JPH09275064A - 基板のアライメント方法、及び装置 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】 【課題】基板のアライメント精度を低下させることな
く、基板のステージ上での保持力を安定させること。 【解決手段】所定座標系に対する基板（３４）の回転方
向のずれ量を計測する。次に、計測された回転方向のず
れ量に基づいて、基板（３４）の水平面内の位置を機械
的に位置決めする位置決め部材（３７ａ，３７ｂ，３８
ａ）の配置を調整する。その後、位置決め部材（３７
ａ，３７ｂ，３８ａ）を基板（３４）に接触させること
により基板（３４）を位置決めする。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【発明の属する技術分野】本発明は、基板のアライメン
ト方法及び装置に関し、特に、基板を所定座標系に対し
て機械的にアライメントする方法及び装置に関する。

【０００２】

【背景技術】基板の精密なアライメントが要求される投
影露光装置等においては、マスクと基板との最終的なア
ライメントを行う前に、基板を露光装置の座標系に対し
てアライメント（プリアライメント）を行う。このよう
なプリアライメントの方法としては、基板ホルダ上に載
置された基板を駆動ピン等の微動によって駆動し、位置
決め用の規制部材によって基板の位置を規制する方法が
ある。詳述すると、先ず、基板の外周位置を規制する規
制部材を所望の位置に配置する。その後、駆動ピンによ
って基板に衝撃を加えて微動させると、基板が規制部材
に倣うように位置決めされる。

【０００３】図９及び図１０は、露光装置に使用される
従来のステージ装置を示す。図において、ベース部材８
１は、図示しないＸＹステージ及びＺステージによっ
て、ＸＹ方向及びＺチルト方向に移動可能になってい
る。ベース部材８１の外周部分２辺には、干渉計計測用
の移動鏡８２ａ（Ｘ方向）、８２ｂ（Ｙ方向）が取り付
けられており、図示しない干渉計ユニットによってＸＹ
ステージの位置を計測するようになっている。ベース部
材８１の上面中央には、円形のローテーションテーブル
８３が設けられている。ローテーションテーブル８３
は、中央付近に設けられた回転軸受け８７を中心軸とし
て、ベース部材８１の上面で回転できるようになってい
る。ベース部材８１上面には、ローテーションテーブル
８３を真空吸着するバキュームパッド９８が複数箇所に
設けられており、ベース部材８１内部に設けられた通気
穴９０を介して外部配管９１と通気している。外部配管
９１は、別に設けられた電磁弁９２に接続され、外部コ
ントローラ９４からの電気信号によって、ローテーショ
ンテーブル８３の吸着及びその解放が制御される。

【０００４】ローテーションテーブル８３の回転駆動
は、ベース部材８１に設けられたリニアアクチュエータ
８５によって行われる。ローテーションテーブル８３に
は、駆動アーム８４が固定され、リニアアクチュエータ
８５によって、押されるようになっている。リニアアク
チュエータ８５に併設された引っ張りバネ８６は、駆動
アーム８４との間のガタ取りに使用される。ローテーシ
ョンテーブル８３の回転量は、リニアアクチュエータ８
５のストロークによって決定される。ローテーションテ
ーブル８３は、位置決め終了後に、バキュームパッド９
８によって固定クランプされる。ローテーションテーブ
ル８３の上面には、ウエハホルダ８８が固定され、ウエ
ハ８９はその上面に真空中着固定される。

【０００５】ベース部材８１の上には、プリアライメン
トユニット９５、９６が設置されている。これらのユニ
ット９５、９６には、ウエハ８９と相対する位置に、プ
リアライメントローラ９５ａ、９５ｂ、９６ａが取り付
けられている。プリアライメントユニット９５、９６
は、図示しないウエハハンドリング装置から供給された
ウエハ８９を機械的に位置決めする機能を持っている。
ウエハ８９には、結晶方向を示すＯＦ（オリエンテーシ
ョン・フラット）８９ａが形成されており、プリアイメ
ントユニット９５のプリアライメントローラ９５ａ、９
５ｂで規定される回転基準線に倣うことにより、回転方
向の位置決めを行う。また、ウエハ８９の水平面内の位
置決めは、プリアライメントユニット９６のプリアライ
メントローラ９６ａによって行われる。ウエハホルダ８
８上には、また、ハンマリングローラ９７が設けられ、
ウエハ８９をプリアライメントローラ９５ａ、９５ｂ、
９６ａに対して押し付けるようになっている。

【０００６】次に、上記のように構成された従来装置に
おけるウエハ８９のプリアライメント動作について説明
する。先ず、ウエハハンドリング装置（図示せず）によ
って搬送されたウエハ８９が、ウエハホルダ９８上面に
載置される。この時、ローテーションテーブル８３は、
ストロークの中央位置でバキュームパッド９８で固定さ
れている。次に、プリアライメント装置９５、９６が動
作し、ハンマリングローラ９７によってウエハ８９を、
プリアライメントローラ９５ａ、９５ｂ、９６ａに押し
付け、機械的な位置決めを行う。

【０００７】ウエハホルダ８３上でウエハ８９の吸着固
定を行い、図示しないアライメント光学系により、露光
装置本体の座標系に対するウエハ８９の水平面内での回
転エラー成分を計測する。次に、ウエハホルダ８３上の
ウエハ８９の真空吸着を解放し、先に計測された回転エ
ラー成分に応じてリニアアクチュエータ８５を駆動し、
回転エラー成分が許容値内に入るようにローテーション
テーブル８３を補正駆動する。その後、電磁弁９２を作
動させて、ローテーションテーブル８３を吸着固定す
る。

【０００８】

【発明が解決しようとする課題】上記のような従来の装
置においては、ウエハホルダ８７及びローテーションテ
ーブル８３は、ベース部材８１に真空吸着固定されてお
り、その吸着力によって両者間の境界面に生じる摩擦力
がローテーションテーブル８３の水平面内の保持力とな
る。露光装置等の精密機器が置かれている環境におい
て、他の機器の動作によって真空圧力が上下動する状況
は避けられないところであり、また、摩擦係数を境界面
全体で均一に保つことは困難である。その結果、ローテ
ーションテーブル８３の水平面内保持力が不安定になっ
てしまう。また、ステージ装置は、その下に設けられた
ＸＹステージにより水平面内で移動可能であり、その加
速度は近年益々大きくなり、１Ｇ（９．８ｍ／ｓ2）以
上の場合もある。これに伴い、ローテーションテーブル
８３の水平面内保持力のマージンは益々小さくなりつつ
ある。

【０００９】一方、リニアアクチュエータ８５の駆動終
了後の、バキュームパッド９８によるローテーションテ
ーブル８３の固定動作において、真空圧の微変動、バキ
ュームパッド９８上面の面粗さ度の部分的ばらつきによ
り、バキュームパッド９８と電磁弁９２の最適作動タイ
ミングが変動する。このような動作タイミングを制御す
ることは、現実的には非常に困難である。このため、ロ
ーテーションテーブル８３の吸着動作の再現性及び精度
を悪化させることになる。一般に、この種のタイプのス
テージ装置においては、干渉計移動鏡８２ａ、８２ｂと
ウエハ８９の相対的な位置関係を安定させることが非常
に重要になる。将来的には、１ｎｍ以下の安定性（精
度）が要求されるが、上記のような従来の方法でこの要
求を満たすことは極めて困難である。ローテーションテ
ーブル８３の吸着部分を排除してしまえば、ウエハ８９
と干渉計移動鏡８２ａ、８２ｂとの間の相対的な位置関
係は安定するものの、ウエハ８９のプリアライメント自
体に問題が生じる。即ち、ローテーションテーブル８３
はウエハ８９の水平面内での回転誤差成分を補正するも
のであり、また、吸着機構は補正後のローテーションテ
ーブル８３の位置をクランプするものであり、この吸着
機構を単純に排除するとウエハ８９のプリアライメント
精度に影響を及ぼすことになる。

【００１０】

【発明の目的】本発明は上記のような状況に鑑みて成さ
れたものであり、基板のアライメント精度を低下させる
ことなく、基板のステージ上での保持力を安定させるこ
とを目的とする。

【００１１】

【課題を解決するための手段】上記課題を解決するため
に、本発明の方法においては、まず、所定座標系に対す
る基板の回転方向のずれ量を計測する。次に、計測され
た回転方向のずれ量に基づいて、基板の水平面内の位置
を機械的に位置決めする位置決め部材の配置を調整す
る。その後、位置決め部材を基板に接触させることによ
り基板を座標系に対して位置決めする。

【００１２】本発明のアライメント装置は、基板駆動部
材の微動によって基板を駆動して、該基板の所定座標系
に対するアライメントを行う装置において、基板の水平
面内の位置を機械的に規制する位置規制手段と、座標系
に対する基板の回転方向のずれ量を計測する回転誤差計
測手段と、計測された回転方向のずれ量に基づいて、位
置規制手段の配置を調整する位置調整手段とを備えてい
る。そして、基板駆動手段の微動によって基板を駆動
し、該基板の位置を位置調整された位置規制手段によっ
て機械的に規制することによって、回転方向のずれ量を
補正する。

【００１３】本発明の露光装置は、感光基板を保持する
基板保持部材と、基板保持部材を駆動する駆動ステージ
と、基板保持部材上の感光基板の所定座標系に対する回
転方向のずれ量を計測する回転誤差計測手段と、基板保
持部材上の感光基板の水平面内の位置を機械的に規制す
る位置規制手段と、計測された感光基板の回転方向のず
れ量に基づいて、位置規制部材の配置を調整する位置調
整手段と、それ自体が微動することによって感光基板を
位置規制手段に向かって駆動して、感光基板の回転方向
のずれ量を補正する基板駆動手段と、基板保持部材に設
けられた基準部材と、座標系に対する感光基板のアライ
メント後に、基準部材を基準に感光基板の位置を随時計
測する位置計測手段とを備えている。

【００１４】

【作用及び効果】本発明は以上のように、基板を直接駆
動することで回転方向のずれ量を補正するため、従来の
ようなローテーションテーブルが不要となる。その結
果、吸着機構等の、ローテーションテーブルと基板ベー
ス部材との間の保持機構を省略することができ、基板保
持力が安定する。また、本発明の露光装置においては、
基板と干渉計移動鏡（位置計測基準部材）の間の可動部
分は、最小限必要な基板保持手段と基板との保持機構の
みとなり、基板と基板ベース部材との位置関係、すなわ
ち基板位置測定系の基準位置（干渉計移動鏡）と基板と
の相対的な位置関係が安定する。その結果、駆動ステー
ジ上の基板の位置測定性度が向上する。従って、本発明
は、干渉計移動鏡と基板との相対的な位置関係の精度を
１ｎｍ以下にすることも可能となる。

【００１５】

【発明の実施の形態】次に、本発明の実施の形態を以下
に示す実施例に基づいて説明する。なお、本実施例は、
ウエハ上に所定のパターンを露光する投影露光装置に本
発明を適用したものである。

【００１６】

【実施例】図１は、本実施例の投影露光装置を示す。装
置全体は、下方の鉄定盤１２上に全て組み上げられてお
り、この鉄定盤１２は防振システム１１を介して床面に
設置されている。鉄定盤１２の中央には、ウエハ用のＸ
Ｙステージ１３及びＺステージ１４が設置され、その上
に本発明の要部を構成するウエハ固定ステージ装置１５
が設けられている。ウエハ固定ステージ装置１５の端部
には、ウエハ干渉計用の移動鏡１６が設置され、装置外
部に配置されたウエハ干渉計光学ユニット１７により、
ウエハ固定ステージ装置１５の水平面内の位置を計測す
るようになっている。鉄定盤１２の外縁部には、上方の
構造部分を支持すべくコラム部材１８が固定されてい
る。コラム部材１８上面には、投影レンズ１９、マスク
支持架台２０、照明系支持架台２１が設置されている。

【００１７】マスク支持架台２０上面には、マスク２３
を吸着固定するマスクホルダ２２が備えられている。マ
スクホルダ２２は、駆動系２４によって水平面内で微動
ストローク範囲で補正駆動可能となっている。照明系支
持架台２１上面には、照明光学ユニット２５が設置され
ている。また、コラム部材１８の中央部下面側には、ウ
エハ用のアライメント光学系１１６が設置されている。
また、マスクホルダ２２と照明系２５の間には、マスク
用のアライメント光学系２７が設置されている。

【００１８】図２及び図３は、上述したウエハ固定ステ
ージ１５の詳細を示す。図において、ベースプレート３
１は、ＸＹステージ１３及びＺステージ１４（図１参
照）によって、ＸＹ方向及びＺチルト方向に、大ストロ
ーク（Ｘ，Ｙ）、小ストローク（Ｚチルト）で移動可能
になっている。ベースプレート３１の外周部分２辺に
は、干渉計計測用の移動鏡３２ａ（Ｘ方向）、３２ｂ
（Ｙ方向）が取り付けられており、図示しない干渉計光
学ユニットによってＸＹステージ１３の位置を計測する
ようになっている。ウエハホルダ３３はベースプレート
３１上面に固定され、ウエハホルダ３３の上面にウエハ
３４が吸着固定される。

【００１９】ベースプレート４１の上には、プリアライ
メントユニット３７、３８が設置されている。これらの
ユニット３７、３８には、ウエハ３４と相対する位置
に、プリアライメントローラ３７ａ、３７ｂ、３８ａが
取り付けられている。ベースプレート３１の右側側面に
は、アーム部材３６を介してプリアライメントローラ３
７ａ、３７ｂを駆動するアクチュエータ３５が取り付け
られている。アーム部材３６の一端は、回転軸受け４２
によって回動自在に支持され、他端はガタ取り用の引っ
張りバネ３９によってアクチュエータ３５の一部に接続
されている。アクチュエータ３５の動作は、外部コント
ローラ４１によって制御される。外部コントローラ４１
は、アクチュエータ３５の他に、ウエハホルダ３３への
ウエハ３４の吸着及びその解除、ハンマリングローラ４
０の駆動等の統括的な制御を行う。

【００２０】プリアライメントユニット３７、３８は、
図示しないウエハハンドリング装置から供給されたウエ
ハ３４を機械的に位置決めする機能を持っている。本実
施例のウエハ３４には、結晶方向を示すＯＦ（オリエン
テーション・フラット）３４ａが形成されており、プリ
アライメントユニット３７のプリアライメントローラ３
７ａ、３７ｂで規定される回転基準線に倣うことによ
り、回転方向の位置決めを行う。また、ウエハ３４の水
平面内の位置決めは、プリアライメントユニット３８の
プリアライメントローラ３８ａによって行われる。ウエ
ハホルダ３３上には、また、ハンマリングローラ４０が
設けられ、ウエハ３４をプリアライメントローラ３７
ａ、３７ｂ、３８ａに対して押し付けるようになってい
る。

【００２１】次に、上記のように構成された実施例のプ
リアライメント動作について説明する。 ［ステップ１］ 先ず、ウエハハンドリング装置（図示
せず）によって搬送されたウエハ３４が、ウエハホルダ
３３上面に載置される。この時、プリアライメントロー
ラ３７ａ、３７ｂ、３８ａは、予め定められた位置（ノ
ーマルポジション）に待機している。

【００２２】［ステップ２］ プリアライメント装置３
７、３８が作動し、ハンマリングローラ４０によってウ
エハ３４を、ノーマルポジションにあるプリアライメン
トローラ３７ａ、３７ｂ、３８ａに押し付け、機械的な
位置決めを行う。

【００２３】［ステップ３］ ウエハホルダ３３上でウ
エハ３４の吸着固定を行い、ウエハステージ上方に設け
られたアライメント光学系２６により、装置本体座標系
に対するウエハ３４の水平面内での回転エラー成分を計
測する。なお、ウエハ３４の回転エラー成分を計測する
には、ウエハ３４上のマークを所定のビームで相対的に
スキャンし、その時の回折光又は散乱光を光電検出する
方式を採用することができる。

【００２４】［ステップ４］ 外部コントローラ４１
は、ウエハホルダ３３上のウエハ３４の真空吸着を解放
し、先に計測された回転エラー成分に応じてアクチュエ
ータ３５を駆動する。アクチュエータ３５の駆動によ
り、アーム部材３６は回転軸受け４２を中心に回動し、
プリアライメントローラ３７ａ、３７ｂが移動し、回転
基準線５２ｃの傾きが変わる。この際、プリアライメン
トユニット３７は待避していても良い。

【００２５】［ステップ５］ 再び、プリアライメント
ユニットが作動し、新たに配置されたプリアライメント
ローラ３７ａ、３７ｂ、３８ａを基準にして、ウエハ３
４を上述と同様に機械的に位置決めする。

【００２６】［ステップ６］ ウエハホルダ３３上でウ
エハ３４の吸着固定を行った後、アライメント光学系で
再びウエハ３４の回転エラー成分を計測（確認）する。
なお、ウエハ３４の回転エラー成分の許容値は、主とし
てマスク２３（図１参照）とウエハ３４との位置決めを
行う光学センサによって決まり、一般には、１mrad以下
である。

【００２７】次に、図５に示す本発明の第２実施例につ
いて説明する。本実施例は、上述した実施例におけるウ
エハ３４の回転基準線５２ｃの調整機構を変更したもの
である。なお、上記実施例と同一又は対応する構成要素
に関しては、同一の符号を付し、詳細な説明は省略す
る。図において、ウエハ３４の回転基準線５２ｃを規制
するユニットを２つのユニット４８、５０に分割し、そ
れぞれにプリアライメントローラ４８ａ、５０ａを設け
ている。ユニット４８はベースプレート３１（図２、図
３参照）に固定され、ユニット５０は直動ガイド６１上
に紙面の上下方向に移動可能に取り付けられた駆動アー
ム６０の一端に固定されている。駆動アーム６０の他端
は、アクチュエータ３９の端部に接するように配置され
ている。本実施例においては、アクチュエータ３９によ
って駆動アーム６０を紙面の上下方向に駆動することに
よって、ウエハ３４の回転基準線５２ｃの傾きを調整す
る。

【００２８】次に、図６に示す本発明の第３実施例につ
いて説明する。本実施例は、基本的には上述した第１実
施例と同じ構成であるが、ウエハ３４の向きを９０°回
転し、それに応じてプリアライメントユニット３７、３
８の位置を変えたものである。なお、上記実施例と同一
又は対応する構成要素に関しては、同一の符号を付す。
また、本実施例の動作に関しては、上記第１実施例と同
様であるため、ここでは重複した説明を省略する。本実
施例においても、プリアライメントユニット３７を、図
５に示した第２実施例のように２つに分割しても良い。

【００２９】次に、図７に示す本発明の第３実施例につ
いて説明する。本実施例は、上述した第１及び第２実施
例におけるウエハ３４と異なり、ウエハの結晶方向を示
すＯＦ（オリエンテーション・フラット）ではなく、三
角形状のノッチ７１ａを有するウエハ７１に適用される
ものである。図において、ウエハ７１はウエハホルダ７
２上での吸着を解放された状態で載置されている。ウエ
ハホルダ７２の奥側の左右には、プリアライメントロー
ラ７４、７５が固定されている。また、手前側にはプリ
アライメントユニット７３が設置されている。本実施例
においては、プリアライメントユニット７３のウエハ７
１に相対する位置に取り付けられたプリアライメントロ
ーラ７３ａをウエハ７１のノッチ７１ａに押し付けるこ
とによって、ウエハ７１の水平面内での位置決めが一意
的に行える。

【００３０】プリアライメントユニット７３は、紙面の
左右方向に自由度を持つ直動ガイド７６上に取り付けら
れている。リニアアクチュエータ７７は、プリアライメ
ントユニット７３を左右方向に駆動し、ウエハ７１の回
転エラー成分を補正する。この時、図８に示すように、
ウエハ７１の半径をｒとすると、プリアライメントロー
ラ７３ａの移動量△Ｌに応じて、ウエハ７１の角度△θ
は以下の式のように変化することになる。

【００３１】

【数１】

【００３２】 以上説明したように、本発明の各実施例
によれば、ウエハ３４と干渉計移動鏡３２ａ、３２ｂと
の間の可動部分は、最小限必要なウエハ３４とウエハホ
ルダ３３との吸着のみとなる。従って、ウエハ３４を一
旦位置決めした後は、ウエハ３４と干渉計移動鏡３２
ａ、３２ｂとの相対的なずれは、殆どなくなる。

【００３３】また、上記各実施例においては、駆動ステ
ージ（１３、１４）上に配置されるウエハ固定ステージ
（１５）の高剛性化が図れるという利点がある。すなわ
ち、従来のようにベース部材上にローテーションテーブ
ルを設けた場合には、ベース部材とローテーションテー
ブルの２部品が必要があったが、本発明の各実施例にお
いてはベースプレート３１で両者を一体化することがで
き、剛性が増す。また、このような構成によって、ステ
ージ装置の設計自由度が増し、軽量化を図ることもでき
る。

【００３４】また、ステージ装置の駆動系の小型化が図
れる。すなわち、従来のようにウエハの回転方向の誤差
を補正するのに、ローテーションテーブルを使用した場
合には、通常３ｋｇ以上あるローテーションテーブルを
アクチュエータによって駆動しなければならない。一
方、本実施例における駆動対象であるプリアライメント
ユニットは、２００ｇｆ程度であり、小型のアクチュエ
ータを使用できる。また、ローテーションテーブルは滑
り運動によって駆動する必要があるが、本実施例のよう
な軽量なプリアライメントユニットは、転がり案内で十
分に駆動可能である。その結果、ウエハの回転方向の誤
差を補正する時に、従来の１／５００程度の駆動力で足
りることになる。

【００３５】更に、ステージ装置の構成の簡素化が図れ
る。すなわち、従来のようにウエハの回転方向の誤差を
補正するのに、ローテーションテーブルを使用した場合
には、ローテーションテーブルをベース部材等に吸着す
るための系統が必要であるが、本発明の各実施例におい
てはこのような構成を削除できる。本実施例において
は、ウエハ３４をウエハホルダ３３に吸着するための系
統のみで、他の吸着系統（固定系統）を必要としない。

【００３６】以上、本発明の実施例について説明した
が、本発明はこれらの実施例に限定されるものではな
く、特許請求の範囲に示された本発明の技術的思想とし
ての要旨を逸脱しない範囲で種々の変更が可能である。
例えば、ウエハ３４のウエハホルダ３３への固定方法
は、真空吸着のみならず、静電吸着等の他の方法を採用
することもできる。

【図面の簡単な説明】

【図１】図１は、本発明の各実施例が適用される投影露
光装置を示す概念図（正面図）である。

【図２】図２は、本発明の第１実施例を示す平面図であ
る。

【図３】図３は、第１実施例を示す正面図である。

【図４】図４は、第１実施例の動作を示す説明図（平面
図）である。

【図５】図５は、本発明の第２実施例を示す平面図であ
る。

【図６】図６は、本発明の第３実施例を示す平面図であ
る。

【図７】図７は、本発明の第４実施例を示す平面図であ
る。

【図８】図８は、第４実施例の動作を示す説明図であ
る。

【図９】図９は、従来技術を示す平面図である。

【図１０】図１０は、図９の従来技術の正面図である。

【符号の説明】

１３・・・ＺＹステージ １４・・・Ｚステージ １５・・・ウエハ固定ステージ １６，３２ａ，３２ｂ・・・干渉計移動鏡 １７・・・干渉計光学ユニット ２６・・・ウエハアライメント系 ３１・・・ベースプレート ３３・・・ウエハホルダ ３４，７１・・・ウエハ ３４ａ・・・ＯＦ（オリエンテーション・フラット） ３７，３８，４８，５０，７３・・・プリアライメント
ユニット ３７ａ，３７ｂ，３８ａ，４８ａ，５０ａ・・・プリア
ライメントローラ ３５，７７・・・アクチュエータ ３６・・・アーム部材 ６０・・・駆動アーム ６１，７６・・・直動ガイド ７１ａ・・・ノッチ ７３ａ・・・プリアライメントローラ

Claims (7)

【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】 所定の座標系に対して基板をアライメン
   トする方法において、 前記座標系を含む平面内における前記座標系に対する前
   記基板の回転方向のずれ量を計測し、 前記計測された回転方向のずれ量に基づいて、前記基板
   の水平面内の位置を機械的に位置決めする位置決め部材
   の配置を調整した後、 前記位置決め部材を前記基板に接触させることにより前
   記基板を前記座標系に対して位置決めすることを特徴と
   するアライメント方法。
2. 【請求項２】 基板駆動部材の微動によって基板を駆動
   して、該基板の所定座標系に対するアライメントを行う
   装置において、 前記基板の水平面内の位置を機械的に規制する位置規制
   手段と；前記座標系に対する前記基板の回転方向のずれ
   量を計測する回転誤差計測手段と；前記計測された回転
   方向のずれ量に基づいて、前記位置規制手段の配置を調
   整する位置調整手段とを備え、 前記基板駆動手段の微動によって前記基板を駆動し、該
   基板の位置を前記位置調整された前記位置規制手段によ
   って機械的に規制することによって、前記回転方向のず
   れ量を補正することを特徴とするアライメント装置。
3. 【請求項３】 前記基板の外周には、該基板の方向を示
   す直線部分が形成され、 前記位置規制手段は、前記基板の直線部分に複数点で接
   して、前記基板の１方向の位置を規制する第１位置規制
   部材と、前記基板の前記直線部分以外の外周に接する第
   ２位置規制部材とを備え、 前記位置調整手段は、前記第１位置規制部材の前記基板
   と接触すべき複数点を結ぶ基準線が、前記回転ずれ量に
   応じた角度だけ傾斜するように当該第１位置規制部材を
   駆動する部材駆動手段を備えたことを特徴とする請求項
   ２に記載の装置。
4. 【請求項４】 前記第１位置規制部材は、前記基板の外
   周の前記直線部分にそれぞれ接する２つの接触部材を有
   し、 前記位置調整手段は、ある点を支点に、前記２つの接触
   部材を一体で駆動することを特徴とする請求項３に記載
   の装置。
5. 【請求項５】 前記第１位置規制部材は、前記基板の外
   周の前記直線部分にそれぞれ接する２つの接触部材を有
   し、 前記位置調整手段は、前記２つの接触部材の一方のみを
   駆動することを特徴とする請求項３に記載の装置。
6. 【請求項６】 前記基板の外周には、該基板の方向を示
   す切欠きが形成され、 前記位置規制手段は、前記切欠きに内接する位置規制部
   材を備え、 前記調整手段は、前記回転ずれ量に応じた距離だけ前記
   位置規制部材を駆動する部材駆動手段を備えたことを特
   徴とする請求項２に記載の装置。
7. 【請求項７】 マスク上に形成されたパターンの像を感
   光基板上に露光する露光装置において、 前記感光基板を保持する基板保持部材と；前記基板保持
   部材を駆動する駆動ステージと；前記基板保持部材上の
   前記感光基板の所定座標系に対する回転方向のずれ量を
   計測する回転誤差計測手段と；前記基板保持部材上の前
   記感光基板の水平面内の位置を機械的に規制する位置規
   制手段と；前記計測された前記感光基板の回転方向のず
   れ量に基づいて、前記位置規制部材の配置を調整する位
   置調整手段と；それ自体が微動することによって前記感
   光基板を前記位置規制手段に向かって駆動して、前記感
   光基板の回転方向のずれ量を補正する基板駆動手段と；
   前記基板保持部材に設けられた基準部材と；前記座標系
   に対する前記感光基板のアライメント後に、前記基準部
   材を基準に前記感光基板の位置を随時計測する位置計測
   手段とを備えたことを特徴とする露光装置。