JPH0982606A - レチクルホルダ - Google Patents
レチクルホルダInfo
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- JPH0982606A JPH0982606A JP7235688A JP23568895A JPH0982606A JP H0982606 A JPH0982606 A JP H0982606A JP 7235688 A JP7235688 A JP 7235688A JP 23568895 A JP23568895 A JP 23568895A JP H0982606 A JPH0982606 A JP H0982606A
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-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
- G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
- G03F7/70—Microphotolithographic exposure; Apparatus therefor
- G03F7/70691—Handling of masks or workpieces
Abstract
(57)【要約】
【課題】 レチクルホルダ１に保持されたレチクルＲの
パターンの変形により、感光基板に転写されたパターン
に歪みが生ずる。この歪みを制御（小さく）したい。 【解決手段】 レチクルホルダ１のレチクル吸着面１Ｂ
の面形状を面形状変形手段（フランジ１Ｅ＋ピエゾ素子
２１）によって変化させる。ピエゾ素子２１に電力を供
給すると、ピエゾ素子が伸びてフランジ１Ｅが上に突出
する。これによって、転写されるパターンの歪みを制御
することができ、パターンの歪みを所望値、例えば最小
とすることができる。また、異なるレチクルや異なる露
光装置で転写されるパターンの歪みを揃えることがで
き、重ね合わせ誤差やつなぎ合わせ誤差を低減すること
ができる。
パターンの変形により、感光基板に転写されたパターン
に歪みが生ずる。この歪みを制御（小さく）したい。 【解決手段】 レチクルホルダ１のレチクル吸着面１Ｂ
の面形状を面形状変形手段（フランジ１Ｅ＋ピエゾ素子
２１）によって変化させる。ピエゾ素子２１に電力を供
給すると、ピエゾ素子が伸びてフランジ１Ｅが上に突出
する。これによって、転写されるパターンの歪みを制御
することができ、パターンの歪みを所望値、例えば最小
とすることができる。また、異なるレチクルや異なる露
光装置で転写されるパターンの歪みを揃えることがで
き、重ね合わせ誤差やつなぎ合わせ誤差を低減すること
ができる。
Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明はレチクルホルダに関
する。レチクルホルダは、例えば半導体素子や液晶表示
デバイス等の精密製品（以下製品と言う）の製造に用い
られる露光装置に用いられる。
する。レチクルホルダは、例えば半導体素子や液晶表示
デバイス等の精密製品（以下製品と言う）の製造に用い
られる露光装置に用いられる。
【０００２】
【従来の技術】露光装置（図３参照）は、レチクルホル
ダに吸着されたレチクルを照明し、レチクルのパターン
を投影光学系によって感光基板上に投影し、レチクルの
パターンを感光基板上に転写する装置である。不図示の
レチクルローダによってレチクルＲがレチクルホルダ１
上に搬送、載置され、レチクルホルダ１の上面に配置さ
れたレチクル吸着部１Ａの吸着面１Ｂに、例えば真空に
よって吸着される。１４は真空源に接続される配管、１
３は配管の途中に設置され真空吸着を作動させる電磁弁
であり、制御装置１１の指令信号によって作動する。
ダに吸着されたレチクルを照明し、レチクルのパターン
を投影光学系によって感光基板上に投影し、レチクルの
パターンを感光基板上に転写する装置である。不図示の
レチクルローダによってレチクルＲがレチクルホルダ１
上に搬送、載置され、レチクルホルダ１の上面に配置さ
れたレチクル吸着部１Ａの吸着面１Ｂに、例えば真空に
よって吸着される。１４は真空源に接続される配管、１
３は配管の途中に設置され真空吸着を作動させる電磁弁
であり、制御装置１１の指令信号によって作動する。
【０００３】レチクルホルダ１は、上面に例えば４つの
レチクル吸着面１Ｂを配置した構造を有している。レチ
クルホルダは、これら４つの吸着面に載置されたレチク
ルの４隅を裏面から所定の真空圧（約１気圧弱）によっ
て真空吸着し保持する。図４は、レチクルホルダ１の垂
直断面図である。
レチクル吸着面１Ｂを配置した構造を有している。レチ
クルホルダは、これら４つの吸着面に載置されたレチク
ルの４隅を裏面から所定の真空圧（約１気圧弱）によっ
て真空吸着し保持する。図４は、レチクルホルダ１の垂
直断面図である。
【０００４】
【発明が解決しようとする課題】４つの吸着面１Ｂは、
それぞれがバラバラに傾いていたり、高さが異なってい
たりして、精密には同一平面内にない場合も多い。この
ため、レチクルＲは吸着面１Ｂの状態に応じて様々に変
形する。図３のＡ方向からレチクルを見ると、例えば図
５（ｂ）の様に下に凸に湾曲したり、その反対に図５
（ｃ）の様に上に凸に湾曲したり、また図５（ｄ）の様
にＳ字状に変形したりすることがある。図５（ｂ）は、
両側の吸着面が内側下がりに形成された場合、図５
（ｃ）は両側の吸着面が内側上がりに形成された場合、
図５（ｄ）は、一方の吸着面が内側下がりに、他方の吸
着面が内側上がりに形成された場合である。変形の傾向
及び度合いは吸着面１Ｂの形状によって異なる。更に、
図５（ａ）のように４つの吸着面１Ｂがレチクルホルダ
と平行な同一平面内に形成されていても、レチクルは自
重により僅かに下に凸に変形してしまう。
それぞれがバラバラに傾いていたり、高さが異なってい
たりして、精密には同一平面内にない場合も多い。この
ため、レチクルＲは吸着面１Ｂの状態に応じて様々に変
形する。図３のＡ方向からレチクルを見ると、例えば図
５（ｂ）の様に下に凸に湾曲したり、その反対に図５
（ｃ）の様に上に凸に湾曲したり、また図５（ｄ）の様
にＳ字状に変形したりすることがある。図５（ｂ）は、
両側の吸着面が内側下がりに形成された場合、図５
（ｃ）は両側の吸着面が内側上がりに形成された場合、
図５（ｄ）は、一方の吸着面が内側下がりに、他方の吸
着面が内側上がりに形成された場合である。変形の傾向
及び度合いは吸着面１Ｂの形状によって異なる。更に、
図５（ａ）のように４つの吸着面１Ｂがレチクルホルダ
と平行な同一平面内に形成されていても、レチクルは自
重により僅かに下に凸に変形してしまう。
【０００５】何れにせよ、レチクルＲが変形するため、
その変形の傾向と度合いに応じて、レチクルＲのパター
ンの歪みが図６（ａ）〜（ｄ）のように生ずる。（図５
（ａ）〜（ｄ）に対応）。レチクルＲを図３に示すＢ方
向から見た場合も同様である。 このため、レチクルＲ
上に描かれたパターンが歪んで感光基板に転写される、
つまり転写されたパターンが歪んでいるという問題Ａが
あった。
その変形の傾向と度合いに応じて、レチクルＲのパター
ンの歪みが図６（ａ）〜（ｄ）のように生ずる。（図５
（ａ）〜（ｄ）に対応）。レチクルＲを図３に示すＢ方
向から見た場合も同様である。 このため、レチクルＲ
上に描かれたパターンが歪んで感光基板に転写される、
つまり転写されたパターンが歪んでいるという問題Ａが
あった。
【０００６】また、製品の製造においては、様々なパタ
ーンが形成された複数のレチクルを用いて、様々なパタ
ーンを重ね合わせたり、様々なパターンをつなぎ合わせ
ることが行われる。これらのレチクルは傾向の異なる変
形（反りやうねり）をもっていることが多い。上記製造
工程を複数台の露光装置を用いて行うこともあり、その
場合、各露光装置の投影レンズは異なる傾向のディスト
ーションを有することが多い。更に、各露光装置のレチ
クルホルダ１の吸着面１Ｂの面形状はそれぞれ異なる傾
向をもっている。このため、感光基板に転写された各パ
ターンはそれぞれ異なる歪み方をし、パターンの重ね合
わせやつなぎ合わせに誤差を生ずる問題Ｂがあった。
ーンが形成された複数のレチクルを用いて、様々なパタ
ーンを重ね合わせたり、様々なパターンをつなぎ合わせ
ることが行われる。これらのレチクルは傾向の異なる変
形（反りやうねり）をもっていることが多い。上記製造
工程を複数台の露光装置を用いて行うこともあり、その
場合、各露光装置の投影レンズは異なる傾向のディスト
ーションを有することが多い。更に、各露光装置のレチ
クルホルダ１の吸着面１Ｂの面形状はそれぞれ異なる傾
向をもっている。このため、感光基板に転写された各パ
ターンはそれぞれ異なる歪み方をし、パターンの重ね合
わせやつなぎ合わせに誤差を生ずる問題Ｂがあった。
【０００７】これらの問題Ａ、Ｂはこれまで許容範囲内
であったが、最近、露光装置に要求される精度は益々高
く（１マイクロメートル以下に）なっている。本発明の
目的は、感光基板に転写されたパターンの歪みを小さく
することにある。
であったが、最近、露光装置に要求される精度は益々高
く（１マイクロメートル以下に）なっている。本発明の
目的は、感光基板に転写されたパターンの歪みを小さく
することにある。
【０００８】
【課題を解決するための手段】レチクルＲは単に平面
（変形の無い状態）に補正されれば良いと言うものでは
ない。投影レンズのディストーションを考慮すると、む
しろ、積極的にこのディストーションによるパターンの
歪みをキャンセルする方向にレチクルＲを変形した方が
良い。そこで、本発明は、レチクルホルダのレチクル
（Ｒ）の吸着面の面形状を変える面形状変形手段を設け
たことを特徴とする（請求項１）。
（変形の無い状態）に補正されれば良いと言うものでは
ない。投影レンズのディストーションを考慮すると、む
しろ、積極的にこのディストーションによるパターンの
歪みをキャンセルする方向にレチクルＲを変形した方が
良い。そこで、本発明は、レチクルホルダのレチクル
（Ｒ）の吸着面の面形状を変える面形状変形手段を設け
たことを特徴とする（請求項１）。
【０００９】この面形状変形手段は、レチクル吸着面の
一部に設けたフランジ、及び該フランジを上下に移動さ
せる駆動手段からなることが好ましく（請求項２）、前
記駆動手段はピエゾ素子であることが好ましい（請求項
３）。また、面形状変形手段は、レチクル吸着面の一部
の直下に設けた空気溜まり、及び該空気溜まりに圧縮空
気を供給する圧縮空気源からなる構成であっても良い
（請求項４）。
一部に設けたフランジ、及び該フランジを上下に移動さ
せる駆動手段からなることが好ましく（請求項２）、前
記駆動手段はピエゾ素子であることが好ましい（請求項
３）。また、面形状変形手段は、レチクル吸着面の一部
の直下に設けた空気溜まり、及び該空気溜まりに圧縮空
気を供給する圧縮空気源からなる構成であっても良い
（請求項４）。
【００１０】また、本発明は、前記発明（請求項１〜
４）の何れかに、前記レチクルの変形又は感光基板に投
影された前記レチクルのパターンの歪みを検出する検出
部、及び「検出された変形又は歪みと所望の変形若しく
は歪みとの差、又は変形若しくは歪みの無い状態との差
を演算し、この差を無くすべく、前記面形状変形手段を
駆動する駆動信号を出力する演算部」を設けたことを特
徴とする（請求項５）。
４）の何れかに、前記レチクルの変形又は感光基板に投
影された前記レチクルのパターンの歪みを検出する検出
部、及び「検出された変形又は歪みと所望の変形若しく
は歪みとの差、又は変形若しくは歪みの無い状態との差
を演算し、この差を無くすべく、前記面形状変形手段を
駆動する駆動信号を出力する演算部」を設けたことを特
徴とする（請求項５）。
【００１１】本発明は、面形状変形手段によってレチク
ル（Ｒ）を積極的に変形（平面化を含む）することによ
り、感光基板に転写されたパターンの歪みを所望の値に
小さく（ゼロを含む）できる。又、複数のレチクルや複
数の露光装置を用いた場合、転写されたパターンの歪み
方を揃えることによって、重ね合わせやつなぎ合わせの
誤差を低減（ゼロを含む）することができる。
ル（Ｒ）を積極的に変形（平面化を含む）することによ
り、感光基板に転写されたパターンの歪みを所望の値に
小さく（ゼロを含む）できる。又、複数のレチクルや複
数の露光装置を用いた場合、転写されたパターンの歪み
方を揃えることによって、重ね合わせやつなぎ合わせの
誤差を低減（ゼロを含む）することができる。
【００１２】
【発明の実施の形態】図１は、本発明の第１の実施形態
にかかるレチクルホルダの垂直断面図を示す概念図であ
る。レチクル吸着面１Ｂの一部を上下方向に僅かに移動
させ、吸着面１Ｂの面形状を変化させる。これが吸着面
形状変形手段の作用である。吸着面１Ｂの面形状が変化
するとレチクルＲの変形状態が変わり、レチクルのパタ
ーンの歪み方が変わる。これにより感光基板に転写され
たパターンの歪みが変わる。一般には歪みを小さい方に
変えるわけである。
にかかるレチクルホルダの垂直断面図を示す概念図であ
る。レチクル吸着面１Ｂの一部を上下方向に僅かに移動
させ、吸着面１Ｂの面形状を変化させる。これが吸着面
形状変形手段の作用である。吸着面１Ｂの面形状が変化
するとレチクルＲの変形状態が変わり、レチクルのパタ
ーンの歪み方が変わる。これにより感光基板に転写され
たパターンの歪みが変わる。一般には歪みを小さい方に
変えるわけである。
【００１３】真空吸着部１Ａの吸着面１Ｂには真空配管
につながる吸着溝１Ｃがあり、これがレチクルＲを吸着
する。又、切り欠き１Ｄが吸着面１Ｂに平行に設けら
れ、上面が吸着面１Ｂの一部をなすフランジ１Ｅを形成
している。フランジ１Ｅの下面に接してピエゾ素子２１
がレチクルホルダ１に固設されている。ピエゾ素子２１
に電力を供給して作動させる事でフランジ１Ｅ、即ち吸
着面１Ｂの一部を上下に動かす事ができる。かくして、
４つの吸着面１Ｂに支えられたレチクルＲの変形状態が
変化する。その結果、レチクルＲのパターンの歪みが変
化する。この変化量は各ピエゾ素子２１の作動量によっ
て制御できる。そこで、予めレチクルＲの変形の程度、
又は感光基板に転写されたパターンの歪みの程度を検出
することによって前記変化量を所望の値に設定する。こ
のようなパターンの歪みは位置ずれとして認識すること
ができる。
につながる吸着溝１Ｃがあり、これがレチクルＲを吸着
する。又、切り欠き１Ｄが吸着面１Ｂに平行に設けら
れ、上面が吸着面１Ｂの一部をなすフランジ１Ｅを形成
している。フランジ１Ｅの下面に接してピエゾ素子２１
がレチクルホルダ１に固設されている。ピエゾ素子２１
に電力を供給して作動させる事でフランジ１Ｅ、即ち吸
着面１Ｂの一部を上下に動かす事ができる。かくして、
４つの吸着面１Ｂに支えられたレチクルＲの変形状態が
変化する。その結果、レチクルＲのパターンの歪みが変
化する。この変化量は各ピエゾ素子２１の作動量によっ
て制御できる。そこで、予めレチクルＲの変形の程度、
又は感光基板に転写されたパターンの歪みの程度を検出
することによって前記変化量を所望の値に設定する。こ
のようなパターンの歪みは位置ずれとして認識すること
ができる。
【００１４】アライメント光学系１５Ａ、１５Ｂはレチ
クルＲに形成されたアライメントマークＲＭを観察す
る。同光学系は観察されたアライメントマークＲＭの位
置とアライメントマークＲＭがあるべき基準位置との差
（ずれ量）を検出し、その検出量を制御装置１１に与え
る。１６Ａ〜１６Ｃはレチクルホルダ１をＸ軸方向、Ｙ
軸方向、光軸を回転中心とする回転方向に移動させる駆
動装置である。制御装置１１は検出されたずれ量を基に
駆動装置１６Ａ〜１６Ｃを駆動し、これによりレチクル
Ｒが載置されているレチクルホルダ１の位置を所定位置
（ずれ量＝ゼロ）にもってくる。
クルＲに形成されたアライメントマークＲＭを観察す
る。同光学系は観察されたアライメントマークＲＭの位
置とアライメントマークＲＭがあるべき基準位置との差
（ずれ量）を検出し、その検出量を制御装置１１に与え
る。１６Ａ〜１６Ｃはレチクルホルダ１をＸ軸方向、Ｙ
軸方向、光軸を回転中心とする回転方向に移動させる駆
動装置である。制御装置１１は検出されたずれ量を基に
駆動装置１６Ａ〜１６Ｃを駆動し、これによりレチクル
Ｒが載置されているレチクルホルダ１の位置を所定位置
（ずれ量＝ゼロ）にもってくる。
【００１５】アライメント光学系１５Ａ、１５Ｂは請求
項５で言うところの検出部を兼ねている。レチクルＲが
変形するとパターンが歪むのと同様に、アライメントマ
ークＲＭの位置がずれる。そのずれの方向及びずれ量
は、変形の傾向及び程度に応じて決まる。そこで、制御
装置１１（請求項５で言う演算部を含む）はアライメン
ト光学系１５Ａ、１５Ｂで検出したアライメントマーク
ＲＭのずれ方向及びずれ量からレチクルＲの変形を検出
し、変形が最小となるようにピエゾ素子２１の作動量を
調節する。
項５で言うところの検出部を兼ねている。レチクルＲが
変形するとパターンが歪むのと同様に、アライメントマ
ークＲＭの位置がずれる。そのずれの方向及びずれ量
は、変形の傾向及び程度に応じて決まる。そこで、制御
装置１１（請求項５で言う演算部を含む）はアライメン
ト光学系１５Ａ、１５Ｂで検出したアライメントマーク
ＲＭのずれ方向及びずれ量からレチクルＲの変形を検出
し、変形が最小となるようにピエゾ素子２１の作動量を
調節する。
【００１６】こうして、レチクルＲの変形を補正したな
らば、この状態を保ちつつレチクルＲ上に照明光を照射
し、投影光学系ＰＬによってレチクルＲのパターンを感
光基板Ｐに投影、転写する。なお、ピエゾ素子２１は、
外部に力を作用させることができる他のアクチュエー
タ、例えばねじ機構やエアーシリンダなどに置き換える
ことができる。
らば、この状態を保ちつつレチクルＲ上に照明光を照射
し、投影光学系ＰＬによってレチクルＲのパターンを感
光基板Ｐに投影、転写する。なお、ピエゾ素子２１は、
外部に力を作用させることができる他のアクチュエー
タ、例えばねじ機構やエアーシリンダなどに置き換える
ことができる。
【００１７】図２は本発明の第２の実施形態を示す。レ
チクルホルダ１の吸着面１Ｂの一部の直下に空気溜まり
３１が設けられている。空気溜まり３１と吸着面１Ｂと
の間は薄い壁を形成している。空気溜まり３１に供給す
る空気の圧力を高めることによって前記薄い壁が上方に
突き出し、その結果、吸着面１Ｂの一部が上に動く。空
気溜まり３１には、図示しない電気式レギュレータを介
して接続された、図示しない圧縮空気源から圧縮空気が
供給される。電気式レギュレータは制御装置１１からの
信号によって作動し、空気溜まり３１に供給する空気の
圧力を変化させる。その他は第１の実施形態と同様に作
動し、その結果、レチクルＲのパターンの歪みを所定の
値、例えば最小になるようにすることができる。
チクルホルダ１の吸着面１Ｂの一部の直下に空気溜まり
３１が設けられている。空気溜まり３１と吸着面１Ｂと
の間は薄い壁を形成している。空気溜まり３１に供給す
る空気の圧力を高めることによって前記薄い壁が上方に
突き出し、その結果、吸着面１Ｂの一部が上に動く。空
気溜まり３１には、図示しない電気式レギュレータを介
して接続された、図示しない圧縮空気源から圧縮空気が
供給される。電気式レギュレータは制御装置１１からの
信号によって作動し、空気溜まり３１に供給する空気の
圧力を変化させる。その他は第１の実施形態と同様に作
動し、その結果、レチクルＲのパターンの歪みを所定の
値、例えば最小になるようにすることができる。
【００１８】制御装置１１は、予め入力された重ね合わ
せるべき直前の転写されたパターンやつなぎ合わせるべ
き隣接パターンについての歪み情報と、今回転写するパ
ターンの歪み情報とを比較する演算部を持つ。該演算部
は予め入力された歪み情報と検出部で検出した歪み情報
とから、重ね合わせ誤差量やつなぎ合わせ誤差量を事前
に求める。そして、求めた誤差量に基づいてピエゾ素子
２１の作動量や空気溜まり３１へ供給する圧縮空気の圧
力を制御する。これによって前記誤差量を小さくするこ
とができる。
せるべき直前の転写されたパターンやつなぎ合わせるべ
き隣接パターンについての歪み情報と、今回転写するパ
ターンの歪み情報とを比較する演算部を持つ。該演算部
は予め入力された歪み情報と検出部で検出した歪み情報
とから、重ね合わせ誤差量やつなぎ合わせ誤差量を事前
に求める。そして、求めた誤差量に基づいてピエゾ素子
２１の作動量や空気溜まり３１へ供給する圧縮空気の圧
力を制御する。これによって前記誤差量を小さくするこ
とができる。
【００１９】上述の実施形態においては、レチクルＲの
変形をアライメントマークＲＭの変位を基に検出する場
合について述べた。しかし、レチクルＲの所定位置に設
けた他の位置計測用のマークの変位を基にレチクルＲの
変形を検出しても良い。又、レチクルの変形や感光基板
に投影されたパターンの歪みを検出する検出装置はＴＶ
画像を用いた画像処理装置とすることもできる。
変形をアライメントマークＲＭの変位を基に検出する場
合について述べた。しかし、レチクルＲの所定位置に設
けた他の位置計測用のマークの変位を基にレチクルＲの
変形を検出しても良い。又、レチクルの変形や感光基板
に投影されたパターンの歪みを検出する検出装置はＴＶ
画像を用いた画像処理装置とすることもできる。
【００２０】
【発明の効果】本発明は、レチクルホルダに保持された
レチクルの変形を制御する。そのためにレチクルのパタ
ーンの歪み、しいては感光基板に転写されるパターンの
歪みを所望の値、例えば小さく制御できる。それによ
り、パターンの重ね合わせ誤差やつなぎ合わせ誤差を小
さくすることができる。その結果、製品の歩留まりを向
上させることができる露光装置を実現できる。
レチクルの変形を制御する。そのためにレチクルのパタ
ーンの歪み、しいては感光基板に転写されるパターンの
歪みを所望の値、例えば小さく制御できる。それによ
り、パターンの重ね合わせ誤差やつなぎ合わせ誤差を小
さくすることができる。その結果、製品の歩留まりを向
上させることができる露光装置を実現できる。
【００２１】また、製造工程中に歪んでしまった感光基
板上のパターンに重ね合わせ、つなぎ合わせをする場合
に、感光基板上の歪んだパターンに合うようにレチクル
のパターンを積極的に歪ませてパターンを転写し、重ね
合わせ誤差やつなぎ合わせ誤差を小さくすることもでき
る。更に、レチクルを吸着せずにレチクル吸着面を上下
動させれば単純にレチクルを上下動できるので、レチク
ルの上下移動に伴うアライメントマーク検出信号の変化
によって歪み検出部の検査（顕微鏡のテレセントリック
性の検査）を行うことができる。
板上のパターンに重ね合わせ、つなぎ合わせをする場合
に、感光基板上の歪んだパターンに合うようにレチクル
のパターンを積極的に歪ませてパターンを転写し、重ね
合わせ誤差やつなぎ合わせ誤差を小さくすることもでき
る。更に、レチクルを吸着せずにレチクル吸着面を上下
動させれば単純にレチクルを上下動できるので、レチク
ルの上下移動に伴うアライメントマーク検出信号の変化
によって歪み検出部の検査（顕微鏡のテレセントリック
性の検査）を行うことができる。
【図１】本発明の第１の実施形態のレチクルホルダの垂
直断面図。
直断面図。
【図２】本発明の第２の実施形態のレチクルホルダの垂
直断面図。
直断面図。
【図３】従来のレチクルホルダを含む露光装置を示す斜
視図。
視図。
【図４】従来のレチクルホルダの垂直断面図。
【図５】吸着面の形状による、レチクルの変形状態の説
明図。
明図。
【図６】レチクルの変形状態による、レチクルのパター
ンの歪み方の説明図。
ンの歪み方の説明図。
１………レチクルホルダ １Ａ……レチクル吸着部 １Ｂ……レチクル吸着面 １Ｅ……フランジ １１……制御装置 １５Ａ、１５Ｂ……歪み検出部 ２１……ピエゾ素子 ３１……空気溜まり ３２……電気式レギュレータ Ｐ………感光基板 ＰＬ……投影光学系 Ｒ………レチクル ＲＭ……アライメントマーク
Claims (5)
- 【請求項１】 レチクルの吸着面を備えたレチクルホル
ダにおいて、 前記吸着面の面形状を変える面形状変形手段を備えたこ
と特徴とするレチクルホルダ。 - 【請求項２】 前記面形状変形手段は、前記レチクル吸
着面の一部に設けたフランジ、及び該フランジを上下に
移動させる駆動手段からなる、請求項１に記載のレチク
ルホルダ。 - 【請求項３】 前記駆動手段はピエゾ素子である、請求
項２に記載のレチクルホルダ。 - 【請求項４】 前記面形状変形手段は、前記レチクル吸
着面の一部の直下に設けた空気溜まり、及び該空気溜ま
りに圧縮空気を供給する圧縮空気源からなる、請求項１
に記載のレチクルホルダ。 - 【請求項５】 前記レチクルの変形又は感光基板に投影
された前記レチクルのパターンの歪みを検出する検出
部、及び「検出された変形又は歪みと所望の変形若しく
は歪みとの差、又は変形若しくは歪みの無い状態との差
を演算し、この差を無くすべく、前記面形状変形手段を
駆動する駆動信号を出力する演算部」を設けたことを特
徴とする請求項１〜４のいずれかに記載のレチクルホル
ダ。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP7235688A JPH0982606A (ja) | 1995-09-13 | 1995-09-13 | レチクルホルダ |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP7235688A JPH0982606A (ja) | 1995-09-13 | 1995-09-13 | レチクルホルダ |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH0982606A true JPH0982606A (ja) | 1997-03-28 |
Family
ID=16989751
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP7235688A Pending JPH0982606A (ja) | 1995-09-13 | 1995-09-13 | レチクルホルダ |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH0982606A (ja) |
Cited By (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
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-
1995
- 1995-09-13 JP JP7235688A patent/JPH0982606A/ja active Pending
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| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
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