JPH03282470A - フィルム露光装置 - Google Patents
フィルム露光装置Info
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- JPH03282470A JPH03282470A JP2081331A JP8133190A JPH03282470A JP H03282470 A JPH03282470 A JP H03282470A JP 2081331 A JP2081331 A JP 2081331A JP 8133190 A JP8133190 A JP 8133190A JP H03282470 A JPH03282470 A JP H03282470A
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- 230000007246 mechanism Effects 0.000 claims description 7
- 230000003028 elevating effect Effects 0.000 description 6
- 238000005516 engineering process Methods 0.000 description 4
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 description 4
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 2
- 238000000034 method Methods 0.000 description 2
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 1
- QSHDDOUJBYECFT-UHFFFAOYSA-N mercury Chemical compound [Hg] QSHDDOUJBYECFT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052753 mercury Inorganic materials 0.000 description 1
- 238000000206 photolithography Methods 0.000 description 1
- 238000003825 pressing Methods 0.000 description 1
- 239000004065 semiconductor Substances 0.000 description 1
Landscapes
- Exposure And Positioning Against Photoresist Photosensitive Materials (AREA)
- Exposure Of Semiconductors, Excluding Electron Or Ion Beam Exposure (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
口産業上の利用分野〕
本発明は、例えばTAB (Tape Automat
ed Bon−ding)方式の電子部品の実装に使用
されるフィルム回路基板の製作に好適なフィルム露光装
置に関する。
ed Bon−ding)方式の電子部品の実装に使用
されるフィルム回路基板の製作に好適なフィルム露光装
置に関する。
物体の表面に微細加工を施す技術として、フォトリング
ラフィの技術が知られている。この技術は、半導体集積
回路のほか、最近ではTAB方式の電子部品の実装に使
用されるフィルム回路基板の製作にも応用されている。
ラフィの技術が知られている。この技術は、半導体集積
回路のほか、最近ではTAB方式の電子部品の実装に使
用されるフィルム回路基板の製作にも応用されている。
このようなフィルム回路基板の製作に使用されるフィル
ム露光装置においては、露光時にフィルムの一コマをフ
ォトマスクの儂の投影位置に保持することが必要である
。
ム露光装置においては、露光時にフィルムの一コマをフ
ォトマスクの儂の投影位置に保持することが必要である
。
従来においては、昇降ステージを用いてステップ送りし
たフィルムの一コマを投影位置に保持している。詳しく
説明すると、従来の昇降ステージは、フォトマスクの像
の投影位置の下方において上下動可能に配置され、その
上面にはフィルムのパーフォレーションに嵌合する突出
ピンが複数設けられた構造のものであり、フィルムのス
テップ送り時には、突出ピンがパーフォレーションから
離脱するように昇降ステージが下降してステップ送りを
可能にし、フィルムの露光時には、突出ピンがパーフォ
レーションに嵌合するように昇降ステージが上昇してそ
の上面にフィルムの一コマを真空吸着して保持している
。
たフィルムの一コマを投影位置に保持している。詳しく
説明すると、従来の昇降ステージは、フォトマスクの像
の投影位置の下方において上下動可能に配置され、その
上面にはフィルムのパーフォレーションに嵌合する突出
ピンが複数設けられた構造のものであり、フィルムのス
テップ送り時には、突出ピンがパーフォレーションから
離脱するように昇降ステージが下降してステップ送りを
可能にし、フィルムの露光時には、突出ピンがパーフォ
レーションに嵌合するように昇降ステージが上昇してそ
の上面にフィルムの一コマを真空吸着して保持している
。
〔発明が解決しようとする課題〕
しかし、上記のような昇降ステージを用しまたフィルム
露光製蓋では、昇降ステージを昇降させるための複雑な
機構を必要とする問題がある。すなわち、帯状で長尺な
フィルムをその一コマずつステップ送りするたびごとに
、昇降ステージを上昇、下降させることが必要であり、
そのための駆動機構、制御機構が複雑かつ高価であり、
製造コストが上昇する問題がある。
露光製蓋では、昇降ステージを昇降させるための複雑な
機構を必要とする問題がある。すなわち、帯状で長尺な
フィルムをその一コマずつステップ送りするたびごとに
、昇降ステージを上昇、下降させることが必要であり、
そのための駆動機構、制御機構が複雑かつ高価であり、
製造コストが上昇する問題がある。
そして、特にフィルム回路基板が大型である場合には、
昇降ステージとしても大型のものが要求されるので、上
記問題はきわめて大きなものとなる。
昇降ステージとしても大型のものが要求されるので、上
記問題はきわめて大きなものとなる。
本発明の目的は、ステージを昇降させることなく、フィ
ルムを一コマずつ円滑にステップ送りすることができる
フィルム露光装置を提供することにある。
ルムを一コマずつ円滑にステップ送りすることができる
フィルム露光装置を提供することにある。
上記目的を達成するたt、本発明のフィルム露光装置は
、帯状のフィルムの長さ方向に沿ってフォトマスクのパ
ターンの儂を順次に投影して露光するフィルム露光装置
であって、照射部と、照射部からの光が照射される位置
に配置されたフォトマスクと、フォトマスクの像を投影
する投影レンズと、フォトマスクの像の投影位置に、フ
ィルムを一コマずつステップ送りするフィルム送り機構
と、投影位置に送られたフィルムの一コマを真空吸着す
るステージとを具備し、前記ステージには、フィルム送
りの際にフィルムがステージに接触しないようにフィル
ムを浮上させる逆風孔を設けたことを特徴とする。
、帯状のフィルムの長さ方向に沿ってフォトマスクのパ
ターンの儂を順次に投影して露光するフィルム露光装置
であって、照射部と、照射部からの光が照射される位置
に配置されたフォトマスクと、フォトマスクの像を投影
する投影レンズと、フォトマスクの像の投影位置に、フ
ィルムを一コマずつステップ送りするフィルム送り機構
と、投影位置に送られたフィルムの一コマを真空吸着す
るステージとを具備し、前記ステージには、フィルム送
りの際にフィルムがステージに接触しないようにフィル
ムを浮上させる逆風孔を設けたことを特徴とする。
逆風孔は、真空吸着のだtの真空吸着孔を兼用している
ことが好ましい。
ことが好ましい。
投影位置を挟んでフィルム送り方向の前後に、それぞれ
フィルム送り時にフィルムを浮上させる昇降ローラを設
けることが好ましい。
フィルム送り時にフィルムを浮上させる昇降ローラを設
けることが好ましい。
フィルム露光時には、フィルムの一コマがステージに真
空吸着される。
空吸着される。
フィルム送り時には、ステージの逆風孔からエアが噴出
され、フィルムがステージの上面から浮上する。従って
、フィルムがステージに接触するおそれがない。
され、フィルムがステージの上面から浮上する。従って
、フィルムがステージに接触するおそれがない。
逆風孔が真空吸着孔を兼用する場合には、ステージの構
成が簡単である。
成が簡単である。
昇降ローラを付加した場合には、ステージの前部および
後部においてもフィルムが確実に浮上される。従って、
フィルムが弧状に浮上して、ステージの前部または後部
に接触するおそれがない。
後部においてもフィルムが確実に浮上される。従って、
フィルムが弧状に浮上して、ステージの前部または後部
に接触するおそれがない。
第1図は本発明の一実施例に係るフィルム露光装置の説
胡図である。この装置は、帯状のフィルムFの長さ方向
に沿ってフォトマスクMのパターンの像を順次に投影し
て露光していくものである。
胡図である。この装置は、帯状のフィルムFの長さ方向
に沿ってフォトマスクMのパターンの像を順次に投影し
て露光していくものである。
10は照射部であり、例えば超高圧水銀灯等のように紫
外線を効率的に放射するランプおよびレンズと、フィル
ムFのステップ送りに対応して開閉するンヤッタを内蔵
している。
外線を効率的に放射するランプおよびレンズと、フィル
ムFのステップ送りに対応して開閉するンヤッタを内蔵
している。
Mはフォトマスクであり、照射部10からの光が照射さ
れる位置に配置されている。
れる位置に配置されている。
20は投影レンズであり、照射されたフォトマスクMの
像を投影するものである。
像を投影するものである。
30はフィルム送り機構であり、フォトマスクMの像の
投影位置にフィルムFの一コマをステップ送りするもの
である。31は送りローラ、32は押えローラ、33は
テンションローラ、34は押えローラ、35はモータ、
36はCPUを内蔵したシステムコントローラである。
投影位置にフィルムFの一コマをステップ送りするもの
である。31は送りローラ、32は押えローラ、33は
テンションローラ、34は押えローラ、35はモータ、
36はCPUを内蔵したシステムコントローラである。
フィルムFは、送りローラ31によって送うれる。フィ
ルムFはパーフォレーションがない場合には送りローラ
31との摩擦によって駆動され、パーフォレーションが
ある場合には送りローラに設けられたスプロケットによ
って駆動される。送りローラ31はモータ35によって
駆動される。モータ35はシステムコントローラ36か
らの信号により駆動される。
ルムFはパーフォレーションがない場合には送りローラ
31との摩擦によって駆動され、パーフォレーションが
ある場合には送りローラに設けられたスプロケットによ
って駆動される。送りローラ31はモータ35によって
駆動される。モータ35はシステムコントローラ36か
らの信号により駆動される。
40はステージであり、投影位置に送られたフィルムF
の一コマを真空吸着するものである。41は真空吸着孔
である。
の一コマを真空吸着するものである。41は真空吸着孔
である。
この真空吸着孔41は、ステップ送りの際にフィルムF
がステージ40に接触しないようにフィルムFを浮上さ
せる逆風孔を兼用している。
がステージ40に接触しないようにフィルムFを浮上さ
せる逆風孔を兼用している。
51はコンプレッサ、52は真空ポンプ、53.54は
バルブである。
バルブである。
61、62は昇降ローラであり、投影位置を挟んでフィ
ルム送り方向の前後に設けられ、フィルム送り時にフィ
ルムFを浮上させるものである。63゜64は昇降ロー
ラ61,62をそれぞれ駆動するエアシリンダである。
ルム送り方向の前後に設けられ、フィルム送り時にフィ
ルムFを浮上させるものである。63゜64は昇降ロー
ラ61,62をそれぞれ駆動するエアシリンダである。
65.66は回転の支点である。
第1図の装置の動作を説胡すると、フィルムFの一コマ
の露光時には、システムコントローラ36によってバル
ブ53は閉状態、バルブ54は開状態となる。従って、
真空ポンプ52による吸引力のみが真空吸着孔41を介
してフィルムFの一コマに作用する。
の露光時には、システムコントローラ36によってバル
ブ53は閉状態、バルブ54は開状態となる。従って、
真空ポンプ52による吸引力のみが真空吸着孔41を介
してフィルムFの一コマに作用する。
照射B10のシャッタが閉じられて露光が終了しり後、
システムコントローラ36により、バルブ53は開状態
、バルブ54は閉状態になると、真空吸着孔41が逆風
孔として作用し、フィルムFの一コマがステージ40か
ら浮上する。一方、システムコントローラ36から2つ
のエアシリンダ63.64に駆動信号が送られ、支点6
5.66を中心に昇降ローラ61゜62が回動しながら
上昇して、第1図において二点鎖線で示すようにフィル
ムFの一コマの前部および後部が上方に持ち上げられる
。
システムコントローラ36により、バルブ53は開状態
、バルブ54は閉状態になると、真空吸着孔41が逆風
孔として作用し、フィルムFの一コマがステージ40か
ら浮上する。一方、システムコントローラ36から2つ
のエアシリンダ63.64に駆動信号が送られ、支点6
5.66を中心に昇降ローラ61゜62が回動しながら
上昇して、第1図において二点鎖線で示すようにフィル
ムFの一コマの前部および後部が上方に持ち上げられる
。
この際、送りローラ31の位置においては当該送りロー
ラ31と押えローラ32とによってフィルムFは固定さ
れているが、テンションローラ33と押えローラ34は
いわゆる従動ローラであり、フィルムFの浮上による張
力によって、テンションローラ33と押えローラ34と
がわずかに回転してフィルムFに弛みを与える。
ラ31と押えローラ32とによってフィルムFは固定さ
れているが、テンションローラ33と押えローラ34は
いわゆる従動ローラであり、フィルムFの浮上による張
力によって、テンションローラ33と押えローラ34と
がわずかに回転してフィルムFに弛みを与える。
このように逆風孔および昇降ローラ61.62によりス
テージ40から浮上した状態で、システムコントローラ
36からモータ35にステップ送り信号が送られると、
送りローラ31によってフィルムFがステップ送りされ
、次の一コマが投影位置に送られる。
テージ40から浮上した状態で、システムコントローラ
36からモータ35にステップ送り信号が送られると、
送りローラ31によってフィルムFがステップ送りされ
、次の一コマが投影位置に送られる。
そシテ、システムコントローラ36により、バルブ54
が開状態、バルブ53が閉状態に切り換えられるととも
に、2つのエアシリンダ63.64に下降信号が送られ
、昇降ローラ6162が下降するとともに、真空吸着孔
41によりフィルムFに吸着力が作用して、フィルムF
の次の一コマがステージ40に密着する。
が開状態、バルブ53が閉状態に切り換えられるととも
に、2つのエアシリンダ63.64に下降信号が送られ
、昇降ローラ6162が下降するとともに、真空吸着孔
41によりフィルムFに吸着力が作用して、フィルムF
の次の一コマがステージ40に密着する。
次いで、例えば真空吸着孔41による負圧を検出すると
、ンヤッタ開信号によりシャッタが開状態となり、次の
一コマの露光が行われる。
、ンヤッタ開信号によりシャッタが開状態となり、次の
一コマの露光が行われる。
昇降ローラ61.62の上昇による、フィルムFのステ
ージ40への接触防止のためには、昇降ローラ6162
をできるだけステージ40へ近づけて配置することが望
ましい。
ージ40への接触防止のためには、昇降ローラ6162
をできるだけステージ40へ近づけて配置することが望
ましい。
このように、エアを利用してフィルムFを浮上させた状
態でフィルムFをステップ送りするので、フィルムFの
一コマが大面積であっても、当該−コマをステージ40
に接触させずに円滑にステップ送りすることができる。
態でフィルムFをステップ送りするので、フィルムFの
一コマが大面積であっても、当該−コマをステージ40
に接触させずに円滑にステップ送りすることができる。
以上において、ステージ40の送り方向の長さは例えば
380m1′11程度である。
380m1′11程度である。
本発明のフィルム露光装置によれば、ステージには、フ
ィルム送りの際にフィルムに接触しないようにフィルム
を浮上させる逆風孔を設けたので、ステージを昇降させ
ずに、しかもフィルムをステージに接触させないでステ
ップ送りすることができる。従って、ステージ自体を昇
降させる場合に必要な複雑かつ高価な昇降機構が不要と
なり、コンパクトでかつ安価なフィルム露光装置を提供
することができる。
ィルム送りの際にフィルムに接触しないようにフィルム
を浮上させる逆風孔を設けたので、ステージを昇降させ
ずに、しかもフィルムをステージに接触させないでステ
ップ送りすることができる。従って、ステージ自体を昇
降させる場合に必要な複雑かつ高価な昇降機構が不要と
なり、コンパクトでかつ安価なフィルム露光装置を提供
することができる。
また、逆風孔が真空吸着孔を兼用する場合にはステージ
の構造が簡単となる。
の構造が簡単となる。
さらに、投影位置を挟んでフィルム送り方向の前後に、
それぞれフィルム送り時にフィルムを浮上させる昇降ロ
ーラを設ける場合には、フィルムの一コマが大面積で送
り方向の前後で垂れ下がりが生じやすい場合にも、フィ
ルムをステージに接触させずに確実に浮上させることが
できる。
それぞれフィルム送り時にフィルムを浮上させる昇降ロ
ーラを設ける場合には、フィルムの一コマが大面積で送
り方向の前後で垂れ下がりが生じやすい場合にも、フィ
ルムをステージに接触させずに確実に浮上させることが
できる。
第1図は本発明の一実施例に係るフィルム露光装置の説
明図である。 F・・・フィルム M・・・フォトマスク10
・・・照射部 20・・・投影レンズ30・
・・フィルム送り機a 31・・・送りローラ32、
34・・・押工ローラ 33・・・テンションローラ
35・・・モータ 36・・・システムコントローラ
明図である。 F・・・フィルム M・・・フォトマスク10
・・・照射部 20・・・投影レンズ30・
・・フィルム送り機a 31・・・送りローラ32、
34・・・押工ローラ 33・・・テンションローラ
35・・・モータ 36・・・システムコントローラ
Claims (3)
- (1)帯状のフィルムの長さ方向に沿ってフォトマスク
のパターンの像を順次に投影して露光するフィルム露光
装置であって、 照射部と、 照射部からの光が照射される位置に配置されたフォトマ
スクと、 フォトマスクの像を投影する投影レンズと、フォトマス
クの像の投影位置に、フィルムを一コマずつステップ送
りするフィルム送り機構と、投影位置に送られたフィル
ムの一コマを真空吸着するステージと を具備し、 前記ステージには、フィルム送りの際にフィルムがステ
ージに接触しないようにフィルムを浮上させる逆風孔を
設けたことを特徴とするフィルム露光装置。 - (2)逆風孔は、真空吸着のための真空吸着孔を兼用し
ていることを特徴とする請求項1に記載のフィルム露光
装置。 - (3)投影位置を挟んでフィルム送り方向の前後に、そ
れぞれフィルム送り時にフィルムを浮上させる昇降ロー
ラを設けたことを特徴とする請求項1または2に記載の
フィルム露光装置。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2081331A JP2777835B2 (ja) | 1990-03-30 | 1990-03-30 | フィルム露光装置 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2081331A JP2777835B2 (ja) | 1990-03-30 | 1990-03-30 | フィルム露光装置 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH03282470A true JPH03282470A (ja) | 1991-12-12 |
JP2777835B2 JP2777835B2 (ja) | 1998-07-23 |
Family
ID=13743399
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2081331A Expired - Lifetime JP2777835B2 (ja) | 1990-03-30 | 1990-03-30 | フィルム露光装置 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP2777835B2 (ja) |
Families Citing this family (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2004131215A (ja) * | 2002-10-09 | 2004-04-30 | Ushio Inc | 帯状ワークの搬送装置 |
-
1990
- 1990-03-30 JP JP2081331A patent/JP2777835B2/ja not_active Expired - Lifetime
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JP2777835B2 (ja) | 1998-07-23 |
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Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
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EXPY | Cancellation because of completion of term |