JPH098106A - 矩型平板状物体の位置決め方法及び装置 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】 【目的】 発熱や発塵が無く、矩型平板状物体を高精度
に位置決め可能にする。 【構成】 フォトマスク１ をテーブル９上でストッパ
２，３，４に付当て、フォトマスクの裏面を吸着パッド
５，６，７により吸着して位置決め保持する位置決め方
法において、フォトマスク１を吸着パッド５，６，７に
よって吸着する以前に、吸着パット５，６，７のそれぞ
れに異なる圧力あるいは流量の気体を供給しフォトマス
ク１を浮上させて位置決めする。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【産業上の利用分野】本発明は、矩型平板状物体の位置
決め方法及び装置、特には半導体あるいは液晶パネル基
板等を製造するフォトリソグラフィ工程で使用される半
導体あるいは液晶パネル製造用露光装置に適用される矩
型平板状物体の位置決め方法及び装置に関する。

【０００２】

【従来の技術】従来、液晶表示パネル製造工程で利用さ
れる矩型状のガラス基板、液晶表示パネル製造工程や半
導体製造工程で利用される矩型状のフォトマスクあるい
はレチクル（以下フォトマスクと総称する）を露光装置
の所定位置に位置決めして保持する方法としては、プレ
ートステージあるいはマスクテーブルと呼ばれる少なく
ともｘｙ平面を移動可能に構成したｘｙテーブル、ある
いはこのテーブルにｚ軸周りの回転機構（θ方向回転）
を付加したものが使用されている。

【０００３】フォトマスクを例に説明すると、一般にこ
の位置決めは次のような手順で行われている。 （１）フォトマスクをフォトマスクカセットと呼ばれる
保持具から取り出す。 （２）フォトマスクの外形を基準に粗位置決めを行う。 （３）送り機構で、粗位置決めされたフォトマスクをフ
ォトマスクテーブル上に移動させる。 （４）フォトマスクテーブル上の吸着パットでフォトマ
スクを吸着する。 （５）フォトマスクに蝕刻された半導体回路パターンの
位置をアライメントするための、アライメントマークの
位置をアライメント顕微鏡で検出する。 （６）検出したアライメントマークの位置情報にしたが
って、フォトマスクテーブルをｘ，ｙ，θ方向に駆動し
フォトマスクパターンの位置を合わせる。

【０００４】このようにフォトマスクの粗位置決め機構
で予め位置決めされたものを、更にフォトマスクテーブ
ルで精密位置決めするという手順を取る理由は、フォト
マスクの外形と蝕刻された半導体回路パターンの位置関
係が各々のフォトマスク間で異なるため、外形基準で精
密に位置決めしても、必ずしもフォトマスク上に蝕刻さ
れた半導体回路パターンの位置が保証されないからであ
る。フォトマスクの位置決め機構は、粗位置決め、精密
位置決めという２つの機構を使用しなければならず、機
能が重複することになる。

【０００５】この問題を解決する手段として、従来フォ
トマスクの外形基準で粗位置決めを行っていた所に、ア
ライメントマークを検出するためのアライメントスコー
プを配置し、この位置でパターンアライメントを行い、
その後、投影レンズ上方に位置するフォトマスクテーブ
ル上に送り込み吸着保持する方法も提案されている。

【０００６】

【発明が解決しようとしている課題】しかし、この方法
では送り込み機構の介在により、パターンアライメント
後の精度が劣化する。このため精密位置決めを再度おこ
なうフォトマスクテーブルが必要となっており、結果的
に装置をより繁雑にしてしまうことになる。

【０００７】また、近年では、半導体素子の微細化の進
展に伴い、コンタミネーションの問題も重視されてお
り、装置の比較的上方に位置する部分に設置されるフォ
トマスクテーブル上での位置決め駆動による機構部から
の発熱や発塵が無視し得なくなっており、機構の簡素化
と発熱や発塵の無い機構の開発が望まれていた。

【０００８】本発明はこのような事情に鑑みなされたも
ので、その目的は、重複していた機構を簡素化すると共
に、発熱や発塵の無い機構を提供し、矩型平板状物体を
高精度に位置決め可能な矩型平板状物体の位置決め方法
及び装置を提供することにある。

【０００９】

【課題を解決するための手段】上述の課題を達成するた
め、本発明の矩型平板状物体の位置決め方法は、矩型平
板状物体をテーブル上で複数のストッパに付当て、前記
矩型平板状物体の裏面を複数の吸着パッドにより吸着し
て位置決め保持する矩型平板状物体の位置決め方法にお
いて、前記矩型平板状物体を前記吸着パッドによって吸
着する以前に、前記吸着パットのそれぞれに異なる圧力
あるいは流量の気体を供給し、前記矩型平板状物体を浮
上させて位置決めすることを特徴とする。

【００１０】この場合には、前記ストッパに最も近い位
置にある吸着パットに供給する気体の圧力あるいは流量
を、他の吸着パットに供給する気体の圧力あるいは流量
に比べて小さく制御し、前記矩型平板状物体を前記スト
ッパに付当てて位置決めする様にするとより好ましい。

【００１１】本発明の矩型平板状物体の位置決め装置
は、矩型平板状物体をテーブル上で複数のストッパに付
当て、前記矩型平板状物体の裏面を複数の吸着パットに
より吸着して位置決め保持する矩型平板状物体の位置決
め装置において、第１方向に関して前記矩型平板状物体
の位置を決めるための第１及び第２ストッパと、前記第
１方向と交差する第２方向に関して前記矩型平板状物体
の位置を決めるための第３のストッパと、前記矩型平板
状物体を吸着するための第１、第２、及び第３吸着パッ
トを有し、前記第１方向に沿って前記第１ストッパを前
記第１吸着パットに対してずらして配置し、前記第２方
向に沿って前記第３ストッパを前記第１吸着パットに対
してずらして配置し、前記第２方向に沿って前記第２吸
着パットを前記第１吸着パットに対してずらして配置
し、前記第１方向に沿って前記第２ストッパを前記第２
吸着パットに対してずらして配置し、前記第１方向に沿
って前記第３吸着パットを前記第１及び第２の吸着パッ
トに対してずらして配置し、前記第１、第２、及び第３
吸着パットに供給する気体の圧力あるいは流量をそれぞ
れｐ１、ｐ２、ｐ３とするとき、ｐ１＜ｐ２＜ｐ３とな
るように各吸着パットに供給する気体の圧力あるいは流
量を制御することを特徴とする。

【００１２】また本発明の矩型平板状物体の位置決め装
置は、矩型平板状物体をテーブル上で複数のストッパに
付当て、前記矩型平板状物体の裏面を複数の吸着パット
により吸着して位置決め保持する矩型平板状物体の位置
決め装置において、第１方向に関して前記矩型平板状物
体の位置を決めるための第１及び第２ストッパと、前記
第１方向と交差する第２方向に関して前記矩型平板状物
体の位置を決めるための第３のストッパと、前記矩型平
板状物体を吸着するための第１、第２、第３、及び第４
吸着パットを有し、前記第１方向に沿って前記第１スト
ッパを前記第１吸着パットに対してずらして配置し、前
記第２方向に沿って前記第３ストッパを前記第１吸着パ
ットに対してずらして配置し、前記第２方向に沿って前
記第２吸着パットを前記第１吸着パットに対してずらし
て配置し、前記第１方向に沿って前記第２ストッパを前
記第２吸着パットに対してずらして配置し、前記第１方
向に沿って前記第３吸着パットを前記第２吸着パットに
対してずらして配置し、前記第１方向に沿って前記第４
吸着パットを前記第１吸着パットに対してずらして配置
し、前記第１、第２、第３、及び第４吸着パットに供給
する気体の圧力あるいは流量をそれぞれｐ１、ｐ２、ｐ
３、ｐ４とするとき、ｐ１＜ｐ２≦ｐ４＜ｐ３となるよ
うに各吸着パットに供給する気体の圧力あるいは流量を
制御することを特徴とする。

【００１３】更に本発明の矩型平板状物体の位置決め装
置は、矩型平板状物体をテーブル上で複数のストッパに
付当て、前記矩型平板状物体の裏面を複数の吸着パッド
により吸着して位置決め保持する矩型平板状物体の位置
決め装置において、前記ストッパの少なくとも１つを可
動とし、各吸着パットに供給する気体の圧力あるいは流
量を負圧及び正圧に制御することを特徴とする。

【００１４】この場合には、前記可動ストッパは外部指
令に応じて所定の移動量だけアクチュエータにより駆動
されたり、前記アクチュエータは圧電素子であったり、
前記圧電素子はモノモルフ型あるいはバイモルフ型のア
クチュエータであったりするとより好まし。また、前記
可動ストッパは複数設けられ、前記矩型平板状物体が前
記吸着パット上に置かれる時、前記可動ストッパのそれ
ぞれの圧電素子に対して有効変位量のほぼ半分の変位量
に相当する制御電圧が加えられたり、前記可動ストッパ
は複数設けられ、前記可動ストッパは対向する位置に配
置され、これら互いに対向する位置の前記可動ストッパ
のアクチュエータを相互に関連して外部からの指令によ
り所定の移動量だけ制御し、矩型平板状物体を位置決め
するものであっても良い。

【００１５】

【作用】本発明は、液晶パネル製造用や半導体製造用の
露光装置のフォトマスクの位置決め機構をフォトマスク
テーブルの代わりに従来よりフォトマスクの吸着や保持
の目的でフォトマスクテーブル上に固定されている吸着
パットに気体を供給して気体軸受とし完全非接触のガイ
ドとして利用している。

【００１６】そして、これにより、フォトマスクの移動
のために必要な水平方向の推力は、各吸着パットに供給
する気体の圧力あるいは流量を変え、フォトマスクに微
小な傾斜を与えることで発生させることができ、フォト
マスクの外形をフォトマスクテーブル上部の位置決めス
トッパに接触させることが可能となり、アクチュエータ
を必要としない推力でフォトマスク外形基準の位置決め
を可能にする。

【００１７】また本発明では、位置決めストッパにフォ
トマスクを片寄せさせる力は僅か数グラム程度であるこ
とから、気体の圧力あるいは流量を制御し浮上させた薄
い気体フィルム上にあるフォトマスクのｘｙ面に沿った
移動に必要な推力を与えるための手段として摺動部分が
存在しない無発塵かつ発熱のない圧電素子のアクチュエ
ータを使用できる。

【００１８】特に、発生力は小さいが、変位量が大きい
モノモルフあるいはバイモルフ型の圧電アクチュエータ
が適しており、その変位する先端にストッパに相当する
部材を取り付けても、小型かつ軽量であることからフォ
トマスクテーブルあるいは液晶ガラス基板のような矩型
平板状物体吸着用チャック周辺に設置可能であり、外形
アライメントとパターンアライメントをテーブルあるい
はチャック上で同時に行うことが可能になる。

【００１９】更に本発明は、位置決めストッパの少なく
とも一部を圧電アクチュエータに置き換え、置き換えた
各圧電アクチュエータの駆動方向の対向する位置に別の
圧電アクチュエータを設置し、これら対向する２つの圧
電アクチュエータを相関させて制御することにより、圧
電素子の欠点であるヒステリシスの影響をなくして、フ
ォトマスクの外形基準の粗位置決めと、パターンアライ
メントをテーブルあるいはチャック上で同時に行うこと
を可能している。

【００２０】

【実施例】以下、本発明を図に示した実施例に基いて詳
細に説明する。図１は本発明の矩型平板状物体の位置決
め装置の一実施例を示す斜視図である。

【００２１】この図において、１は例えば液晶表示パネ
ル製造工程で利用される矩型状のガラス基板、液晶表示
パネル製造工程や半導体製造工程で利用される矩型状の
フォトマスクあるいはレチクル等の矩型平板状物体、
２，３，４は矩型平板状物体１を吸着保持するための第
１、第２、及び第３吸着パット、５は第２方向となるｘ
方向に関して矩型平板状物体１の位置を決めるための第
３ストッパ、６，７は第１方向となるｙ方向とｚ軸周り
の回転方向θに関して矩型平板状物体１の位置を決める
ための第１及び第２ストッパであり、これらはフォトマ
スクテーブル９の上に設けられている。

【００２２】第１吸着パット２、第２吸着パット３はｘ
方向に沿って並ぶと共に、それそれが矩型平板状物体１
の角部に位置するようにフォトマスクテーブル９上に配
置されている。第３吸着パット４は第１及び第２の吸着
パット２，３が設けられている矩型平板状物体１の辺に
ｙ方向に関して対向する側の辺の略中央に位置するよう
配置されている。第１ストッパ６は第１吸着パット２に
対してｙ方向に関してずらして配置され、第３ストッパ
５は第１吸着パット２に対してｘ方向に関してずらして
配置されている。また第２ストッパ７は第２吸着パット
３に対してｙ方向に関してずらして配置されている。

【００２３】図２は吸着パットを４箇所に配置した他の
実施例を示す図で、８は第４吸着パットである。この例
では、第３吸着パット４を矩型平板状物体１の辺の略中
央ではなく矩型平板状物体１の角部に配置し、第１、第
２、及び第３吸着パット２，３，４が配置されていない
矩型平板状物体１の残りの角部に第４吸着パット８を更
に設けている点が図１の例とは異なっているが、その他
は図１の実施例と同じである。

【００２４】各吸着パット２，３，４，８のそれぞれ
は、外部のコントローラで真空あるいは気体の圧力源に
選択的に接続され、任意に圧力（あるいは流量）を制御
できるようになっている。

【００２５】図３は図１あるいは図２の側面図で、矩型
平板状物体１の位置決め方法を説明するための図であ
る。なお、以下の説明では、第１吸着パット２に供給す
る気体の圧力をｐ１、第２吸着パット３に供給する気体
の圧力をｐ２、第３吸着パット４に供給する気体の圧力
をｐ３とし、更に図２の実施例では第４吸着パット８に
供給する気体の圧力をｐ４とする。

【００２６】図１の実施例では、不図示の搬送用ハンド
で矩型平板状物体１がテーブル９上に搬送され、吸着パ
ット２，３，４上に乗せられると、第３吸着パット４に
圧力ｐ３で気体を供給し、矩型平板状物体１を吸着パッ
ト４より浮上させる。次に、ｐ１＜ｐ２＜ｐ３の関係を
保持させながら各吸着パット２，３，４に供給する気体
の圧力を徐々に上昇させれば、各吸着パット２，３，４
の位置での矩型平板状物体１の浮上量ｄは供給された圧
力に比例するから、第１、第２、第３吸着パット２，
３，４の位置での矩型平板状物体１の浮上量をそれぞれ
ｄ１，ｄ２，ｄ３とすれば、ｄ１＜ｄ２＜ｄ３の関係が
成り立ち、矩型平板状物体１は僅かに傾斜し、浮上量の
少ない第１パット２の方向に滑り出すことになる。

【００２７】このため図１のような位置に位置決めスト
ッパ５，６，７を配置すれば、矩型平板状物体１は各ス
トッパ５，６，７に片寄せされる。ここで、初めにスト
ッパ５，６，７から最も離れた第３吸着パット４にのみ
気体を供給して、浮上させた理由は、各パット２，３，
４同時に気体を供給した場合、加圧当初、管路の抵抗等
によって瞬間的にｐ１＜ｐ２＜ｐ３の関係が崩れ、矩型
平板状物体１がストッパ５，６，７とは反対の方向に移
動し始める可能性があることを防止するためである。

【００２８】図２の実施例の場合は、ｐ１＜ｐ２≦ｐ４
＜ｐ３の関係を保持させながら各吸着パット２，３，
４，８に供給する気体の圧力を徐々に上昇させれば、各
吸着パット２，３，４，８の位置での矩型平板状物体１
の浮上量は、供給された圧力に比例して図１の実施例で
説明したのと同じことになる。この場合も、初めに第３
吸着パット４、第４吸着パット８のそれぞれに圧力ｐ
３，ｐ４をｐ４＜ｐ３の関係を保ちながら気体を供給
し、その後、上述の関係を保持させながら矩型平板状物
体１を片寄せ、位置決めすることになる。

【００２９】図４は本発明の他の実施例を示す斜視図で
ある。この例は図１、図２の位置決め用のストッパ５，
６，７の少なくとも一つあるいは全てを図５に示すよう
なバイモルフ型ピエゾアクチュエータにおきかえたもの
である。即ち、不図示の搬送ハンドによりテーブル９上
に乗せられた矩型平板状物体１を吸着パット２、３，４
（，８）のそれぞれに気体を供給し浮上させることによ
り、矩型平板状物体１のｘｙ面に沿った位置決めに要す
る力を最小にして、制御用の印加電圧に比べて変位量が
比較的大きいバイモルフ型ピエゾアクチュエータで精密
な位置決め制御を行うものである。

【００３０】なお、各吸着パット２、３，４（，８）に
供給する気体の圧力をコントロールして矩型平板状物体
１を片寄せして位置決めする方法と、このバイモルフ型
ピエゾアクチュエータを組み合わせれば、使用するアク
チュエータの数を最小に構成できる。

【００３１】例えば、図１の実施例において、第２スト
ッパ７を図５に示すようなバイモルフ型ピエゾアクチュ
エータに置き換えれば、図４に示すように、矩型平板状
物体１の端部をｙ方向に押圧する１つのアクチュエータ
１０で矩型平板状物体１の外形基準のｘ，ｙ及び外形あ
るいはパターン基準のθ方向の精密位置決めが可能であ
る。

【００３２】この場合には、先ず不図示の搬送ハンドで
矩型平板状物体１をテーブル９上に移動する前に、アク
チュエータ１０を可動範囲の中立位置にセットしてお
く。そして、搬送ハンドで矩型平板状物体１をテーブル
９上に移動し、矩型平板状物体１を２個のストッパ５，
６と１個のアクチュエータ１０に片寄せし外形基準で位
置決めする。

【００３３】この後、テーブル９上方に位置する不図示
のアライメントスコープで矩型平板状物体１上の不図示
のアライメントマークを計測し、この計測結果からその
ずれ量ｘ，ｙ，θを算出して、この値が０となるように
のアクチュエータ１０を駆動する。これにより矩型平板
状物体１を精密に位置決めすることが可能である。

【００３４】図６は図１の実施例において、第１から第
３ストッパ６，７，５のそれぞれを図５に示すようなバ
イモルフ型ピエゾアクチュエータに置き換えた例で、３
つのアクチュエータ１１，１０，１２で矩型平板状物体
１のｘ，ｙ及びθ方向の精密位置決めが可能である。ア
クチュエータ１１，１０は矩型平板状物体１をｙ方向に
押圧し、アクチュエータ１２は矩型平板状物体１をｘ方
向に押圧する。

【００３５】この場合には、不図示の搬送ハンドで矩型
平板状物体１をテーブル９上に移動する前に、各アクチ
ュエータ１１，１０，１２を可動範囲の中立位置にセッ
トしておき、搬送ハンドで矩型平板状物体１をテーブル
９上に移動した後に、矩型平板状物体１を上述の方法で
各アクチュエータに片寄せし外形基準で位置決める。

【００３６】この後、テーブル９上方に位置する不図示
のアライメントスコープで矩型平板状物体１上のアライ
メントマークを計測して、そのずれ量ｘ，ｙ，θを算出
し、これらの値が０となるように各アクチュエータ１
１，１０，１２を制御する。これにより図４の実施例と
同様に矩型平板状物体１を精密に位置決めすることが可
能である。

【００３７】図７は本発明の更に他の実施例を示す図
で、この実施例はバイモルフ型ピエゾアクチュエータの
特性である印加電圧に対する変位量の非直線性（一般
に、ヒステリシスと言われている）のために、位置決め
制御を行いずらいと言う問題を解決するものである。こ
の実施例では、アクチュエータ１１，１０，１２のそれ
ぞれ対向する位置に図５に示すようなバイモルフ型ピエ
ゾアクチュエータを更に配置し、対向する２つのアクチ
ュエータ（アクチュエータ１１，１３の組、アクチュエ
ータ１０，１４の組、アクチュエータ１２，１５の組）
をあたかも１つのアクチュエータであるかのごとく制御
出来るように構成して、上述の問題を解決したものであ
る。これによって移動方向の剛性を高く出来る利点も生
じ、高速位置決めが可能となった。

【００３８】なお、以上の各実施例では、バイモルフ型
ピエゾアクチュエータをフォトマスクホルダ（テーブル
９）上に固定された位置決めストッパの代わりに配置し
た場合を例にとって説明したが、ストッパやバイモルフ
型ピエゾアクチュエータは、必ずしもフォトマスクホル
ダ上に固定されてなくてもよく、テーブル９以外の部分
に固定されていてもよい。フォトマスクを何を基準に位
置決めするかで、どこにストッパ、あるいはバイモルフ
型アクチュエータを固定すればよいかを決めればよい。

【００３９】

【発明の効果】以上説明したように、本発明は、本来フ
ォトマスクを吸着、保持する目的での吸着パットに異な
る圧力あるいは流量の気体を供給することによってフォ
トマスクを浮上させ、圧力の差によって生ずるフォトマ
スクのわずかな傾斜で発生する移動力を利用してフォト
マスクを片寄せし、位置決めするもので、フォトマスク
の移動のためのアクチュエータを一切必要としない。従
って、位置決め動作時のアクチュエータからの振動、発
熱、発塵等が全くなく、高精密位置決めを要求される半
導体露光装置の位置決め機構としては、理想的なもので
あり、圧力あるいは流量を制御するためのサーボバルブ
とそのコントローラがあればよいので、コスト的にも非
常に安価である。

【００４０】加えて、半導体露光装置のフォトマスクテ
ーブル周辺には、アライメント用の顕微鏡、上部には照
明系等が配置され、フォトマスクの位置決め機構を設計
する場合、スペース的にも制約を受けることになるが、
本発明によりこれらの問題も解決できる。

【００４１】更に、例えばバイモルフ型ピエゾアクチュ
エータによるフォトマスクの位置決め機構においても、
このアクチュエータの大きさを非常に小さくできるの
で、前述のような狭いスペースに配置することが可能で
あり、アクチュエータからの振動、発熱、発塵等のない
位置決め機構を構成することも可能である。これに、本
発明の対向配置した一対のピエゾアクチュエータを採用
すれば、圧電素子の特性である非直線性も改善でき、位
置決め制御が容易になる利点もある。

【図面の簡単な説明】

【図１】本発明の矩型平板状物体の位置決め装置の一実
施例を示す斜視図。

【図２】本発明の他の実施例を示す斜視図。

【図３】本実施例の位置決め手順を説明するための図。

【図４】本発明の他の実施例を示す斜視図。

【図５】図４の実施例に適用されるバイモルフ型ピエゾ
アクチュエータの斜視図。

【図６】本発明の更に他の実施例を示す斜視図。

【図７】本発明の更に他の実施例を示す斜視図。

【図８】バイモルフ型ピエゾアクチュエータの非直線性
の例を示す図。

【符号の説明】

１ 矩型平板状物体 ２ 第１吸着パット ３ 第２吸着パット ４ 第３吸着パット ５ 第３ストッパ ６ 第１ストッパ ７ 第２ストッパ ８ 第４吸着パット ９ テーブル １０ 第１バイモルフ型ピエゾアクチュエータ １２ 第２バイモルフ型ピエゾアクチュエータ １３ 第３バイモルフ型ピエゾアクチュエータ １４ 第４バイモルフ型ピエゾアクチュエータ １５ 第５バイモルフ型ピエゾアクチュエータ

Claims (10)

【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】 矩型平板状物体をテーブル上で複数のス
   トッパに付当て、前記矩型平板状物体の裏面を複数の吸
   着パッドにより吸着して位置決め保持する矩型平板状物
   体の位置決め方法において、前記矩型平板状物体を前記
   吸着パッドによって吸着する以前に、前記吸着パットの
   それぞれに異なる圧力あるいは流量の気体を供給し、前
   記矩型平板状物体を浮上させて位置決めすることを特徴
   とする矩型平板状物体の位置決め方法。
2. 【請求項２】 前記ストッパに最も近い位置にある吸着
   パットに供給する気体の圧力あるいは流量を、他の吸着
   パットに供給する気体の圧力あるいは流量に比べて小さ
   く制御し、前記矩型平板状物体を前記ストッパに付当て
   て位置決めすることを特徴とする請求項１に記載の矩型
   平板状物体の位置決め方法。
3. 【請求項３】 矩型平板状物体をテーブル上で複数のス
   トッパに付当て、前記矩型平板状物体の裏面を複数の吸
   着パットにより吸着して位置決め保持する矩型平板状物
   体の位置決め装置において、第１方向に関して前記矩型
   平板状物体の位置を決めるための第１及び第２ストッパ
   と、前記第１方向と交差する第２方向に関して前記矩型
   平板状物体の位置を決めるための第３のストッパと、前
   記矩型平板状物体を吸着するための第１、第２、及び第
   ３吸着パットを有し、前記第１方向に沿って前記第１ス
   トッパを前記第１吸着パットに対してずらして配置し、
   前記第２方向に沿って前記第３ストッパを前記第１吸着
   パットに対してずらして配置し、前記第２方向に沿って
   前記第２吸着パットを前記第１吸着パットに対してずら
   して配置し、前記第１方向に沿って前記第２ストッパを
   前記第２吸着パットに対してずらして配置し、前記第１
   方向に沿って前記第３吸着パットを前記第１及び第２の
   吸着パットに対してずらして配置し、前記第１、第２、
   及び第３吸着パットに供給する気体の圧力あるいは流量
   をそれぞれｐ１、ｐ２、ｐ３とするとき、ｐ１＜ｐ２＜
   ｐ３となるように各吸着パットに供給する気体の圧力あ
   るいは流量を制御することを特徴とする矩型平板状物体
   の位置決め装置。
4. 【請求項４】 矩型平板状物体をテーブル上で複数のス
   トッパに付当て、前記矩型平板状物体の裏面を複数の吸
   着パットにより吸着して位置決め保持する矩型平板状物
   体の位置決め装置において、第１方向に関して前記矩型
   平板状物体の位置を決めるための第１及び第２ストッパ
   と、前記第１方向と交差する第２方向に関して前記矩型
   平板状物体の位置を決めるための第３のストッパと、前
   記矩型平板状物体を吸着するための第１、第２、第３、
   及び第４吸着パットを有し、前記第１方向に沿って前記
   第１ストッパを前記第１吸着パットに対してずらして配
   置し、前記第２方向に沿って前記第３ストッパを前記第
   １吸着パットに対してずらして配置し、前記第２方向に
   沿って前記第２吸着パットを前記第１吸着パットに対し
   てずらして配置し、前記第１方向に沿って前記第２スト
   ッパを前記第２吸着パットに対してずらして配置し、前
   記第１方向に沿って前記第３吸着パットを前記第２吸着
   パットに対してずらして配置し、前記第１方向に沿って
   前記第４吸着パットを前記第１吸着パットに対してずら
   して配置し、前記第１、第２、第３、及び第４吸着パッ
   トに供給する気体の圧力あるいは流量をそれぞれｐ１、
   ｐ２、ｐ３、ｐ４とするとき、ｐ１＜ｐ２≦ｐ４＜ｐ３
   となるように各吸着パットに供給する気体の圧力あるい
   は流量を制御することを特徴とする矩型平板状物体の位
   置決め装置。
5. 【請求項５】 矩型平板状物体をテーブル上で複数のス
   トッパに付当て、前記矩型平板状物体の裏面を複数の吸
   着パッドにより吸着して位置決め保持する矩型平板状物
   体の位置決め装置において、前記ストッパの少なくとも
   １つを可動とし、各吸着パットに供給する気体の圧力あ
   るいは流量を負圧及び正圧に制御することを特徴とする
   矩型平板状物体の位置決め装置。
6. 【請求項６】 前記可動ストッパは外部指令に応じて所
   定の移動量だけアクチュエータにより駆動されることを
   特徴とする請求項５に記載の矩型平板状物体の位置決め
   装置。
7. 【請求項７】 前記アクチュエータは圧電素子であるこ
   とを特徴とする請求項６に記載の矩型平板状物体の位置
   決め装置。
8. 【請求項８】 前記圧電素子はモノモルフ型あるいはバ
   イモルフ型のアクチュエータであることを特徴とする請
   求項７に記載の矩型平板状物体の位置決め装置。
9. 【請求項９】 前記可動ストッパは複数設けられ、前記
   矩型平板状物体が前記吸着パット上に置かれる時、前記
   可動ストッパのそれぞれの圧電素子に対して有効変位量
   のほぼ半分の変位量に相当する制御電圧が加えられるこ
   とを特徴とする請求項７に記載の矩型平板状物体の位置
   決め装置。
10. 【請求項１０】 前記可動ストッパは複数設けられ、前
    記可動ストッパは対向する位置に配置され、これら互い
    に対向する位置の前記可動ストッパのアクチュエータを
    相互に関連して外部からの指令により所定の移動量だけ
    制御し、矩型平板状物体を位置決めすることを特徴とす
    る請求項５に記載の矩型平板状物体の位置決め装置。