JP7495819B2 - 保持装置、リソグラフィ装置及び物品の製造方法 - Google Patents
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Description
図3及び図4は、第1実施形態における保持装置200Aの構成、特に、保持装置200Aの配管の一例を示す図である。保持装置200Aは、保持装置200として露光装置100に組み込まれ、基板Wを保持する保持機構である。
図6及び図7は、第2実施形態における保持装置200Bの構成、特に、保持装置200Bの配管の一例を示す図である。保持装置200Bは、保持装置200として露光装置100に組み込まれ、基板Wを保持する保持機構である。
図9及び図10は、第3実施形態における保持装置200Cの構成、特に、保持装置200Cの配管の一例を示す図である。保持装置200Cは、保持装置200として露光装置100に組み込まれ、基板Wを保持する保持機構である。
Claims (10)
- 物体を保持する保持装置であって、
前記物体を真空吸着するための吸着部と、
前記吸着部に接続する複数の第1ラインのそれぞれに対応して設けられ、前記複数の第1ラインを介して前記吸着部に供給される減圧された気体を生成する複数の生成部と、
前記複数の生成部のそれぞれに接続する複数の第2ラインを介して、前記複数の生成部に圧縮エアを供給するポンプと、
前記複数の第2ラインのそれぞれに接続する複数の接続ラインと、前記複数の接続ラインを統合する統合ラインとを含む第3ラインと、
前記統合ラインに設けられ、前記統合ラインの開閉を制御する制御弁と、
前記複数の接続ラインのそれぞれに設けられ、前記複数の第2ラインのうちの1つのラインに存在する前記圧縮エアが前記第3ラインを介して前記複数の第2ラインのうちの他のラインに流入することを抑制する複数の逆止弁と、
を有することを特徴とする保持装置。 - 前記複数の生成部のそれぞれと前記ポンプとの間に設けられ、前記複数の第2ラインのそれぞれを開閉することによって、前記ポンプから前記複数の生成部への前記圧縮エアの供給、及び、前記ポンプから前記複数の生成部への前記圧縮エアの供給の停止を制御する複数のバルブを更に有することを特徴とする請求項1に記載の保持装置。
- 前記制御弁及び前記複数のバルブを制御する制御部を更に有し、
前記制御部は、
前記物体を前記吸着部で真空吸着する場合には、前記統合ラインを閉じて前記複数の第2ラインを開くように、前記制御弁及び前記複数のバルブを制御し、
前記吸着部による前記物体の真空吸着を解除する場合には、前記統合ラインを開けて前記複数の第2ラインを閉じるように、前記制御弁及び前記複数のバルブを制御することを特徴とする請求項2に記載の保持装置。 - 前記制御部は、前記複数の第2ラインのそれぞれの開閉が独立して制御されるように、前記複数のバルブを個別に制御することを特徴とする請求項3に記載の保持装置。
- 前記複数の生成部のそれぞれは、前記ポンプから供給された前記圧縮エアを排出することで前記減圧された気体を生成するエジェクタを含むことを特徴とする請求項1乃至4のうちいずれか1項に記載の保持装置。
- 前記吸着部は、前記物体が載置されて前記物体を真空吸着する吸着部材を含み、
前記吸着部材には、前記複数の第1ラインのそれぞれと接続する複数の吸着孔が設けられていることを特徴とする請求項1乃至5のうちいずれか1項に記載の保持装置。 - 前記吸着部は、前記物体がそれぞれ載置されて前記物体をそれぞれ真空吸着する複数の吸着部材を含み、
前記複数の吸着部材のそれぞれには、前記複数の第1ラインのうちの少なくとも1つのラインと接続する吸着孔が設けられていることを特徴とする請求項1乃至5のうちいずれか1項に記載の保持装置。 - 基板にパターンを形成するリソグラフィ装置であって、
前記基板を物体として保持する請求項1乃至7のうちいずれか1項に記載の保持装置を有することを特徴とするリソグラフィ装置。 - 前記保持装置に保持された前記基板に原版のパターンを投影する投影光学系を有することを特徴とする請求項8に記載のリソグラフィ装置。
- 請求項8又は9に記載のリソグラフィ装置を用いて基板にパターンを形成する工程と、
前記工程で前記パターンが形成された前記基板を処理する工程と、
処理された前記基板から物品を製造する工程と、
を有することを特徴とする物品の製造方法。
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