第２供給管８ｂが接続されている。また、第１供給管８ａ及び第２供給管８ｂは、用力側で１系統に合流されている。第１供給管８ａ及び第２供給管８ｂは、－Ｘ方向側及び＋Ｙ方向側から順に接続され、気体供給源側から見た順番は、それぞれ、＋Ｘ方向及び－Ｙ方向に向けて順に接続される。具体的には、第１供給管８ａは、気体供給源と載置台２の第１領域２ａに設けられた複数の孔６のそれぞれとを接続してかかる孔６に気体を供給する。第２供給管８ｂは、気体供給源と載置台２の第２領域２ｂに設けられた複数の孔６のそれぞれとを接続してかかる孔６に気体を供給する。

これにより、プレート１が載置台２に載置され、プレート１の下面１０に正圧の気体を供給する際に、プレート１は－Ｘ方向側及び＋Ｙ方向側から順に浮上し始め、基準部材１１が配置されている＋Ｘ方向側及び－Ｙ方向側に向けて流れる力がプレート１にかかる。換言すれば、プレート１は、押付部材３から基準部材１１に向かう方向に傾いて載置台上でスライドする。

また、正圧の圧損によって、第１供給管８ａ及び第２供給管８ｂの末端側では、元圧側に比べて、圧力が低下する。本実施形態では、Ｘ方向では、＋側よりも－側の方が圧力が高い状態に維持され、Ｙ方向では、－側よりも＋側の方が圧力が高い状態に維持される。従って、プレート１は、押付部材３がプレート１を押す方向に向けて傾いて浮上した状態となるため、押付部材３によってプレート１を基準部材１１に容易に突き当てることができる。

このように、気体供給部３０が気体を供給している状態、即ち、プレート１が傾いて浮上している状態において、押付部材３は、プレート１を基準部材１１に突き当てるように、プレート１を押す。これにより、押付部材３の推力を増加させることなく、プレート１を安定して位置決めすることが可能となる。この際、基準部材１１に対するプレート１の突き当て順は、以下のようにするとよい。まず、プレート１の第１側面１ａを第１基準部材１１ａ及び第２基準部材１１ｂに突き当てるように第１押付部材３ａによりプレート１の第３側面１ｃを押す。これにより、プレート１の回転方向が位置決めされる。その後、プレート１の第２側面１ｂを第３基準部材１１ｃに突き当てるように第２押付部材３ｂによりプレート１の第４側面１ｄを押す。

プレート１が載置台上で位置決めされたら、気体供給部３０から溝５の内部に負圧が供給され、プレート１が載置台２に吸着される（保持される）。

なお、基準部材１１の配置や数、及び、プレート１を押す方向については任意であるが、押付部材３の配置に関しては、基準部材１１に向けてプレート１を押すことができるようにする必要がある。また、２系統に分岐された供給管８の接続順に関しても、押付部材３でプレート１を押す方向に向けて順に接続する必要がある。

＜第２実施形態＞
図３は、本発明の第２実施形態における保持装置１００Ｂの構成を示す概略図である。保持装置１００Ｂでは、載置台２の土手部４に設けられた溝５が複数のエリアに分けられ、それぞれのエリアには孔６が設けられている。本実施形態では、孔６に対して、エリアごとに個別に継手７が設けられ、継手７に接続する供給管８もそれぞれ個別に設けられている。供給管８は、図３に示すように、Ｃ１乃至Ｃ８の組み合わせごとに集約され、各組み合わせが個別のレギュレータ１２に接続され、個別の制御部９によって、Ｃ１乃至Ｃ８の組み合わせ（エリア）ごとに、気体供給源から供給される気体のオン・オフが制御される。

本実施形態では、プレート１が載置台２に載置され、プレート１の下面１０に正圧の気体を供給する際に、Ｃ１乃至Ｃ８の組み合わせに一律に気体を供給するのではなく、プレート１を押す方向に応じて順に気体を供給する。換言すれば、プレート１を押付部材３から基準部材１１に向かう方向に傾けてプレート１が載置台上でスライドするように、気体供給源から複数の供給管８のそれぞれ（Ｃ１乃至Ｃ８の組み合わせ）に気体を供給するタイミングを制御する。

具体的には、プレート１を＋Ｘ方向及び－Ｙ方向に押すために、Ｃ１、Ｃ２、Ｃ３、Ｃ４、Ｃ５、Ｃ６、Ｃ７及びＣ８の順に正圧の気体を供給する。これにより、プレート１の－Ｘ方向側及び＋Ｙ方向側から順に浮上し始め、基準部材１１が配置されている＋Ｘ方向側及び－Ｙ方向側に向けて流れる力がプレート１にかかる。かかる状態において、押付部材３は、プレート１を基準部材１１に突き当てるように、プレート１を押す。これにより、押付部材３の推力を増加させることなく、プレート１を安定して位置決めすることが可能となる。

なお、溝５のエリアの分け方や数、及び、気体供給源からの気体を各供給管８に供給するタイミングは、本実施形態に限定されるものではない。但し、プレート１を押す方向に向けてプレート１が流れる力が発生するように、気体供給源からの気体を各供給管８に供給するタイミングを制御する必要がある。また、本実施形態では、各供給管８は、気体供給源と２つの孔６のそれぞれとを接続しているが、これに限定されるものではなく、気体供給源と複数の孔６のうちの少なくとも１つの孔６とを接続していればよい。

＜第３実施形態＞
本実施形態では、図３に示したように、孔６に対して、エリアごとに個別に継手７が設けられ、継手７に接続する供給管８もそれぞれ個別に設けられている。また、第２実施形態と同様に、供給管８は、Ｃ１乃至Ｃ８の組み合わせごとに集約され、各組み合わせが個別のレギュレータ１２に接続されている。本実施形態では、個別の制御部９によって、Ｃ１乃至Ｃ８の組み合わせ（エリア）ごとに、気体供給源から供給される気体の圧力及び流量の少なくとも一方が制御される。

例えば、本実施形態では、プレート１が載置台２に載置され、プレート１の下面１０に正圧の気体を供給する際、プレート１を押す方向に応じて順に圧力が減少されるように、Ｃ１乃至Ｃ８の組み合わせごとに、供給管８に供給する気体の圧力を制御する。具体的には、プレート１を＋Ｘ方向及び－Ｙ方向に押すために、Ｃ１、Ｃ２、Ｃ３、Ｃ４、Ｃ５、Ｃ６、Ｃ７及びＣ８の順に圧力が低くなるように（即ち、高圧力から低圧力になるように）、供給管８に供給する気体の圧力を制御する。これにより、プレート１の－Ｘ方向側及び＋Ｙ方向側から順にプレート１の浮上量が小さくなるため、基準部材１１が配置されている＋Ｘ方向側及び－Ｙ方向側に向けて流れる力がプレート１にかかる。かかる状態において、押付部材３は、プレート１を基準部材１１に突き当てるように、プレート１を押す。これにより、押付部材３の推力を増加させることなく、プレート１を安定して位置決めすることが可能となる。

なお、溝５のエリアの分け方や数、及び、気体供給源からの気体の圧力の制御は、本実施形態に限定されるものではない。但し、プレート１を押す方向に向けてプレート１が流れる力が発生するように、気体供給源から各供給管８に供給する気体の圧力（圧力差）を制御する必要がある。

＜第４実施形態＞
図４を参照して、保持装置１００の動作について説明する。ここでは、保持装置１００を例に説明するが、保持装置１００Ｂも同様に動作する。図４は、保持装置１００の動作を説明するためのフローチャートである。Ｓ１０２では、搬送ユニットによって、プレート１を載置台２に載置する。この際、上述したように、プレート１は、基準部材１１から－Ｘ方向側及び＋Ｙ方向側にシフトさせた状態で載置台２に載置される。

Ｓ１０４では、気体供給部３０によって、プレート１を押付部材３から基準部材１１に向かう方向に傾けてプレート１が載置台上でスライドするように、載置台２からプレート１に向けて正圧の気体を供給する。これにより、上述したように、プレート１は－Ｘ方向側及び＋Ｙ方向側から順に浮上し始め、基準部材１１が配置されている＋Ｘ方向側及び－Ｙ方向側に向けて流れる力がプレート１にかかる。

Ｓ１０６では、気体供給部３０が気体を供給している状態、即ち、プレート１が傾いて浮上している状態において、押付部材３は、プレート１を基準部材１１に突き当てるように、プレート１を押す。プレート１が傾いて浮上しているため、上述したように、押付部材３の推力を増加させることなく、プレート１を安定して位置決めすることができる。

Ｓ１０８では、気体供給部３０によって、溝５の内部に負圧を供給し、載置台２において、プレート１を吸着する（保持する）。

＜第５実施形態＞
図５を参照して、本発明の一側面としての露光装置５００について説明する。露光装置５００は、半導体素子や液晶表示素子の製造工程であるリソグラフィ工程に採用され、基板にパターンを形成するリソグラフィ装置である。露光装置５００は、マスク（原版）を介して基板を露光して、マスクのパターンを基板に転写する。

露光装置５００は、図５に示すように、照明光学系５１０と、投影光学系５２０と、マスク５３０を保持して移動するマスクステージ５４０と、基板５５０を保持して移動する基板ステージ５６０とを有する。更に、露光装置５００は、ＣＰＵやメモリなどを含むコンピュータで構成され、記憶部に記憶されたプログラムに従って露光装置５００の各部を統括的に制御して露光装置５００を動作させる制御部５７０を有する。

照明光学系５１０は、例えば、複数のレンズやミラーなどを含み、光源からの光でマスク５３０を照明する光学系である。

マスク５３０は、マスクステージ５４０に保持されている。マスク５３０には、基板５５０に形成すべきパターンに対応するパターンが形成されている。基板５５０は、基板ステージ５６０に保持されている。マスクステージ５４０や基板ステージ５６０には、マスク５３０や基板５５０を保持する保持装置として、上述した保持装置１００、１００Ａ又は１００Ｂを適用する。保持装置１００、１００Ａ又は１００Ｂは、上述したように、マスク５３０や基板５５０を位置決めして保持するのに有利である。従って、マスクステージ５４０におけるマスク５３０のアライメント、基板ステージ５６０における基板５５０のアライメント、及び、マスク５３０と基板５５０とのアライメントを高精度に行うことができる。

マスク５３０と基板５５０とは、投影光学系５２０を介して、光学的にほぼ共役な位置（投影光学系５２０の物体面及び像面の位置）に配置されている。投影光学系５２０は、物体を像面に投影する光学系である。投影光学系５２０には、図６に示す反射系だけではなく、屈折系や反射屈折系も適用することができる。投影光学系５２０は、本実施形態では、所定の投影倍率を有し、マスク５３０に形成されたパターンを基板５５０に投影する。そして、マスクステージ５４０及び基板ステージ５６０を、投影光学系５２０の物体面と平行な方向（例えば、Ｘ方向）に、投影光学系５２０の投影倍率に応じた速度比で走査する。これにより、マスク５３０に形成されたパターンを基板５５０に転写することができる。

本発明の実施形態における物品の製造方法は、例えば、デバイス（半導体素子、磁気記憶媒体、液晶表示素子など）などの物品を製造するのに好適である。かかる製造方法は、露光装置５００を用いて、感光剤が塗布された基板を露光する（パターンを基板に形成する）工程と、露光された基板を現像する（基板を処理する）工程を含む。また、かかる製造方法は、他の周知の工程（酸化、成膜、蒸着、ドーピング、平坦化、エッチング、レジスト剥離、ダイシング、ボンディング、パッケージングなど）を含みうる。本実施形態における物品の製造方法は、従来に比べて、物品の性能、品質、生産性及び生産コストの少なくとも１つにおいて有利である。

以上、本発明の好ましい実施形態について説明したが、本発明はこれらの実施形態に限定されないことはいうまでもなく、その要旨の範囲内で種々の変形及び変更が可能である。例えば、本発明は、リソグラフィ装置を露光装置に限定するものではなく、インプリント装置や描画装置などのリソグラフィ装置にも適用することができる。ここで、インプリント装置は、基板上に供給されたインプリント材と型とを接触させ、インプリント材に硬化用のエネルギーを与えることにより、型のパターンが転写された硬化物のパターンを形成する。また、描画装置は、荷電粒子線（電子線）やレーザビームで基板に描画を行うことにより基板上にパターン（潜像パターン）を形成する。上述した物品の製造方法は、これらのリソグラフィ装置を用いて行ってもよい。

１００：保持装置 １：プレート ２：載置台 ３：押付部材 ３０：気体供給部

Claims (12)

1. プレートを保持する保持装置であって、
   前記プレートが載置される載置台と、
   前記載置台に設けられ、前記プレートの隣り合う第１側面及び第２側面の位置決めの基準となる基準部材と、
   前記載置台に設けられ、前記プレートの前記第１側面及び前記第２側面を前記基準部材に突き当てるように、前記プレートの前記第１側面の反対側の第３側面及び前記第２側面の反対側の第４側面のそれぞれを押す押付部材と、
   前記プレートが前記押付部材から前記基準部材に向かう方向に前記載置台上でスライドするように、前記載置台から前記プレートに向けて気体を供給する供給部と、
   を有し、
   前記供給部は、前記第１側面及び前記第４側面のそれぞれを含む前記プレートの各周辺領域に前記気体を供給するための第１供給管と、前記第２側面及び前記第３側面のそれぞれを含む前記プレートの各周辺領域に前記気体を供給するための第２供給管と、を含むことを特徴とする保持装置。
2. 前記押付部材は、前記供給部が前記気体を供給している状態において、前記プレートの前記第３側面及び前記第４側面のそれぞれを押すことを特徴とする請求項１に記載の保持装置。
3. 前記基準部材は、前記第１側面が突き当てられる第１基準部材及び第２基準部材と、前記第２側面が突き当てられる第３基準部材と、を含み、
   前記第１基準部材及び前記第２基準部材は、前記プレートが前記載置台上で位置決めされた状態において、前記第２側面に沿った前記プレートの中心軸に対して対称に設けられ、
   前記第３基準部材は、前記プレートが前記載置台上で位置決めされた状態において、前記第１側面に沿った前記プレートの中心軸上に設けられていることを特徴とする請求項１又は２に記載の保持装置。
4. 前記押付部材は、前記第１基準部材及び前記第２基準部材に向かう方向に前記プレートの前記第３側面を押す第１押付部材と、前記第３基準部材に向かう方向に前記プレートの前記第４側面を押す第２押付部材と、を含み、
   前記第１押付部材は、前記プレートが前記載置台上で位置決めされた状態において、前記第２側面に沿った前記プレートの中心軸上に設けられ、
   前記第２押付部材は、前記プレートが前記載置台上で位置決めされた状態において、前記第１側面に沿った前記プレートの中心軸上に設けられていることを特徴とする請求項３に記載の保持装置。
5. 前記押付部材は、前記プレートの前記第１側面を前記第１基準部材及び前記第２基準部材に突き当てるように前記第１押付部材により前記プレートの前記第３側面を押した後、前記プレートの前記第２側面を前記第３基準部材に突き当てるように前記第２押付部材により前記プレートの前記第４側面を押すことを特徴とする請求項４に記載の保持装置。
6. プレートを保持する保持装置であって、
   前記プレートが載置される載置台と、
   前記載置台に設けられ、前記プレートの隣り合う第１側面及び第２側面の位置決めの基準となる基準部材と、
   前記載置台に設けられ、前記プレートの前記第１側面及び前記第２側面を前記基準部材に突き当てるように、前記プレートの前記第１側面の反対側の第３側面及び前記第２側面の反対側の第４側面のそれぞれを押す押付部材と、
   前記プレートが前記押付部材から前記基準部材に向かう方向に前記載置台上でスライドするように、前記載置台から前記プレートに向けて気体を供給する供給部と、
   を有し、
   前記供給部は、
   前記プレートが前記載置台上で位置決めされた状態において、前記第１側面、前記第２側面、前記第３側面及び前記第４側面のそれぞれを含む前記プレートの各周辺領域に対向する前記載置台の第１領域、第２領域、第３領域及び第４領域のそれぞれに設けられ、前記プレートに向けて前記気体を供給するための複数の孔と、
   前記気体の供給源と前記第１領域に設けられた前記複数の孔及び前記第４領域に設けられた前記複数の孔とを接続して当該孔に前記気体を供給するための第１供給管と、
   前記供給源と前記第２領域に設けられた前記複数の孔及び前記第３領域に設けられた前記複数の孔とを接続して当該孔に前記気体を供給するための第２供給管と、
   を含むことを特徴とする保持装置。
7. 前記供給部は、
   前記プレートが前記載置台上で位置決めされた状態において、前記第１側面、前記第２側面、前記第３側面及び前記第４側面のそれぞれを含む前記プレートの各周辺領域に対向する前記載置台の第１領域、第２領域、第３領域及び第４領域のそれぞれに設けられ、前記プレートに向けて前記気体を供給するための複数の孔と、
   前記プレートが前記押付部材から前記基準部材に向かう方向に前記載置台上でスライドするように、前記気体の供給源から前記第１供給管及び前記第２供給管のそれぞれに前記気体を供給するタイミングを制御する制御部と、
   を含み、
   前記第１供給管及び前記第２供給管は、前記供給源と前記複数の孔のうちの少なくとも１つの孔とを接続して当該孔に前記気体を供給することを特徴とする請求項１乃至５のうちいずれか１項に記載の保持装置。
8. 前記供給部は、
   前記プレートが前記載置台上で位置決めされた状態において、前記第１側面、前記第２側面、前記第３側面及び前記第４側面のそれぞれを含む前記プレートの各周辺領域に対向する前記載置台の第１領域、第２領域、第３領域及び第４領域のそれぞれに設けられ、前記プレートに向けて前記気体を供給するための複数の孔と、
   前記プレートが前記押付部材から前記基準部材に向かう方向に前記載置台上でスライドするように、前記気体の供給源から前記第１供給管及び前記第２供給管のそれぞれに供給される前記気体の圧力及び流量の少なくとも一方を制御する制御部と、
   を含み、
   前記第１供給管及び前記第２供給管は、前記供給源と前記複数の孔のうちの少なくとも１つの孔とを接続して当該孔に前記気体を供給することを特徴とする請求項１乃至５のうちいずれか１項に記載の保持装置。
9. 基板にパターンを形成するリソグラフィ装置であって、
   前記基板を保持する基板ステージを有し、
   前記基板ステージは、前記基板をプレートとして保持する請求項１乃至８のうちいずれか１項に記載の保持装置を含むことを特徴とするリソグラフィ装置。
10. 前記基板に転写すべきパターンを有するマスクを保持するマスクステージを更に有し、
    前記マスクステージは、前記マスクをプレートとして保持する請求項１乃至８のうちいずれか１項に記載の保持装置を含むことを特徴とする請求項９に記載のリソグラフィ装置。
11. 基板にパターンを形成するリソグラフィ装置であって、
    前記基板に転写すべきパターンを有するマスクを保持するマスクステージを有し、
    前記マスクステージは、前記マスクをプレートとして保持する請求項１乃至８のうちいずれか１項に記載の保持装置を含むことを特徴とするリソグラフィ装置。
12. 請求項９乃至１１のうちいずれか１項に記載のリソグラフィ装置を用いてパターンを基板に形成する工程と、
    前記工程で前記パターンが形成された前記基板を処理する工程と、
    処理された前記基板から物品を製造する工程と、
    を有することを特徴とする物品の製造方法。

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