JP2000031250A - 搬送装置及び搬送方法 - Google Patents

搬送装置及び搬送方法

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JP2000031250A
JP2000031250A JP10212028A JP21202898A JP2000031250A JP 2000031250 A JP2000031250 A JP 2000031250A JP 10212028 A JP10212028 A JP 10212028A JP 21202898 A JP21202898 A JP 21202898A JP 2000031250 A JP2000031250 A JP 2000031250A
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gripping members
arm
holding
actuator
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JP10212028A
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Yuuki Yoshikawa
勇希 吉川
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Nikon Corp
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Abstract

(57)【要約】 【課題】 基板の搬送中や受け渡し中に真空源の動作が
停止した場合であっても、基板について再度の位置合わ
せが不要である搬送装置。 【解決手段】 このアームユニット2は、3次元的に移
動するアーム本体21と、基板Wを垂直な姿勢に保持す
るべくアーム本体21の一方の面上に立設された複数の
把持部材22と、各把持部材22をアーム本体21上で
摺動自在に支持するスライドガイド23と、各スライド
ガイド23の近傍に固設されて把持部材22を往復駆動
するアクチュエータ24と、把持部材22に把持された
基板Wの位置を検出する位置センサ25とを備える。ア
クチュエータ24を動作させるための用力が遮断されて
しまった場合であっても、3ポートダブルソレノイドタ
イプの電磁弁32の構造上、電磁弁32の状態が維持さ
れて両チューブ30、31への空圧供給状態も維持さ
れ、基板Wが落下したり位置ずれすることを効果的に防
止することができる。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【発明の属する技術分野】この発明は、液晶ガラス基
板、半導体ウェハ等の薄板状の基板や、レチクル等の薄
板状のマスクを搬送するための搬送装置及び方法に関す
る。
【0002】
【従来の技術】従来、液晶ガラス基板や半導体ウェハを
搬送する際には、これらの基板を移動体であるアームに
固定・保持して目的位置まで移動するため、このアーム
に基板を吸着することが行われる。そして、基板を目的
のステージやカセットの位置まで搬送すると、ここでア
ームによる基板の吸着を解除してステージ等に基板を渡
す。
【0003】
【発明が解決しようとする課題】しかし、基板の搬送中
や受け渡し中に真空源の動作が停止した場合、基板の吸
着が解除されるため、アーム上で基板が移動して基板に
ついて再度の位置合わせが必要となったり、アームから
基板が脱落して基板が破損してしまうことも生じ得る。
【0004】そこで、この発明は、基板の搬送中や受け
渡し中に真空源の動作が停止した場合であっても、基板
について再度の位置合わせが不要であり、基板の破損の
おそれがない搬送装置及び方法を提供することを目的と
する。
【0005】
【課題を解決するための手段】上記課題を解決するた
め、本発明の搬送装置は、動作状態で、マスク及び基板
のいずれかである板状の被搬送体の周囲の複数箇所に個
別に嵌合して前記被搬送体を保持するとともに、退避状
態で、前記被搬送体の周囲から離間して保持を解除する
複数の把持部材と、前記複数の把持部材を前記動作状態
に維持するロック機構とを備える。
【0006】また、好ましい態様では、前記動作状態
で、前記被搬送体を立てた状態に保持することを特徴と
する。
【0007】また、好ましい態様では、前記複数の把持
部材を前記動作状態と前記退避状態とに駆動するアクチ
ュエータと、当該アクチュエータを制御して所定のタイ
ミングで動作させる制御装置とを備え、前記ロック機構
は、前記制御装置によって前記アクチュエータの駆動時
に、前記把持部材の動作を可能とすることを特徴とす
る。
【0008】また、本発明の別の態様では、マスク及び
基板のいずれかである板状の被搬送体の周囲の複数箇所
に個別に嵌合する複数の把持部材によって前記被搬送体
を搬送アームに保持する搬送装置であって、前記把持部
材が、前記搬送アーム上に支持されるとともに当該搬送
アーム上で移動可能になっており、前記搬送アームは、
前記把持部材を前記被搬送体に対して変位させることに
よって、前記被搬送体を保持することを特徴とする。
【0009】また、好ましい態様では、前記複数の把持
部材が、前記搬送アームに保持される前記被搬送体の板
面に平行な方向に移動可能に支持されていることを特徴
とする。
【0010】また、本発明の別の態様では、マスク及び
基板のいずれかである板状の被搬送体の周囲の複数箇所
に個別に嵌合することによって前記被搬送体を搬送アー
ムに対して保持可能である複数の把持部材と、前記複数
の把持部材を、前記搬送アームに保持される前記被搬送
体の板面に平行な方向に移動可能な状態で前記搬送アー
ム上に支持するスライド装置と、前記複数の把持部材を
移動させてそれぞれが前記被搬送体の周囲の複数箇所に
嵌合した際に当該複数の把持部材の移動をそれぞれ停止
させて前記被搬送体を保持させる動作状態と、当該複数
の把持部材を前記被搬送体の周囲から離間させて保持を
解除させる退避状態との間で変位させるアクチュエータ
とを備える。
【0011】また、好ましい態様では、前記アクチュエ
ータを制御して所定のタイミングで動作させる制御装置
と、当該制御装置によって前記アクチュエータが制御さ
れていないときに当該アクチュエータの動作を禁止する
制止装置とを備えることを特徴とする。
【0012】また、好ましい態様では、前記複数の把持
部材の位置を検出する変位計をさらに備えることを特徴
とする。
【0013】また、好ましい態様では、前記変位計の出
力に基づいて前記搬送アームの移動を制御することを特
徴とする。
【0014】また、本発明の搬送方法は、複数の把持部
材を駆動してマスク及び基板のいずれかである板状の被
搬送体の周囲の複数箇所にそれぞれ嵌合させることによ
り、前記被搬送体を保持して搬送する搬送方法であっ
て、前記被搬送体を保持している際に前記複数の把持部
材に対する駆動力が停止した場合にも、前記複数の把持
部材の嵌合状態をロック機構によって維持することを特
徴とする。
【0015】
【発明の実施の形態】以下、図面を参照しつつ、本発明
の搬送装置及び方法の実施形態について説明する。
【0016】図1は、搬送装置の要部であるアームユニ
ットの構造を示す図である。このアームユニット2は、
後述する駆動装置に駆動されて3次元的に移動可能なア
ーム本体21と、基板Wを垂直な姿勢に保持するべくア
ーム本体21の一方側の表面上に適当な間隔で立設され
た複数の把持部材22と、各把持部材22をアーム本体
21上で摺動自在に支持するスライドガイド23と、各
スライドガイド23の近傍に固設されて把持部材22を
往復駆動するアクチュエータ24と、把持部材22に把
持された基板Wの位置を検出する位置センサ25とを備
える。
【0017】各把持部材22の先端には、基板Wの周辺
部に嵌合可能な切欠を備えるツメ部22aが形成されて
いる。これらのツメ部22aが基板Wの周辺部に嵌合す
ると、基板Wが周囲から把持されて基板Wが垂直な姿勢
に保持される。このような動作状態でアーム本体21を
露光等を行うためのステージまで移動させれば、基板W
も、垂直姿勢を保ったままでこのステージまで移動す
る。搬送されてきた基板Wがステージ側に吸着等によっ
て保持されると、アームユニット2は、アクチュエータ
24を駆動し、各把持部材22を基板Wの板面に平行な
方向(AB方向又はCD方向)に移動させてツメ部22
aを基板Wの周辺部から離間させる。このような退避状
態では、ツメ部22aによる基板Wの保持が解除され、
アームユニット2からステージへの基板Wの受け渡しが
完了する。
【0018】図2は、アクチュエータ24の構造を説明
する図である。アクチュエータ24は、エアーシリンダ
機構からなっており、そのシリンダ24a内に往復移動
可能に収納されたピストン24bには、このピストン2
4bとともに移動するロッド24cが固設されている。
シリンダ24aの両端には、一対のチューブ30、31
が連結されている。両チューブ30、31は、空圧制御
部33に延びている。この空圧制御部33は、3ポート
ダブルソレノイドタイプの電磁弁32を内蔵しており、
各チューブ30、31に対する加圧供給源からの空圧の
供給を制御してピストン24bを自在に移動させる。ピ
ストン24bから延びるロッド24cの先端は把持部材
22に固定されており、空圧制御部33に制御されて、
ピストン24bとともに把持部材22もアーム本体21
の板面に沿って移動する。把持部材22が実線で示す退
避状態にあるとき、把持部材22による基板Wの保持が
解除され、把持部材22が一点鎖線で示す動作状態にあ
るとき、基板Wが把持部材22に保持される。
【0019】なお、空圧制御部33の内部に組み込まれ
た電磁弁32は、アクチュエータ24のロック機構とな
っている。すなわち、アクチュエータ24を動作させる
ための用力(電力、空圧等)が遮断されてしまった場合
であっても、3ポートダブルソレノイドタイプの電磁弁
32の構造上、電磁弁32の状態が維持されて両チュー
ブ30、31への加圧状態も維持される。これにより、
アームユニット2によって基板Wを搬送している最中に
加圧供給源の動作が一時的に停止したり空圧制御部33
への電力供給が一時的に停止した場合であっても、基板
Wが落下したり位置ずれすることを効果的に防止するこ
とができる。
【0020】以上の実施形態では、各把持部材22をエ
アーシリンダからなるアクチュエータ24によって駆動
しているが、アクチュエータ24は、内部機構の如何に
かかわらず用力が停止した場合に動作を制止できるもの
であればよい。例えば、図2示すようなシリンダ24a
を用い、電磁弁32を3ポートダブルソレノイドタイプ
としないで通常のものとした場合、用力が停止した場合
のロック機構として機能しないことも考えられる。この
場合は、ピストン24bから延びるロッド24cの周囲
にクラッチを設けて用力が停止した場合にクラッチがロ
ッド24cの移動を阻止するような構造とすることがで
きる。
【0021】図3は、図1に示す位置センサ25の構造
及び動作を説明する図である。各位置センサ25は、変
位計として、把持部材22に保持された基板Wのエッジ
部分WEの像を結像するレンズ25aと、エッジ部分W
Eの像が投影されるCCD等の撮像素子からなるリニア
センサ25bとを内蔵している。基板Wが実線の状態に
保持されているとき、両リニアセンサ25bのほぼ中央
にエッジ像が投影され、基板WがAB方向にずれた一点
鎖線の状態に保持されているとき、両リニアセンサ25
bの一方に偏った位置にエッジ像が投影される。両リニ
アセンサ25bからの信号強度の変化点を検出すれば、
基板Wのエッジ位置が分かり、基板Wのアーム本体21
に対するAB方向の位置を決定することができる。
【0022】図4は、図1に示すアームユニット2の制
御系を説明するブロック図である。アーム本体21は、
主制御装置38による制御の下、アーム駆動装置35に
駆動されてAB方向やCD方向、或いはこれらに垂直な
方向に移動する。アーム本体21上に移動可能に支持さ
れた各把持部材22は、主制御装置38による制御の
下、空圧制御部33に駆動されて動作状態と退避状態と
の間で変位する。これにより、必要なタイミングで基板
Wを保持したりその保持を解除したりすることができ
る。2組の対向する位置センサ25は、主制御装置38
による制御の下、センサ制御部36に駆動されてアーム
本体21に対する基板WのAB方向の位置とCD方向の
位置とそれぞれを検出する。主制御装置38は、センサ
制御部36からの信号に基づいて把持部材22に固定さ
れた状態の基板WのAB方法及びCD方向の位置をそれ
ぞれ判断し、この位置に基づいてアーム本体21の駆動
量を決定する。これにより、基板Wを正確に位置決めし
つつ目的の場所まで移動させることができる。また、基
板Wの受け渡しに際して、各把持部材22は、基板Wに
当接するそのと移動を停止するので、基板Wに過度の応
力を与えることがない。したがって、基板Wが破損等し
にくく、また、相手側のステージ等に保持されている基
板Wを強制的に移動させることもないので、パーティク
ルの発生が抑えられる。
【0023】図5は、走査型の露光装置の構造を示す側
面図である。図1に示すアームユニット2は、この露光
装置との間で基板W等を受け渡すことができる。
【0024】この露光装置100は、回路パターンを形
成したマスクMを照明するための照明光を発生する光源
40と、この光源40からの照明光をマスクM上に均一
に照射する照明光学系50と、マスクM上に形成された
の回路パターンをレジストを塗布した基板Wに投影する
投影光学系60と、マスクM及び基板Wを固定してこれ
らとともにX方向に移動するキャリッジ70とを備え
る。なお、照明光学系50及び投影光学系60は、定盤
90上に固定されており、露光の際には、キャリッジ7
0を定盤90に対し一定速度でX方向に移動させる。こ
れにより、マスクMの回路パターンを基板W上のレジス
トに漸次転写するいわゆる走査露光が可能になる。
【0025】光源40は、例えばg線(435nm)、
或いはi線(365nm)等の波長の照明光を含んで発
生する超高圧水銀ランプ41を備える。この超高圧水銀
ランプ41から発生した照明光は、楕円鏡42により集
光され、ライトガイド43に導入される。ライトガイド
43に導入された照明光は、各射出端43a〜43cに
均一な光強度分布の光源面を形成する。
【0026】照明光学系50は、各射出端43a〜43
cからの照明光を集めるリレーレンズ51a〜51cを
備える。これらのリレーレンズ51a〜51cによって
集められた照明光は、フライアイレンズ52a〜52c
の入射面に入射する。これにより、フライアイレンズ5
2a〜52cの射出面側に複数の2次光源が形成され
る。これら複数の2次光源からの光は、2次光源形成位
置に前側焦点が位置するように配置されたコンデンサレ
ンズ53a〜53cを通って、矩形状の開口を有する視
野絞り54を均一に照明する。視野絞り54を通過した
照明光は、リレーレンズ55a〜55cを介してマスク
Mに入射する。これにより、視野絞り54の開口の像が
マスクM上に形成される。なお、図5においては、説明
を簡単にするために、照明光学系50のうち図面手前側
の3組の光学系のみを示している。つまり、図面背後側
にも、これら3組の光学系を補間するように、これらの
中間の高さ位置に2組の光学系が配置されており、これ
らによってもマスクMが照明される。
【0027】投影光学系60は、マスクMのパターン面
に前側焦点が位置するように配置された第1投影レンズ
61a〜61cを備える。第1投影レンズ61a〜61
cよって集光された照明光は、台形状の開口を有する視
野絞り62を通過し、第2投影レンズ63a〜63cを
介して基板Wに入射する。これにより、視野絞り62の
開口の像が基板W上に形成され、マスクM上のパターン
が基板W上の露光領域に等倍の正立像として投影され
る。なお、図5においても、説明を簡単にするために、
投影光学系60のうち図面手前側の3組の光学系を示し
ているが、図面背後側にも図示の3組の光学系の間の高
さ位置に2組の光学系が配置されており、これらによっ
てもマスクMの等倍正立像が基板W上に投影される。
【0028】図6は、マスクM上で規定される照明領域
及び視野領域を説明する図である。同図において、マス
クM上には、回路パターンPAが形成されており、この
回路パターンPAの領域を囲むように遮光部LSAが設
けられている。図中点線にて囲まれる照明領域80a〜
80eは、図5に示される照明光学系50によって均一
に照明される領域である。この照明領域80a〜80e
内には、投影光学系60の視野絞り62の投影像に対応
する視野領域81a〜81eが配列されている。各視野
領域81a〜81eは、投影光学系60を構成するレン
ズ等の占有面積を考慮してそれぞれ離間して配置されて
いる。これらの視野領域81a〜81eは、視野絞り6
2の開口の形状に対応してほぼ台形状となっている。こ
こで、視野領域81a〜81cの上辺(一対の平行な辺
のうちの短辺)と、視野領域81d、81eの上辺(一
対の平行な辺のうちの短辺)とは、対向するように配列
されている。視野領域81a〜81cの間の領域につい
ては、走査露光であることを利用して、視野領域81
d、81dによって補間することとしている。つまり、
各視野領域81a〜81eの走査方向(X方向)に関す
る幅の総和(すなわち、基板W上に投影される露光領域
のX方向に沿った幅の総和)は、基板W全面にわたって
均一な露光量分布を確保するという観点から、Z方向の
どの位置においても常に一定としてある。
【0029】図5に戻って、定盤90上で照明光学系5
0及び投影光学系60に対してキャリッジ70、すなわ
ちマスクM及び基板WをX方向に同期して移動させるこ
とにより、基板W上には、照明光学系50により照明さ
れたマスクMの像が逐次転写され、所謂走査露光が行わ
れる。キャリッジ70の移動により、視野領域81a〜
81eによるマスクM及び基板Wの全面にわたる走査が
完了すると、基板W上の全面にマスクMの像が転写され
る。なお、露光装置100に対する基板WやマスクMの
受け渡しは、図1に示すようなアームユニット2を用い
て行う。
【0030】図7及び図8は、基板WやマスクMをセッ
トするキャリッジ70の要部を説明する図である。図7
は、キャリッジ70のうち基板ステージ部71の構造を
示し、図8は、キャリッジ70のうちマスクステージ部
76の構造を示す。
【0031】図7に示す基板ステージ部71には、基板
Wを搬送してきたアーム本体21(図1参照)から延び
る把持部材22が同時に嵌り込むような位置に6つの切
欠72が形成されている。これにより、把持部材22に
保持された状態の基板Wが基板ステージ部71のステー
ジ面71aに近接することができる。なお、各切欠72
のサイズは、把持部材22の先端部のサイズよりもある
程度大きくなっており、各把持部材22が各切欠72内
でX方向又はY方向に変位できるようになっている。こ
れにより、各把持部材22は、各切欠72に嵌り込んだ
場合でも、動作状態と退避状態との間で変位可能とな
る。ステージ面71aの4隅には、吸着ベローズ73が
設けられている。この吸着ベローズ73は、ステージ面
71aに近接した基板Wの裏面に吸着して基板Wをステ
ージ面71aに吸引する。この状態で、把持部材22を
動作状態から退避状態に移動させて基板Wの支持を解除
すれば、基板Wは、ステージ面71aに接着することに
なる。ステージ面71aの中央と周辺には、5つの吸着
孔74が設けられている。この吸着孔74は、ステージ
面71aに接着した基板Wの裏面を吸引して基板ステー
ジ部71に対する基板Wの保持を確実なものとすること
ができる。なお、ステージ面71aに固定されている基
板Wの下方位置には、ステージ面71aから一対のピン
75が立設されている。これらのピン75により基板W
の落下等が防止される。
【0032】図8に示すマスクステージ部76には、マ
スクMを搬送してきたアーム本体21から延びる把持部
材22が同時に嵌り込むような位置に6つの切欠77が
形成されている。これにより、マスクMを保持した動作
状態の把持部材22が各切欠77に嵌り込んで、把持部
材22に保持されたマスクMがマスクステージ部76の
ステージ面76aに近接できるとともに、各把持部材2
2が動作状態と退避状態との間で変位可能となる。ステ
ージ面76aの周辺には、6つの吸着孔78が設けられ
ている。この吸着孔78は、ステージ面76aに接着し
たマスクMの裏面を吸引してマスクステージ76に対す
るマスクMの保持を確実なものとすることができる。な
お、ステージ面76aに固定されているマスクMの下方
位置には、ステージ面76aから一対のピン79が立設
されている。これらのピン79によりマスクMの落下等
が防止される。
【0033】図9は、図2に示すアクチュエータ24の
変形例を示す。図示のアクチュエータ124は電動モー
タ124aを備えている。電動モータ124aの回転軸
からは、一対の軸受124bに回転可能に支持されたネ
ジ軸124cが延びている。ネジ軸124cは、把持部
材22の根元側に組み込まれたナットにねじ込まれてお
り、電動モータ124aの回転軸を必要量だけ回転させ
ることにより、把持部材22を、基板Wを把持する動作
状態の位置と基板Wの把持を解除する退避状態の位置と
の間で移動させることができる。なお、電動モータ12
4aの後部には、電動モータ124aが動作していない
時に回転軸の回転を制止するブレーキ124dが取り付
けられている。このブレーキ124dがロック機構とし
て働くので、アクチュエータ124に供給される電力が
遮断されても、動作状態にあった把持部材22はそのま
ま動作状態に維持されるので、基板Wの落下等を防止で
きる。
【0034】図10は、図3に示す位置センサ25の変
形例を示す。図示の位置センサ125は、図1に示すア
ーム本体21に固定されており、スポット状のレーザビ
ームLBを基板Wのエッジ部分WEに入射させるビーム
光源125aと、エッジ部分WEで反射されたレーザビ
ームLBが入射するリニアセンサ125bとを備える。
基板Wが実線の状態に保持されているとき、リニアセン
サ125bのほぼ中央にビーム像が投影され、基板Wが
AB方向にずれた点線の状態に保持されているとき、リ
ニアセンサ125bの一方に偏った位置にビーム像が投
影される。リニアセンサ125bからの信号強度のピー
ク点を検出すれば、基板Wのエッジ位置が分かり、基板
Wのアーム本体21に対するAB方向の位置を決定する
ことができる。
【0035】図11は、図10に示す位置センサ125
の変形例を示す。図示の位置センサ225は、図1に示
すアーム本体21側に固定される接触式のセンサであ
る。基板Wに当接してエッジ部分WEの端面を適当な付
勢力で押圧する移動子225aの変位を本体225b内
部に設けたポテンショメータやリニアエンコーダで検出
することにより、基板WのAB方向の位置を検出するこ
とができる。
【0036】図12は、図1に示すアームユニット2の
変形例を示す図である。図12(a)は正面図であり、
図12(b)は側面図である。図示のアームユニット1
02は、アーム本体121の一面側に立設された3つの
把持部材122A、122B、122Cを備える。各把
持部材122A、122B、122Cは、それぞれアク
チュータ224A、224B、224Cに駆動されてC
D方向に移動可能となっている。各アクチュエータ22
4A、224B、224Cは、電動モータ124aと、
電動モータ124aの回転軸に連結されるとともに一対
の軸受124bに回転可能に支持されたネジ軸124c
と、電動モータ124aが動作していない時に回転軸の
回転を制止するブレーキ124dとを備える。各電動モ
ータ124aを必要量だけ回転させることにより、一対
の把持部材122A、122BをCD方向の一方に移動
させ、残りの把持部材122CをCD方向の他方に移動
させることができる。これにより、各把持部材122
A、122B、122Cを基板Wを把持する動作状態の
位置と基板Wの把持を解除する退避状態の位置との間で
適宜移動させることができる。さらに、全把持部材12
2A、122B、122CをCD方向のいずれかに同時
に移動させることにより、全把持部材122A、122
B、122Cの移動に伴って基板WをCD方向に移動さ
せることができる。この際、位置センサ25Aによっ
て、アーム本体21の下側にある基板Wの位置を検出す
ることができ、位置センサ25Bによって、アーム本体
21の上側にある基板Wの位置を検出することができ
る。
【0037】図13は、図12に示すアームユニット2
の動作を説明する図である。ここでは、アームユニット
2によってステージST1からステージST2に基板W
を搬送する場合について説明する。まず、アームユニッ
ト2を−X方向にステージST1の位置まで移動させ
る。次に、アームユニット2をY方向に移動させてステ
ージST1に近接させる。次に、把持部材122A、1
22B、122Cを動作させてステージST1上の基板
Wを把持する(動作状態)。次に、把持部材122A、
122B、122Cを動作状態に保ったままでアームユ
ニット2を−Y方向に移動させてステージST1から離
間させる。次に、把持部材122A、122B、122
Cを動作状態に保ったままでアームユニット2をX方向
にステージST2の位置まで移動させる。次に、把持部
材122A、122B、122Cを全体としてZ方向に
移動させて基板WをステージST2の正面に配置する。
次に、アームユニット2をY方向に移動させてステージ
ST2に近接させる。次に、把持部材122A、122
B、122Cを動作させてステージST2に基板Wを渡
す(退避状態)。
【0038】図12のアームユニット2を用いた基板W
の搬送では、アームユニット2の電源が停止してもブレ
ーキ124dの作用により基板Wが落下等することを防
止できる。さらに、アーム本体121をX−Y面内で移
動させるだけで、Z方向に関して位置の異なるステージ
ST1、ST2間で基板Wを搬送することができる。
【0039】
【発明の効果】以上の説明から明らかなように、本発明
の搬送装置によれば、前記被搬送体を保持する前記動作
状態に前記複数の把持部材を維持するロック機構を備え
るので、被搬送体の搬送中や受け渡しに際して搬送装置
の用力(把持部材に対する駆動源からの作用)が停止し
た場合であっても、ロック機構によって被搬送体の状態
が保持されるので、被搬送体について再度の位置合わせ
が不要であり、被搬送体の破損等のおそれがない。
【0040】また、好ましい態様によれば、前記動作状
態で、前記被搬送体を立てた状態に保持するので、被搬
送体を垂直姿勢で搬送する場合に搬送装置の用力が停止
しても、被搬送体が落下して破損するおそれがない。
【0041】また、好ましい態様によれば、前記ロック
機構が前記制御装置によって前記アクチュエータの駆動
時に前記把持部材の動作を可能とするので、前記複数の
把持部材を駆動するアクチュエータが制御された状態で
動作し、簡易かつ安全に被搬送体を搬送することができ
る。
【0042】また、本発明の別の態様によれば、前記搬
送アームが前記把持部材を前記被搬送体に対して変位さ
せることによって前記被搬送体を保持するので、搬送ア
ームと被搬送体のいずれも変位させることなく被搬送体
を把持したりその把持を解除することができ、被搬送体
の受け渡しが円滑になる。
【0043】また、好ましい態様によれば、前記複数の
把持部材が前記搬送アームに保持される前記被搬送体の
板面に平行な方向に移動可能に支持されているので、前
記複数の把持部材を往復移動させる簡易な動作によって
被搬送体を把持したりその把持を解除することができ
る。
【0044】また、本発明の別の態様によれば、マスク
及び基板のいずれかである板状の被搬送体の周囲の複数
箇所に個別に嵌合することによって前記被搬送体を搬送
アームに対して保持可能である複数の把持部材と、前記
複数の把持部材を前記搬送アームに保持される前記被搬
送体の板面に平行な方向に移動可能な状態で前記搬送ア
ーム上に支持するスライド装置と、前記複数の把持部材
を移動させてそれぞれが前記被搬送体の周囲の複数箇所
に嵌合した際に当該複数の把持部材の移動をそれぞれ停
止させて前記被搬送体を保持させる動作状態と当該複数
の把持部材を前記被搬送体の周囲から離間させて保持を
解除させる退避状態との間で変位させるアクチュエータ
とを備えるので、搬送アームと被搬送体のいずれも変位
させることなく前記複数の把持部材を移動させるだけ
で、被搬送体を把持したりその把持を解除することがで
き、被搬送体の受け渡しが円滑かつ簡易になる。
【0045】また、好ましい態様によれば、前記アクチ
ュエータを制御して所定のタイミングで動作させる制御
装置と、当該制御装置によって前記アクチュエータが制
御されていないときに当該アクチュエータの動作を禁止
する制止装置とを備えるので、アクチュエータを制御し
ながら動作させることができるとともに、アクチュエー
タの用力が停止した場合にも基板の保持状態を簡易に維
持することができる。
【0046】また、好ましい態様によれば、前記複数の
把持部材の位置を検出する変位計をさらに備えるので、
被搬送体の受け渡しに際して被搬送体の位置を正確に把
握することができる。
【0047】また、好ましい態様によれば、前記変位計
の出力に基づいて前記搬送アームの移動を制御するの
で、被搬送体の受け渡しに際しての位置ずれ補正を行っ
て基板を別の場所に搬送することができる。
【0048】また、本発明の搬送方法によれば、前記被
搬送体を保持している際に前記複数の把持部材に対する
駆動力が停止した場合にも、前記複数の把持部材の嵌合
状態をロック機構によって維持するので、被搬送体の搬
送中や受け渡し中に搬送装置の用力が停止した場合であ
っても、被搬送体について再度の位置合わせが不要であ
り、被搬送体の破損のおそれがない。
【図面の簡単な説明】
【図1】実施形態の搬送装置のアームユニットの構造を
示す図である。
【図2】図1のアームユニットに設けたアクチュエータ
の構造を説明する図である。
【図3】図1のアームユニットに設けた位置センサの構
造を説明する図である。
【図4】図1に示すアームユニットの制御系を説明する
ブロック図である。
【図5】走査型の露光装置の構造を示す側面図である。
【図6】マスク上で規定される照明領域及び視野領域を
説明する図である。
【図7】キャリッジのうち基板ステージ部の構造を説明
する図である。
【図8】キャリッジのうちマスクステージ部の構造を説
明する図である。
【図9】図2に示すアクチュエータの変形例を示す図で
ある。
【図10】図3に示す位置センサの変形例を示す図であ
る。
【図11】図10に示す位置センサの変形例を示す図で
ある。
【図12】図1に示すアームユニットの変形例を示す図
である。
【図13】図12のアームユニットによる基板の搬送を
説明する図である。
【符号の説明】
2 アームユニット 21 アーム本体 22 把持部材 22a ツメ部 23 スライドガイド 24 アクチュエータ 24a シリンダ 24b ピストン 24c ロッド 25 位置センサ 25a レンズ 25b リニアセンサ 32 電磁弁 33 空圧制御部 35 アーム駆動装置 36 センサ制御部 38 主制御装置 70 キャリッジ 71 基板ステージ部 72 切欠 73 吸着ベローズ 74 吸着孔 76 マスクステージ部 77 切欠 78 吸着孔 90 定盤 W 基板 WE エッジ部分

Claims (10)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】 動作状態で、マスク及び基板のいずれか
    である板状の被搬送体の周囲の複数箇所に個別に嵌合し
    て前記被搬送体を保持するとともに、退避状態で、前記
    被搬送体の周囲から離間して保持を解除する複数の把持
    部材と、 前記複数の把持部材を前記動作状態に維持するロック機
    構と、を備える搬送装置。
  2. 【請求項2】 前記動作状態で、前記被搬送体を立てた
    状態に保持することを特徴とする請求項1記載の搬送装
    置。
  3. 【請求項3】 前記複数の把持部材を前記動作状態と前
    記退避状態とに駆動するアクチュエータと、当該アクチ
    ュエータを制御して所定のタイミングで動作させる制御
    装置とを備え、前記ロック機構は、前記制御装置によっ
    て前記アクチュエータの駆動時に、前記把持部材の動作
    を可能とすることを特徴とする請求項2記載の搬送装
    置。
  4. 【請求項4】 マスク及び基板のいずれかである板状の
    被搬送体の周囲の複数箇所に個別に嵌合する複数の把持
    部材によって前記被搬送体を搬送アームに保持する搬送
    装置であって、 前記把持部材は、前記搬送アーム上に支持されるととも
    に当該搬送アーム上で移動可能になっており、前記搬送
    アームは、前記把持部材を前記被搬送体に対して変位さ
    せることによって、前記被搬送体を保持することを特徴
    とする搬送装置。
  5. 【請求項5】 前記複数の把持部材は、前記搬送アーム
    に保持される前記被搬送体の板面に平行な方向に移動可
    能に支持されていることを特徴とする請求項4記載の搬
    送装置。
  6. 【請求項6】 マスク及び基板のいずれかである板状の
    被搬送体の周囲の複数箇所に個別に嵌合することによっ
    て前記被搬送体を搬送アームに対して保持可能である複
    数の把持部材と、 前記複数の把持部材を、前記搬送アームに保持される前
    記被搬送体の板面に平行な方向に移動可能な状態で前記
    搬送アーム上に支持するスライド装置と、 前記複数の把持部材を移動させてそれぞれが前記被搬送
    体の周囲の複数箇所に嵌合した際に当該複数の把持部材
    の移動をそれぞれ停止させて前記被搬送体を保持させる
    動作状態と、当該複数の把持部材を前記被搬送体の周囲
    から離間させて保持を解除させる退避状態との間で変位
    させるアクチュエータとを備える搬送装置。
  7. 【請求項7】 前記アクチュエータを制御して所定のタ
    イミングで動作させる制御装置と、当該制御装置によっ
    て前記アクチュエータが制御されていないときに当該ア
    クチュエータの動作を禁止する制止装置とを備えること
    を特徴とする請求項6記載の搬送装置。
  8. 【請求項8】 前記複数の把持部材の位置を検出する変
    位計をさらに備えることを特徴とする請求項4及び請求
    項6のいずれか記載の搬送装置。
  9. 【請求項9】 前記変位計の出力に基づいて前記搬送ア
    ームの移動を制御することを特徴とする請求項8記載の
    搬送装置。
  10. 【請求項10】 複数の把持部材を駆動してマスク及び
    基板のいずれかである板状の被搬送体の周囲の複数箇所
    にそれぞれ嵌合させることにより、前記被搬送体を保持
    して搬送する搬送方法であって、 前記被搬送体を保持している際に前記複数の把持部材に
    対する駆動力が停止した場合にも、前記複数の把持部材
    の嵌合状態をロック機構によって維持することを特徴と
    する搬送方法。
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