JP3379361B2 - シート状ワークのプロキシミティ露光装置 - Google Patents
シート状ワークのプロキシミティ露光装置Info
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- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
- G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
- G03F7/70—Microphotolithographic exposure; Apparatus therefor
- G03F7/70691—Handling of masks or workpieces
Landscapes
- Physics & Mathematics (AREA)
- General Physics & Mathematics (AREA)
- Exposure And Positioning Against Photoresist Photosensitive Materials (AREA)
- Exposure Of Semiconductors, Excluding Electron Or Ion Beam Exposure (AREA)
Description
【発明の詳細な説明】
【０００１】
【発明の属する技術分野】ワーク上に複数の各種電子的
素子等を形成するため、マスクを通した光をワーク上に
照射してワーク上にマスクパターンを露光するプロキシ
ミティ露光工程が行われる。本発明は、上記したプロキ
シミティ露光工程で使用される露光装置に関し、特に本
発明は、シート状のワーク上にマスクパターンを露光す
るためのプロキシミティ露光装置に関するものである。 【０００２】 【従来の技術】薄い帯状ワークを露光するプロキシミテ
ィ露光装置において、マスクとワークの間隙を一定に設
定する方法として、搬送されたワークをワークステージ
に吸着させ、ワークステージを上昇させ、ワークをマス
クに接触させて「平行出し」を行ったのち、吸着テーブ
ルを微小量下降させてマスクとワークの間隙を所定の距
離に設定する方法が用いられている。 【０００３】図４はシート状ワーク、例えばリール等に
ロール状に巻かれた厚さが３０μｍ程度のステンレス板
から形成される帯状ワークに露光するためのプロキシミ
ティ露光装置の概略構成を示す図である。同図におい
て、１はレジストが塗布された帯状ワークＷがロール状
に巻かれた送り出しリール、２は巻き取りリール、６は
ローラであり、上記帯状ワークＷ（以下ワークＷとい
う）は図示しない搬送機構により送り出しリール１から
所定量ずつ引き出されてワークステージ５上に搬送さ
れ、所定のパターン領域毎に露光されたのち、巻き取り
リール２に巻き取られる。３は露光光等を照射する光照
射装置、４はマスクステージであり、マスクステージ４
にはマスクＭが取り付けられている。５はワークステー
ジであり、ワークステージ５は図示しない真空吸着機構
を備えており、ワークＷを上記真空吸着機構で吸着し保
持する。 【０００４】７はマスクＭとワークＷを所定の間隙で平
行状態にセットするために設けられた間隙設定機構であ
り、間隙設定機構７としては、本出願人が先に特開平７
−７４０９６号に開示した間隙設定機構を使用すること
ができる。８はＸＹθステージであり、図示しない駆動
機構により駆動され、ワークステージ５をＸＹθ方向
（Ｘは図４の左右方向、Ｙは同図の前後方向、θはワー
クステージ面に垂直な軸を中心とした回転）に移動させ
る。９はＺステージであり、図示しない駆動機構に駆動
され、ワークステージ５をＺ方向（Ｚは図４の上下方
向）に移動させる。 【０００５】図５は上記プロキシミティ露光装置におけ
る露光手順を説明する図であり、図４，図５より、帯状
ワークＷへの露光手順を説明する。 （１）レジストが塗布された帯状ワークＷを送り出しリ
ール１から引き出して搬送し、ワークＷ上の所定の露光
領域をワークステージ５の所定位置に位置決めする。 （２）ワークステージ５によりワークＷを真空吸着して
ワークＷを保持する。 （３）Ｚステージ９を駆動してワークステージ５を上昇
させ、マスクＭとワークを接触させたのち、ワークＷを
さらに上昇させる。これにより間隙設定機構７が変位し
て、マスクＭの全面がワークＷと接触し、マスクＭとワ
ークＷの傾きは一致する〔図５（ａ）参照〕。 【０００６】（４）間隙設定機構７の変位状態を保持さ
せたまま、Ｚステージ９を駆動して、ワークステージ５
を微小量下降させる（約３０〜６０μｍ）。これにより
マスクＭとワークＷは平行にかつその間隙が一定に設定
される〔図５（ｂ）参照〕。 （５）Ｚステージ９を駆動してマスクＭとワークＷを所
定の距離（アライメント間隙）に設定し、図示しないア
ライメント系を使用してマスクＭとワークＷのアライメ
ントを行う。すなわち、図示しないアライメント用顕微
鏡によりマスクＭとワークＷに記されたアライメントマ
ークを観察し、ＸＹθステージ８をＸＹθ方向に移動さ
せ（もくしはマスクステージ４を移動させ）、マスクＭ
とワークＷに記されたアライメントマークの位置を一致
させる。 【０００７】（６）マスクＭとワークＷをプリント間隙
に設定し、光照射装置３から露光光をマスクＭを介して
ワークＷに照射しワークＷを露光する。 （７）ワークＷ上の次の露光領域を露光するため、前記
したように、送り出しリール１からワークＷを引き出し
て、ワークＷ上の次の露光領域をワークステージ５の所
定位置に位置決めし、上記（２）〜（６）の工程を繰り
返す。 以上のようにして露光された露光済ワークＷは巻き取り
リール２に巻き取られる。 【０００８】 【発明が解決しようとする課題】上記した露光工程にお
いて、マスクＭとワークＷの平行出しを行う際、上記
（３）で説明したように、マスクＭとワークＷの全面が
接触する。マスクＭとワークＷの全面が接触したとき、
マスクＭとワークＷ上のレジストとの平面度が良い場
合、マスクＭとワークＷ上のレジストとの間に空気溜
まりがない場合、ワークＷに塗布されたレジストの粘
度が高い場合等の条件が重なると、マスクＭとワークＷ
との間に強い密着力が働く。このため、前記（４）にお
いて、ワークステージ５が微小量降下したとき、ワーク
ステージ５がワークＷを真空吸着する力より上記密着力
が勝り、図５（ｃ）に示すようにワークＷの全部または
一部がマスクＭにくっついたまま、ワークステージ５か
ら外れる場合が生ずる。 【０００９】特に、シート状ワークのようにワークＷが
薄い場合、マスクＭとワークＷが密着したとき、ワーク
ＷがマスクＭの表面に沿って変形し、マスクＭとワーク
Ｗの間に空気溜まりが殆ど無くなるので、密着力が大き
くなり、上記のようにワークＷがワークステージ５から
外れる場合が多発する。このような状態で前記（５）の
アライメント動作を行うと、次のような問題が生ずる。 (a) マスクＭにワークＷの全部あるいは一部がくっつい
たままであると、アライメント動作が密着したワークＷ
によって制限され正常に行われない。また、アライメン
ト動作中、あるいはワーク搬送中、ワークＷがよじれて
損傷する場合がある。 (b) ワークステージ５あるいはマスクステージ４の移動
中にマスクＭからワークＷがはずれると、マスクＭの表
面がワークＷにより擦られ、微細な回路等のパターンを
形成した高価なマスクＭが損傷する。 【００１０】本発明は上記した従来技術の問題点を考慮
してなされたものであって、その目的とするところは、
マスクとワーク間にスペーサを介在させることにより、
上記平行出しを行う際、マスクとワークに間に強い密着
力が発生するのを防止してマスクとワークの離間を容易
にし、正常なアライメント動作を可能にするとともに、
ワークやマスクの損傷を回避することである。 【００１１】 【課題を解決するための手段】上記課題を解決するた
め、本発明は、マスクとワークとを平行にかつ一定の間
隙に設定する間隙設定機構を備えたシート状ワークに露
光処理を行うプロキシミティ露光装置において、マスク
とワークの間であってマスクのマスクパターン形成領域
から外れた位置に、弛みをもたせて帯状のスペーサを配
置したものである。 【００１２】本発明においては、上記のように、マスク
とワークの間に、弛みをもたせて帯状のスペーサを配置
したので、平行出しのためワークをマスク側に移動させ
たとき、マスクとワークはスペーサを介して接触し、マ
スクとワークが直接接触することがない。このため、、
マスクとワークを容易に離間させることができ、前記し
たようにワークの一部または全部がワークステージから
はずれて、アライメントマーク動作を阻害したり、ある
いは、マスクあるいはワークを損傷させるといった問題
を回避することができる。 【００１３】 【発明の実施の形態】図１は本発明の実施例のプロキシ
ミティ露光装置の構成を示す図であり、同図（ａ）は全
体構成を示し、（ｂ）はマスクステージの側面図、
（ｃ）はマスクステージの平面図を示しており、同図
（ｂ）は同図（ａ）においてＡ方向からマスクステージ
を見たときの側面図を示している。図１（ａ）におい
て、前記図４に示したものと同一のものには同一の符号
が付されており、本実施例においてはマスクステージ４
にスペーサ１０が２本取り付けられている。スペーサ１
０は、厚さが１０〜５０μｍ、幅が１５ｍｍ程度のレジ
ストやマスクとの粘着性が少ない帯状のフッ素樹脂等か
ら形成されており、図１（ｂ）（ｃ）に示すように、マ
スクＭ上のパターン形成領域外でワークＷと接触する部
分に設けられ、図１（ｂ）に示すように若干弛みを持た
せてマスクステージ４の側面にネジ１１等で取り付けら
れる。なお、同図ではスペーサ１０を帯状ワークＷの移
動方向に直交させて配置する場合を示しているが、スペ
ーサ１０を帯状ワークＷの移動方向と平行に配置しても
よい。 【００１４】図２は本実施例における平行出し／アライ
メント手順を説明する図であり、同図は、図１（ａ）の
Ａ方向から見たときのマスクステージ４、ワークステー
ジ５、スペーサ１０等の状態を示しており、図１に示し
た送り出しリール１、巻き取りリール２等は省略されて
いる。以下、図２により本実施例を説明する。 （１）ワークＷをワークステージ５に保持し、ワークス
テージ５を上昇させる〔図２（ａ）〕。 （２）ワークＷ上に塗布されたレジストがスペーサ１０
に接触する〔図２（ｂ）〕。 【００１５】（３）ワークステージ５がさらに上昇し、
ワークＷに押されてスペーサ１０がワークＷとともに上
昇し、ワークＷとマスクＭがスペーサ１０を介して接触
する。ワークＷをさらに上昇させると、間隙設定機構７
が変位してスペーサ１０の全面がワークＷおよびマスク
Ｍと接触し、マスクＭとワークＷの傾きは一致する〔図
２（ｃ）〕。 （４）ワークステージ５を微小量下降（約３０〜６０μ
ｍ）させる。これによりマスクＭとワークＷは平行にか
つその間隙が一定に設定される〔図２（ｄ）〕。 （５）マスクＭとワークＷをアライメント間隙に設定
し、図示しないアライメント系を使用してマスクＭとワ
ークＷのアライメントを行う。 【００１６】以上のように、本実施例においては、マス
クＭとワークＷの間にスペーサ１０を介在させているの
で、マスクＭとワークＷが直接接触することがなく、ま
た、スペーサ１０の材質はレジストやマスクＭとの粘着
性が少ないフッ素樹脂等であり、さらに、ワークＷ上の
レジストとスペーサ１０との接触面積はマスクＭ全面に
接触する場合に比較して数パーセントと少ないので、従
来に比べマスクＭとワークＷが密着する可能性はほとん
どない。 【００１７】また、前記したように、スペーサ１０は若
干弛みを持たせてマスクステージ４に取り付けられてい
るので、仮に、ワークＷ上のレジストとスペーサ１０と
の接着が発生しても、スペーサ１０が弛むことによりワ
ークＷがワークステージ５からはずれることはない。上
記のようにレジストとスペーサ１０とが接着した状態で
アライメントを行っても、スペーサ１０がマスクステー
ジ４もしくはワークステージ５の動きを吸収し、ワーク
Ｗが捩れたりすることなくアライメントを行うことがで
きる。さらに、スペーサ１０が露光領域にかからなけれ
ば、その状態でワークの露光処理ができる。 【００１８】図３は本発明の他の実施例を示す図であ
り、本実施例は、スペーサ１０をバネ１２によりマスク
ステージ４に取り付けたものである。本実施例において
は、スペーサ１０をバネ１２によりマスクステージに取
り付けているので、同図に示すように、通常スペーサ１
０はマスクステージ４に密着している。そして、ワーク
Ｗ上のレジストとスペーサ１０が接着した状態でマスク
ＭとワークＷが離れると、バネ１２が伸びマスクＭとワ
ークＷの相対的な移動を許容する。なお、上記実施例で
は帯状ワークを例として説明したが、本発明の適用対象
は上記帯状ワークに限定されるものではなく、１枚ずつ
に切り離されたシート状ワークのプロキシミティ露光に
も適用することができる。 【００１９】 【発明の効果】以上説明したように本発明においては、
以下の効果を得ることができる。 （１）マスクとワークの間に、弛みをもたせて帯状のス
ペーサを配置したので、平行出しのときに、マスクとワ
ーク上のレジストが接触することがない。このため、マ
スクとワークに塗布されたレジストの密着性が高い条件
であっても、マスクとワーク上のレジストが密着するこ
とがなく、アライメント動作が阻害されたり、マスクあ
るいはワークが損傷するといった問題が生ずることがな
い。 （２）スペーサとワークの密着が発生しても、その密着
力は弱いので、アライメント動作のとき、あるいは、ワ
ーク搬送のとき、スペーサとワークとの密着がワークあ
るいはマスクに損傷を与えない状態ではずれ、一連の露
光処理においてトラブルが発生することがなく、連続し
て露光処理を行うことができる。また、スペーサとワー
クが密着した状態でマスクとワークのアライメントを行
っても、スペーサが、アライメント動作におけるマスク
とワークの動きを吸収するので、アライメントを正常に
行うことができる。また、スペーサを露光領域にかから
ないように配置することにより、スペーサとワークが密
着した状態でも露光処理を行うことが可能である。
素子等を形成するため、マスクを通した光をワーク上に
照射してワーク上にマスクパターンを露光するプロキシ
ミティ露光工程が行われる。本発明は、上記したプロキ
シミティ露光工程で使用される露光装置に関し、特に本
発明は、シート状のワーク上にマスクパターンを露光す
るためのプロキシミティ露光装置に関するものである。 【０００２】 【従来の技術】薄い帯状ワークを露光するプロキシミテ
ィ露光装置において、マスクとワークの間隙を一定に設
定する方法として、搬送されたワークをワークステージ
に吸着させ、ワークステージを上昇させ、ワークをマス
クに接触させて「平行出し」を行ったのち、吸着テーブ
ルを微小量下降させてマスクとワークの間隙を所定の距
離に設定する方法が用いられている。 【０００３】図４はシート状ワーク、例えばリール等に
ロール状に巻かれた厚さが３０μｍ程度のステンレス板
から形成される帯状ワークに露光するためのプロキシミ
ティ露光装置の概略構成を示す図である。同図におい
て、１はレジストが塗布された帯状ワークＷがロール状
に巻かれた送り出しリール、２は巻き取りリール、６は
ローラであり、上記帯状ワークＷ（以下ワークＷとい
う）は図示しない搬送機構により送り出しリール１から
所定量ずつ引き出されてワークステージ５上に搬送さ
れ、所定のパターン領域毎に露光されたのち、巻き取り
リール２に巻き取られる。３は露光光等を照射する光照
射装置、４はマスクステージであり、マスクステージ４
にはマスクＭが取り付けられている。５はワークステー
ジであり、ワークステージ５は図示しない真空吸着機構
を備えており、ワークＷを上記真空吸着機構で吸着し保
持する。 【０００４】７はマスクＭとワークＷを所定の間隙で平
行状態にセットするために設けられた間隙設定機構であ
り、間隙設定機構７としては、本出願人が先に特開平７
−７４０９６号に開示した間隙設定機構を使用すること
ができる。８はＸＹθステージであり、図示しない駆動
機構により駆動され、ワークステージ５をＸＹθ方向
（Ｘは図４の左右方向、Ｙは同図の前後方向、θはワー
クステージ面に垂直な軸を中心とした回転）に移動させ
る。９はＺステージであり、図示しない駆動機構に駆動
され、ワークステージ５をＺ方向（Ｚは図４の上下方
向）に移動させる。 【０００５】図５は上記プロキシミティ露光装置におけ
る露光手順を説明する図であり、図４，図５より、帯状
ワークＷへの露光手順を説明する。 （１）レジストが塗布された帯状ワークＷを送り出しリ
ール１から引き出して搬送し、ワークＷ上の所定の露光
領域をワークステージ５の所定位置に位置決めする。 （２）ワークステージ５によりワークＷを真空吸着して
ワークＷを保持する。 （３）Ｚステージ９を駆動してワークステージ５を上昇
させ、マスクＭとワークを接触させたのち、ワークＷを
さらに上昇させる。これにより間隙設定機構７が変位し
て、マスクＭの全面がワークＷと接触し、マスクＭとワ
ークＷの傾きは一致する〔図５（ａ）参照〕。 【０００６】（４）間隙設定機構７の変位状態を保持さ
せたまま、Ｚステージ９を駆動して、ワークステージ５
を微小量下降させる（約３０〜６０μｍ）。これにより
マスクＭとワークＷは平行にかつその間隙が一定に設定
される〔図５（ｂ）参照〕。 （５）Ｚステージ９を駆動してマスクＭとワークＷを所
定の距離（アライメント間隙）に設定し、図示しないア
ライメント系を使用してマスクＭとワークＷのアライメ
ントを行う。すなわち、図示しないアライメント用顕微
鏡によりマスクＭとワークＷに記されたアライメントマ
ークを観察し、ＸＹθステージ８をＸＹθ方向に移動さ
せ（もくしはマスクステージ４を移動させ）、マスクＭ
とワークＷに記されたアライメントマークの位置を一致
させる。 【０００７】（６）マスクＭとワークＷをプリント間隙
に設定し、光照射装置３から露光光をマスクＭを介して
ワークＷに照射しワークＷを露光する。 （７）ワークＷ上の次の露光領域を露光するため、前記
したように、送り出しリール１からワークＷを引き出し
て、ワークＷ上の次の露光領域をワークステージ５の所
定位置に位置決めし、上記（２）〜（６）の工程を繰り
返す。 以上のようにして露光された露光済ワークＷは巻き取り
リール２に巻き取られる。 【０００８】 【発明が解決しようとする課題】上記した露光工程にお
いて、マスクＭとワークＷの平行出しを行う際、上記
（３）で説明したように、マスクＭとワークＷの全面が
接触する。マスクＭとワークＷの全面が接触したとき、
マスクＭとワークＷ上のレジストとの平面度が良い場
合、マスクＭとワークＷ上のレジストとの間に空気溜
まりがない場合、ワークＷに塗布されたレジストの粘
度が高い場合等の条件が重なると、マスクＭとワークＷ
との間に強い密着力が働く。このため、前記（４）にお
いて、ワークステージ５が微小量降下したとき、ワーク
ステージ５がワークＷを真空吸着する力より上記密着力
が勝り、図５（ｃ）に示すようにワークＷの全部または
一部がマスクＭにくっついたまま、ワークステージ５か
ら外れる場合が生ずる。 【０００９】特に、シート状ワークのようにワークＷが
薄い場合、マスクＭとワークＷが密着したとき、ワーク
ＷがマスクＭの表面に沿って変形し、マスクＭとワーク
Ｗの間に空気溜まりが殆ど無くなるので、密着力が大き
くなり、上記のようにワークＷがワークステージ５から
外れる場合が多発する。このような状態で前記（５）の
アライメント動作を行うと、次のような問題が生ずる。 (a) マスクＭにワークＷの全部あるいは一部がくっつい
たままであると、アライメント動作が密着したワークＷ
によって制限され正常に行われない。また、アライメン
ト動作中、あるいはワーク搬送中、ワークＷがよじれて
損傷する場合がある。 (b) ワークステージ５あるいはマスクステージ４の移動
中にマスクＭからワークＷがはずれると、マスクＭの表
面がワークＷにより擦られ、微細な回路等のパターンを
形成した高価なマスクＭが損傷する。 【００１０】本発明は上記した従来技術の問題点を考慮
してなされたものであって、その目的とするところは、
マスクとワーク間にスペーサを介在させることにより、
上記平行出しを行う際、マスクとワークに間に強い密着
力が発生するのを防止してマスクとワークの離間を容易
にし、正常なアライメント動作を可能にするとともに、
ワークやマスクの損傷を回避することである。 【００１１】 【課題を解決するための手段】上記課題を解決するた
め、本発明は、マスクとワークとを平行にかつ一定の間
隙に設定する間隙設定機構を備えたシート状ワークに露
光処理を行うプロキシミティ露光装置において、マスク
とワークの間であってマスクのマスクパターン形成領域
から外れた位置に、弛みをもたせて帯状のスペーサを配
置したものである。 【００１２】本発明においては、上記のように、マスク
とワークの間に、弛みをもたせて帯状のスペーサを配置
したので、平行出しのためワークをマスク側に移動させ
たとき、マスクとワークはスペーサを介して接触し、マ
スクとワークが直接接触することがない。このため、、
マスクとワークを容易に離間させることができ、前記し
たようにワークの一部または全部がワークステージから
はずれて、アライメントマーク動作を阻害したり、ある
いは、マスクあるいはワークを損傷させるといった問題
を回避することができる。 【００１３】 【発明の実施の形態】図１は本発明の実施例のプロキシ
ミティ露光装置の構成を示す図であり、同図（ａ）は全
体構成を示し、（ｂ）はマスクステージの側面図、
（ｃ）はマスクステージの平面図を示しており、同図
（ｂ）は同図（ａ）においてＡ方向からマスクステージ
を見たときの側面図を示している。図１（ａ）におい
て、前記図４に示したものと同一のものには同一の符号
が付されており、本実施例においてはマスクステージ４
にスペーサ１０が２本取り付けられている。スペーサ１
０は、厚さが１０〜５０μｍ、幅が１５ｍｍ程度のレジ
ストやマスクとの粘着性が少ない帯状のフッ素樹脂等か
ら形成されており、図１（ｂ）（ｃ）に示すように、マ
スクＭ上のパターン形成領域外でワークＷと接触する部
分に設けられ、図１（ｂ）に示すように若干弛みを持た
せてマスクステージ４の側面にネジ１１等で取り付けら
れる。なお、同図ではスペーサ１０を帯状ワークＷの移
動方向に直交させて配置する場合を示しているが、スペ
ーサ１０を帯状ワークＷの移動方向と平行に配置しても
よい。 【００１４】図２は本実施例における平行出し／アライ
メント手順を説明する図であり、同図は、図１（ａ）の
Ａ方向から見たときのマスクステージ４、ワークステー
ジ５、スペーサ１０等の状態を示しており、図１に示し
た送り出しリール１、巻き取りリール２等は省略されて
いる。以下、図２により本実施例を説明する。 （１）ワークＷをワークステージ５に保持し、ワークス
テージ５を上昇させる〔図２（ａ）〕。 （２）ワークＷ上に塗布されたレジストがスペーサ１０
に接触する〔図２（ｂ）〕。 【００１５】（３）ワークステージ５がさらに上昇し、
ワークＷに押されてスペーサ１０がワークＷとともに上
昇し、ワークＷとマスクＭがスペーサ１０を介して接触
する。ワークＷをさらに上昇させると、間隙設定機構７
が変位してスペーサ１０の全面がワークＷおよびマスク
Ｍと接触し、マスクＭとワークＷの傾きは一致する〔図
２（ｃ）〕。 （４）ワークステージ５を微小量下降（約３０〜６０μ
ｍ）させる。これによりマスクＭとワークＷは平行にか
つその間隙が一定に設定される〔図２（ｄ）〕。 （５）マスクＭとワークＷをアライメント間隙に設定
し、図示しないアライメント系を使用してマスクＭとワ
ークＷのアライメントを行う。 【００１６】以上のように、本実施例においては、マス
クＭとワークＷの間にスペーサ１０を介在させているの
で、マスクＭとワークＷが直接接触することがなく、ま
た、スペーサ１０の材質はレジストやマスクＭとの粘着
性が少ないフッ素樹脂等であり、さらに、ワークＷ上の
レジストとスペーサ１０との接触面積はマスクＭ全面に
接触する場合に比較して数パーセントと少ないので、従
来に比べマスクＭとワークＷが密着する可能性はほとん
どない。 【００１７】また、前記したように、スペーサ１０は若
干弛みを持たせてマスクステージ４に取り付けられてい
るので、仮に、ワークＷ上のレジストとスペーサ１０と
の接着が発生しても、スペーサ１０が弛むことによりワ
ークＷがワークステージ５からはずれることはない。上
記のようにレジストとスペーサ１０とが接着した状態で
アライメントを行っても、スペーサ１０がマスクステー
ジ４もしくはワークステージ５の動きを吸収し、ワーク
Ｗが捩れたりすることなくアライメントを行うことがで
きる。さらに、スペーサ１０が露光領域にかからなけれ
ば、その状態でワークの露光処理ができる。 【００１８】図３は本発明の他の実施例を示す図であ
り、本実施例は、スペーサ１０をバネ１２によりマスク
ステージ４に取り付けたものである。本実施例において
は、スペーサ１０をバネ１２によりマスクステージに取
り付けているので、同図に示すように、通常スペーサ１
０はマスクステージ４に密着している。そして、ワーク
Ｗ上のレジストとスペーサ１０が接着した状態でマスク
ＭとワークＷが離れると、バネ１２が伸びマスクＭとワ
ークＷの相対的な移動を許容する。なお、上記実施例で
は帯状ワークを例として説明したが、本発明の適用対象
は上記帯状ワークに限定されるものではなく、１枚ずつ
に切り離されたシート状ワークのプロキシミティ露光に
も適用することができる。 【００１９】 【発明の効果】以上説明したように本発明においては、
以下の効果を得ることができる。 （１）マスクとワークの間に、弛みをもたせて帯状のス
ペーサを配置したので、平行出しのときに、マスクとワ
ーク上のレジストが接触することがない。このため、マ
スクとワークに塗布されたレジストの密着性が高い条件
であっても、マスクとワーク上のレジストが密着するこ
とがなく、アライメント動作が阻害されたり、マスクあ
るいはワークが損傷するといった問題が生ずることがな
い。 （２）スペーサとワークの密着が発生しても、その密着
力は弱いので、アライメント動作のとき、あるいは、ワ
ーク搬送のとき、スペーサとワークとの密着がワークあ
るいはマスクに損傷を与えない状態ではずれ、一連の露
光処理においてトラブルが発生することがなく、連続し
て露光処理を行うことができる。また、スペーサとワー
クが密着した状態でマスクとワークのアライメントを行
っても、スペーサが、アライメント動作におけるマスク
とワークの動きを吸収するので、アライメントを正常に
行うことができる。また、スペーサを露光領域にかから
ないように配置することにより、スペーサとワークが密
着した状態でも露光処理を行うことが可能である。
【図面の簡単な説明】
【図１】本発明の実施例の構成を示す図である。
【図２】本発明の実施例における平行出し／アライメン
ト手順を説明する図である。 【図３】本発明の他の実施例を示す図である。 【図４】本発明の前提となるプロキシミティ露光装置の
構成を示す図である。 【図５】図４の装置における平行出し／アライメント手
順を説明する図である。 【符号の説明】 １ 送り出しリール ２ 巻き取りリール ６ ローラ ３ 光照射装置 ４ マスクステージ ５ ワークステージ ７ 間隙設定機構 ８ ＸＹθステージ ９ Ｚステージ １０ スペーサ １１ ネジ １２ バネ Ｍ マスク Ｗ ワーク
ト手順を説明する図である。 【図３】本発明の他の実施例を示す図である。 【図４】本発明の前提となるプロキシミティ露光装置の
構成を示す図である。 【図５】図４の装置における平行出し／アライメント手
順を説明する図である。 【符号の説明】 １ 送り出しリール ２ 巻き取りリール ６ ローラ ３ 光照射装置 ４ マスクステージ ５ ワークステージ ７ 間隙設定機構 ８ ＸＹθステージ ９ Ｚステージ １０ スペーサ １１ ネジ １２ バネ Ｍ マスク Ｗ ワーク
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(58)調査した分野(Int.Cl.7，ＤＢ名)
G03F 7/20 - 7/24
G03F 9/00 - 9/02
H01L 21/027
Claims (1)
- (57)【特許請求の範囲】 【請求項１】 紫外線を含む光を放出する光照射部と、 マスクと、該マスクを保持するマスクステージと、 ワークと、該ワークを上記マスクと対向する面の裏面側
から保持するワークステージと、 上記マスクとワークの間であって、上記マスクのマスク
パターン形成領域から外れた位置に、弛みをもたせて配
置された帯状のスペーサと、 上記ワークステージを回転および水平、垂直方向に移動
させるワークステージ移動機構と、 マスクとワークの位置合わせを行うための位置合わせ機
構と、 上記ワークステージをマスクステージ側に移動させワー
クとマスクを上記スペーサを介して接触させたときの、
ワークステージの変位状態を保持する間隙設定設定機構
とを備えたことを特徴とするプロキシミティ露光装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP33181496A JP3379361B2 (ja) | 1996-12-12 | 1996-12-12 | シート状ワークのプロキシミティ露光装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP33181496A JP3379361B2 (ja) | 1996-12-12 | 1996-12-12 | シート状ワークのプロキシミティ露光装置 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH10171125A JPH10171125A (ja) | 1998-06-26 |
| JP3379361B2 true JP3379361B2 (ja) | 2003-02-24 |
Family
ID=18247953
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP33181496A Expired - Fee Related JP3379361B2 (ja) | 1996-12-12 | 1996-12-12 | シート状ワークのプロキシミティ露光装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP3379361B2 (ja) |
Families Citing this family (8)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP4491311B2 (ja) * | 2004-09-30 | 2010-06-30 | 富士フイルム株式会社 | 画像記録装置及び画像記録方法 |
| JP4042737B2 (ja) | 2004-10-27 | 2008-02-06 | セイコーエプソン株式会社 | パターン形成システム |
| US7375795B2 (en) * | 2004-12-22 | 2008-05-20 | Asml Netherlands B.V. | Lithographic apparatus, device manufacturing method, and device manufactured thereby |
| WO2007029852A1 (en) | 2005-09-07 | 2007-03-15 | Fujifilm Corporation | Pattern exposure method and pattern exposure apparatus |
| JP4861778B2 (ja) * | 2005-09-08 | 2012-01-25 | 富士フイルム株式会社 | パターン露光方法及び装置 |
| JP2012071990A (ja) * | 2011-11-08 | 2012-04-12 | Seiko Epson Corp | 搬送装置及び描画装置 |
| JP2013115332A (ja) * | 2011-11-30 | 2013-06-10 | Beac:Kk | 露光装置、露光装置ユニット及び被露光部材とマスクとのアライメント方法 |
| JP6206398B2 (ja) * | 2012-03-15 | 2017-10-04 | 株式会社ニコン | マスクユニット、基板処理装置及びマスクユニット製造方法並びに基板処理方法 |
-
1996
- 1996-12-12 JP JP33181496A patent/JP3379361B2/ja not_active Expired - Fee Related
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPH10171125A (ja) | 1998-06-26 |
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