JP2013115332A - 露光装置、露光装置ユニット及び被露光部材とマスクとのアライメント方法 - Google Patents
露光装置、露光装置ユニット及び被露光部材とマスクとのアライメント方法 Download PDFInfo
- Publication number
- JP2013115332A JP2013115332A JP2011262033A JP2011262033A JP2013115332A JP 2013115332 A JP2013115332 A JP 2013115332A JP 2011262033 A JP2011262033 A JP 2011262033A JP 2011262033 A JP2011262033 A JP 2011262033A JP 2013115332 A JP2013115332 A JP 2013115332A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- axis
- exposed member
- mask
- exposure apparatus
- exposed
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
Links
Images
Landscapes
- Exposure Of Semiconductors, Excluding Electron Or Ion Beam Exposure (AREA)
- Exposure And Positioning Against Photoresist Photosensitive Materials (AREA)
- Container, Conveyance, Adherence, Positioning, Of Wafer (AREA)
Abstract
【解決手段】被露光部材20の位置を調整する被露光部材位置調整装置100と、被露光部材20に形成すべき所定のパターン象が描かれているマスク30の位置を調整するマスク位置調整装置200とを備える露光装置10であって、直交する2軸の一方の軸をX軸とし、他方の軸をY軸としたとき、被露光部材位置調整装置100は、被露光部材20をX軸及びY軸を含むXY平面上におけるX軸に沿った方向及びY軸に沿った方向に移動可能に構成され、マスク位置調整装置200は、マスク30をXY平面に直交するZ軸に沿った軸を中心に回転可能に構成されている。
【選択図】図1
Description
また、被露光部材の位置調整は、被露光部材を回転させる動作を含まず、被露光部材を直線上に移動させる動作のみで行うため、被露光部材が長尺シートである場合には、被露光部材に捻じれが生じるのを防止することができ、それによって、高精度な位置調整が可能となる。
図1は、実施形態に係る露光装置10を説明するために示す図である。実施形態に係る露光装置10において露光対象となる被露光部材20は、長尺シート状のベースフィルムに銅箔層が形成されているとともに当該銅箔層の表面に感光層が形成されているものであるとする。また、当該被露光部材20は、直交する2軸の一方の軸をX軸とし、他方の軸をY軸としたとき、当該X軸及びY軸を含むXY平面上をX軸に沿って矢印X方向に搬送されるものとする。なお、露光装置10を基準として考えた場合、露光装置10よりも図1において右方向を搬送方向前方側とし、露光装置10よりも図1において左方向を搬送方向後方側とする。
Claims (10)
- 被露光部材の位置を調整する被露光部材位置調整装置と、前記被露光部材に形成すべき所定のパターン象が描かれているマスクの位置を調整するマスク位置調整装置とを備える露光装置であって、
直交する2軸の一方の軸をX軸とし、他方の軸をY軸としたとき、
前記被露光部材位置調整装置は、前記被露光部材を前記X軸及び前記Y軸を含むXY平面上における前記X軸に沿った方向及び前記Y軸に沿った方向に移動可能に構成され、
前記マスク位置調整装置は、前記マスクを前記XY平面に直交するZ軸に沿った軸を中心に回転可能に構成されていることを特徴とする露光装置。 - 請求項1に記載の露光装置において、
前記被露光部材位置調整装置は、前記X軸に沿った方向に移動可能なX軸テーブル及び当該X軸テーブルを駆動するX軸テーブル駆動機構と、前記Y軸に沿った方向に移動可能なY軸テーブル及び当該Y軸テーブルを前記Y軸に沿った方向に移動させるためのY軸テーブル駆動機構とを備え、
前記マスク位置調整装置は、前記Z軸に沿った軸を中心に回転可能なマスクテーブル及び当該マスクテーブルを所定範囲内の任意の角度で回転させるためのマスクテーブル駆動機構を備えていることを特徴とする露光装置。 - 請求項2に記載の露光装置において、
前記マスクテーブル駆動機構は、前記被露光部材よりも前記Z軸に沿った下側の位置に設けられていることを特徴とする露光装置。 - 直交する2軸の一方の軸をX軸とし、他方の軸をY軸としたとき、長尺シート状の被露光部材を前記X軸及び前記Y軸を含むXY平面上における前記X軸に沿った方向に搬送させる搬送機構と、
前記搬送機構によって搬送されてくる被露光部材に所定のパターン象を形成する露光装置と、
を有する露光装置ユニットであって、
前記露光装置は、請求項1〜3のいずれかに記載の露光装置であることを特徴とする露光装置ユニット。 - 請求項4に記載の露光装置ユニットにおいて、
前記被露光部材の搬送方向における前記露光装置の入口側及び出口側において前記被路後部材をクランプ可能とする入り口側クランパー及び出口側クランパーをさらに備えることを特徴とする露光装置ユニット。 - 請求項5に記載の露光装置ユニットにおいて、
前記Y軸に沿った方向のうちの一方の方向を第1Y軸方向とし、当該第1Y軸方向とは反対方向を第2Y軸方向としたとき、
前記入口側クランパー及び出口側クランパーは、前記被露光部材位置調整装置が前記被露光部材を前記第1Y軸方向に所定の移動量だけ移動させる動作を行う際には、前記被露光部材位置調整装置に連動して、前記被露光部材をクランプした状態で前記第1Y軸方向に移動し、前記被露光部材位置調整装置が前記被露光部材を前記第2Y軸方向に所定の移動量だけ移動させる動作を行う際には、前記被露光部材位置調整装置に連動して、前記被露光部材をクランプした状態で前記第2Y軸方向に移動するように構成されていることを特徴とする露光装置ユニット。 - 請求項4又は5に記載の露光装置ユニットにおいて、
前記X軸に沿った方向のうちの一方の方向を第1X軸方向とし、当該第1X軸方向とは反対方向を第2X軸方向としたとき、
前記入口側クランパー及び出口側クランパーは、前記被露光部材位置調整装置が前記被露光部材を前記第1X軸方向に所定の移動量だけ移動させる動作を行う際には、前記被露光部材位置調整装置に連動して、前記被露光部材をクランプした状態で前記第1X軸方向に移動し、前記被露光部材位置調整装置が前記被露光部材を前記第2X軸方向に所定の移動量だけ移動させる動作を行う際には、前記被露光部材位置調整装置に連動して、前記被露光部材をクランプした状態で前記第2X軸方向に移動するように構成されていることを特徴とする露光装置ユニット。 - 請求項4〜7のいずれかに記載の露光装置ユニットにおいて、
前記露光装置よりも前記被露光部材の搬送方向後方側に設けられ、前記被露光部材の前記Y軸に沿った方向の位置を調整可能なY軸位置調整装置をさらに備えることを特徴とする露光装置ユニット。 - 請求項8に記載の露光装置ユニットにおいて、
前記Y軸に沿った方向のうちの一方の方向を第1Y軸方向とし、当該第1Y軸方向とは反対方向を第2Y軸方向としたとき、
前記Y軸位置調整装置は、前記被露光部材位置調整装置が前記被露光部材を前記第1Y軸方向に所定の移動量だけ移動させる動作を行う際には、前記被露光部材位置調整装置に連動して、前記被露光部材を前記第1Y軸方向に移動させ、前記被露光部材位置調整装置が前記被露光部材を前記第2Y軸方向に所定の移動量だけ移動させる動作を行う際には、前記被露光部材位置調整装置に連動して、前記被露光部材を前記第2Y軸方向に移動させることを特徴とする露光装置ユニット。 - 被露光部材の位置調整を行う被露光部材位置調整装置と、前記被露光部材に形成すべき所定のパターンが描かれているマスクの位置調整を行うマスク位置調整装置とを備える露光装置において、前記被露光部材と前記マスクとのアライメントを行う被露光部材とマスクとのアライメント方法であって、
前記マスク及び前記被露光部材のそれぞれ対応する位置にアライメント用マークを設定し、
直交する2軸の一方の軸をX軸とし、他方の軸をY軸としたとき、前記被露光部材を前記X軸及び前記Y軸を含むXY平面上における前記X軸に沿った方向に移動させる工程、前記被露光部材を前記Y軸に沿った方向に移動させる工程、前記マスクを前記XY平面に直交するZ軸に沿った軸を中心に回転させる工程のうち少なくとも1つの工程を行うことにより、前記マスク及び前記被露光部材のそれぞれに設定されているアライメント用マークを対応付けることを特徴とする被露光部材とマスクとのアライメント方法。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2011262033A JP2013115332A (ja) | 2011-11-30 | 2011-11-30 | 露光装置、露光装置ユニット及び被露光部材とマスクとのアライメント方法 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2011262033A JP2013115332A (ja) | 2011-11-30 | 2011-11-30 | 露光装置、露光装置ユニット及び被露光部材とマスクとのアライメント方法 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2013115332A true JP2013115332A (ja) | 2013-06-10 |
Family
ID=48710581
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2011262033A Pending JP2013115332A (ja) | 2011-11-30 | 2011-11-30 | 露光装置、露光装置ユニット及び被露光部材とマスクとのアライメント方法 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP2013115332A (ja) |
Citations (8)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH10171125A (ja) * | 1996-12-12 | 1998-06-26 | Ushio Inc | シート状ワークのプロキシミティ露光装置 |
JP2004341279A (ja) * | 2003-05-16 | 2004-12-02 | Dainippon Printing Co Ltd | カラーフィルタの製造装置、カラーフィルタの製造方法、及びカラーフィルタ |
JP2004341280A (ja) * | 2003-05-16 | 2004-12-02 | Dainippon Printing Co Ltd | カラーフィルタの製造装置、カラーフィルタの製造方法、及びカラーフィルタ |
JP2005148353A (ja) * | 2003-11-14 | 2005-06-09 | Dainippon Printing Co Ltd | カラーフィルタ製造装置、及びカラーフィルタ製造方法 |
JP2005300753A (ja) * | 2004-04-08 | 2005-10-27 | Toray Eng Co Ltd | プロキシミティ露光装置 |
JP2009212382A (ja) * | 2008-03-05 | 2009-09-17 | Hitachi High-Technologies Corp | プロキシミティ露光装置、プロキシミティ露光装置の基板移動方法、及び表示用パネル基板の製造方法 |
JP2010217207A (ja) * | 2009-03-13 | 2010-09-30 | Nikon Corp | 転写装置、転写方法、及びデバイス製造方法 |
JP2011169924A (ja) * | 2010-01-22 | 2011-09-01 | Nsk Ltd | 露光装置及び露光方法 |
-
2011
- 2011-11-30 JP JP2011262033A patent/JP2013115332A/ja active Pending
Patent Citations (8)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH10171125A (ja) * | 1996-12-12 | 1998-06-26 | Ushio Inc | シート状ワークのプロキシミティ露光装置 |
JP2004341279A (ja) * | 2003-05-16 | 2004-12-02 | Dainippon Printing Co Ltd | カラーフィルタの製造装置、カラーフィルタの製造方法、及びカラーフィルタ |
JP2004341280A (ja) * | 2003-05-16 | 2004-12-02 | Dainippon Printing Co Ltd | カラーフィルタの製造装置、カラーフィルタの製造方法、及びカラーフィルタ |
JP2005148353A (ja) * | 2003-11-14 | 2005-06-09 | Dainippon Printing Co Ltd | カラーフィルタ製造装置、及びカラーフィルタ製造方法 |
JP2005300753A (ja) * | 2004-04-08 | 2005-10-27 | Toray Eng Co Ltd | プロキシミティ露光装置 |
JP2009212382A (ja) * | 2008-03-05 | 2009-09-17 | Hitachi High-Technologies Corp | プロキシミティ露光装置、プロキシミティ露光装置の基板移動方法、及び表示用パネル基板の製造方法 |
JP2010217207A (ja) * | 2009-03-13 | 2010-09-30 | Nikon Corp | 転写装置、転写方法、及びデバイス製造方法 |
JP2011169924A (ja) * | 2010-01-22 | 2011-09-01 | Nsk Ltd | 露光装置及び露光方法 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
TWI662373B (zh) | Exposure device | |
JP5605044B2 (ja) | パターン形成装置及びパターン形成方法、並びにデバイス製造方法 | |
JP5144992B2 (ja) | 露光装置 | |
US8223319B2 (en) | Exposure device | |
JP6661270B2 (ja) | 露光装置、露光システム、および物品の製造方法 | |
JP2007310209A (ja) | 露光装置 | |
US9810989B2 (en) | Edge exposure apparatus, edge exposure method and non-transitory computer storage medium | |
JP2013065656A (ja) | 露光装置 | |
TW201741775A (zh) | 雙面光刻裝置以及雙面光刻裝置中遮罩與工件的對準方法 | |
JP2019082610A (ja) | 両面露光装置及び両面露光方法 | |
JP2000347425A (ja) | マスクを移動させて位置合わせを行う露光装置 | |
JP5451175B2 (ja) | 露光装置 | |
TW201035696A (en) | Alignment method, exposure method, electronic device fabrication method, alignment device, and exposure device | |
TWI559096B (zh) | 曝光設備及裝置製造方法 | |
JP2019086709A (ja) | 露光システム、露光方法、及び表示用パネル基板の製造方法 | |
JP2007316589A (ja) | 投影露光装置 | |
TWI741215B (zh) | 曝光裝置 | |
JP2012173337A (ja) | マスク、近接スキャン露光装置及び近接スキャン露光方法 | |
JP2013115332A (ja) | 露光装置、露光装置ユニット及び被露光部材とマスクとのアライメント方法 | |
JP7412872B2 (ja) | 両面露光装置 | |
WO2013065451A1 (ja) | 基板処理装置および基板処理方法 | |
JP2008209632A (ja) | マスク装着方法及び露光装置ユニット | |
JP7175150B2 (ja) | 露光装置 | |
JP7364754B2 (ja) | 露光方法 | |
JP2019082612A (ja) | 両面露光装置及び両面露光方法 |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A621 | Written request for application examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621 Effective date: 20141017 |
|
A871 | Explanation of circumstances concerning accelerated examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A871 Effective date: 20141017 |
|
A975 | Report on accelerated examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971005 Effective date: 20141031 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20141202 |
|
A02 | Decision of refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A02 Effective date: 20150331 |