JPH03282471A - フィルム露光装置 - Google Patents

フィルム露光装置

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Publication number
JPH03282471A
JPH03282471A JP2081332A JP8133290A JPH03282471A JP H03282471 A JPH03282471 A JP H03282471A JP 2081332 A JP2081332 A JP 2081332A JP 8133290 A JP8133290 A JP 8133290A JP H03282471 A JPH03282471 A JP H03282471A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
film
stage
fed
raising
photomask
Prior art date
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Pending
Application number
JP2081332A
Other languages
English (en)
Inventor
Shigeru Suzuki
繁 鈴木
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Ushio Denki KK
Ushio Inc
Original Assignee
Ushio Denki KK
Ushio Inc
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Filing date
Publication date
Application filed by Ushio Denki KK, Ushio Inc filed Critical Ushio Denki KK
Priority to JP2081332A priority Critical patent/JPH03282471A/ja
Publication of JPH03282471A publication Critical patent/JPH03282471A/ja
Pending legal-status Critical Current

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Landscapes

  • Exposure And Positioning Against Photoresist Photosensitive Materials (AREA)
  • Exposure Of Semiconductors, Excluding Electron Or Ion Beam Exposure (AREA)

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 〔産業上の利用分野〕 本発明は、例えばTAB (Tape Automat
ed Bording)方式の電子部品の実装に使用さ
れるフィルム回路基板の製作に好適なフィルム露光装置
に関する。
〔従来の技術〕
物体の表面に微細加工を施す技術として、フォトリング
ラフィの技術が知られている。この技術は、半導体集積
回路のほか、最近ではTAB方式の電子部品の実装に使
用されるフィルム回路基板の製作にも応用されている。
このようなフィルム回路基板の製作に使用されるフィル
ム露光装置にふいては、露光時にフィルムの一コマをフ
ォトマスクの像の投影位置に保持することが必要である
従来においては、昇降ステージを用いてステップ送りし
たフィルムの一コマを投影位置に保持している。詳しく
説明すると、従来の昇降ステージは、フォトマスクの像
の投影位置の下方において上下動可能に配置され、その
上面にはフィルムのパーフォレーションに嵌合する突出
ピンが複数設けられた構造のものであり、フィルムのス
テップ送り時には、突出ピンがパーフォレーションから
離脱するように昇降ステージが下降してステップ送りを
可能にし、フィルムの露光時には、突出ピンがパーフォ
レーションに嵌合するように昇降ステージが上昇してそ
の上面にフィルムの一コマを真空吸着して保持している
〔発明が解決しようとする課題〕
しかし、上J己のような昇降ステージを用いたフィルム
露光装置では、昇降ステージを昇降させるための複雑な
機構を必要とする問題がある。すなわち、帯状で長尺な
フィルムをその一コマずつステップ送りするたびごとに
、昇降ステージを上昇、下降させることが必要であり、
そのための駆動機構、制御機構が複雑かつ高価であり、
製造コストが上昇する問題がある。
本発明の目的は、ステージを昇降させることなく、フィ
ルムを一コマずつ円滑にステップ送りすることができる
フィルム露光装置を提供することにある。
〔課題を解決するための手段〕
上記目的を達成するため、本発明のフィルム露光装置は
、帯状のフィルムの長さ方向に沿ってフォトマスクのパ
ターンの像を順次に投影して露光するフィルム露光装置
であって、照射部と、照射部からの光が照射される位置
に配置されたフォトマスクと、フォトマスクの像を投影
する投影レンズと、フォトマスクの像の投影位置に、フ
ィルムを一コマずつステップ送りするフィルム送り機構
と、投影位置に送られたフィルムの一コマを真空吸着す
るステージとを具備し、フィルム送りの際にステージか
らフィルムを浮上させる昇降器が、前記ステージを挟ん
でフィルム送り方向の前後に設けられたことを特徴とす
る。
〔作用〕
フィルム露光時には、ステップ送りされたフィルムの一
コマがステージに真空吸着される。従って、投影される
べきフォトマスクの像の適正な露光を行うことができる
フィルム送り時には、ステージは昇降せず、その前後に
配置した昇降器によりフィルムがステージから浮上する
。従って、フィルムはステージに接触することなくステ
ップ送りされる。
〔実施例〕
第1図は本発明の一実施例に係るフィルム露光装置の説
明図である。この装置は、帯状のフィルムFの長さ方向
に沿ってフォトマスクMのパターンの像を順次に投影し
て露光していくものである。
10は照射部であり、例えば超高圧水銀灯等のように紫
外線を効率的に放射するランプおよびレンズと、フィル
ムFのステップ送りに対応して開閉するシャッタを内蔵
している。
Mはフォトマスクであり、照射部10からの光が照射さ
れる位置に配置されている。
Uは投影レンズであり、照射されたフォトマスクMの像
を投影するものである。
30はフィルム送り機構であり、フォトマスクMの像の
投影位置に、フィルムFの一コマをステップ送りするも
のである。3Iは送りローラ、32は押えローラ、33
はテンションローラ、34は押えローラ、35はモータ
、36はCPLJを内蔵したシステムコントローラであ
る。フィルムFは、パーフォレーションがない場合には
、送りローラ31との摩擦によって駆動され、パーフォ
レーションがある場合には、送りローラに設けられたス
プロケットによって駆動される。送りローラ31はモー
タ35によって駆動される。モータ35はシステムコン
トローラ36からの信号により駆動される。
40はステージであり、投影位置に送られたフィルムF
の一コマを真空吸着するものである。41は真空吸着孔
である。
51は真空ポンプ、52はバルブである。
61、62は昇降ローラからなる昇降器であり、ステー
ジ40を挟んでフィルム送り方向の前後に設けられ、フ
ィルム送りの際にステージ40からフィルムFを浮上さ
せるものである。63.64はそれぞれ昇降器61.6
2を駆動するエアシリンダである。65゜66は回転の
支点である。
第1図の装置の動作を説明すると、フィルムFの一コマ
の露光時には、システムコントローラ36によってバル
ブ52は閉状態となり、真空ポンプ51による吸引力に
よってフィルムFの一コマがステージ40に密着される
照射部10のシャッタが閉じられて露光が終了した後、
システムコントローラ36によりバルブ52が開状態に
なって真空吸着が解除されるとともに、システムコント
ローラ36から2つのエアシリンダ63、64に駆動信
号が送られ、支点65.66を中心に昇降ローラ61.
62が回動しながら上昇して、第1図において二点1i
IIIIで示すようにフィルムFの一コマの前部および
後部が上方に持ち上げられる。
その結果、当該−コマの中央部もステージ40から浮上
することとなる。
この際、送りローラ31の位置にふいては当該送りロー
ラ31と押えローラ32とによってフィルムFは固定さ
れているが、テンションローラ33と押えローラ34は
いわゆる従動ローラであり、フィルムFの浮上による張
力によって、テンションローラ33と押えローラ34と
がわずかに回転してフィルムFに弛みを与える。
このようにフィルムFが昇降器61.62によりステー
ジ40から浮上した状態で、システムコントローラ36
からモータ35にステップ送り信号が送られると、送り
ローラ31によってフィルムFがステップ送りされ、次
の一コマが投影位置に送られる。
そして、システムコントローラ36により、バルブ52
が開状態に切り換えられるとともに、2つのエアシリン
ダに下降信号が送られ、昇降器61.62によりフィル
ムFがステージ40に下降するとともに、真空吸着孔4
1によりフィルムFに吸着力が作用して、ステージ40
に密着する。
そして、例えば真空吸着孔41にょる負圧を検出すると
、シャツタ開信号がシャッタの駆動機構に送られてシャ
ッタが開状態となり、次の一コマの露光が行われる。
なお、昇降器61.62 としては、フィルムFの接触
部分が小さくてかつフィルムFの送りの際に回転して摩
擦による影響を小さくするために「ローラ」を使用して
いるが、これに限られない。フィルムFとの接触部分が
滑りやすい状態の突起、その他のものを用いてもよい。
また、昇降器61.62の構造は、本実施例の他、直線
運動タイプ等の他の機構で構成することもでき、駆動も
空気圧に限らず、油圧、真空、電磁等最適なものを使用
し、さらに二つの昇降器61.62を一つの駆動機素で
構成できる。
フィルムFの幅、厚さ、材質、テンンヨンおよび昇降器
61.62間の距離によって、昇降器61.62の上昇
位置を設定し、フィルムFの垂れ下がりによりステージ
40に接触しないようにする。
〔発明の効果〕
本発明によれば、ステージを挟んでフィルム送り方向の
前後に、フィルム送りの際にステージからフィルムを浮
上させる昇降器を設けたので、ステージを昇降させずに
、しかもフィルムをステージに接触させないでステップ
送りすることができる。従って、ステージ自体を昇降さ
せる場合に必要な複雑かつ高価な昇降機構が不要となり
、コンパクトでかつ安価なフィルム露光装置を提供する
ことができる。
【図面の簡単な説明】
第り図は本発明の一実施例に係るフィルム露光装置の説
明図である。 F・・・フィルム     M・・・フォトマスク10
・・・照射部      2o・・・投影レンズ30・
・・フィルム送り機構 31・・・送りローラ32.3
4・・・押工ローラ  33・・・テンションローラ3
5・・・モータ 36・・・システムコントローラ 40・・・ステージ     41・・・真空吸着孔5
1・・・真空ポンプ    52・・・パルフロ1、6
2・・・昇降器    63.64・・・エアシリンダ
65、 [li6・・・回転の支点

Claims (1)

    【特許請求の範囲】
  1.  帯状のフィルムの長さ方向に沿ってフォトマスクのパ
    ターンの像を順次に投影して露光するフィルム露光装置
    であって、照射部と、照射部からの光が照射される位置
    に配置されたフォトマスクと、フォトマスクの像を投影
    する投影レンズと、フォトマスクの像の投影位置に、フ
    ィルムを一コマずつステップ送りするフィルム送り機構
    と、投影位置に送られたフィルムの一コマを真空吸着す
    るステージとを具備し、フィルム送りの際にステージか
    らフィルムを浮上させる昇降器が、前記ステージを挟ん
    でフィルム送り方向の前後に設けられたことを特徴とす
    るフィルム露光装置。
JP2081332A 1990-03-30 1990-03-30 フィルム露光装置 Pending JPH03282471A (ja)

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JP2081332A JPH03282471A (ja) 1990-03-30 1990-03-30 フィルム露光装置

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Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR100529897B1 (ko) * 2003-04-25 2005-11-22 엘지전자 주식회사 노광기의 피딩장치

Citations (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS63144357A (ja) * 1986-12-09 1988-06-16 Seiko Instr & Electronics Ltd 露光装置のフ−プ材搬送装置
JPH01147456A (ja) * 1987-12-02 1989-06-09 Dainippon Screen Mfg Co Ltd カラー画像記録装置

Patent Citations (2)

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JPS63144357A (ja) * 1986-12-09 1988-06-16 Seiko Instr & Electronics Ltd 露光装置のフ−プ材搬送装置
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