JP2017162871A - マスク製造装置 - Google Patents

Abstract

【課題】水平方向に保持したマスクのたわみを防止し、マスクの高さを変えることなく、マスクを水平方向に移動させる。【解決手段】上向きに空気を吐出する複数の空気孔が２次元状に配列された水平な第１面を有するマスク保持部４１の、第１面の上にマスクが載置される。板状部は、第１方向に沿って定盤１１の上面に固定された高さが同一の複数の第１レールの上に載置され、第１レールに向けて空気を吐出することで板状部と第１レールとの間に空気の層を形成する。板状部は、第１レールの上面に沿って第１方向に移動する。マスク保持部は、第２方向に沿って板状部の上面に固定された高さが同一の複数の第２レールの上に載置され、第２レールに向けて空気を吐出することでマスク保持部と第２レールとの間に空気の層を形成する。第２レールの上面に沿って第２方向に移動する。【選択図】図１

Description

本発明は、マスク製造装置に関する。

特許文献１には、共通の流体によって移動若しくは変形する可動接触部を介して基板を保持する基板保持装置が開示されている。

特開２０１２−７９９１７号公報

半導体基板や液晶パネル等を生成する場合に、表示ムラ等の不具合が無い製品を生成するためには、一般的に１０ｎｍ以下（好ましくは２ｎｍ以下）の誤差範囲内で基板を加工する必要がある。そして、このような精度の高い加工は、一般的に、スキャン・変調（偏向・変調でもよい）されたレーザ光を用いて行われる。

しかしながら、半導体基板や液晶パネル等の基板を、スキャン・変調されたレーザ光を用いて高精度で加工しようとすると、１枚の基板を加工するのに長時間（数日程度）を要してしまう。したがって、半導体基板や液晶パネル等を生成するための精度の高いマスクをレーザ光を用いて生成し、そのマスクのパターンを半導体基板や液晶パネル等の基板に転写している。

マスクは、水平方向に保持した感光性基板（例えば、ガラス基板）にスキャン・変調されたレーザ光を照射して生成される。このようなマスク生成装置においては、感光性基板はステージ上に水平方向に保持されるが、ステージの移動中におけるガイドの不完全性により、微小量であるがたわみが生ずるという問題がある。

感光性基板がたわみ、高さ方向（鉛直方向）の位置が変わってしまうと、感光性基板がたわんでいないことを前提として鉛直方向のレーザビームを照射したときにレーザビームを当てようとしている位置と、感光性基板がたわんでいるときに実際レーザビームが当たる位置との間には、誤差が生じる。

このように、ステージガイドの不完全性による感光性基板のたわみは、パターンの誤差に直結するため、感光性基板のたわみを極力小さくすることが望まれている。

特許文献１に記載の発明では、自重によるたわみが無いように感光性基板（以下、マスクという）を水平方向に保持することができる。しかしながら、特許文献１には、たわみが無いように水平方向に保持したマスクを、ステージの移動範囲において、たわみが無い状態を保ったまま水平方向に移動させる構成は開示されていない。

本発明はこのような事情に鑑みてなされたもので、水平方向に保持したマスクのたわみを防止したまま、マスクの高さを変えることなく、マスクを水平方向に移動させることができるマスク製造装置を提供することを目的とする。

上記課題を解決するために、本発明に係るマスク製造装置は、例えば、熱膨張係数が略１×１０^−７／Ｋ以下の材料を用いて形成され、略水平な面である第１面の上にマスクが載置される板状のマスク保持部であって、上向きに空気を吐出する複数の空気孔であって、前記第１面に２次元状に配列される複数の空気孔を有し、かつ、前記第１面の前記マスクの隣接する２辺が当接する位置に複数のピンが着脱可能に設けられるマスク保持部と、設置面上に載置された複数の除振台の上に載置された略直方体の定盤と、前記定盤の上面である第２面に載置された第１移動部であって、前記マスク保持部を第１方向に移動させる第１移動部と、前記第１移動部の上に載置され、前記マスク保持部が上に載置された第２移動部であって、前記マスク保持部を第２方向に移動させる第２移動部と、前記マスクに光を照射する光照射部と、前記第２面に設けられた枠体であって、前記マスク保持部の上方に前記光照射部を保持する枠体と、を備え、前記第１移動部は、長手方向が前記第１方向に沿うように前記第２面に固定された高さが略同一の複数の第１レールと、前記第１レールの上に載置された板状部と、前記板状部の裏面の前記第１レールと対向する位置に設けられ、前記第１レールに向けて空気を吐出する複数の第１空気吐出部と、前記第１レールの上面に沿って前記板状部を移動させる第１駆動部と、前記板状部が前記第１方向以外に移動しないように前記板状部の移動方向を規制する第１ガイド部と、を有し、前記第２移動部は、長手方向が前記第２方向に沿うように前記板状部の上面である第３面に固定された高さが略同一の複数の第２レールであって、前記マスク保持部が載置された複数の第２レールと、前記マスク保持部の裏面の前記第２レールと対向する位置に設けられ、前記第２レールに向けて空気を吐出する複数の第２空気吐出部と、前記第２レールの上面に沿って前記マスク保持部を駆動する第２駆動部と、前記マスク保持部が前記第２方向以外に移動しないように前記マスク保持部の移動方向を規制する第２ガイド部と、を有することを特徴とする。

本発明に係るマスク製造装置によれば、マスク保持部には、上向きに空気を吐出する複数の空気孔が２次元状に配列され、マスクと第１面との間に空気の層を形成するとともに、マスクの隣接する２辺が当接する位置に複数のピンが設けられ、これにマスクの隣接する２辺が当接することで、マスクの水平方向の位置が高い再現性で決められる。そして、位置決めされたマスクは、熱膨張係数が略１×１０^−７／Ｋ以下の材料を用いて形成されたマスク保持部の、略水平な第１面に載置される。これにより、マスク保持部によりマスクの膨張、収縮を抑え、その結果マスクのたわみを防止することができる。

さらに、板状部は、第１方向に沿って定盤の上面に固定された高さが略同一の複数の第１レールの上に載置されており、第１レールに向けて空気を吐出することで板状部と第１レールとの間に空気の層を形成する。また、板状部は、第１ガイド部により第１方向以外に移動しないように移動方向が規制されているため、第１レールの上面に沿って第１方向に移動される。さらに、マスク保持部は、第２方向に沿って板状部の上面に固定された高さが略同一の複数の第２レールの上に載置されており、第２レールに向けて空気を吐出することでマスク保持部と第２レールとの間に空気の層を形成する。また、マスク保持部は、第２ガイド部により第２方向以外に移動しないように移動方向が規制されているため、第２レールの上面に沿って第２方向に移動される。これにより、板状部、マスク保持部を完全にガイドすることができる。その結果、水平方向に保持したマスクのたわみを防止したまま、マスク保持部（すなわち、マスク）の高さを変えることなく、マスクを水平方向に移動させることができる。

ここで、前記第１ガイド部は、前記第１レールに沿って設けられた第１ガイドレールと、前記板状部の下面に形成された第１溝部であって、前記第１ガイドレールが挿入される第１溝部と、前記第１溝部に設けられ、前記第１ガイドレールの側面に向けて空気を吐出する第３空気吐出部と、を有し、前記第２ガイド部は、前記第２レールに沿って設けられた第２ガイドレールと、前記マスク保持部の下面に形成された第２溝部であって、前記第２ガイドレールが挿入される第２溝部と、前記第２溝部に設けられ、前記第２ガイドレールの側面に向けて空気を吐出する第４空気吐出部と、を有してもよい。これにより、板状部やマスク保持部の移動方向を規制しつつも、板状部やマスク保持部を滑らかに移動させることができる。

ここで、前記第１駆動部は、電磁コイルを有する第１可動子と、永久磁石を有する棒状の第１固定子と、を２つずつ有し、前記第２駆動部は、電磁コイルを有する第２可動子と、永久磁石を有する棒状の第２固定子と、を２つずつ有し、前記第１ガイドレールは、前記定盤の前記第２方向における略中央に設けられ、前記第２ガイドレールは、前記板状部の前記第１方向における略中央に設けられ、前記第１固定子は、長手方向が前記第１方向に沿うように、前記第１ガイドレールを中心として線対称の位置に設けられ、前記第２固定子は、長手方向が前記第２方向に沿うように、前記第２ガイドレールを中心として線対称の位置に設けられてもよい。これにより、板状部やマスク保持部を、水平面内で回転させることなく、水平方向に移動させることができる。

ここで、前記板状部の裏面には、先端が平面の複数の第１凸部が２次元状に配列され、前記マスク保持部の裏面には、先端が平面の複数の第２凸部が２次元状に配列され、前記第１空気吐出部は、前記第１凸部のそれぞれに形成された第１空気穴を有し、前記第２空気吐出部は、前記第２凸部のそれぞれに形成された第２空気穴を有してもよい。これにより、板状部と第１レールとの間の空気の層を一定の厚さとし、マスク保持部と第２レールとの間の空気の層を一定の厚さとすることができ、その結果マスク保持部（すなわち、マスク）の高さを変えることなく、板状部やマスク保持部を水平方向に移動させることができる。

ここで、前記第１移動部は、前記第１方向に沿って設けられる鉄製の第１棒状部材と、前記第１棒状部材と対向する位置に設けられる第１磁石と、を有し、前記第１棒状部材及び前記第１磁石は、一方が前記第２面に、他方が前記板状部の下面に設けられ、前記第２移動部は、前記第２方向に沿って設けられる鉄製の第２棒状部材と、前記第２棒状部材と対向する位置に設けられる第２磁石と、を有し、前記第２棒状部材及び前記第２磁石は、一方が前記第３面に、他方が前記マスク保持部の下面に設けられてもよい。これにより、空気の層により、板状部が第１レールから浮きすぎることや、マスク保持部が第２レールから浮きすぎることを防止し、その結果、板状部やマスク保持部（すなわち、マスク）の高さの変動を防止することができる。

ここで、前記第１移動部は、前記板状部と前記第１レールとの間に形成された空間にある空気を吸引する第１空気吸引部を有し、前記第２移動部は、前記マスク保持部と前記第２レールとの間に形成された空間にある空気を吸引する第２空気吸引部を有し、前記第１空気吸引部は、前記第１凸部に形成され、前記第２空気吸引部は、前記第２凸部に形成されてもよい。これにより、板状部やマスク保持部が部分的に曲がることを防止することができる。その結果、マスクＭのたわみを小さくすることができ、かつ、板状部やマスク保持部を高い精度で移動させることができる。

ここで、前記光照射部は、面照射が可能な面照射部と、対物レンズと、前記面照射部及び前記対物レンズを保持する保持枠と、を有し、前記保持枠を前記枠体に連結する連結部であって、前記保持枠を前記枠体に対して上下方向に移動させる連結部を備えてもよい。これにより、マスクの厚さが変動等した場合にも、光照射部から照射される光をマスク上に結像させることができる。

ここで、前記第１移動部の前記第２方向における両側には、それぞれ、前記板状部の前記第１方向における位置を取得する第１位置取得部及び第２位置取得部が設けられ、前記第２移動部の前記第１方向における両側には、それぞれ、前記マスク保持部の前記第２方向における位置を取得する第３位置取得部及び第４位置取得部が設けられ、前記第１位置取得部及び前記第２位置取得部により取得された結果の平均値に基づいて前記第１駆動部を制御し、前記第３位置取得部及び前記第４位置取得部により取得された結果の平均値に基づいて前記第２駆動部を制御する制御部を備えてもよい。これにより、板状部やマスク保持部を正確に移動させることができる。

ここで、前記制御部は、前記板状部が前記第１レールからはみ出ないように前記第１駆動部を制御し、かつ、前記マスク保持部が前記第２レールからはみ出ないように前記第２駆動部を制御してもよい。これにより、マスク保持部がたわむことにより、マスクの保持位置がずれてしまうことを防止することができる。

ここで、前記マスクに水平方向の力を付勢する付勢部を備え、前記制御部は、前記複数の空気孔から空気を吐出させるとともに、前記マスクが前記複数のピンに当接する方向の力を前記マスクに付勢し、前記マスクが前記複数のピンに当接したら、前記複数の空気孔からの空気の吐出を止めるように前記マスク保持部及び前記付勢部を制御してもよい。これにより、高精度でマスクＭの位置決めを行うことができる。

ここで、前記複数のピンは、前記枠体に設けられており、前記複数のピンを前記マスク保持部に設けられる第１の位置と、前記マスク保持部から離れた第２の位置との間で移動させるピン駆動部を備え、前記制御部は、前記複数の空気孔からの空気の吐出を止めたら、前記複数のピンを前記第１の位置から前記第２の位置へと移動させるように前記ピン駆動部を制御してもよい。これにより、マスクがピンに当接することでマスクがピンから受ける力により、マスクがゆがむことを防止することができる。なお、複数の空気孔からの空気の吐出を止めてマスクが第１面に固定されることで、ピンをマスク保持部から離しても、マスクが移動することは無い。

本発明によれば、水平方向に保持したマスクのたわみを防止したまま、マスクの高さを変えることなく、マスクを水平方向に移動させることができる。

第１の実施の形態に係るマスク製造装置１の概略を示す斜視図である。 第１移動部２０及び第２移動部３０の概略を示す斜視図である。 第１移動部２０を部分的に拡大した図である。 板状部２３を裏側からみた斜視図である。 第２移動部３０を部分的に拡大した図である。 マスク保持部４１を斜め上から見た概略斜視図である。 マスク保持部４１を斜め下から見た概略斜視図である。 光照射部４３ａの概略を示す要部透視図である。 レーザ干渉計５１、５２、５３が計測する様子を示す模式図である。 マスク製造装置１の電気的な構成を示すブロック図である。 付勢部４５、４６がマスクＭを押圧して位置決めを行う様子を説明する図である。 制御部１５１ａが行う駆動部２５、３４の制御について説明する図である。 マスク製造装置２における第１移動部２０Ａを部分的に拡大した図である。 板状部２３Ａを裏側からみた斜視図である。 マスク製造装置２における第２移動部３０Ａを部分的に拡大した図である。 マスク保持部４１Ａを斜め下から見た概略斜視図である。

以下、本発明の実施形態を、図面を参照して詳細に説明する。各図面において、同一の要素には同一の符号が付されており、重複する部分については説明を省略する。

本発明におけるマスク製造装置とは、略水平方向に保持した感光性基板（例えば、ガラス基板）上にレーザ等の光を照射してフォトマスクを生成する装置である。感光性基板としては、例えば、熱膨張率が非常に小さい（例えば、約５．５×１０^−７／Ｋ程度）石英ガラスが用いられる。

マスク製造装置により生成されるフォトマスクは、例えば液晶表示装置用の基板を製造するために用いられる露光用マスクである。フォトマスクは、一辺が例えば１ｍを超える（例えば、１４００ｍｍ×１２２０ｍｍ）大型の略矩形形状の基板上に、１個または複数個のイメージデバイス用転写パターンが形成されたものである。以下、加工前の感光性基板及び加工後の感光性基板（フォトマスク）を包括する概念として、マスクＭという用語を使用する。

＜第１の実施の形態＞
図１は、第１の実施の形態に係るマスク製造装置１の概略を示す斜視図である。マスク製造装置１は、主として、定盤１１と、除振台１２、１３と、第１移動部２０と、第２移動部３０と、マスク保持部４１と、枠体４２と、光照射部４３と、を有する。なお、図１においては、一部の構成について図示を省略している。また、マスク製造装置１は、装置全体を覆う図示しない温度調整部により、一定温度に保たれている。

定盤１１は、略直方体形状（厚板状）の部材であり、例えば、石（例えば、花崗岩）や低膨張率の鋳物（例えば、ニッケル系の合金）で形成される。定盤１１は、設置面（例えば、床）上に載置された複数の除振台１２、１３の上に載置される。これにより、定盤１１が除振台１２、１３を介して設置面上に載置される。定盤１１は、略水平（ｘｙ平面と略平行）な上面（＋ｚ側の面）１１ａを有する。

除振台１２は、アクティブ除振台であり、除振台１３は、重さ支えのパッシブ除振台である。除振台１３は、ｚ方向に移動可能な受動型バネ要素を有する。除振台１２は、除振台１３に、ｘ方向及びｙ方向のそれぞれに移動可能なアクチュエータ（図示せず）と、アクチュエータを制御するためのセンサ（図示せず）と、センサからの信号に基づいて外部から入力する振動を抑制するようにアクチュエータを制御する制御回路（図示せず）と、を追加したものである。除振台１２、１３については、すでに公知であるため、詳細な説明を省略する。

第１移動部２０は、定盤１１の上面１１ａに載置され、第２移動部３０は、第１移動部２０の上（＋ｚ側）に載置され、マスク保持部４１は、第２移動部３０の上に載置される。第１移動部２０は、マスク保持部４１をｘ方向に移動させ、第２移動部３０は、マスク保持部４１をｙ方向に移動させる。

図２は、第１移動部２０及び第２移動部３０の概略を示す斜視図である。なお、図２では図示しないが、第１移動部２０及び第２移動部３０には、ポンプ等から空気が供給される。

第１移動部２０は、主として、４本のレール２１と、１本のガイドレール２２と、レール２１及びガイドレール２２の上に載置される板状部２３と、ガイドレール２２を挟むように設けられる凸部２４と、レール２１の上面に沿って板状部２３を移動させる駆動部２５と、棒状部材２６と、磁石２７と、位置測定部２９と、を有する。

４本のレール２１及びガイドレール２２は、セラミック製の細長い板状の部材であり、定盤１１の上面１１ａに、長手方向がｘ方向に沿うように固定される。４本のレール２１及びガイドレール２２は、高さ（ｚ方向の位置）が略同一である。レール２１及びガイドレール２２の上面と、ガイドレール２２の側面とは、高精度及び高平坦度で形成される。

ガイドレール２２は、定盤１１のｙ方向における略中央に設けられる。ｘｚ平面と略平行な面であって、ガイドレール２２を含む面には、マスク製造装置１の重心位置が含まれる。

４本のレール２１は、ガイドレール２２を挟んで線対称の位置に設けられる。本実施の形態では、２本のレール２１がガイドレール２２の−ｙ側に設けられ、２本のレール２１がガイドレール２２の＋ｙ側に設けられる。また、４本のレール２１のうちの−ｙ側の端に位置するレール２１ａは、板状部２３の−ｙ側の端部である端面２３ｅ近傍の領域が載置され、４本のレール２１のうちの＋ｙ側の端に位置するレール２１ｂは、板状部２３の＋ｙ側の端部である端面２３ｆ近傍の領域が載置される。

板状部２３は、セラミック製の板状の部材であり、全体として略矩形形状である。板状部２３は、略水平な上面２３ａ及び下面２３ｂ（図３参照）を有する。上面２３ａには、第２移動部３０が載置される。下面２３ｂには、長手方向がｘ方向に沿うように、棒状の凸部２４が設けられる。

図３は、第１移動部２０を部分的に拡大した図である。凸部２４が下面２３ｂに設けられることで、板状部２３の下面２３ｂに溝２３ｄが形成される。この溝２３ｄには、ガイドレール２２が挿入される。これにより、板状部２３のｙ方向の位置、すなわち板状部２３がｘ方向以外に移動しないように板状部２３の移動方向が規制される。

凸部２４には、ガイドレール２２の側面に向けて空気を吐出する空気吐出部２４ａが設けられる。空気吐出部２４ａは、凸部２４の側面に開口する空気穴を有する。また、空気吐出部２４ａは、内径が絞られたオリフィスを有する。したがって、この開口からは、ポンプ（図示せず）等から供給された空気が高圧及び高速で吐出される。これにより、空気吐出部２４ａとガイドレール２２との間に、空気の層が形成される。

板状部２３の下面２３ｂには、レール２１及びガイドレール２２と対向する位置に凸部２３ｃが形成される。凸部２３ｃは、先端（レール２１又はガイドレール２２と対向する面）が平面である。凸部２３ｃには、空気吐出部２８が設けられる。なお、図３では、ガイドレール２２と対向する位置に形成された凸部２３ｃの図示を省略している。

図４は、板状部２３を裏側からみた斜視図である。複数の凸部２３ｃは、下面２３ｂに２次元状に配列される。凸部２３ｃには、複数（例えば、５個）の空気吐出部２８が設けられる。空気吐出部２８は、凸部２３ｃの先端面に開口する空気穴を有する。また、空気吐出部２８は、内径が絞られたオリフィスを有する。したがって、空気吐出部２８からは、レール２１及びガイドレール２２に向けて、ポンプ（図示せず）等から供給された空気が高圧及び高速で吐出される。これにより、空気吐出部２８とレール２１及びガイドレール２２との間に、空気の層が形成される。また、凸部２３ｃに複数の空気吐出部２８を設けることで、この空気の層の圧力が高くなる。

なお、本実施の形態では、隣接する凸部２３ｃはｘ方向にもｙ方向にも離れているが、凸部２３ｃの形態はこれに限られない。例えば、凸部がｘ方向沿って長いリブ状であり、リブ状の凸部がｙ方向に複数並べられていてもよい。ただし、空気吐出部２８とレール２１及びガイドレール２２との間に形成された空気の層の厚さを一定にするには、図４に示すように、凸部４１ｃをｘ方向及びｙ方向に２次元状に配列することが望ましい。

図３の説明に戻る。定盤１１の上面１１ａには、長手方向がｘ方向に沿うように、鉄製の棒状部材２６が設けられる。板状部２３の下面２３ｂには、磁石２７が設けられる。棒状部材２６と磁石２７とは、対向する位置に設けられる。

駆動部２５は、永久磁石を有する固定子２５ａと、電磁コイルを有する可動子２５ｂと、を有するリニアモータである。固定子２５ａ及び可動子２５ｂは、それぞれ２本ずつ設けられる。

固定子２５ａは、断面略コの字形状の棒状の部材であり、長手方向がｘ方向に沿うように設けられる。固定子２５ａは、ガイドレール２２を中心として線対称の位置に設けられる。また、固定子２５ａの内部には、冷却液（例えば、フッ素系不活性液体）が流れる配管２５ｄが設けられている。例えば、−ｚ側の配管２５ｄにおいては、紙面奥側から手前側に向けて冷却液が流れ、＋ｚ側の配管２５ｄにおいては、紙面手前側から奥側に向けて冷却液が流れる。

可動子２５ｂは、電磁コイルが固定子２５ａ内に挿入されるように、板状部２３の下面２３ｂに設けられる。可動子２５ｂは、Ｕ相、Ｖ相、Ｗ相のコイル（図示せず）が順番に並べられており、固定子２５ａに沿って移動する。また、可動子２５ｂの内部には、コイルの間を縫うように、冷却液が流れる配管２５ｃが設けられている。

図２の説明に戻る。位置測定部２９は、例えばリニアエンコーダであり、第１移動部２０のｙ方向の両端（＋ｙ側の端及び−ｙ側の端）に設けられる。位置測定部２９は、レール２１ａの＋ｙ側の端面及びレール２１ｂの−ｙ側の端面に設けられるスケール２９ａと、板状部２３の端面２３ｅ及び端面２３ｆに設けられる検出ヘッド２９ｂと、を有する。なお、図２においては、第１移動部２０の＋ｙ側に位置するスケール２９ａ及び検出ヘッド２９ｂは図示されていない。

スケール２９ａは、例えばレーザホログラムスケールであり、０．１ｎｍ〜１ｎｍ程度の幅でメモリが形成されている。検出ヘッド２９ｂは、光（例えば、レーザ光）を照射し、スケール２９ａで反射された光を取得する。位置測定部２９は、すでに公知であるため、詳細な説明を省略する。

第２移動部３０は、主として、２本のレール３１と、１本のガイドレール３２と、ガイドレール３２を挟むように設けられる凸部３３と、レール２１の上面に沿ってマスク保持部４１を移動させる駆動部３４と、位置測定部３９と、を有する。

２本のレール３１及びガイドレール３２は、セラミック製の細長い板状の部材であり、板状部２３の上面２３ａに、ｙ方向に沿って固定される。２本のレール３１及びガイドレール３２は、高さが略同一である。レール３１及びガイドレール３２の上面と、ガイドレール３２の側面とは、高精度及び高平坦度で形成される。

ガイドレール３２は、板状部２３のｘ方向における略中央に設けられる。２本のレール３１は、ガイドレール３２を挟んで線対称の位置に設けられる。２本のレール３１のうちの−ｘ側の端に位置するレール３１ａは、マスク保持部４１の−ｘ側の端部である端面４１ｈ近傍の領域が載置され、２本のレール３１のうちの＋ｘ側の端に位置するレール３１ｂは、マスク保持部４１の＋ｘ側の端部である端面４１ｉ近傍の領域が載置される。

図５は、第２移動部３０を部分的に拡大した図である。マスク保持部４１の下面４１ｂには、長手方向がｘ方向に沿うように、棒状の凸部３３が設けられる。凸部３３が下面４１ｂに設けられることで、マスク保持部４１の下面４１ｂに溝４１ｇが形成される。この溝４１ｇには、ガイドレール３２が挿入される。これにより、マスク保持部４１のｘ方向の位置、すなわち板状部２３がｙ方向以外に移動しないようにマスク保持部４１の移動方向が規制される。

凸部３３には、ガイドレール３２の側面に向けて空気を吐出する空気吐出部３３ａが設けられる。空気吐出部３３ａの開口は、凸部３３の側面に露出している。空気吐出部３３ａは、内径が絞られたオリフィスを有する。したがって、この開口からは、ポンプ（図示せず）等から供給された空気が高圧及び高速で吐出される。これにより、空気吐出部３３ａとガイドレール３２との間に、空気の層が形成される。

マスク保持部４１の下面４１ｂには、レール３１及びガイドレール３２と対向する位置に凸部４１ｃが形成される。凸部４１ｃは、先端（レール３１又はガイドレール３２と対向する面）が平面である。凸部４１ｃには、空気吐出部３８が設けられる。凸部４１ｃ及び空気吐出部３８については後に詳述する。

板状部２３の上面２３ａには、長手方向がｘ方向に沿うように、鉄製の棒状部材３６が設けられる。マスク保持部４１の下面４１ｂには、磁石３７が設けられる。棒状部材３６と磁石３７とは、対向する位置に設けられる。

駆動部３４は、永久磁石を有する固定子３４ａと、電磁コイルを有する可動子３４ｂと、を有するリニアモータである。固定子３４ａ及び可動子３４ｂは、それぞれ２本ずつ設けられる。固定子３４ａは、ガイドレール３２を中心として線対称の位置に設けられる。固定子３４ａは、冷却液が流れる配管３４ｄを有し、可動子３４ｂは、冷却液が流れる配管３４ｃを有する。固定子３４ａは固定子２５ａと同様の構成であり、可動子３４ｂは可動子２５ｂと同様の構成であるため、詳細な説明は省略する。

図２の説明に戻る。位置測定部３９は、例えばリニアエンコーダであり、第２移動部３０のｘ方向の両端（−ｘ側の端及び＋ｘ側の端）に設けられる。位置測定部３９は、板状部２３（レール３１ａでもよい）の−ｘ側の端面及び板状部２３（レール３１ｂでもよい）＋ｘ側の端面に設けられるスケール３９ａと、マスク保持部４１の端面４１ｈ及び端面４１ｉに設けられる検出ヘッド３９ｂと、を有する。なお、図２においては、＋ｘ側に位置するスケール３９ａ及び検出ヘッド３９ｂは図示されていない。スケール３９ａはスケール２９ａと同様であり、検出ヘッド３９ｂは検出ヘッド２９ｂと同様であるため、説明を省略する。

マスク保持部４１は、板状であり、略水平な上面４１ａと、下面４１ｂ（図７参照）と、を有する。マスク保持部４１は、熱膨張係数が略０．５〜１×１０^−７／Ｋの低膨張性セラミックを用いて形成される。これにより、マスク保持部４１の変形を防止することができる。なお、マスク保持部４１は、熱膨張係数が略５×１０^−８／Ｋの超低膨張性ガラスセラミックを用いて形成することもできる。この場合には、制御しきれない温度変化が発生したとしても、マスク保持部４１の変形を確実に防止することができる。

上面４１ａには、マスクＭ（図示省略）が載置される。端面４１ｈには、マスクＭに＋ｘ方向の力を付勢する付勢部４５と、マスクＭに＋ｙ方向の力を付勢する付勢部４６と、が設けられる。付勢部４５、４６は、例えばロータリーシリンダである。付勢部４５、４６については、後に詳述する。

図６は、マスク保持部４１を斜め上から見た概略斜視図である。図７は、マスク保持部４１を斜め下から見た概略斜視図である。

マスク保持部４１には、板圧方向に貫通する複数のマスクリフター用孔４１ｄが形成される。マスクリフター用孔４１ｄには、図示しない棒状のマスクリフターが挿入される。図示しないマスクリフターは、ｚ方向に移動可能であり、マスクＭをマスク保持部４１に載置する時に用いられる。

マスク保持部４１の上面４１ａには、複数の空気孔４１ｅが２次元状に配列される。空気孔４１ｅは、２０ｍｍ〜５０ｍｍおきに設けられている。ポンプ（図示せず）等から供給された空気は、空気孔４１ｅから上向き（＋ｚ向き）に吐出される。これにより、マスク保持部４１の上面４１ａに載置されるマスクＭを一時的に浮上させることができる。

また、マスク保持部４１の上面４１ａには、隣接する２辺（ここでは、＋ｘ側の辺と、−ｙ側の辺）にバーミラー４１ｆが設けられる。

さらに、マスク保持部４１の上面４１ａには、ピン４４ａ、４４ｂ、４４ｃが挿入される穴４１ｊ、４１ｋ、４１ｌが形成される。ピン４４ａ、４４ｂ、４４ｃは、樹脂（例えば、ポリエーテルエーテルケトン（Ｐｏｌｙｅｔｈｅｒ ｅｔｈｅｒ ｋｅｔｏｎｅ、ＰＥＥＫ）製であり、直径が略１０ｍｍ程度の棒状の部材である。ピン４４ａ、４４ｂ、４４ｃは、それぞれ枠体４２に設けられており、ピン駆動部４４ｄ（図１０参照）及び図示しない移動機構によりｙ方向及びｚ方向に移動可能である。

ピン駆動部４４ｄがピン４４ａ、４４ｂ、４４ｃをｚ方向に移動させることで、ピン４４ａ、４４ｂ、４４ｃが穴４１ｊ、４１ｋ、４１ｌに挿入された位置と、ピン４４ａ、４４ｂ、４４ｃを穴４１ｊ、４１ｋ、４１ｌから抜いてピン４４ａ、４４ｂ、４４ｃがマスク保持部４１から離れた位置と、の間でピン４４ａ、４４ｂ、４４ｃが移動する。ピン駆動部４４ｄがピン４４ａ、４４ｂ、４４ｃをｙ方向に移動させることで、ピン４４ａ、４４ｂ、４４ｃが穴４１ｊに挿入される位置と、ピン４４ａ、４４ｂ、４４ｃが穴４１ｋに挿入される位置と、ピン４４ａ、４４ｂ、４４ｃが穴４１ｌに挿入される位置と、の間でピン４４ａ、４４ｂ、４４ｃが移動する。ピン４４ａ、４４ｂ、４４ｃをｙ方向及びｚ方向に移動可能に設ける構成は、すでに公知の様々な技術を用いることができる。

穴４１ｊ、４１ｋ、４１ｌは、マスクＭの大きさによって使い分ける。８００ｍｍ×５２０ｍｍのマスクＭを用いる場合には、穴４１ｊにピン４４ａ、４４ｂ、４４ｃを挿入し、９２０ｍｍ×８００ｍｍのマスクＭを用いる場合には、穴４１ｋにピン４４ａ、４４ｂ、４４ｃを挿入し、１４００ｍｍ×１２２０ｍｍのマスクＭを用いる場合には、穴４１ｌにピン４４ａ、４４ｂ、４４ｃを挿入する。このように、ピン４４ａ、４４ｂ、４４ｃは、マスクＭの隣接する２辺が当接する位置に着脱可能に設けられる。

なお、穴４１ｊ、４１ｋ、４１ｌの位置は、それぞれ、対応するマスクＭの隣接する２辺が当接した時に、マスク保持部４１の中心と、マスクＭの中心とが略一致する位置に形成される。

マスク保持部４１の下面４１ｂには、凸部４１ｃが２次元状に複数形成される。凸部４１ｃは、先端（レール３１又はガイドレール３２と対向する面）が平面である。凸部４１ｃには、複数（例えば、５個）の空気吐出部３８が設けられる。空気吐出部３８は、凸部４１ｃの先端面に開口する空気穴を有する。また、空気吐出部３８は、内径が絞られたオリフィスを有する。したがって、空気吐出部３８からは、レール３１及びガイドレール３２に向けて、ポンプ（図示せず）等から供給された空気が高圧及び高速で吐出される。これにより、空気吐出部３８とレール３１及びガイドレール３２との間に、空気の層が形成される。また、凸部４１ｃに複数の空気吐出部３８を設けることで、この空気の層の圧力が高くなる。

なお、本実施の形態では、隣接する凸部４１ｃはｘ方向にもｙ方向にも離れているが、凸部４１ｃの形態はこれに限られない。例えば、凸部がｙ方向沿って長いリブ状であり、リブ状の凸部がｘ方向に複数並べられていてもよい。ただし、空気吐出部３８とレール３１及びガイドレール３２との間に形成された空気の層の厚さを一定にするには、図７に示すように、凸部４１ｃをｘ方向及びｙ方向に２次元状に配列することが望ましい。

図１の説明に戻る。枠体４２は、定盤１１の上面１１ａに設けられ、マスク保持部４１の上方（＋ｚ方向）に光照射部４３を保持する。枠体４２は、２本の柱４２ａと、柱４２ａを連結する梁４２ｂと、を有する。

光照射部４３は、マスクＭに光（本実施の形態では、レーザ光）を照射する。光照射部４３は、一定間隔（例えば、略２００ｍｍおき）で梁４２ｂに設けられる。本実施の形態では、７個の光照射部４３ａ、光照射部４３ｂ、光照射部４３ｃ、光照射部４３ｄ、光照射部４３ｅ、光照射部４３ｆ、光照射部４３ｇを有する。光照射部４３ａ〜光照射部４３ｇは、同一の構成であるため、以下、光照射部４３ａについて説明する。

図８は、光照射部４３ａの概略を示す要部透視図である。光照射部４３ａは、主として、枠体４３１と、枠体４３１の内部に設けられた光源４３２と、枠体４３１の下端に設けられた対物レンズ４３３と、を有する。また、光照射部４３ａは、枠体４３１の内部の温度を一定に保つ図示しない温度調整部を有する。

光源４３２は、面状のレーザ光が照射可能な光源であり、例えばデジタルミラーデバイス（Ｄｉｇｉｔａｌ Ｍｉｒｒｏｒ Ｄｅｖｉｃｅ、ＤＭＤ）を用いることができる。対物レンズ４３３は、光源４３２から照射されたレーザ光をマスクＭの表面に結像させる。

描画時には、光照射部４３ａ〜光照射部４３ｇそれぞれの光源４３２から光が照射され、この光がマスクＭ上で結像することにより、マスクＭにパターンが描画される。

枠体４３１は、連結部４３４を介して梁４２ｂに設けられる。面４３４ａは、枠体４３１に固定され、面４３４ｂは、梁４２ｂに固定される。連結部４３４は、内部に孔４３４ｃが形成されていることにより、平行な２つの面４３４ａ、４３４ｂが平行を保ったままｚ方向に移動可能なリンク機構を有する。

連結部４３４は、面４３４ａをｚ方向に移動させるピエゾ素子４３４ｄと、面４３４ａの移動量を測定するリニアエンコーダ４３４ｅが設けられる。

図１の説明に戻る。−ｙ側に設けられた柱４２ａには、レーザ干渉計５１が設けられる。また、定盤１１の＋ｘ側の側面には、レーザ干渉計５２（図１では図示省略）が設けられる。

図９は、レーザ干渉計５１、５２、５３が計測する様子を示す模式図である。図９において、レーザ光の経路を２点鎖線で示す。また、図９では、光照射部４３ａ〜光照射部４３ｇの位置を点線で示す。

レーザ干渉計５１、５２、５３は、４本のレーザ光を照射する。４本のレーザ光のうちの２本はバーミラー４１ｆで反射して、その反射光がレーザ干渉計５１、５２で受光される。

光照射部４３ａの−ｙ側の側面には、ミラー４３５が設けられる。レーザ干渉計５１から照射される光のうちの残りの２本は、ミラー４３５で反射されて、その反射光がレーザ干渉計５１で受光される。

光照射部４３ａ〜光照射部４３ｇの＋ｘ側の側面には、ミラー４３６が設けられる。レーザ干渉計５２から照射される光のうちの残りの２本はミラー４３６で反射して、その反射光がレーザ干渉計５２、５３で受光される。

レーザ干渉計５２、５３は、駆動部１１ｃにより、レール１１ｂに沿って移動可能である。レール１１ｂは、長手方向がｙ方向に沿うように定盤１１に設けられる。このように、レーザ干渉計５２、５３は、ｙ方向に移動可能である。

−ｙ側のレーザ干渉計５２は、描画時には、光照射部４３ａに光を照射する位置に設けられ、キャリブレーション時には、光照射部４３ａに光を照射する位置、光照射部４３ｂに光を照射する位置、光照射部４３ｃに光を照射する位置・・・というように順番に移動する。なお、レーザ干渉計５２として、８本以上のレーザ光（例えば、１２本）を照射できるレーザ干渉計用光源を用いる場合には、レーザ干渉計５２は、ｙ方向に沿って移動する機構を有しなくても良い。

＋ｙ側のレーザ干渉計５３は、常時、光照射部４３ｇに光を照射する位置に設けられる。なお、＋ｙ側のレーザ干渉計５３については、ｙ方向に沿って移動する機構を有しなくても良い。

図１０は、マスク製造装置１の電気的な構成を示すブロック図である。マスク製造装置１は、ＣＰＵ（Ｃｅｎｔｒａｌ Ｐｒｏｃｅｓｓｉｎｇ Ｕｎｉｔ）１５１と、ＲＡＭ（Ｒａｎｄｏｍ Ａｃｃｅｓｓ Ｍｅｍｏｒｙ）１５２と、ＲＯＭ（Ｒｅａｄ Ｏｎｌｙ Ｍｅｍｏｒｙ）１５３と、入出力インターフェース（Ｉ／Ｆ）１５４と、通信インターフェース（Ｉ／Ｆ）１５５と、メディアインターフェース（Ｉ／Ｆ）１５６と、を有し、これらは駆動部２５、３４、位置測定部２９、３９、光照射部４３、付勢部４５、４６、レーザ干渉計５１、５２等と互いに接続されている。

ＣＰＵ１５１は、ＲＡＭ１５２、ＲＯＭ１５３に格納されたプログラムに基づいて動作し、各部の制御を行う。ＣＰＵ１５１には、位置測定部２９、３９、レーザ干渉計５１、５２等から信号が入力される。ＣＰＵ１５１から出力された信号は、駆動部２５、３４、光照射部４３に出力される。

ＲＡＭ１５２は、揮発性メモリである。ＲＯＭ１５３は、各種制御プログラム等が記憶されている不揮発性メモリである。ＣＰＵ１５１は、ＲＡＭ１５２、ＲＯＭ１５３に格納されたプログラムに基づいて動作し、各部の制御を行う。また、ＲＯＭ１５３は、マスク製造装置１の起動時にＣＰＵ１５１が行うブートプログラムや、マスク製造装置１のハードウェアに依存するプログラムなどを格納する。また、ＲＡＭ１５２は、ＣＰＵ１５１が実行するプログラム及びＣＰＵ１５１が使用するデータなどを格納する。

ＣＰＵ１５１は、入出力インターフェース１５４を介して、キーボードやマウス等の入出力装置１４１を制御する。通信インターフェース１５５は、ネットワーク１４２を介して他の機器からデータを受信してＣＰＵ１５１に送信すると共に、ＣＰＵ１５１が生成したデータを、ネットワーク１４２を介して他の機器に送信する。

メディアインターフェース１５６は、記憶媒体１４３に格納されたプログラム又はデータを読み取り、ＲＡＭ１５２に格納する。なお、記憶媒体１４３は、例えば、ＩＣカード、ＳＤカード、ＤＶＤ等である。

なお、各機能を実現するプログラムは、例えば、記憶媒体１４３から読み出されて、ＲＡＭ１５２を介してマスク製造装置１にインストールされ、ＣＰＵ１５１によって実行される。

ＣＰＵ１５１は、入力信号に基づいてマスク製造装置１の各部を制御する制御部１５１ａの機能を有する。制御部１５１ａは、ＣＰＵ１５１が読み込んだ所定のプログラムを実行することにより構築される。制御部１５１ａが行う処理については、後に詳述する。

図１０に示すマスク製造装置１の構成は、本実施形態の特徴を説明するにあたって主要構成を説明したのであって、例えば一般的な情報処理装置が備える構成を排除するものではない。マスク製造装置１の構成要素は、処理内容に応じてさらに多くの構成要素に分類されてもよいし、１つの構成要素が複数の構成要素の処理を実行してもよい。

このように構成されたマスク製造装置１の作用について説明する。以下の処理は、主として制御部１５１ａによって行われる。

制御部１５１ａがマスクリフター用孔４１ｄからマスクリフターを＋ｚ方向に突出させた状態で、マスクリフター上にマスクＭが載置される。マスクリフター上にマスクＭが載置されると、制御部１５１ａは、空気孔４１ｅから空気を吐出しながら、マスクリフターを−ｚ方向に移動させる。その結果、マスクＭは−ｚ方向に移動される。

上面４１ａには空気孔４１ｅが多数形成されており、全ての空気孔４１ｅから同じ圧力で空気が吐出される。したがって、マスクリフターがマスクリフター用孔４１ｄの内部に引き下げられると、空気によりマスクＭが均等に押し上げられ、マスクＭと上面４１ａとの間に形成された空気の層を介してマスクＭが上面４１ａの上に載置される。この状態において、制御部１５１ａは、付勢部４５、４６を駆動してマスクＭに水平方向の力を加えて、マスクＭのｘ方向及びｙ方向の位置決めを行う。

図１１は、付勢部４５、４６がマスクＭを押圧して位置決めを行う様子を説明する図である。

制御部１５１ａは、ピン駆動部４４ｄを駆動して、ピン４４ａ、４４ｂ、４４ｃを−ｚ方向に移動させ、穴４１ｊ、４１ｋ、４１ｌのいずれかにピン４４ａ、４４ｂ、４４ｃを挿入する。図１１では、穴４１ｌにピン４４ａ、４４ｂ、４４ｃが挿入されている。

付勢部４５はアーム４５ａを有し、アーム４５ａの先端にはローラ４５ｂが設けられている。制御部１５１ａが、アーム４５ａを軸４５ａｘを中心に時計回りに回動させる（図１１矢印参照）と、ローラ４５ｂがマスクＭの−ｘ側の端面に当接し、マスクＭに＋ｘ方向の力を付勢する（図１１白抜き矢印参照）。マスクＭと上面４１ａとの間に空気の層が形成されているため、マスクＭは、＋ｘ方向に移動し、その結果マスクＭとピン４４ｂ、４４ｃとが当接する。これにより、マスクＭがｘ方向に位置決めされる。なお、付勢部４５は、ローラ４５ｂがマスクＭのｙ方向の略中央を押すような位置に設けることが望ましい。また、アーム４５ａと上面４１ａとの距離を一定にするため、アーム４５ａの下面に上面４１ａと当接するローラ（図示せず）を設けてもよい。

付勢部４５と同様に、付勢部４６はアーム４６ａを有し、アーム４６ａの先端にはローラ４６ｂが設けられている。制御部１５１ａが、アーム４６ａを軸４６ａｘを中心に反時計回りに回動させる（図１１矢印参照）と、ローラ４６ｂがマスクＭの−ｙ側の端面に当接し、マスクＭに＋ｙ方向の力を付勢する（図１１白抜き矢印参照）。マスクＭと上面４１ａとの間に空気の層が形成されているため、マスクＭは、＋ｙ方向に移動し、その結果マスクＭとピン４４ａとが当接する。これにより、マスクＭがｙ方向に位置決めされる。なお、付勢部４６は、ローラ４６ｂがマスクＭの−ｘ方向及び−ｙ方向の角近傍を押すような位置に設けることが望ましい。また、アーム４６ａと上面４１ａとの距離を一定にするため、アーム４６ａの下面に上面４１ａと当接するローラ（図示せず）を設けてもよい。

ピン４４ａ、４４ｂ、４４ｃとマスクＭとが当接してマスクＭの水平方向の位置決めがされたら、制御部１５１ａは、マスク保持部４１を制御して、空気孔４１ｅからの空気の吐出を止める。その結果、マスクＭは、ｘ方向及びｙ方向の位置決めがされた状態で上面４１ａの上に載置される。なお、制御部１５１ａは、ピン４４ａ、４４ｂ、４４ｃに設けた図示しないセンサ等の検出結果に基づいて、ピン４４ａ、４４ｂ、４４ｃとマスクＭとが当接したと判定することができる。

その後、制御部１５１ａは、ピン駆動部４４ｄを制御してピン４４ａ、４４ｂ、４４ｃを＋ｚ方向に移動させて、ピン４４ａ、４４ｂ、４４ｃを穴４１ｊ、４１ｋ、４１ｌのいずれかから抜いて、ピン４４ａ、４４ｂ、４４ｃをマスク保持部４１から離す。これにより、高精度でマスクＭの位置決めを行うことができる。

マスクＭは上面４１ａの上に載置されているため、上面４１ａとマスクＭ下面との摩擦により、マスクＭが上面４１ａに固定される。したがって、マスクＭは上面４１ａの上に載置された後は、例えばピン４４ａ、４４ｂ、４４ｃが＋ｚ方向に移動したとしても、マスク保持部４１が変形しない限り、マスクＭが変形、移動等することは無い。また、ピン４４ａ、４４ｂ、４４ｃを穴４１ｊ、４１ｋ、４１ｌから抜くため、マスクＭがピン４４ａ、４４ｂ、４４ｃに当接してマスクＭがピン４４ａ、４４ｂ、４４ｃから力を受け、その力によりマスクＭがゆがむことを防止することができる。

制御部１５１ａは、描画処理に先立って、レーザ干渉計５１、５２、５３を用いて位置測定部２９、３９のキャリブレーションを行う。次に、制御部１５１ａは、位置測定部２９、３９で取得した測定値に基づいて、光照射部４３ａがマスクＭの−ｘ側の端及び−ｙ側の端に光を照射する位置へとマスク保持部４１を移動させる。その後、制御部１５１ａは、光照射部４３から光を照射しつつマスク保持部４１を移動させて、描画処理を行う。

制御部１５１ａは、描画処理の間、空気吐出部２８、３８から継続して空気を吐出する。これにより、板状部２３と、レール２１、ガイドレール２２との間に空気の層が形成されるため、板状部２３がレール２１、ガイドレール２２の上を滑らかに移動する。また、マスク保持部４１と、レール３１、ガイドレール３２との間に空気の層が形成されるため、マスク保持部４１がレール３１、ガイドレール３２の上を滑らかに移動する。これにより、マスク保持部４１を滑らかに水平方向（ｘ方向及びｙ方向）に移動させることができる。特に、凸部２３ｃや凸部４１ｃを２次元状に配置し、空気の層を一定の厚さとすることで、マスク保持部４１の高さを変えることなく、板状部２３やマスク保持部４１を水平方向に移動させることができる。

空気吐出部２８から空気を吐出して、板状部２３とレール２１やガイドレール２２との間に空気の層を形成しつつも、棒状部材２６が磁石２７に吸引されることで、板状部２３がレール２１やガイドレール２２から浮きすぎることを防止する。また、空気吐出部２８、３８から空気を吐出して、マスク保持部４１とレール３１やガイドレール３２との間に空気の層を形成しつつも、棒状部材３６が磁石３７に吸引されることで、マスク保持部４１がレール３１やガイドレール３２から浮きすぎることを防止する。これにより、板状部２３やマスク保持部４１の高さの変動を防止することができる。また、凸部２３ｃ部、４１ｃにそれぞれ複数の空気吐出部２８、３８を設けることで、板状部２３とレール２１やガイドレール２２との間に形成される空気の層、及びマスク保持部４１とレール３１やガイドレール３２との間に形成される空気の層の圧力を高くし、これにより板状部２３やマスク保持部４１の剛性を高くすることができる。

さらに、棒状部材２６が磁石２７に吸引されることで、板状部２３とレール２１やガイドレール２２との間に形成された空気の層を薄くし、これにより空気の層の圧力を高くして、板状部２３の剛性を高くすることができる。また、棒状部材３６が磁石３７に吸引されることで、マスク保持部４１とレール３１やガイドレール３２との間に形成された空気の層を薄くし、これにより空気の層の圧力を高くして、マスク保持部４１の剛性を高くすることができる。

駆動部２５が、ガイドレール２２の近傍に、ガイドレール２２を中心として線対称の位置に設けられるため、駆動部２５は、板状部２３（マスク保持部４１）を水平面内で回転させることなく、板状部２３（マスク保持部４１）をｘ方向に移動させることができる。また、駆動部３４が、ガイドレール３２の近傍に、ガイドレール３２を中心として線対称の位置に設けられるため、駆動部３４は、マスク保持部４１を水平面内で回転させることなく、マスク保持部４１をｙ方向に移動させることができる。

また、制御部１５１ａは、マスク保持部４１を移動させる時に、位置測定部２９から取得した情報に基づいて駆動部２５を制御し、位置測定部３９から取得した情報に基づいて駆動部３４を制御する。図１２は、制御部１５１ａが行う駆動部２５、３４の制御について説明する図である。

まず、推力変換部１６４、１７４は、可動子２５ｂ、３４ｂのＵ相、Ｖ相、Ｗ相にそれぞれ信号を出力し、推力変換部１６４、１７４は、その結果に基づいて可動子２５ｂ、３４ｂのＵ相、Ｖ相、Ｗ相の力率（力率情報）を求めておく。

第１移動部２０の−ｙ側の位置測定部２９における計測信号は、Ｘカウンタ（１）１６１に入力され、＋ｙ側の位置測定部２９における計測信号は、Ｘカウンタ（２）１６２に入力される。制御部１５１ａは、Ｘカウンタ（１）１６１の出力と、Ｘカウンタ（２）１６２の出力との平均値を、現在位置とする。

目標座標算出部１６３では、ＣＰＵ１５１から出力されるパルス等に基づいて、現時点における目標座標（位置指令）が算出される。制御部１５１ａは、Ｘカウンタ（１）１６１、Ｘカウンタ（２）１６２からの出力信号と、目標座標算出部１６３から出力された位置指令との偏差の一次関数（Ｐ）を算出する。また、制御部１５１ａは、偏差の積分に比例して変化する入力値（Ｉ）と、偏差の微分に比例して変化する入力値（Ｄ）を算出する。これらの値は、推力変換部１６４へ入力される。

さらに、制御部１５１ａは、目標座標算出部１６３で算出された位置指令を１次微分する１次微分項と、位置指令を２次微分する２次微分項と、を算出する。これらの値は、推力変換部１６４へ入力される。推力変換部１６４には、原点センサ１６５から駆動部２５の位置を管理するために基準となる原点情報が入力される。

推力変換部１６４は、入力された情報に基づいて駆動部２５を駆動するための信号を生成する。具体的には、推力変換部１６４は、比例動作、積分動作、微分動作を組み合わせたＰＩＤ制御と、目標座標算出部１６３から入力された位置指令、１次微分項、２次微分項とに基づいたフィードフォワード制御と、を行う。そして、推力変換部１６４では、制御結果、力率情報等に基づいて駆動信号を生成する。駆動信号は、Ｕ相、Ｖ相、Ｗ相のそれぞれに対応する信号であり、アンプ１６６、１６７、１６８でそれぞれ増幅された後、可動子２５ｂのＵ相、Ｖ相、Ｗ相のコイルそれぞれに出力される。したがって、マスク保持部４１を正確に移動させることができる。なお、精度の高い制御（ｎｍ〜数十ｎｍ単位の制御）を行うためには、アンプ１６６、１６７、１６８は、ＤＣリニアアンプであることが望ましい。

第２移動部３０の−ｘ側の位置測定部３９における計測信号は、Ｙカウンタ（１）１７１に入力され、＋ｘ側の位置測定部３９における計測信号は、Ｙカウンタ（２）１７２に入力される。制御部１５１ａは、Ｙカウンタ（１）１７１の出力と、Ｙカウンタ（２）１７２の出力との平均値を、現在位置とする。

目標座標算出部１７３では、目標座標算出部１６３と同様に、位置指令を算出する。制御部１５１ａは、Ｙカウンタ（１）１７１、Ｙカウンタ（２）１７２からの出力信号と、目標座標算出部１７３から出力された位置指令との偏差の一次関数（Ｐ）を算出する。また、制御部１５１ａは、偏差の積分に比例して変化する入力値（Ｉ）と、偏差の微分に比例して変化する入力値（Ｄ）を算出する。これらの値は、推力変換部１７４へ入力される。

さらに、制御部１５１ａは、目標座標算出部１７３で算出された位置指令の１次微分項と、位置指令の２次微分項と、を算出する。これらの値は、推力変換部１７４へ入力される。推力変換部１７４には、原点センサ１７５から駆動部３４の位置を管理するために基準となる原点情報が入力される。

推力変換部１７４は、入力された情報に基づいて駆動部２５を駆動するための信号を生成する。具体的には、推力変換部１７４は、推力変換部１６４と同様に、ＰＩＤ制御と、フィードフォワード制御とを行い、制御結果、力率情報等に基づいて駆動信号を生成する。駆動信号は、Ｕ相、Ｖ相、Ｗ相のそれぞれに対応する信号であり、アンプ１７６、１７７、１７８でそれぞれ増幅された後、可動子３４ｂのＵ相、Ｖ相、Ｗ相のコイルそれぞれに出力される。したがって、板状部２３を正確に移動させることができる。なお、アンプ１６６、１６７、１６８と同様、アンプ１７６、１７７、１７８はＤＣリニアアンプであることが望ましい。

また、制御部１５１ａは、マスク保持部４１を移動させる時に、マスク保持部４１が板状部２３からはみ出ないように駆動部３４を制御する。また、制御部１５１ａは、板状部２３を移動させる時に、板状部２３がレール２１、ガイドレール２２からはみ出ないように駆動部２５を制御する。これにより、マスク保持部４１がたわむことにより、マスクＭの保持位置がずれてしまうことを防止することができる。

さらに、制御部１５１ａは、位置測定部２９、３９で取得した測定値に基づいて、マスク保持部４１の位置の誤差（例えば、ヨーイング方向の誤差）を補正するように、描画データタイミングとデータ位置とを補正する。制御部１５１ａは、この補正した結果を用いて光照射部４３を制御する。また、制御部１５１ａは、描画時に、必要に応じて枠体４３１をｚ方向に移動させる。枠体４３１の移動は、リニアエンコーダ４３４ｅで枠体４３１のｚ方向の移動量を測定しつつ、ピエゾ素子４３４ｄを駆動することにより行われる。これにより、マスクＭの厚さが変動等したとしても、光照射部４３から照射される光を、マスクＭ上に結像させることができる。

本実施の形態によれば、熱膨張係数が略１×１０^−７／Ｋ以下（マスクＭの熱膨張係数より小さい）のセラミックを用いてマスク保持部４１を形成することで、制御しきれない温度変化（０．０１度程度）があった場合にも、マスク保持部４１の変形を防止し、これによるマスクＭのたわみ（膨張、収縮によるたわみ）を防止することができる。

また、本実施の形態によれば、空気吐出部２８とレール２１及びガイドレール２２との間、及び空気吐出部３８とレール３１及びガイドレール３２との間に空気の層が形成されるため、板状部２３やマスク保持部４１の重さによらず、レール２１及びガイドレール２２の上面に沿って板状部２３を滑らかに移動させることができ、かつ、レール３１、ガイドレール３２の上面に沿ってマスク保持部４１を滑らかに移動させることができる。また、レール２１及びガイドレール２２の高さが略同一であるため、板状部２３の高さを変えることなく板状部２３をｘ方向に移動させることができ、かつ、レール３１及びガイドレール３２の高さが略同一であるため、マスク保持部４１の高さを変えることなくマスク保持部４１をｙ方向に移動させることができる。

また、本実施の形態によれば、変形が極めて小さい定盤の上に第１移動部２０、第２移動部３０を設け、これらを用いてマスクＭを水平方向に移動させるため、第１移動部２０、第２移動部３０の変形を防止し、これにより精度良くマスクＭを水平方向に移動させることができる。

また、本実施の形態では、ガイドレール２２と溝２３ｄとの間に空気の層を形成し、ガイドレール３２と溝４１ｇとの間に空気の層を形成するため、板状部２３やマスク保持部４１の移動方向を規制しつつも、板状部２３やマスク保持部４１を滑らかに移動させることができる。

なお、本実施の形態では、可動子２５ｂの内部に冷却液が流れる配管２５ｃが設けられ、可動子３４ｂの内部に冷却液が流れる配管３４ｃが設けられるが、配管２５ｃ、３４ｃは必須ではない。また、固定子２５ａ、３４ａの内部の配管２５ｄ、３４ｄも必須ではない。ただし、温度変化を０．０１度以下に抑えるためには、可動子２５ｂ、３４ｂに配管２５ｃ、３４ｃを設け、固定子２５ａ、３４ａに配管２５ｄ、３４ｄを設けることが望ましい。

なお、可動子２５ｂ、３４ｂや固定子２５ａ、３４ａを冷却する方法は、可動子２５ｂ、３４ｂや固定子２５ａ、３４ａの内部に配管２５ｃ、２５ｄ、３４ｃ、３４ｄを設ける形態に限られない。例えば、可動子２５ｂ、３４ｂや固定子２５ａ、３４ａの周囲に非磁性体の金属ジャケットを設け、その中に冷却液が流れる配管を設けてもよい。

また、本実施の形態では、定盤１１と板状部２３との間に棒状部材２６及び磁石２７を設け、板状部２３とマスク保持部４１との間に棒状部材３６及び磁石３７を設けたが、棒状部材２６、磁石２７、棒状部材３６及び磁石３７は必須ではない。

また、本実施の形態では、マスク保持部４１をｘ方向に移動させる第１移動部２０を定盤１１の上に設け、マスク保持部４１をｙ方向に移動させる第２移動部３０を第１移動部２０の上に設けたが、第２移動部３０の上に第１移動部２０を設けてもよい。ただし、マスク保持部４１は、ｘ方向には１３００ｍｍ程度移動させるのに対し、ｙ方向には２００ｍｍ程度（光照射部４３同士の間隔）移動させればよいため、精度良くマスク保持部４１を移動させるためには、移動量の小さい第２移動部３０を第１移動部２０の上に設けることが望ましい。

また、本実施の形態では、光照射部４３を７個設けたが、光照射部４３の数は７個に限られず、１つでもよい。ただし、ｙ方向の移動量を小さくするためには、光照射部４３を複数設けることが望ましい。

また、本実施の形態では、ピン４４ａ、４４ｂ、４４ｃが枠体４２に対して移動可能に設けられ、必要に応じてピン４４ａ、４４ｂ、４４ｃを穴４１ｊ、４１ｋ、４１ｌのいずれかに挿入することで、ピン４４ａ、４４ｂ、４４ｃがマスク保持部４１に設けられるが、予めピン４４ａ、４４ｂ、４４ｃをマスク保持部４１に設けておいてもよい。ただし、マスクＭがピン４４ａ、４４ｂ、４４ｃに常時当接することによるマスクＭの歪みを防止するためには、マスクＭをマスク保持部４１に載置した後、ピン４４ａ、４４ｂ、４４ｃをマスク保持部４１から外すことが望ましい。

また、本実施の形態では、ピン４４ａ、４４ｂ、４４ｃを枠体４２に対して移動可能に設け、制御部１５１ａがピン駆動部４４ｄ及び移動機構を介してピン４４ａ、４４ｂ、４４ｃを穴４１ｊ、４１ｋ、４１ｌのいずれかから抜いたが、ピン４４ａ、４４ｂ、４４ｃを穴４１ｊ、４１ｋ、４１ｌに挿入したり抜いたりする形態はこれに限られない。例えば、ピン駆動部４４ｄや図示しない移動機構をマスク保持部４１に設けてもよい。また、例えば、マスクＭがマスク保持部４１の上面４１ａに載置されたら、ユーザがピン４４ａ、４４ｂ、４４ｃを穴４１ｊ、４１ｋ、４１ｌのいずれかから抜いてもよい。また、例えば、ユーザがピン４４ａ、４４ｂ、４４ｃを穴４１ｊ、４１ｋ、４１ｌのいずれかに挿入してもよい。

＜第２の実施の形態＞
本発明の第１の実施の形態は、棒状部材２６が磁石２７に吸引されることで、板状部２３とレール２１やガイドレール２２との間に形成された空気の層を薄くし、棒状部材３６が磁石３７に吸引されることで、マスク保持部４１とレール３１やガイドレール３２との間に形成された空気の層を薄くしたが、これらの空気の層を薄くする方法はこれに限られない。

本発明の第２の実施の形態は、棒状部材２６、３６及び磁石２７、３７を設けず、空気を吸引する機構を設けることで、空気の層を薄くする形態である。以下、本実施の形態に係るマスク製造装置２（全体図は省略）について説明する。第１の実施の形態と第２の実施の形態との差異は、第１移動部、第２移動部及びマスク保持部の構成のみであるため、第２の実施の形態に係るマスク製造装置については、第１移動部、第２移動部及びマスク保持部の構成についてのみ説明し、その他の部分については説明を省略する。

図１３は、マスク製造装置２における第１移動部２０Ａを部分的に拡大した図である。第１移動部２０Ａは、主として、４本のレール２１と、１本のガイドレール２２と、板状部２３Ａと、凸部２４Ａと、駆動部２５と、位置測定部２９と、を有する。

凸部２４Ａには、空気吐出部２４ａと、空気吸引部２４ｂと、が設けられる。空気吸引部２４ｂは、凸部２４Ａの側面に開口する空気穴を有する。この空気穴は、真空ポンプ（図示せず）等と連結されている。したがって、空気吸引部２４ｂは、凸部２４Ａとガイドレール２２との間に形成された空間にある空気を吸引する。このように、空気吐出部２４ａから空気を吐出しながら、空気吸引部２４ｂから空気を吸引する（図１３白抜き矢印参照）ことで、溝部２３ｄＡの先端が広がるように凸部２４Ａが倒れて、板状部２３Ａが部分的に変形することを防止することができる。

板状部２３Ａの凸部２３ｃには、空気吐出部２８と、大気開放孔２８ａと、空気吸引部２８ｂと、が設けられる。空気吐出部２８は、レール２１及びガイドレール２２に空気を吐出して、凸部２３ｃと、レール２１及びガイドレール２２との間に空間（以下、空間Ｓ１という）を形成する（図１３太矢印参照）。また、大気開放孔２８ａ及び空気吸引部２８ｂは、凸部２３ｃと、レール２１及びガイドレール２２との間に形成された空間にある空気を、この空間から排出する（図１３太矢印参照）。

図１４は、板状部２３Ａを裏側からみた斜視図である。大気開放孔２８ａは、空気吐出部２８の外側に、略矩形形状に形成されている。また、空気吸引部２８ｂは、大気開放孔２８ａの外側に、略矩形形状に形成されている。ただし、大気開放孔２８ａ、空気吸引部２８ｂの位置及び形状はこれに限られない。

大気開放孔２８ａは、一端が凸部２３ｃの先端面に開口し、他端が板状部２３の側面に開口する（図示省略）空気孔を有する。この空気孔は、空間Ｓ１と、第１移動部２０Ａの外部空間とを連通する。空気吐出部２８が空気を吐出することで、空気吐出部２８及び空間Ｓ１の圧力は大気圧より高くなっている（正圧）。したがって、この圧力差により、大気開放孔２８ａを介して、空間Ｓ１にある空気が自然と外部空間へ排出される。

空気吸引部２８ｂは、凸部２３ｃの先端面に開口する空気穴を有する。この空気穴は、真空ポンプ（図示せず）等と連結されている。したがって、空気吸引部２８ｂの圧力は大気圧より低く（負圧）、空気吸引部２８ｂにより空間Ｓ１にある空気が吸引される。また、空気吸引部２８ｂは、図示しない真空レギュレータが連結されており、真空レギュレータによって空気吸引部２８ｂの圧力が調整される。

空気吐出部２８の周りを大気開放孔２８ａ及び空気吸引部２８ｂで囲むことで、１個の凸部２３ｃの領域内で、凸部２３ｃとレール２１、ガイドレール２２との反発、吸引のバランスを保つことができる。したがって、板状部２３Ａが部分的に曲がる（例えば、凸部２３ｃがある部分は凸となり、凸部２３ｃが無い部分は凹む）ことを防止することができる。

図１５は、マスク製造装置２における第２移動部３０Ａを部分的に拡大した図である。第２移動部３０Ａは、主として、２本のレール３１と、１本のガイドレール３２と、凸部３３Ａと、駆動部３４と、位置測定部３９と、を有する。凸部３３Ａには、空気吐出部３３ａと、空気吸引部３３ｂと、が設けられる。空気吸引部３３ｂは、空気吸引部２４ｂと同様の構成であるため、詳細な説明を省略する。

空気吐出部３３ａから空気を吐出しながら、空気吸引部３３ｂから空気を吸引する（図１５太矢印参照）ことで、溝部４１ｇＡの先端が広がるように凸部３３Ａが倒れて、マスク保持部４１Ａが部分的に変形することを防止することができる。

図１６は、マスク保持部４１Ａを斜め下から見た概略斜視図である。マスク保持部４１Ａには、空気吐出部３８と、大気開放孔３８ａと、空気吸引部３８ｂと、が設けられる。大気開放孔３８ａは空気吐出部２８と同様であり、空気吸引部３８ｂは空気吸引部２８ｂと同様の構成であるため、詳細な説明を省略する。

空気吐出部３８は、レール３１及びガイドレール３２に空気を吐出して、凸部４１ｃと、レール３１及びガイドレール３２との間に空間（以下、空間Ｓ２という）を形成する（図１５太矢印参照）。また、空間Ｓ２と外部空間との圧力差により、大気開放孔３８ａを介して、空間Ｓ２にある空気が自然と外部空間へ排出される（図１５太矢印参照）。さらに、空気吸引部２８ｂにより、空間Ｓ１にある空気が吸引される（図１５太矢印参照）。

空気吐出部３８の周りを大気開放孔３８ａ及び空気吸引部３８ｂで囲むことで、１個の凸部４１ｃの領域内で、凸部４１ｃとレール３１、ガイドレール３２との反発、吸引のバランスを保つことができる。したがって、マスク保持部４１Ａが部分的に曲がることを防止することができる。

本実施の形態によれば、凸部２３ｃ、４１ｃの領域内で正圧と負圧とのバランスをとることで、板状部２３Ａやマスク保持部４１Ａが部分的に曲がることを防止することができる。例えば、棒状部材２６、３６及び磁石２７、３７を用いる形態では、凸部２３ｃ、４１ｃが位置する部分で板状部２３Ａやマスク保持部４１Ａが微小量だけふくらみ、棒状部材２６、３６及び磁石２７、３７が設けられた部分で板状部２３Ａやマスク保持部４１Ａが微小量だけへこみ、これにより板状部２３Ａやマスク保持部４１Ａが微小量だけたわむ可能性があるが、凸部２３ｃ、４１ｃの領域内で正圧と負圧とのバランスをとることで、このようなたわみは発生しなくなる。これにより、板状部２３Ａやマスク保持部４１Ａのたわみ、すなわちマスクＭのたわみを防止することができる。さらに、板状部２３Ａやマスク保持部４１Ａが水平方向に移動する時の高さ変動を防止し、板状部２３Ａやマスク保持部４１Ａを高い精度で移動させることができる。

また、本実施の形態によれば、大気開放孔２８ａ及び空気吸引部２８ｂを設けることで、凸部２３ｃと、凸部２３ｃとレール２１、ガイドレール２２との間に形成される空気の層の厚さを薄くする（大気開放孔２８ａ及び空気吸引部２８ｂが設けられていない場合は空気の層が略４μｍなのに対し、本実施の形態では略２μｍ）ことができる。同様に、大気開放孔３８ａ及び空気吸引部３８ｂを設けることで、凸部４１ｃと、凸部４１ｃとレール３１、ガイドレール３２との間に形成される空気の層の厚さを薄くすることができる。したがって、板状部２３Ａやマスク保持部４１Ａの剛性を高くすることができる。さらに、これらの空気の層の厚さを薄く、一定の厚さとすることで、板状部２３Ａやマスク保持部４１Ａ（すなわち、マスクＭ）の高さの変動を防止することができる。

以上、この発明の実施形態を、図面を参照して詳述してきたが、具体的な構成はこの実施形態に限られるものではなく、この発明の要旨を逸脱しない範囲の設計変更等も含まれる。当業者であれば、実施形態の各要素を、適宜、変更、追加、変換等することが可能である。

また、本発明において、「略」とは、厳密に同一である場合のみでなく、同一性を失わない程度の誤差や変形を含む概念である。例えば、略水平とは、厳密に水平の場合には限られず、例えば数度程度の誤差を含む概念である。また、例えば、単に平行、直交等と表現する場合において、厳密に平行、直交等の場合のみでなく、略平行、略直交等の場合を含むものとする。また、本発明において「近傍」とは、基準となる位置の近くのある範囲（任意に定めることができる）の領域を含むことを意味する。例えば、Ａの近傍という場合に、Ａの近くのある範囲の領域であって、Ａを含んでもいても含んでいなくてもよいことを示す概念である。

１、２ ：マスク製造装置
１１ ：定盤
１１ａ ：上面
１１ｂ ：レール
１１ｃ ：駆動部
１２、１３：除振台
２０、２０Ａ：第１移動部
２１、２１ａ、２１ｂ：レール
２２ ：ガイドレール
２３、２３Ａ：板状部
２３ａ ：上面
２３ｂ ：下面
２３ｃ ：凸部
２３ｄ ：溝
２３ｅ、２３ｆ：端面
２４、２４Ａ：凸部
２４ａ ：空気吐出部
２５ ：駆動部
２５ａ ：固定子
２５ｂ ：可動子
２５ｃ、２５ｄ：配管
２６ ：棒状部材
２７ ：磁石
２８ ：空気吐出部
２９ ：位置測定部
２９ａ ：スケール
２９ｂ ：検出ヘッド
３０、３０Ａ：第２移動部
３１、３１ａ、３１ｂ：レール
３２ ：ガイドレール
３３、３３Ａ：凸部
３３ａ ：空気吐出部
３４ ：駆動部
３４ａ ：固定子
３４ｂ ：可動子
３４ｃ、３４ｄ：配管
３６ ：棒状部材
３７ ：磁石
３８ ：空気吐出部
３９ ：位置測定部
３９ａ ：スケール
３９ｂ ：検出ヘッド
４１、４１Ａ：マスク保持部
４１ａ ：上面
４１ｂ ：下面
４１ｃ ：凸部
４１ｄ ：マスクリフター用孔
４１ｅ ：空気孔
４１ｆ ：バーミラー
４１ｇ ：溝
４１ｈ、４１ｉ：端面
４１ｉ、４１ｊ、４１ｋ：穴
４２ ：枠体
４２ａ ：柱
４２ｂ ：梁
４３、４３ａ、４３ｂ、４３ｃ、４３ｄ、４３ｅ、４３ｆ、４３ｇ：光照射部
４４ａ、４４ｂ、４４ｃ：ピン
４４ｄ ：ピン駆動部
４５、４６：付勢部
５１、５２：レーザ干渉計
１４１ ：入出力装置
１４２ ：ネットワーク
１４３ ：記憶媒体
１５１ ：ＣＰＵ
１５１ａ ：制御部
１５２ ：ＲＡＭ
１５３ ：ＲＯＭ
１５４ ：入出力インターフェース
１５５ ：通信インターフェース
１５６ ：メディアインターフェース
１６３ ：目標座標算出部
１６４ ：推力変換部
１６５ ：原点センサ
１６６、１６７、１６８：アンプ
１７３ ：目標座標算出部
１７４ ：推力変換部
１７５ ：原点センサ
１７６、１７７、１７８：アンプ
４３１ ：枠体
４３２ ：光源
４３３ ：対物レンズ
４３４ ：連結部
４３４ａ ：面
４３４ｂ ：面
４３４ｃ ：孔
４３４ｄ ：ピエゾ素子
４３４ｅ ：リニアエンコーダ
４３５、４３６：ミラー

Claims (11)

1. 熱膨張係数が略１×１０^−７／Ｋ以下の材料を用いて形成され、略水平な面である第１面の上にマスクが載置される板状のマスク保持部であって、上向きに空気を吐出する複数の空気孔であって、前記第１面に２次元状に配列される複数の空気孔を有し、かつ、前記第１面の前記マスクの隣接する２辺が当接する位置に複数のピンが着脱可能に設けられるマスク保持部と、
   設置面上に載置された複数の除振台の上に載置された略直方体の定盤と、
   前記定盤の上面である第２面に載置された第１移動部であって、前記マスク保持部を第１方向に移動させる第１移動部と、
   前記第１移動部の上に載置され、前記マスク保持部が上に載置された第２移動部であって、前記マスク保持部を第２方向に移動させる第２移動部と、
   前記マスクに光を照射する光照射部と、
   前記第２面に設けられた枠体であって、前記マスク保持部の上方に前記光照射部を保持する枠体と、
   を備え、
   前記第１移動部は、長手方向が前記第１方向に沿うように前記第２面に固定された高さが略同一の複数の第１レールと、前記第１レールの上に載置された板状部と、前記板状部の裏面の前記第１レールと対向する位置に設けられ、前記第１レールに向けて空気を吐出する複数の第１空気吐出部と、前記第１レールの上面に沿って前記板状部を移動させる第１駆動部と、前記板状部が前記第１方向以外に移動しないように前記板状部の移動方向を規制する第１ガイド部と、を有し、
   前記第２移動部は、長手方向が前記第２方向に沿うように前記板状部の上面である第３面に固定された高さが略同一の複数の第２レールであって、前記マスク保持部が載置された複数の第２レールと、前記マスク保持部の裏面の前記第２レールと対向する位置に設けられ、前記第２レールに向けて空気を吐出する複数の第２空気吐出部と、前記第２レールの上面に沿って前記マスク保持部を駆動する第２駆動部と、前記マスク保持部が前記第２方向以外に移動しないように前記マスク保持部の移動方向を規制する第２ガイド部と、を有することを特徴とするマスク製造装置。
2. 前記第１ガイド部は、前記第１レールに沿って設けられた第１ガイドレールと、前記板状部の下面に形成された第１溝部であって、前記第１ガイドレールが挿入される第１溝部と、前記第１溝部に設けられ、前記第１ガイドレールの側面に向けて空気を吐出する第３空気吐出部と、を有し、
   前記第２ガイド部は、前記第２レールに沿って設けられた第２ガイドレールと、前記マスク保持部の下面に形成された第２溝部であって、前記第２ガイドレールが挿入される第２溝部と、前記第２溝部に設けられ、前記第２ガイドレールの側面に向けて空気を吐出する第４空気吐出部と、を有することを特徴とする請求項１に記載のマスク製造装置。
3. 前記第１駆動部は、電磁コイルを有する第１可動子と、永久磁石を有する棒状の第１固定子と、を２つずつ有し、
   前記第２駆動部は、電磁コイルを有する第２可動子と、永久磁石を有する棒状の第２固定子と、を２つずつ有し、
   前記第１ガイドレールは、前記定盤の前記第２方向における略中央に設けられ、
   前記第２ガイドレールは、前記板状部の前記第１方向における略中央に設けられ、
   前記第１固定子は、長手方向が前記第１方向に沿うように、前記第１ガイドレールを中心として線対称の位置に設けられ、
   前記第２固定子は、長手方向が前記第２方向に沿うように、前記第２ガイドレールを中心として線対称の位置に設けられたことを特徴とする請求項２に記載のマスク製造装置。
4. 前記板状部の裏面には、先端が平面の複数の第１凸部が２次元状に配列され、
   前記マスク保持部の裏面には、先端が平面の複数の第２凸部が２次元状に配列され、
   前記第１空気吐出部は、前記第１凸部のそれぞれに形成された第１空気穴を有し、
   前記第２空気吐出部は、前記第２凸部のそれぞれに形成された第２空気穴を有することを特徴とする請求項１から３のいずれか一項に記載のマスク製造装置。
5. 前記第１移動部は、前記第１方向に沿って設けられる鉄製の第１棒状部材と、前記第１棒状部材と対向する位置に設けられる第１磁石と、を有し、
   前記第１棒状部材及び前記第１磁石は、一方が前記第２面に、他方が前記板状部の下面に設けられ、
   前記第２移動部は、前記第２方向に沿って設けられる鉄製の第２棒状部材と、前記第２棒状部材と対向する位置に設けられる第２磁石と、を有し、
   前記第２棒状部材及び前記第２磁石は、一方が前記第３面に、他方が前記マスク保持部の下面に設けられることを特徴とする請求項１から４のいずれか一項に記載のマスク製造装置。
6. 前記第１移動部は、前記第１空気吐出部により前記板状部と前記第１レールとの間に形成された空間にある空気を吸引する第１空気吸引部を有し、
   前記第２移動部は、前記第２空気吐出部により前記マスク保持部と前記第２レールとの間に形成された空間にある空気を吸引する第２空気吸引部を有し、
   前記第１空気吸引部は、前記第１凸部に形成され、
   前記第２空気吸引部は、前記第２凸部に形成されたことを特徴とする請求項４に記載のマスク製造装置。
7. 前記光照射部は、面照射が可能な面照射部と、対物レンズと、前記面照射部及び前記対物レンズを保持する保持枠と、を有し、
   前記保持枠を前記枠体に連結する連結部であって、前記保持枠を前記枠体に対して上下方向に移動させる連結部を備えたことを特徴とする請求項１から６のいずれか一項に記載のマスク製造装置。
8. 前記第１移動部の前記第２方向における両側には、それぞれ、前記板状部の前記第１方向における位置を取得する第１位置取得部及び第２位置取得部が設けられ、
   前記第２移動部の前記第１方向における両側には、それぞれ、前記マスク保持部の前記第２方向における位置を取得する第３位置取得部及び第４位置取得部が設けられ、
   前記第１位置取得部及び前記第２位置取得部により取得された結果の平均値に基づいて前記第１駆動部を制御し、前記第３位置取得部及び前記第４位置取得部により取得された結果の平均値に基づいて前記第２駆動部を制御する制御部を備えたことを特徴とする請求項１から７のいずれか一項に記載のマスク製造装置。
9. 前記制御部は、前記板状部が前記第１レールからはみ出ないように前記第１駆動部を制御し、かつ、前記マスク保持部が前記第２レールからはみ出ないように前記第２駆動部を制御することを特徴とする請求項８に記載のマスク製造装置。
10. 前記マスクに水平方向の力を付勢する付勢部を備え、
    前記制御部は、前記複数の空気孔から空気を吐出させるとともに、前記マスクが前記複数のピンに当接する方向の力を前記マスクに付勢し、前記マスクが前記複数のピンに当接したら、前記複数の空気孔からの空気の吐出を止めるように前記マスク保持部及び前記付勢部を制御することを特徴とする請求項８又は９に記載のマスク製造装置。
11. 前記複数のピンは、前記枠体に設けられており、
    前記複数のピンを前記マスク保持部に設けられる第１の位置と、前記マスク保持部から離れた第２の位置との間で移動させるピン駆動部を備え、
    前記制御部は、前記複数の空気孔からの空気の吐出を止めたら、前記複数のピンを前記第１の位置から前記第２の位置へと移動させるように前記ピン駆動部を制御することを特徴とする請求項１０に記載のマスク製造装置。
    

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